JP7309956B1 - LAMINATING APPARATUS, LAYING METHOD AND MOLDED PRODUCT MANUFACTURING METHOD - Google Patents

LAMINATING APPARATUS, LAYING METHOD AND MOLDED PRODUCT MANUFACTURING METHOD Download PDF

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Abstract

【課題】従来の積層方法では、気泡の除去と埋め込み材の追従性を両立することが難しい問題があった。【解決手段】積層方法は、チャンバ内の気流が薄膜部材により遮断された第1のチャンバと第2のチャンバを有し、第1のプレス板と薄膜部材との間に基板材料とフィルム材が重ね合わされた状態で搬送される積層装置の積層方法であって、第1のチャンバを減圧し、第2のチャンバを加圧して、薄膜部材によりフィルム材を基板材料に押し当て加圧する加圧工程(S3)と、第1のプレス板と第2のプレス板とにより基板材料及びフィルム材が挟み込まれる方向に加圧して成形品を成形するプレス工程(S4、S5)と、第1のチャンバを加圧し、第2のチャンバを減圧して、成形品から薄膜部材を剥離する剥離工程(S6)と、を実施する。【選択図】図3[Problem] Conventional lamination methods have a problem in that it is difficult to achieve both bubble removal and followability of the embedding material. [Solution] The lamination method has a first chamber and a second chamber in which airflow in the chambers is blocked by a thin film member, and a substrate material and a film material are placed between a first press plate and the thin film member. A method for laminating a laminating apparatus in which the laminating apparatus is conveyed in a stacked state, the pressurizing step of reducing pressure in a first chamber, pressurizing a second chamber, and pressing a film material against a substrate material using a thin film member to apply pressure. (S3), a press step (S4, S5) of forming a molded product by pressurizing the substrate material and the film material in the direction in which they are sandwiched between the first press plate and the second press plate; A peeling step (S6) is performed in which the thin film member is peeled from the molded product by applying pressure and reducing the pressure in the second chamber. [Selection diagram] Figure 3

Description

本発明は、例えば、表面に凹凸を有する基板材料に当該凹凸を埋めるフォルム材を積層する積層装置、積層方法及び成形品製造方法に関する。 The present invention relates to, for example, a lamination apparatus, a lamination method, and a molded product manufacturing method for laminating a form material that fills the irregularities on a substrate material having irregularities on its surface.

近年、半導体装置では、配線層を形成する配線層の多層化が進んでいる。このような多層配線基板では、層間に形成する層間絶縁膜をプレス加工で貼り付けて形成する方法がとられることがある。そこで、このような電子回路が形成される基板材料に層間絶縁膜となるフィルム材を積層する積層装置が提案されている。このような積層装置の一例が特許文献1に開示されている。 2. Description of the Related Art In recent years, in semiconductor devices, wiring layers forming wiring layers are becoming multi-layered. In such a multilayer wiring board, a method of forming an interlayer insulating film formed between layers by pressing is sometimes adopted. Therefore, there has been proposed a lamination apparatus for laminating a film material to be an interlayer insulating film on a substrate material on which such an electronic circuit is formed. An example of such a stacking device is disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-200013.

特許文献1に記載の積層装置は、上下キャリアフィルムとともに回路基板を真空積層装置内に搬入し、上盤と下盤を当接することにより上盤と上部キャリアフィルムとの間に上部積層成形空間を区画形成するとともに、下盤と下部キャリアフィルムとの間に下部積層成形空間を区画形成し、上部積層成形空間と下部積層成形空間の両方の空間を減圧し、その後一方の積層成形空間の減圧を継続しつつ他方の積層成形空間を加圧することにより回路基板をキャリアフィルムによって加圧する。 In the laminating apparatus described in Patent Document 1, the circuit board is carried into the vacuum laminating apparatus together with the upper and lower carrier films, and the upper laminating space is formed between the upper board and the upper carrier film by bringing the upper board and the lower board into contact with each other. In addition to forming partitions, a lower lamination molding space is partitioned between the lower plate and the lower carrier film, both the upper lamination molding space and the lower lamination molding space are decompressed, and then one lamination molding space is decompressed. By continuing to pressurize the other lamination molding space, the circuit board is pressed by the carrier film.

特開2004-58349号公報JP-A-2004-58349

特許文献1に記載の積層装置では、回路基板に対して空気圧による加圧を行うため、配線の間の狭い凹部に対する埋め込み材の追従性が高いメリットがある。しかしながら、特許文献1に記載の積層装置では、積層するフィルム材に与える加圧力を高くすることが出来ず、狭い凹部において目視できない程度の気泡が残る問題があった。 In the lamination apparatus described in Patent Document 1, since the circuit board is pressurized by air pressure, there is an advantage that the embedding material has high followability to narrow recesses between wirings. However, in the lamination apparatus described in Patent Document 1, the pressure applied to the film materials to be laminated cannot be increased, and there is a problem that air bubbles that cannot be visually observed remain in the narrow concave portions.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、基板材料にフィルム材を埋め込む際に高い追従性を実現しながら、気泡排除能力を向上させることを目的とするものである。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to improve the ability to eliminate air bubbles while realizing high followability when embedding a film material in a substrate material.

一実施の形態にかかる積層装置は、基板材料にフィルム材を積層した成形品を成形する積層装置であって、上側ケースと下側ケースとの組み合わせにより構成されるチャンバと、前記チャンバ内において互いに対向する位置に設けられる第1のプレス板と第2のプレス板と、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板との相対距離を変化させることで前記成形品に圧力を加える加圧機構と、記第1のプレス板と前記第2のプレス板とに挟まれる位置であって、前記基板材料に前記フィルム材が積層される側の積層面に対向する位置に配置され、前記チャンバ内を前記基板材料及び前記フィルム材の搬送位置が設定される第1のチャンバと前記第1のチャンバとは気流の流れが遮断される第2のチャンバとに分割するダイアフラムと、前記第1のチャンバと前記第2のチャンバをそれぞれ減圧又は加圧する気圧調整機構と、前記気圧調整機構及び前記加圧機構を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とに挟まれる位置に前記基板材料及び前記フィルム材が位置する状態で、前記第1のチャンバを減圧し、前記第2のチャンバを加圧して、前記ダイアフラムにより前記フィルム材を前記基板材料に押し当て加圧するダイアフラム加圧工程と、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とにより前記基板材料及び前記フィルム材が挟み込まれる方向に加圧して前記成形品を成形するプレス工程と、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とを前記プレス工程よりも離間させた状態で、前記第1のチャンバを加圧し、前記第2のチャンバを減圧して、前記成形品から前記ダイアフラムを剥離する剥離工程と、を実施する。 A lamination apparatus according to one embodiment is a lamination apparatus for molding a molded product in which a film material is laminated on a substrate material, and includes a chamber configured by combining an upper case and a lower case, and A first press plate and a second press plate provided at opposing positions, and pressurization for applying pressure to the molded product by changing the relative distance between the first press plate and the second press plate The chamber is arranged at a position sandwiched between the mechanism, the first press plate, and the second press plate and facing the lamination surface on the side where the film material is laminated on the substrate material. a diaphragm dividing the inside into a first chamber in which the transfer positions of the substrate material and the film material are set, and a second chamber in which the first chamber is blocked from an air flow; an air pressure adjusting mechanism for depressurizing or pressurizing the chamber and the second chamber, respectively; and a control unit for controlling the air pressure adjusting mechanism and the pressurizing mechanism, wherein the control unit controls the first press plate and the In a state where the substrate material and the film material are positioned between the second press plate and the second press plate, the first chamber is decompressed and the second chamber is pressurized to press the film material by the diaphragm. is pressed against the substrate material and pressurized in a direction in which the substrate material and the film material are sandwiched between the first press plate and the second press plate to form the molded product. pressurizing the first chamber and depressurizing the second chamber in a state in which the first press plate and the second press plate are separated from the press step, and and a peeling step of peeling the diaphragm from the molded article.

一実施の形態にかかる積層方法は、チャンバ内の気流が薄膜部材により遮断された第1のチャンバと第2のチャンバを有し、前記第1のチャンバに第1のプレス板が配置され、第2のチャンバに第2のプレス板が配置され、前記第1のプレス板と前記薄膜部材との間に基板材料とフィルム材が重ね合わされた状態で搬送される積層装置の積層方法であって、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とに挟まれる位置に前記基板材料及び前記フィルム材が位置する状態で、前記第1のチャンバを減圧し、前記第2のチャンバを加圧して、前記薄膜部材により前記フィルム材を前記基板材料に押し当て加圧する加圧工程と、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とにより前記基板材料及び前記フィルム材が挟み込まれる方向に加圧して成形品を成形するプレス工程と、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とを前記プレス工程よりも離間させた状態で、前記第1のチャンバを加圧し、前記第2のチャンバを減圧して、前記成形品から前記薄膜部材を剥離する剥離工程と、を実施する。 A lamination method according to one embodiment has a first chamber and a second chamber in which an air flow in the chamber is blocked by a thin film member, a first press plate is arranged in the first chamber, and a first press plate is arranged in the first chamber. A lamination method using a lamination device in which a second press plate is arranged in two chambers, and a substrate material and a film material are transported in a state of being superimposed between the first press plate and the thin film member, With the substrate material and the film material positioned between the first press plate and the second press plate, the first chamber is depressurized and the second chamber is pressurized. a pressurizing step of pressing the film material against the substrate material by the thin film member; A press step of pressing to form a molded product, and in a state in which the first press plate and the second press plate are separated from the press step, pressurize the first chamber, and pressurize the second press plate. and depressurizing the chamber to separate the thin film member from the molded product.

