JP7300553B2 - 高世代ｔｆｔ－ｌｃｄガラス基板生産ライン - Google Patents
高世代ｔｆｔ－ｌｃｄガラス基板生産ライン Download PDFInfo
- Publication number
- JP7300553B2 JP7300553B2 JP2022506648A JP2022506648A JP7300553B2 JP 7300553 B2 JP7300553 B2 JP 7300553B2 JP 2022506648 A JP2022506648 A JP 2022506648A JP 2022506648 A JP2022506648 A JP 2022506648A JP 7300553 B2 JP7300553 B2 JP 7300553B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- molten glass
- passage
- production line
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/02—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating
- C03B5/027—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating by passing an electric current between electrodes immersed in the glass bath, i.e. by direct resistance heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/18—Stirring devices; Homogenisation
- C03B5/183—Stirring devices; Homogenisation using thermal means, e.g. for creating convection currents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/04—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in tank furnaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
- C03B18/02—Forming sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B25/00—Annealing glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B25/00—Annealing glass products
- C03B25/04—Annealing glass products in a continuous way
- C03B25/06—Annealing glass products in a continuous way with horizontal displacement of the glass products
- C03B25/08—Annealing glass products in a continuous way with horizontal displacement of the glass products of glass sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
- C03B33/02—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/167—Means for preventing damage to equipment, e.g. by molten glass, hot gases, batches
- C03B5/1672—Use of materials therefor
- C03B5/1675—Platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/18—Stirring devices; Homogenisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/18—Stirring devices; Homogenisation
- C03B5/182—Stirring devices; Homogenisation by moving the molten glass along fixed elements, e.g. deflectors, weirs, baffle plates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/18—Stirring devices; Homogenisation
- C03B5/183—Stirring devices; Homogenisation using thermal means, e.g. for creating convection currents
- C03B5/185—Electric means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/18—Stirring devices; Homogenisation
- C03B5/187—Stirring devices; Homogenisation with moving elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/235—Heating the glass
- C03B5/2353—Heating the glass by combustion with pure oxygen or oxygen-enriched air, e.g. using oxy-fuel burners or oxygen lances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
- C03B5/43—Use of materials for furnace walls, e.g. fire-bricks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B7/00—Distributors for the molten glass; Means for taking-off charges of molten glass; Producing the gob, e.g. controlling the gob shape, weight or delivery tact
- C03B7/02—Forehearths, i.e. feeder channels
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Description
関連出願の相互参照
本出願は２０２０年０６月０８日に中国国家知的財産権局に提出した、出願番号が２０２０１０５１０８９９．７であり、発明の名称が「高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン」である中国特許出願に基づき優先権を主張する。ここで、その全ての内容は、援用により本出願に組み込まれる。
本出願は２０２０年０６月０８日に中国国家知的財産権局に提出した、出願番号が２０２０１０５１０８９９．７であり、発明の名称が「高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン」である中国特許出願に基づき優先権を主張する。ここで、その全ての内容は、援用により本出願に組み込まれる。
本発明は高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産分野に関わり、具体的に高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ラインに関わる。
ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板は、ガラス製造分野の最高レベルを代表するものであり、電子情報ディスプレー産業における重要な戦略的材料である。現在、中国は世界最大の情報ディスプレー産業の拠点となっており、２０１８年の中国大陸のガラス基板に対する需要量は約２．６億平方メートルであり、そのうちの第８．５世代のガラス基板に対する需要量は２．３３億平方メートルであった。２０２０年まで、中国の第８．５世代及びそれ以上のＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板は、市場の需要量が３億平方メートルを超えて、世界の総需要量の５０％以上を占め、その市場の規模と発展の可能性がともに大きい。
中国特許出願ＣＮ２００８１００５４５０９は、ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板の自動加工生産ラインを開示しており、切断、研磨、検査、及び包装の後加工処理の全ての工程を開示したが、当該特許出願において、ガラス基板の素板を生産する工程については言及していない。中国特許出願ＣＮ２０１６１１１０２２２５は、基板ガラス洗浄機に用いられる加熱システムと洗浄機に関わり、主に、ガラス基板後処理加工洗浄機に用いられる自動加熱システム、及びその加熱システムを適用した洗浄機について開示したが、当該発明は、高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ラインに係る技術的な内容を含まない。
本発明は、従来技術における不足を克服するために、高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ラインを提供する。本発明は以下の技術案を提供する。
順次に連結された窯炉、貴金属通路、スズ槽、アニール炉、切断機、及びアンローダーを含む高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板製造ラインであって、前記窯炉は、窯炉壁の両側の内壁に対称的に設けられた１組の電極と、窯炉の天井の上に設けられた１組の純酸素バーナーとを含み、前記貴金属通路は溶融ガラス混合攪拌区間を含み、溶融ガラス混合攪拌区間の一端に２つの溶融ガラス加熱清澄冷却区間が並列に接続され、前記２つの溶融ガラス加熱清澄冷却区間のそれぞれの一端は窯炉に連結され、溶融ガラス混合攪拌区間の他端は液体供給槽に連結され、前記液体供給槽はスズ槽の液体入口に連結されている、高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。
上記の技術案の上で、以下の技術案を追加してもよい。
前記１組の純酸素バーナーは、火炎噴射口が鉛直下方を向いており、火炎が窯炉内の溶融ガラスの液面に接触できる。
前記貴金属通路は、順次に連結された溶融ガラス加熱清澄冷却区間と、溶融ガラス混合攪拌区間と、液体供給槽とを含む。
前記溶融ガラス加熱清澄冷却区間は、一端が窯炉に連結される加熱通路を含み、加熱通路の他端には清澄槽と冷却通路が順次に連結されている。
前記溶融ガラス混合攪拌区間は合流通路を含み、合流通路の一端は前記２つの冷却通路に連結され、合流通路内に１組のスポイラーが設けられ、合流通路の他端には少なくとも１つの溶融ガラス攪拌槽が連結され、溶融ガラス攪拌槽の液体出口は液体供給槽に連結されている。
前記１組のスポイラーのうちの各スポイラーはずらした配置であり、１組のスポイラーによって、合流通路内に１本の蛇行通路が区画された。
合流通路の他端に少なくとも１つの溶融ガラス攪拌槽が順次に連結されている。
溶融ガラス攪拌槽（１ｂ）が複数ある場合、隣接する２つの溶融ガラス攪拌槽の攪拌方向は異なる。
前記スズ槽の液体入口の温度が１２００～１４００℃であり、スズ槽の液体出口の温度が６５０～８５０℃である。
前記スズ槽内に、水素の割合が３～８％の窒素水素混合シールドガスが導入される。
前記アニール炉内には、入口から出口に向けて、温度領域であるＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｒｅｔ及びＦが区切られ、Ａ温度領域の温度が６００～８００℃で、Ｂ温度領域の温度が５