一実施の形態にかかる成形品製造方法は、チャンバ内の気流が薄膜部材により遮断された第1のチャンバと第2のチャンバを有し、前記第1のチャンバに第1のプレス板が配置され、第2のチャンバに第2のプレス板が配置され、前記第1のプレス板と前記薄膜部材との間に基板材料とフィルム材が重ね合わされた状態で搬送される積層装置における成形品製造方法であって、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とに挟まれる位置に前記基板材料及び前記フィルム材が位置する状態で、前記第1のチャンバを減圧し、前記第2のチャンバを加圧して、前記薄膜部材により前記フィルム材を前記基板材料に押し当て前記第1のプレス板との間で0.1MPaないし1.0MPaで加圧する加圧工程と、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とにより前記基板材料及び前記フィルム材が挟み込まれる方向に1.0MPaないし5.0MPaで加圧して成形品を成形するプレス工程と、を有する。 A molded article manufacturing method according to one embodiment has a first chamber and a second chamber in which an air flow in the chamber is blocked by a thin film member, and a first press plate is arranged in the first chamber. A method of manufacturing a molded product in a lamination apparatus in which a second press plate is arranged in a second chamber, and a substrate material and a film material are transported in a state of being superimposed between the first press plate and the thin film member. wherein the substrate material and the film material are positioned between the first press plate and the second press plate, the first chamber is depressurized, and the second chamber is and pressurizing the film material against the substrate material by the thin film member and pressing at 0.1 MPa to 1.0 MPa between the first press plate and the first press plate and a pressing step of forming a molded product by applying a pressure of 1.0 MPa to 5.0 MPa in a direction in which the substrate material and the film material are sandwiched between and the second press plate.

一実施の形態にかかる積層装置、積層方法及び成形品製造方法では、ダイアフラム加圧により基板材料に対してフィルム材を高い追従性をもたせて積層した後に、高い圧力を成形品にかけるプレス加圧を行う。 In the lamination apparatus, lamination method, and molded product manufacturing method according to one embodiment, after laminating a film material with high followability to a substrate material by diaphragm pressurization, press pressure is applied to the molded product. I do.

一実施の形態にかかる積層装置及びその積層方法によれば、基板材料にフィルム材を埋め込む際に高い追従性を実現しながら、気泡排除能力を向上させることができる。 According to the lamination device and the lamination method according to the embodiment, it is possible to improve the ability to eliminate air bubbles while realizing high followability when embedding the film material in the substrate material.

実施の形態1にかかる積層装置の構成図である。1 is a configuration diagram of a stacking device according to Embodiment 1; FIG. 実施の形態1にかかるチャンバに関する詳細な構成図である。3 is a detailed configuration diagram of the chamber according to the first embodiment; FIG. 実施の形態1にかかる積層工程の流れを説明するフローチャートである。4 is a flow chart for explaining the flow of the lamination process according to the first embodiment; 実施の形態2にかかるチャンバに関する詳細な構成図である。FIG. 10 is a detailed configuration diagram of the chamber according to the second embodiment; 実施の形態2にかかる積層工程の流れを説明するフローチャートである。9 is a flowchart for explaining the flow of a lamination process according to the second embodiment; 実施の形態3にかかるチャンバに関する詳細な構成図である。FIG. 11 is a detailed configuration diagram of the chamber according to the third embodiment; 実施の形態3にかかる積層工程の流れを説明するフローチャートである。11 is a flow chart for explaining the flow of a lamination process according to the third embodiment; 実施の形態4にかかるキャリアフィルムの構造の第1の例を説明する概略図である。FIG. 11 is a schematic diagram illustrating a first example of the structure of a carrier film according to a fourth embodiment; 実施の形態4にかかるキャリアフィルムの構造の第2の例を説明する概略図である。FIG. 11 is a schematic diagram illustrating a second example of the structure of the carrier film according to the fourth embodiment;

説明の明確化のため、以下の記載及び図面は、適宜、省略、及び簡略化がなされている。また、各図面において、同一の要素には同一の符号が付されており、必要に応じて重複説明は省略されている。 For clarity of explanation, the following descriptions and drawings are omitted and simplified as appropriate. Moreover, in each drawing, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted as necessary.

実施の形態1
図1に実施の形態1にかかる積層装置1の構成図を示す。実施の形態1にかかる積層装置1は、基板材料にフィルム材を積層する。ここで、以下の説明では、基板材料として、回路基板Aを用い、回路基板Aの配線層形成面にフィルム材Bを積層する例について説明する。つまり、回路基板Aの配線層形成面は、以下の説明においてフィルム材Bを積層する積層面となる。また、回路基板Aは、例えば半導体チップのような微細な配線が形成されるものであって、表面に所定の深さと間隔からなる凹凸パターンを有する。そして、フィルム材Bは、半導体チップの配線層間を絶縁する絶縁層を形成するものであり、1つの配線層に形成される配線の間及び異なる層に形成される配線の間を絶縁する。このフィルム材Bは、例えば、熱硬化性樹脂である。
Embodiment 1
FIG. 1 shows a configuration diagram of a stacking device 1 according to the first embodiment. The lamination device 1 according to the first embodiment laminates a film material on a substrate material. Here, in the following description, an example in which the circuit board A is used as the substrate material and the film material B is laminated on the wiring layer forming surface of the circuit board A will be described. In other words, the wiring layer forming surface of the circuit board A is the lamination surface on which the film material B is laminated in the following description. Further, the circuit board A is, for example, a semiconductor chip on which fine wiring is formed, and has an uneven pattern having a predetermined depth and interval on its surface. The film material B forms an insulating layer that insulates between wiring layers of the semiconductor chip, and insulates between wirings formed in one wiring layer and between wirings formed in different layers. This film material B is, for example, a thermosetting resin.

なお、図1では、シリンダにより生じる圧力を計測する油圧センサ、チャンバ内の圧力を計測する空気圧センサ及び真空センサの図示は省略した。しかしながら、実際の制御には各種センサからの情報が必要なことは言うまでもない。また、以下の説明では、チャンバ内の気圧状態として加圧した状態、減圧した状態等の用語を用いるが、加圧した状態とは大気圧以上の気圧状態であり、減圧した状態とは大気圧未満の気圧状態を意味するモノとする。 Note that FIG. 1 omits illustration of a hydraulic sensor for measuring the pressure generated by the cylinder, an air pressure sensor for measuring the pressure in the chamber, and a vacuum sensor. However, it goes without saying that information from various sensors is necessary for actual control. In the following description, terms such as a pressurized state and a decompressed state are used as the atmospheric pressure state in the chamber. It is assumed to be a thing that means a state of less than atmospheric pressure.

図1に示すように、実施の形態1にかかる積層装置1は、制御部10、油圧ポンプ11、コンプレッサ12、真空ポンプ13、チャンバ14、油圧バルブH1、空圧バルブP1~P3、真空バルブV1~V3、サイレンサSL1、SL2を有する。 As shown in FIG. 1, the stacking device 1 according to the first embodiment includes a control unit 10, a hydraulic pump 11, a compressor 12, a vacuum pump 13, a chamber 14, a hydraulic valve H1, pneumatic valves P1 to P3, a vacuum valve V1. ˜V3, with silencers SL1, SL2.

また、チャンバ14は、詳細には図2を参照して説明するが、少なくとも上側ケース20、下側ケース21、薄膜部材(例えば、ダイアフラム22)、第1のプレス板(例えば、プレス板31)、第2のプレス板(例えば、プレス板41)を有する。また、積層装置1は、チャンバ14内に積層対象となる回路基板A及びフィルム材Bを重ね合わせた被積層品を搬送するキャリアフィルム23を有する。 Chamber 14, which will be described in detail with reference to FIG. 2, also includes at least an upper case 20, a lower case 21, a membrane member (eg, diaphragm 22), and a first press plate (eg, press plate 31). , with a second press plate (eg, press plate 41). Further, the lamination apparatus 1 has a carrier film 23 for conveying a laminated product in which the circuit board A and the film material B to be laminated are superimposed in the chamber 14 .

チャンバ14は、上側ケース20と下側ケース21との組み合わせにより構成される。上側ケース20と下側ケース21は、少なくとも一方が上下方向に移動可能なように構成する。例えば、下側ケース21を上下方向に移動させる場合、下側ケース21を昇降させる油圧シリンダ(不図示)が用いられる。 Chamber 14 is configured by a combination of upper case 20 and lower case 21 . At least one of the upper case 20 and the lower case 21 is configured to be vertically movable. For example, when moving the lower case 21 in the vertical direction, a hydraulic cylinder (not shown) is used to move the lower case 21 up and down.

また、チャンバ14では、プレス板31が上側ケース20側に配置され、プレス板41が下側ケース21側に配置される。プレス板31は、上側ケース20内で昇降可能に構成される。図1では、プレス板31を昇降させる構成については図示を省略した。また、プレス板41は、下側ケース21内に設けられた油圧シリンダにより昇降可能に構成される。そして、積層装置1では、上側ケース20と下側ケース21とが離れた状態で、キャリアフィルム23により被積層品をプレス板31とプレス板41との間に挟まれる位置に移動させる。そして、積層装置1は、プレス板31とプレス板41との間に挟まれる位置に被積層品が移動した状態で上側ケース20と下側ケース21とを密着させることで、チャンバ14は、密閉状態となり、内部を加圧又は減圧する事が可能になる。 In the chamber 14, the press plate 31 is arranged on the upper case 20 side, and the press plate 41 is arranged on the lower case 21 side. The press plate 31 is configured to be vertically movable within the upper case 20 . In FIG. 1, illustration of a configuration for raising and lowering the press plate 31 is omitted. Also, the press plate 41 is configured to be movable up and down by a hydraulic cylinder provided inside the lower case 21 . In the lamination apparatus 1 , the carrier film 23 moves the laminated product to a position sandwiched between the press plate 31 and the press plate 41 while the upper case 20 and the lower case 21 are separated from each other. Then, the stacking apparatus 1 closes the chamber 14 by bringing the upper case 20 and the lower case 21 into close contact with each other while the products to be laminated are moved to a position sandwiched between the press plate 31 and the press plate 41. It becomes possible to pressurize or depressurize the inside.

キャリアフィルム23は、被積層品を搬送可能な強度と、柔軟性を有することが望ましい。キャリアフィルム23としては、PET、或いは、PETとエラストマとを複合したフィルムを用いることができる。また、図1に示す例では、回路基板Aの積層面をキャリアフィルム23側に向けて配置し、回路基板Aとキャリアフィルム23に挟まれる位置にフィルム材Bを配置するようにして、被積層品をキャリアフィルム23上に載置した。キャリアフィルム23上への被積層品の配置方法は、回路基板Aの積層面をキャリアフィルム23と対向させない向きで回路基板Aを配置し、その積層面の上にフィルム材Bを配置することも可能である。 The carrier film 23 desirably has strength and flexibility that allow it to carry the laminated product. As the carrier film 23, PET or a composite film of PET and elastomer can be used. Further, in the example shown in FIG. 1, the lamination surface of the circuit board A is arranged facing the carrier film 23 side, and the film material B is arranged at a position sandwiched between the circuit board A and the carrier film 23 to be laminated. The product was placed on the carrier film 23 . As for the method of arranging the product to be laminated on the carrier film 23, the circuit board A may be arranged so that the laminated surface of the circuit board A does not face the carrier film 23, and the film material B may be arranged on the laminated surface. It is possible.

ダイアフラム22は、プレス板31とのプレス板41とに挟まれる位置であって、回路基板Aにフィルム材Bが積層される側の積層面に対向する位置に配置される。図1に示す例では、ダイアフラム22を下側ケース21に設けた。なお、ダイアフラム22は、上側ケース20側に設けることも可能であるが、プレス板31とのプレス板41とに挟まれる位置であって、回路基板Aにフィルム材Bが積層される側の積層面に対向する位置に配置されるという条件は満たす必要がある。ダイアフラム22は、チャンバ内を回路基板A及びフィルム材Bの搬送位置が設定される第1のチャンバCMB1と第1のチャンバCMB1とは気流の流れが遮断される第2のチャンバCMB2とに分割する。なお、本願明細書では、チャンバ14内で気流を遮断して、チャンバ14内を第1のチャンバCMB1と第2のチャンバCMB2に分割する薄膜部材としてダイアフラム22を用いた例を説明するが、薄膜部材は、ダイアフラム22のように少なくとも一部が常時チャンバに固定されている部材でもよいし、キャリアフィルム23のように移動可能であるがチャンバ14の形成時にはチャンバ14に固定される部材でもよい。 The diaphragm 22 is arranged at a position sandwiched between the press plate 31 and the press plate 41 and facing the lamination surface of the circuit board A on which the film material B is laminated. In the example shown in FIG. 1, the diaphragm 22 is provided on the lower case 21 . Although the diaphragm 22 can be provided on the side of the upper case 20, the diaphragm 22 is located between the press plate 31 and the press plate 41, and is laminated on the side where the film material B is laminated on the circuit board A. It is necessary to satisfy the condition that it is arranged at a position facing the surface. The diaphragm 22 divides the inside of the chamber into a first chamber CMB1 in which the transfer positions of the circuit board A and the film material B are set, and a second chamber CMB2 in which the first chamber CMB1 is cut off from the air flow. . In the specification of the present application, an example will be described in which the diaphragm 22 is used as a thin film member for blocking the airflow inside the chamber 14 and dividing the inside of the chamber 14 into the first chamber CMB1 and the second chamber CMB2. The member may be a member such as the diaphragm 22 that is at least partially fixed to the chamber at all times, or a member such as the carrier film 23 that is movable but fixed to the chamber 14 when the chamber 14 is formed.

油圧ポンプ11は、プレス板41を昇降させる油圧シリンダに与える油圧を生成する。油圧バルブH1は、制御部10からの指示に基づきシリンダを制御することでプレス板41を昇降させる。なお、ラム44の上昇下降は、油圧によるものに限らず、空圧によるものでもよいし、サーボモータとボールねじによる方法でもよい。回路基板Aの厚みを所望の厚みとしたい場合は、位置制御の容易さの点から、サーボモータとボールねじによる方法を用いることが望ましい。この場合、加圧力はロードセルを用いて制御することができる。 The hydraulic pump 11 generates hydraulic pressure to be applied to the hydraulic cylinders that move the press plate 41 up and down. The hydraulic valve H<b>1 raises and lowers the press plate 41 by controlling the cylinders based on instructions from the control unit 10 . The ram 44 may be raised and lowered not only by hydraulic pressure, but also by pneumatic pressure, or by a method using a servomotor and a ball screw. When the thickness of the circuit board A is desired, it is desirable to use a method using a servomotor and a ball screw from the viewpoint of ease of position control. In this case, the applied force can be controlled using a load cell.

コンプレッサ12は、空圧バルブP1を介する配管により第1のチャンバCMB1に圧縮空気を与える。また、コンプレッサ12は、空圧バルブP2を介する配管により第2のチャンバCMB2に圧縮空気を与える。また、積層装置1では、空圧バルブP1、空圧バルブP2の開閉状態を制御部10により制御することで、第1のチャンバCMB1及び第2のチャンバCMB2を加圧するか否かを切り替える。 Compressor 12 provides compressed air to first chamber CMB1 through piping via pneumatic valve P1. Further, the compressor 12 supplies compressed air to the second chamber CMB2 through piping via the pneumatic valve P2. In addition, in the stacking device 1, the opening/closing states of the pneumatic valves P1 and P2 are controlled by the control unit 10 to switch whether or not to pressurize the first chamber CMB1 and the second chamber CMB2.

真空ポンプ13は、真空バルブV1を介する配管により第1のチャンバCMB1内の空気を引き抜き第1のチャンバCMB1を減圧させる。また、真空ポンプ13は、真空バルブV2を介する配管により第2のチャンバCMB2内の空気を引き抜き第2のチャンバCMB2を減圧させる。積層装置1では、真空バルブV1、真空バルブV2の開閉状態を制御部10により制御することで、第1のチャンバCMB1及び第2のチャンバCMB2を減圧するか否かを切り替える。 The vacuum pump 13 draws out the air in the first chamber CMB1 through piping via the vacuum valve V1 to depressurize the first chamber CMB1. Further, the vacuum pump 13 extracts air from the second chamber CMB2 through piping via the vacuum valve V2 to reduce the pressure in the second chamber CMB2. In the stacking apparatus 1, the opening/closing states of the vacuum valves V1 and V2 are controlled by the control unit 10 to switch whether or not to depressurize the first chamber CMB1 and the second chamber CMB2.

空圧バルブP3は、第2のチャンバCMB2を加圧状態から減圧状態に切り替える際に開状態になるように制御部10により制御され、加圧状態から減圧状態への切り替え時に生じる排出空気を外部に放出する。真空バルブV3は、第1のチャンバCMB1を減圧状態から加圧状態に切り替える際に、大気を外部から取り入れることで第1のチャンバCMB1の真空状態を破壊する。サイレンサSL1、SL2は、空気の入出力により生じる音を軽減するために設けられる。 The air pressure valve P3 is controlled by the control unit 10 so as to be in an open state when the second chamber CMB2 is switched from the pressurized state to the depressurized state. release to The vacuum valve V3 breaks the vacuum state of the first chamber CMB1 by taking in air from the outside when the first chamber CMB1 is switched from the depressurized state to the pressurized state. Silencers SL1 and SL2 are provided to reduce the sound caused by the input and output of air.

ここで、チャンバ14についてより詳細に説明する。そこで、図2に実施の形態1にかかるチャンバに関する詳細な構成図を示す。図2は、チャンバ14の構成を模式的に表わしたものであり、ダイアフラム22の形状は実際には、図2よりも平坦な形状となる。図2は、チャンバ14内への被積層品の搬送が完了し、かつ、チャンバ14を密閉状態にした状態を示したものである。図2では、回路基板Aの被積層品の積層面をキャリアフィルム23に対向させ、キャリアフィルム23と回路基板Aとに挟まれるようにフィルム材Bを配置した例を示した。 Chamber 14 will now be described in more detail. Therefore, FIG. 2 shows a detailed configuration diagram of the chamber according to the first embodiment. FIG. 2 schematically shows the configuration of the chamber 14, and the shape of the diaphragm 22 is actually flatter than in FIG. FIG. 2 shows a state in which the transfer of the articles to be laminated into the chamber 14 has been completed and the chamber 14 has been sealed. FIG. 2 shows an example in which the lamination surface of the circuit board A to be laminated faces the carrier film 23 and the film material B is arranged so as to be sandwiched between the carrier film 23 and the circuit board A. As shown in FIG.

図2に示すように、チャンバ14は、上側ケース20及び下側ケース21の組み合わせにより構成される。そして、上側ケース20と下側ケース21とに挟まれるようにキャリアフィルム23が延在する。そして、キャリアフィルム23の上側ケース20側に被積層品となる回路基板A及びフィルム材Bが配置される。 As shown in FIG. 2, the chamber 14 is constructed by combining an upper case 20 and a lower case 21 . Carrier film 23 extends so as to be sandwiched between upper case 20 and lower case 21 . Then, the circuit board A and the film material B to be laminated are arranged on the upper case 20 side of the carrier film 23 .

上側ケース20内には、プレス板31が設けられる。プレス板31は、上側ケース20内で昇降可能に構成しても良い。図2ではプレス板31は固定された構成とした。また、プレス板31において回路基板Aに対向する面には、表面弾性体32が設けられる。表面弾性体32は、耐熱性と柔軟性を兼ね備える材料を用いることが望ましく、例えば、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ポリイミド等を用いることができる。 A press plate 31 is provided in the upper case 20 . The press plate 31 may be configured to be vertically movable within the upper case 20 . In FIG. 2, the press plate 31 is fixed. A surface elastic body 32 is provided on the surface of the press plate 31 facing the circuit board A. As shown in FIG. The surface elastic body 32 is desirably made of a material having both heat resistance and flexibility. For example, silicone rubber, fluororubber, polyimide, or the like can be used.

上側ケース20内には、ダイアフラム22が設けられる。ダイアフラム22は、チャンバ14内を回路基板A及びフィルム材Bの搬送位置となる第1のチャンバCMB1と、第1のチャンバCMB1とは気流の流れが遮断される第2のチャンバCMB2と、に分割する。また、ダイアフラム22は、第1のチャンバCMB1側に膨らむことで、回路基板Aの積層面にフィルム材Bを押し当てるような圧力を加える。ダイアフラム22は、耐熱性と柔軟性を兼ね備える材料を用いることが望ましく、例えば、シリコーンゴム、フッ素ゴムを用いることが望ましい。 またダイアフラム22の厚みは一例として0.5mmないし5.0mm であり、より好ましくは1.0mmから3.0mmである。更にダイアフラムの硬度(ショアA硬度)は、一例として20度ないし80度であり、より好ましくは40度ないし60度である。ダイアフラム22の硬度を比較的に柔らかくすることで、回路基板Aの凹凸に好適に追従させることができる。また、ダイアフラム22が柔軟に伸びるので、後述する第1のプレス工程および第2のプレス工程において、ラムの動作や気圧調整の動作を妨げない。 A diaphragm 22 is provided in the upper case 20 . The diaphragm 22 divides the chamber 14 into a first chamber CMB1 that serves as a transfer position for the circuit board A and the film material B, and a second chamber CMB2 that blocks airflow from the first chamber CMB1. do. Further, the diaphragm 22 expands toward the first chamber CMB1, thereby applying pressure to the laminated surface of the circuit board A against the film material B. As shown in FIG. The diaphragm 22 is desirably made of a material having both heat resistance and flexibility, such as silicone rubber or fluororubber. Further, the thickness of the diaphragm 22 is, for example, 0.5 mm to 5.0 mm, more preferably 1.0 mm to 3.0 mm. Furthermore, the hardness (Shore A hardness) of the diaphragm is, for example, 20 degrees to 80 degrees, more preferably 40 degrees to 60 degrees. By making the hardness of the diaphragm 22 relatively soft, the unevenness of the circuit board A can be suitably followed. In addition, since the diaphragm 22 is flexibly stretched, it does not interfere with the operation of the ram and the operation of air pressure adjustment in the first and second press steps, which will be described later.

また、図2では、ダイアフラム22を個別の構成として設ける例について示したが、ダイアフラム22は、キャリアフィルム23により代用することも可能である。 Moreover, although FIG. 2 shows an example in which the diaphragm 22 is provided as a separate configuration, the diaphragm 22 can be replaced by the carrier film 23 .

また、上側ケース20内には、プレス板41、表面弾性体42、ピストン43、ラム44が設けられる。ピストン43は、プレス板41を第1のチャンバCMB1側に変位させるシリンダの摺動部である。ラム44は、一端がピストン43に接合され、他端にプレス板41が接合される。そして、プレス板41の面のうちダイアフラム22に対向する面には表面弾性体42が設けられる。表面弾性体42は、耐熱性と柔軟性を兼ね備える材料を用いることが望ましく、例えば、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ポリイミド等を用いることができる。 A press plate 41 , a surface elastic body 42 , a piston 43 and a ram 44 are provided inside the upper case 20 . The piston 43 is a sliding portion of a cylinder that displaces the press plate 41 toward the first chamber CMB1. The ram 44 has one end joined to the piston 43 and the other end joined to the press plate 41 . A surface elastic body 42 is provided on the surface of the press plate 41 facing the diaphragm 22 . The surface elastic body 42 is desirably made of a material having both heat resistance and flexibility. For example, silicone rubber, fluororubber, polyimide, or the like can be used.

また、上側ケース20にはエアポートAP1が設けられる。エアポートAP1は、第1のチャンバCMB1に空気を流入または排出するための接続口であり、コンプレッサ12及び真空ポンプ13に接続される配管が接続される。下側ケース21には、エアポートAP2が設けられる。エアポートAP2は、第2のチャンバCMB2に空気を流入または排出するための接続口であり、コンプレッサ12及び真空ポンプ13に接続される配管が接続される。 Further, the upper case 20 is provided with an airport AP1. The air port AP1 is a connection port for inflowing or discharging air from the first chamber CMB1, and pipes connected to the compressor 12 and the vacuum pump 13 are connected. The lower case 21 is provided with an airport AP2. The air port AP2 is a connection port for inflowing or discharging air from the second chamber CMB2, and pipes connected to the compressor 12 and the vacuum pump 13 are connected.

実施の形態1にかかる積層装置1では、上記チャンバ14の構成に加えて、回路基板Aにフィルム材Bを積層する積層手順に特徴の1つを有する。そこで、図3に実施の形態1にかかる積層工程の流れを説明するフローチャートを示す。図3に示す手順における加圧制御及び減圧制御は制御部10により制御される。なお、図3を含め以下で説明するフローチャートは、被積層品に対する圧力制御において重要な点を主に示したものであり、他の制御手順が間に入っていても構わない。 In addition to the configuration of the chamber 14, the lamination apparatus 1 according to the first embodiment has one of the features in the lamination procedure for laminating the film material B on the circuit board A. As shown in FIG. Therefore, FIG. 3 shows a flow chart for explaining the flow of the lamination process according to the first embodiment. Pressurization control and pressure reduction control in the procedure shown in FIG. 3 are controlled by the control unit 10 . It should be noted that the flowcharts to be described below, including FIG. 3, mainly show important points in the pressure control for the stacked products, and other control procedures may be interposed.

図3に示すように、実施の形態1にかかる積層装置1では、積層工程を開始すると、まず回路基板Aを加圧位置であるプレス板31とプレス板41との間に搬送する(ステップS1)。続いて、下側ケース21を上昇させてチャンバ14を密閉し、第1のチャンバCMB1及び第2のチャンバCMB2を減圧状態とする(ステップS2)。 As shown in FIG. 3, in the lamination apparatus 1 according to the first embodiment, when the lamination process is started, the circuit board A is first conveyed between the press plate 31 and the press plate 41, which are pressure positions (step S1). ). Subsequently, the lower case 21 is lifted to seal the chamber 14, and the pressure in the first chamber CMB1 and the second chamber CMB2 is reduced (step S2).

その後、積層装置1では、第1のチャンバCMB1は減圧状態を維持し、第2のチャンバCMB2を加圧するダイアフラム加圧工程を実施する(ステップS3)。このステップS3では、空圧バルブP2及び真空バルブV1を開き、空圧バルブP1及び真空バルブV2を閉じる。このステップS3では、ダイアフラム22が第1のチャンバCMB1側に膨出し、回路基板Aの積層面とダイアフラム22とにフィルム材Bが挟み込まれるように加圧する。このときの面圧力は、成形品の種類によるが、大気圧ないしは1.0MPa、更に好ましくは0.1MPaないし1.0MPa程度である。このダイアフラム加圧工程により、フィルム材Bは、回路基板Aの積層面に形成されている凹凸に対して高い追従性で密着する。このダイアフラム加圧工程は、予め設定した加圧時間が経過したら終了する。なお、ステップS2で第1のチャンバCMB1及び第2のチャンバCMB2をともに減圧した後で、第2のチャンバCMB2を加圧することで、凹凸のある回路基板Aのダイアフラム22が追従するように押し当てられるため、表面にフィルム材Bの追従性が向上する。 After that, in the stacking apparatus 1, the first chamber CMB1 is maintained in a decompressed state, and a diaphragm pressurization step is performed to pressurize the second chamber CMB2 (step S3). In this step S3, the pneumatic valve P2 and the vacuum valve V1 are opened, and the pneumatic valve P1 and the vacuum valve V2 are closed. In this step S3, the diaphragm 22 bulges toward the first chamber CMB1, and pressure is applied so that the film material B is sandwiched between the laminated surface of the circuit board A and the diaphragm 22. As shown in FIG. The surface pressure at this time depends on the type of the molded article, but is from atmospheric pressure to 1.0 MPa, more preferably from 0.1 MPa to 1.0 MPa. By this diaphragm pressurizing process, the film material B adheres to the irregularities formed on the laminated surface of the circuit board A with high followability. This diaphragm pressurization process ends when a preset pressurization time has elapsed. After the first chamber CMB1 and the second chamber CMB2 are both decompressed in step S2, the second chamber CMB2 is pressurized so that the diaphragm 22 of the circuit board A having unevenness is pressed to follow. Therefore, the conformability of the film material B to the surface is improved.

続いて、積層装置1は、プレス板31とプレス板41とにより回路基板A及びフィルム材Bが挟み込まれる方向に加圧して成形品を成形するプレス工程を実施する。図3では、このプレス工程を第1のプレス工程と第2のプレス工程に分けて示した。第1のプレス工程では、第1のチャンバCMB1と第2のチャンバCMB2をともに減圧状態にしてラム44を押し上げてプレス板41をプレス板31側に押し当てる(ステップS4)。なお、第1のプレス工程における第2のチャンバCMB2の減圧は、まず空圧バルブP3を開状態にしてステップS3で大気圧以上の気圧状態にした第2のチャンバCMB2を大気圧程度の気圧に減圧した後に、空圧バルブP3を閉じて、真空バルブV2を開くことで第2のチャンバCMB2を大気圧以下の気圧にする。第1のプレス工程における第2のチャンバCMB2の気圧は、ダイアフラム加圧工程における気圧を超えない範囲で任意に調整できるが、大気圧以下の減圧状態とすることが好ましい。そして、この第1のプレス工程は、予め設定した加圧力がシリンダにより得られた時点で終了させる。 Subsequently, the laminating apparatus 1 performs a pressing step in which the press plate 31 and the press plate 41 apply pressure in the direction in which the circuit board A and the film material B are sandwiched to form a molded product. In FIG. 3, this pressing process is divided into a first pressing process and a second pressing process. In the first pressing step, both the first chamber CMB1 and the second chamber CMB2 are put into a decompressed state, and the ram 44 is pushed up to press the press plate 41 against the press plate 31 (step S4). The second chamber CMB2 is decompressed in the first pressing step by first opening the air pressure valve P3 and reducing the pressure of the second chamber CMB2, which is above the atmospheric pressure in step S3, to about the atmospheric pressure. After reducing the pressure, the air pressure valve P3 is closed and the vacuum valve V2 is opened to reduce the pressure in the second chamber CMB2 to below atmospheric pressure. The air pressure in the second chamber CMB2 in the first pressing process can be arbitrarily adjusted within a range not exceeding the air pressure in the diaphragm pressurizing process, but it is preferably in a reduced pressure state below the atmospheric pressure. Then, this first pressing step is terminated when a preset pressurizing force is obtained by the cylinder.

第2のプレス工程では、第1のチャンバCMB1の減圧状態を維持しながら第2のチャンバCMB2を加圧状態にして、ラム44を第1のプレス工程を押し上げてプレス板41をプレス板31側にさらに強く押し当てる(ステップS5)。この第2のプレス工程においてフィルム材Bにかかる面圧力は5MPa程度である。この第2のプレス工程は、予め設定した加圧時間が経過したら終了する。このプレス工程では、真空雰囲気の中で回路基板Aとフィルム材Bとを高い圧力で加圧するため回路基板Aとフィルム材Bとの間に生じる気泡を高い除去能力で除去する。また、第2のチャンバCMB2に少量の空気を先に入れておくか、ラムを上昇させてプレス板41に密着状態のダイアフラム22を成形品に押し当てた後に、第2のチャンバCMB2を加圧状態とすると、成形品の側面をダイアフラム22で押圧することができるため、成形品の側面からフィルム材Bが流出する現象、いわゆる樹脂流出による成形不良も防止し、所望の成形品をさらに好適に生産することができる。このため、プレス工程を第1のプレス工程と第2のプレス工程に分けることが好ましい。また、第2のプレス工程における第2のチャンバCMB2の気圧は、ダイアフラム加圧工程における気圧を超えない範囲で任意に調整できるが、第1のプレス工程における第2のチャンバCMB2の気圧以上とすることが好ましい。 In the second press process, the second chamber CMB2 is put into a pressurized state while maintaining the depressurized state of the first chamber CMB1, and the ram 44 is pushed up in the first press process to move the press plate 41 to the press plate 31 side. is further pressed against (step S5). The surface pressure applied to the film material B in this second pressing step is about 5 MPa. This second pressing process ends when a preset pressing time has elapsed. In this pressing step, since the circuit board A and the film material B are pressurized under a high pressure in a vacuum atmosphere, air bubbles generated between the circuit board A and the film material B are removed with a high removing ability. Alternatively, the second chamber CMB2 is pressurized after a small amount of air is first introduced into the second chamber CMB2, or the ram is raised to press the diaphragm 22, which is in close contact with the press plate 41, against the molded product. In this state, the side of the molded product can be pressed by the diaphragm 22, so that the phenomenon that the film material B flows out from the side of the molded product, that is, the molding failure due to the so-called outflow of resin can be prevented, and the desired molded product can be produced more preferably. can be produced. Therefore, it is preferable to divide the pressing process into a first pressing process and a second pressing process. Also, the air pressure in the second chamber CMB2 in the second press process can be arbitrarily adjusted within a range not exceeding the air pressure in the diaphragm pressurization process, but should be equal to or higher than the air pressure in the second chamber CMB2 in the first press process. is preferred.

続いて、積層装置1は、プレス板31とプレス板41とを第2のプレス工程よりも離間させた状態で、第1のチャンバCMB1を加圧し、第2のチャンバCMB2を減圧して、成形品からダイアフラム22を剥離する剥離工程を行う(ステップS6)。その後、積層装置1は、下側ケース21を降下させてチャンバ14の密閉状態を解除し(ステップS7)、成形品となった回路基板Aを後段に搬送して(ステップS8)、積層工程を終了させる。 Subsequently, the stacking apparatus 1 pressurizes the first chamber CMB1 and depressurizes the second chamber CMB2 in a state in which the press plate 31 and the press plate 41 are spaced further apart than in the second press step, thereby forming the A peeling process for peeling the diaphragm 22 from the product is performed (step S6). Thereafter, the lamination apparatus 1 lowers the lower case 21 to release the sealed state of the chamber 14 (step S7), conveys the circuit board A as a molded product to the subsequent stage (step S8), and performs the lamination process. terminate.

上記説明より、実施の形態1にかかる積層装置1では、回路基板Aの積層面に形成される小さな凹凸に対して高い追従性でフィルム材Bを密着させるダイアフラム加圧を行った後に、高い気泡除去能力を有するプレス加圧を行うことで、回路基板Aとフィルム材Bとの間に生じる気泡が極めて少なくかつ回路基板Aの凹凸に対してフィルム材Bが十分に充填された成形品を成形することができる。 As described above, in the lamination device 1 according to the first embodiment, after the diaphragm pressurization is performed to bring the film material B into close contact with the small irregularities formed on the lamination surface of the circuit board A with high followability, high air bubbles are generated. By applying pressurization with removal ability, a molded product is formed in which very few air bubbles are generated between the circuit board A and the film material B and the film material B is sufficiently filled against the unevenness of the circuit board A. can do.

また、積層装置1では、バルブにより第1のチャンバCMB1及び第2のチャンバCMB2の気圧状態を制御するため、1つのポンプに空気送出能力と空気排出能力を持たせる必要がなく、装置を小型化することができる。 In addition, in the stacking device 1, since the valves control the air pressure states of the first chamber CMB1 and the second chamber CMB2, there is no need for a single pump to have an air delivery capability and an air discharge capability, and the device can be made compact. can do.

実施の形態2
実施の形態2では、チャンバ14の別の形態となるチャンバ14aについて説明する。なお、実施の形態2の説明において、実施の形態1と同じ構成要素については実施の形態1と同じ符号を付して説明を省略する。
Embodiment 2
In Embodiment 2, a chamber 14a, which is another form of the chamber 14, will be described. In the description of the second embodiment, the same reference numerals as in the first embodiment are given to the same constituent elements as in the first embodiment, and the description thereof is omitted.

図4に実施の形態2にかかるチャンバ14aに関する詳細な構成図を示す。図4に示すように、実施の形態2にかかるチャンバ14aはプレス板31、41を熱板31a、41aに置き換えたものである。実施の形態2では、温度調整部材として熱板を用い、温度調整工程において熱板を用いてフィルム材Bを加熱する例について説明するが、フィルム材Bは加熱も冷却も可能であり、積層装置の仕様、フィルム材Bの材料の種類に応じて温度調整部からフィルム材Bに与える温度は変更可能である。つまり、以下で説明する温度調整工程では、フィルム材Bの粘度調整を目的とした温度調整を行う。 FIG. 4 shows a detailed configuration diagram of the chamber 14a according to the second embodiment. As shown in FIG. 4, the chamber 14a according to the second embodiment replaces the press plates 31, 41 with hot plates 31a, 41a. In Embodiment 2, a hot plate is used as the temperature adjusting member, and an example in which the hot plate is used to heat the film material B in the temperature adjusting process will be described. The temperature applied to the film material B from the temperature control section can be changed according to the specifications of the film material B and the type of material of the film material B. That is, in the temperature adjustment process described below, the temperature is adjusted for the purpose of adjusting the viscosity of the film material B. FIG.

この熱板31a、41aを用いた成形工程について説明する。そこで、図5に実施の形態2にかかる積層工程の流れを説明するフローチャートを示す。図5に示すように、実施の形態2にかかる積層工程では、図3に示した実施の形態1にかかる積層工程のダイアフラム加圧工程(ステップS3)と第1のプレス加圧工程(ステップS4)との間に温度調整工程(ステップS11)を行う。温度調整工程では、熱板31a、41aを加熱して回路基板A及びフィルム材Bを温める。 A molding process using the hot plates 31a and 41a will be described. Therefore, FIG. 5 shows a flow chart for explaining the flow of the lamination process according to the second embodiment. As shown in FIG. 5, in the stacking process according to the second embodiment, the diaphragm pressing process (step S3) and the first press pressing process (step S4) of the stacking process according to the first embodiment shown in FIG. ), the temperature adjustment step (step S11) is performed. In the temperature adjustment process, the circuit board A and the film material B are warmed by heating the hot plates 31a and 41a.

このような加熱工程を備えることで、実施の形態2にかかる積層方法では、熱硬化性樹脂であるフィルム材Bの粘度を制御しやすくなり、回路基板Aの凹凸に対するフィルム材Bの埋め込み性の向上及び加圧に要する時間の短縮を行うことができる。 By providing such a heating step, in the lamination method according to the second embodiment, it becomes easier to control the viscosity of the film material B, which is a thermosetting resin, and the embedding property of the film material B into the irregularities of the circuit board A is improved. The time required for raising and pressurizing can be shortened.

実施の形態3
実施の形態3では、実施の形態1にかかるチャンバ14の別の形態となるチャンバ14bについて説明する。なお、実施の形態3の説明においても、実施の形態1と同じ構成要素については実施の形態1と同じ符号を付して説明を省略する。
Embodiment 3
In Embodiment 3, a chamber 14b that is another form of the chamber 14 according to Embodiment 1 will be described. Also in the description of the third embodiment, the same reference numerals as in the first embodiment are assigned to the same constituent elements as in the first embodiment, and the description thereof is omitted.

図6に実施の形態3にかかるチャンバ14bに関する詳細な構成図を示す。図6に示すように、チャンバ14bは、チャンバ14のダイアフラム22を第1のダイアフラムとした場合に第2のダイアフラムとして捉えられるダイアフラム51を有する。ダイアフラム51は、プレス板31とプレス板41とに挟まれる位置であって、回路基板A及びフィルム材Bを挟んで第1のダイアフラム(例えばキャリアフィルム23)と対向する位置に配置される。そして、ダイアフラム51は、第1のチャンバCMB1を、第1のチャンバCMB1と、第1のチャンバCMB1と気流の流れが遮断される第3のチャンバCMB3とに分割する。より具体的には、チャンバ14bでは、キャリアフィルム23とダイアフラム51とに挟まれる領域が第1のチャンバCMB1となり、第3のチャンバCMB3の上側ケース20側の領域が第3のチャンバCMB3となる。また、チャンバ14bでは、第1のチャンバCMB1用のエアポートAP1が下側ケース21に設けられ、第3のチャンバCMB3用のエアポートAP3が上側ケース20に設けられる。 FIG. 6 shows a detailed configuration diagram of the chamber 14b according to the third embodiment. As shown in FIG. 6, the chamber 14b has a diaphragm 51 which can be regarded as a second diaphragm when the diaphragm 22 of the chamber 14 is taken as the first diaphragm. The diaphragm 51 is located between the press plate 31 and the press plate 41 and is arranged at a position facing the first diaphragm (eg, the carrier film 23) with the circuit board A and the film material B interposed therebetween. Then, the diaphragm 51 divides the first chamber CMB1 into the first chamber CMB1 and the third chamber CMB3 in which the first chamber CMB1 and the airflow are interrupted. More specifically, in the chamber 14b, the area sandwiched between the carrier film 23 and the diaphragm 51 is the first chamber CMB1, and the area of the third chamber CMB3 on the side of the upper case 20 is the third chamber CMB3. In the chamber 14b, the lower case 21 is provided with an air port AP1 for the first chamber CMB1, and the upper case 20 is provided with an air port AP3 for the third chamber CMB3.

続いて、チャンバ14bを用いた実施の形態3にかかる積層方法について説明する。そこで、図7に実施の形態3にかかる積層工程の流れを説明するフローチャートを示す。図7に示すように、実施の形態3にかかる積層工程は、図3で説明した実施の形態1にかかる積層工程のステップS3~S6をステップS21~S25に置き換えたものである。特に、実施の形態3にかかる積層工程では2つのダイアフラム加圧工程があるところに特徴がある。 Next, a stacking method according to the third embodiment using the chamber 14b will be described. Therefore, FIG. 7 shows a flow chart for explaining the flow of the lamination process according to the third embodiment. As shown in FIG. 7, the stacking process according to the third embodiment is obtained by replacing steps S3 to S6 of the stacking process according to the first embodiment described with reference to FIG. 3 with steps S21 to S25. In particular, the stacking process according to the third embodiment is characterized in that there are two diaphragm pressurizing processes.

図7に示すように、実施の形態3にかかる積層工程では、ステップS2でチャンバ14bを密閉状態とした後に、第1のチャンバCMB1を減圧し、第2のチャンバCMB2を加圧し、第3のチャンバCMB3を大気圧とする第1のダイアフラム加圧工程を行う(ステップS21)。続いて、第2のダイアフラム加圧工程として、第1のチャンバCMB1を減圧し、第2のチャンバCMB2を加圧し、第3のチャンバCMB3を加圧する(ステップS22)。この第1のダイアフラム加圧工程と第2のダイアフラム加圧工程により、回路基板Aとフィルム材Bは、外周全てがダイアフラムに覆われることになる。そのため、実施の形態3では、回路基板Aとフィルム材Bの周囲を囲むダイアフラムによりフィルム材Bが回路基板Aの外に漏れ出す樹脂流出を防止することができる。 As shown in FIG. 7, in the stacking process according to the third embodiment, after the chamber 14b is sealed in step S2, the first chamber CMB1 is depressurized, the second chamber CMB2 is pressurized, and the third chamber CMB2 is pressurized. A first diaphragm pressurization step is performed in which the pressure in the chamber CMB3 is set to atmospheric pressure (step S21). Subsequently, as a second diaphragm pressurization step, the first chamber CMB1 is depressurized, the second chamber CMB2 is pressurized, and the third chamber CMB3 is pressurized (step S22). Through the first diaphragm pressurizing process and the second diaphragm pressurizing process, the circuit board A and the film material B are entirely covered with the diaphragm. Therefore, in the third embodiment, the film material B can be prevented from leaking out of the circuit board A by the diaphragm surrounding the circuit board A and the film material B. FIG.

続いて、実施の形態3にかかる積層工程では、第1のチャンバCMB1~第3のチャンバCMB3を全て減圧状態とした状態で、ラム44を上昇させてプレス板31、41により強い圧力をかける第1のプレス工程を行う(ステップS23)。その後、第1のチャンバCMB1の減圧状態を維持しながら、ラム44を上昇させ、ラム44の上昇が完了又は上昇完了の直線のタイミングで、第2のチャンバCMB2及び第3のチャンバCMB3を加圧状態にして、回路基板Aとフィルム材Bへかかる圧力を高める第2のプレス工程を行う(ステップS24)。これにより、回路基板Aにフィルム材Bが積層された成形品が完成する。 Subsequently, in the stacking process according to the third embodiment, the ram 44 is raised to apply a stronger pressure to the press plates 31, 41 while the first chamber CMB1 to the third chamber CMB3 are all in a decompressed state. 1 press step is performed (step S23). After that, the ram 44 is lifted while maintaining the depressurized state of the first chamber CMB1, and the second chamber CMB2 and the third chamber CMB3 are pressurized at the linear timing when the ram 44 completes the lift or when the lift is completed. A second pressing process is performed to increase the pressure applied to the circuit board A and the film material B (step S24). As a result, a molded product in which the film material B is laminated on the circuit board A is completed.

その後、実施の形態3にかかる積層工程では、第1のチャンバCMB1を加圧状態とし、第2のチャンバCMB2と第3のチャンバCMB3を減圧状態として、ダイアフラムを成形品から剥離する剥離工程を行う(ステップS25)。その後は、実施の形態1と同様にステップS7、S8を経て実施の形態3にかかる積層工程は完了する。 Thereafter, in the lamination process according to the third embodiment, the first chamber CMB1 is pressurized and the second chamber CMB2 and the third chamber CMB3 are depressurized to perform a peeling process of peeling the diaphragm from the molded product. (Step S25). After that, steps S7 and S8 are performed in the same manner as in the first embodiment, and the stacking process according to the third embodiment is completed.

上記説明より、実施の形態3にかかるチャンバ14bを用いることで、加圧時に回路基板A及びフィルム材Bの周囲をダイアフラムで囲むことができるため、加圧時に問題になる樹脂流出不良を防止することができる。 As described above, by using the chamber 14b according to the third embodiment, the circuit board A and the film material B can be surrounded by the diaphragm during pressurization, so that the problem of resin outflow failure during pressurization can be prevented. be able to.

実施の形態4
実施の形態4では、キャリアフィルム23の詳細について説明する。実施の形態4では2つの形態のキャリアフィルム23に説明する。以下の説明では、キャリアフィルム23の第1の例をキャリアフィルム23aとし、第2の例をキャリアフィルム23bとする。
Embodiment 4
In Embodiment 4, details of the carrier film 23 will be described. In Embodiment 4, two forms of carrier film 23 will be described. In the following description, the first example of the carrier film 23 is the carrier film 23a, and the second example is the carrier film 23b.

図8に実施の形態4にかかるキャリアフィルムの構造の第1の例(キャリアフィルム23a)を説明する概略図を示す。図8では、上図にキャリアフィルム23aの上面図、下図にキャリアフィルム23aの短手方向の中心付近の断面図を示した。図8に示すように、キャリアフィルム23aは、ベースフィルム61と載置フィルム62を重ね合わせた構造を有する。また、載置フィルム62には、搬送対象物(例えば回路基板A)が入る大きさの穴が開けられている。そのため、キャリアフィルム23aは、ベースフィルム61と載置フィルム62が張り合わされた状態では、回路基板Aを載置する載置面に回路基板Aがはまり込む凹部が形成される形状となる。 FIG. 8 shows a schematic diagram for explaining a first example (carrier film 23a) of the structure of the carrier film according to the fourth embodiment. In FIG. 8, the top view of the carrier film 23a is shown in the upper figure, and the sectional view near the center of the carrier film 23a in the width direction is shown in the lower figure. As shown in FIG. 8, the carrier film 23a has a structure in which a base film 61 and a mounting film 62 are overlaid. Further, the mounting film 62 is provided with a hole large enough to receive an object to be transported (for example, the circuit board A). Therefore, in the state where the base film 61 and the mounting film 62 are bonded together, the carrier film 23a has a shape in which a concave portion into which the circuit board A is fitted is formed on the mounting surface on which the circuit board A is mounted.

また、図9に実施の形態4にかかるキャリアフィルムの構造の第2の例(キャリアフィルム23b)を説明する概略図を示す。図9に示すように、キャリアフィルム23bは、載置フィルム62に設けられる穴の形状がキャリアフィルム23aとは異なる。具体的には、キャリアフィルム23bの穴の外周形状は、穴の輪郭辺が前記搬送対象物側に突出する凸部辺を有する。つまり、キャリアフィルム23bの穴の外周形状は波形を有する。 FIG. 9 shows a schematic diagram for explaining a second example (carrier film 23b) of the structure of the carrier film according to the fourth embodiment. As shown in FIG. 9, the carrier film 23b differs from the carrier film 23a in the shape of the holes provided in the mounting film 62. As shown in FIG. Specifically, the outer peripheral shape of the hole of the carrier film 23b has a convex side in which the contour side of the hole protrudes toward the conveyed object. That is, the outer peripheral shape of the holes in the carrier film 23b has a wave shape.

ここで、ベースフィルム61と載置フィルム62は、同一素材でも良く、異なる素材であっても良い。また、重ね合わせるフィルムの枚数は2以上であればよい。 Here, the base film 61 and the mounting film 62 may be made of the same material or different materials. Also, the number of films to be superimposed should be two or more.

キャリアフィルムには、搬送物である回路基板Aが載置されるが、回路基板Aがフィルム上に形成された凹部にはまることで回路基板Aがキャリアフィルム上でズレることを防止する。つまり、回路基板Aがはまり込む凹部を有するキャリアフィルムを利用する事でプレス板31、41と回路基板Aとの相対位置の精度を高めることができ、回路基板Aへの加圧ムラを低減することができる。 The circuit board A, which is an object to be conveyed, is placed on the carrier film, and the circuit board A is fitted in the concave portion formed on the film, thereby preventing the circuit board A from slipping on the carrier film. In other words, by using a carrier film having a concave portion into which the circuit board A is fitted, the accuracy of the relative position between the press plates 31 and 41 and the circuit board A can be increased, and the unevenness of pressure applied to the circuit board A can be reduced. be able to.

また、キャリアフィルムは搬送方向(例えば、長手方向)に張力がかけられた状態で利用される。このときキャリアフィルム23bのように波形の外周形状を有することで、張力が斜め方向に分散され凹部の底面にシワが発生することを防止することができる。また、キャリアフィルム23bのように波形の外周形状を採用することで、凹部内での回路基板Aのズレを防止して、位置精度をさらに向上させることができる。 Also, the carrier film is used under tension in the transport direction (for example, the longitudinal direction). At this time, by having a corrugated outer peripheral shape like the carrier film 23b, it is possible to prevent tension from being dispersed in an oblique direction and wrinkles being generated on the bottom surface of the recess. Further, by adopting a corrugated outer peripheral shape like the carrier film 23b, it is possible to prevent the circuit board A from being displaced in the concave portion, thereby further improving the positional accuracy.

また、ベースフィルム61と載置フィルム62として異なる素材を用いることで、搬送方向にかかる張力に起因するシワの防止効果を高めることができる。 In addition, by using different materials for the base film 61 and the mounting film 62, it is possible to enhance the effect of preventing wrinkles caused by the tension applied in the transport direction.

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。 It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiments, and can be modified as appropriate without departing from the scope of the invention.

(付記1)
ベースフィルムと、
前記ベースフィムルに重ね合わせられ、搬送対象物が入る大きさの穴が開けられた載置フィルムと、
を有するキャリアフィルム。
(Appendix 1)
a base film;
a mounting film superimposed on the base film and having a hole sized to receive the object to be conveyed;
A carrier film having a

(付記2)
前記穴の外周形状は、穴の輪郭辺が前記搬送対象物側に突出する凸部辺を有する付記1に記載のキャリアフィルム。
(Appendix 2)
1. The carrier film according to appendix 1, wherein the outer peripheral shape of the hole has a convex side in which the contour side of the hole protrudes toward the conveyed object.

(付記3)
前記ベースフィルムと前記載置フィルムは、異なる素材により形成される付記1に記載のキャリアフィルム。
(Appendix 3)
The carrier film according to appendix 1, wherein the base film and the mounting film are made of different materials.

(付記4)
前記ベースフィルムは、前記搬送対象物に対する成形を行うチャンバ内を区画するダイアフラムとしての機能も併せ持つ付記1に記載のキャリアフィルム。
(Appendix 4)
The carrier film according to Supplementary Note 1, wherein the base film also functions as a diaphragm that partitions a chamber in which the object to be conveyed is molded.

1 積層装置
10 制御部
11 油圧ポンプ
12 コンプレッサ
13 真空ポンプ
14 チャンバ
20 上側ケース
21 下側ケース
22 ダイアフラム
23 キャリアフィルム
31、41 プレス板
31a、41a 熱板
32、42 表面弾性体
43 ピストン
44 ラム
51 ダイアフラム
61 ベースフィルム
62 載置フィルム
A 回路基板
B フィルム材
CMB1 第1のチャンバ
CMB2 第2のチャンバ
CMB3 第3のチャンバ
Reference Signs List 1 stacking device 10 control unit 11 hydraulic pump 12 compressor 13 vacuum pump 14 chamber 20 upper case 21 lower case 22 diaphragm 23 carrier film 31, 41 press plate 31a, 41a hot plate 32, 42 surface elastic body 43 piston 44 ram 51 diaphragm 61 base film 62 mounting film A circuit board B film material CMB1 first chamber CMB2 second chamber CMB3 third chamber

Claims (13)

基板材料にフィルム材を積層した成形品を成形する積層装置であって、
上側ケースと下側ケースとの組み合わせにより構成されるチャンバと、
前記チャンバ内において互いに対向する位置に設けられる第1のプレス板と第2のプレス板と、
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板との相対距離を変化させることで前記成形品に圧力を加える加圧機構と、
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とに挟まれる位置であって、前記基板材料に前記フィルム材が積層される側の積層面に対向する位置に配置され、前記チャンバ内を前記基板材料及び前記フィルム材の搬送位置が設定される第1のチャンバと前記第1のチャンバとは気流の流れが遮断される第2のチャンバとに分割するダイアフラムと、
前記第1のチャンバと前記第2のチャンバをそれぞれ減圧又は加圧する気圧調整機構と、
前記気圧調整機構及び前記加圧機構を制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とに挟まれる位置に前記基板材料及び前記フィルム材が位置する状態で、
前記第1のチャンバを減圧し、前記第2のチャンバを加圧して、前記ダイアフラムにより前記フィルム材を前記基板材料に押し当て加圧するダイアフラム加圧工程と、
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とにより前記基板材料及び前記フィルム材が挟み込まれる方向に加圧して前記成形品を成形するプレス工程と、
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とを前記プレス工程よりも離間させた状態で、前記第1のチャンバを加圧し、前記第2のチャンバを減圧して、前記成形品から前記ダイアフラムを剥離する剥離工程と、
を実施する積層装置。
A lamination device for molding a molded product in which a film material is laminated on a substrate material,
a chamber configured by combining an upper case and a lower case;
a first press plate and a second press plate provided at positions facing each other in the chamber;
a pressure mechanism that applies pressure to the molded product by changing the relative distance between the first press plate and the second press plate;
The film material is sandwiched between the first press plate and the second press plate, and is arranged at a position facing the lamination surface on the side where the film material is laminated on the substrate material. a diaphragm that divides the first chamber into a first chamber in which transport positions of the substrate material and the film material are set and a second chamber in which the first chamber is interrupted by an air flow;
an air pressure adjustment mechanism that decompresses or pressurizes the first chamber and the second chamber, respectively;
a control unit that controls the air pressure adjustment mechanism and the pressurization mechanism,
In a state in which the substrate material and the film material are positioned between the first press plate and the second press plate, the control unit is configured to:
a diaphragm pressurizing step of depressurizing the first chamber, pressurizing the second chamber, and pressing the film material against the substrate material by the diaphragm;
a pressing step of forming the molded article by applying pressure in a direction in which the substrate material and the film material are sandwiched between the first press plate and the second press plate;
In a state in which the first press plate and the second press plate are separated from the press step, the first chamber is pressurized and the second chamber is depressurized to remove the molded article from the a stripping step of stripping the diaphragm;
Lamination device for carrying out.
前記プレス工程は、
前記第1のチャンバ及び前記第2のチャンバをともに減圧した状態で、前記基板材料及び前記フィルム材を加圧する第1のプレス工程と、
前記第1のチャンバを加圧し、前記第2のチャンバを減圧した状態で、前記基板材料及び前記フィルム材を加圧する第2のプレス工程と、
を有する請求項1に記載の積層装置。
The pressing step includes
a first pressing step of pressurizing the substrate material and the film material while both the first chamber and the second chamber are decompressed;
a second pressing step of pressurizing the substrate material and the film material while pressurizing the first chamber and depressurizing the second chamber;
The lamination device of claim 1, comprising:
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板の少なくとも一方は、前記フィルム材の温度を調整する温度調整部材であって、
前記制御部は、
前記ダイアフラム加圧工程と前記プレス工程との間に前記フィルム材の温度を調整する温度調整工程を行う請求項1に記載の積層装置。
At least one of the first press plate and the second press plate is a temperature adjusting member that adjusts the temperature of the film material,
The control unit
2. The laminating apparatus according to claim 1, wherein a temperature adjusting step of adjusting the temperature of said film material is performed between said diaphragm pressurizing step and said pressing step.
前記ダイアフラムを第1のダイアフラムとし、
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とに挟まれる位置であって、前記基板材料及び前記フィルム材を挟んで前記第1のダイアフラムと対向する位置に配置される第2のダイアフラムを有し、
前記第2のダイアフラムは、前記第1のチャンバを、前記第1のチャンバと、前記第1のチャンバと気流の流れが遮断される第3のチャンバとに分割する請求項1に記載の積層装置。
the diaphragm being a first diaphragm;
a second diaphragm disposed at a position sandwiched between the first press plate and the second press plate and facing the first diaphragm across the substrate material and the film material; have
2. The stacking device according to claim 1, wherein the second diaphragm divides the first chamber into the first chamber and a third chamber in which air flow is interrupted from the first chamber. .
前記制御部は、前記ダイアフラム加圧工程として、
前記第1のチャンバを減圧し、前記第3のチャンバを大気圧とした状態で前記第2のチャンバを加圧し、前記第1のダイアフラムにより前記フィルム材を前記基板材料に押し当て加圧する第1のダイアフラム加圧工程と、
前記第1のチャンバを減圧し、前記第1のチャンバ及び前記第3のチャンバを加圧する第2のダイアフラム加圧工程と、を有する請求項4に記載の積層装置。
The control unit, as the diaphragm pressurizing step,
The first chamber is depressurized, the second chamber is pressurized while the third chamber is atmospheric pressure, and the film material is pressed against the substrate material by the first diaphragm. A diaphragm pressurization process of
5. The stacking apparatus according to claim 4, further comprising a second diaphragm pressurizing step of depressurizing the first chamber and pressurizing the first chamber and the third chamber.
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板は、互いに対向する面に弾性部材が備えられる請求項1に記載の積層装置。 2. The stacking device according to claim 1, wherein the first press plate and the second press plate are provided with elastic members on surfaces facing each other. 前記基板材料及び前記フィルム材は、フィルム材が前記ダイアフラム側になるように重ね合わされた状態で、キャリアフィルムにより搬送される請求項1に記載の積層装置。 2. The laminating apparatus according to claim 1, wherein the substrate material and the film material are transported by a carrier film in a state where the film material is placed on the diaphragm side. 前記基板材料は、電子回路基板であり、前記積層面に電子回路の配線材料による凹凸が形成される請求項1に記載の積層装置。 2. The stacking device according to claim 1, wherein said substrate material is an electronic circuit board, and unevenness is formed on said stacking surface by a wiring material of an electronic circuit. 前記ダイアフラムは、前記基板材料を搬送するキャリアフィルムである請求項1に記載の積層装置。 2. The lamination device according to claim 1, wherein said diaphragm is a carrier film for carrying said substrate material. 前記加圧した状態は、大気圧以上の気圧状態であり、前記減圧した状態は、大気圧未満の気圧状態である請求項1に記載の積層装置。 2. The stacking apparatus according to claim 1, wherein the pressurized state is a pressure state equal to or higher than the atmospheric pressure, and the depressurized state is a pressure state lower than the atmospheric pressure. 前記加圧機構は、油圧、空圧、サーボモータ及びボールねじを用いて前記第1のプレス板及び第2のプレス板を移動させる請求項1に記載の積層装置。 2. The stacking apparatus according to claim 1, wherein the pressurizing mechanism uses hydraulic pressure, pneumatic pressure, a servomotor and a ball screw to move the first press plate and the second press plate. チャンバ内の気流が薄膜部材により遮断された第1のチャンバと第2のチャンバを有し、前記第1のチャンバに第1のプレス板が配置され、第2のチャンバに第2のプレス板が配置され、前記第1のプレス板と前記薄膜部材との間に基板材料とフィルム材が重ね合わされた状態で搬送される積層装置の積層方法であって、
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とに挟まれる位置に前記基板材料及び前記フィルム材が位置する状態で、
前記第1のチャンバを減圧し、前記第2のチャンバを加圧して、前記薄膜部材により前記フィルム材を前記基板材料に押し当て加圧する加圧工程と、
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とにより前記基板材料及び前記フィルム材が挟み込まれる方向に加圧して成形品を成形するプレス工程と、
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とを前記プレス工程よりも離間させた状態で、前記第1のチャンバを加圧し、前記第2のチャンバを減圧して、前記成形品から前記薄膜部材を剥離する剥離工程と、
を実施する積層装置の積層方法。
It has a first chamber and a second chamber in which an air flow in the chamber is blocked by a thin film member, the first press plate is arranged in the first chamber, and the second press plate is arranged in the second chamber. A lamination method using a lamination device arranged between the first press plate and the thin film member, wherein the substrate material and the film material are transported in an overlapping state,
In a state where the substrate material and the film material are positioned between the first press plate and the second press plate,
a pressurizing step of depressurizing the first chamber, pressurizing the second chamber, and pressing the film material against the substrate material by the thin film member;
a pressing step of forming a molded product by applying pressure in a direction in which the substrate material and the film material are sandwiched between the first press plate and the second press plate;
In a state in which the first press plate and the second press plate are separated from the press step, the first chamber is pressurized and the second chamber is depressurized to remove the molded article from the A peeling step of peeling the thin film member;
A lamination method for a lamination device for carrying out the above.
チャンバ内の気流が薄膜部材により遮断された第1のチャンバと第2のチャンバを有し、前記第1のチャンバに第1のプレス板が配置され、第2のチャンバに第2のプレス板が配置され、前記第1のプレス板と前記薄膜部材との間に基板材料とフィルム材が重ね合わされた状態で搬送される積層装置における成形品製造方法であって、
前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とに挟まれる位置に前記基板材料及び前記フィルム材が位置する状態で、前記第1のチャンバを減圧し、前記第2のチャンバを加圧して、前記薄膜部材により前記フィルム材を前記基板材料に押し当て前記第1のプレス板との間で0.1MPaないし1.0MPaで加圧する加圧工程と、
前記加圧工程が完了した後に、前記第1のプレス板と前記第2のプレス板とにより前記基板材料及び前記フィルム材が挟み込まれる方向に1.0MPaないし5.0MPaで加圧して成形品を成形するプレス工程と、
を有する成形品製造方法。
It has a first chamber and a second chamber in which an air flow in the chamber is blocked by a thin film member, the first press plate is arranged in the first chamber, and the second press plate is arranged in the second chamber. A method for manufacturing a molded product in a laminating device in which a substrate material and a film material are arranged and conveyed in a state of being superimposed between the first press plate and the thin film member,
With the substrate material and the film material positioned between the first press plate and the second press plate, the first chamber is depressurized and the second chamber is pressurized. a pressurizing step of pressing the film material against the substrate material by the thin film member and pressing the film material against the first press plate at 0.1 MPa to 1.0 MPa;
After the pressurizing step is completed, the substrate material and the film material are pressed between the first press plate and the second press plate at 1.0 MPa to 5.0 MPa in the direction in which they are sandwiched to form a molded product. a pressing process for molding;
A method for manufacturing a molded product.
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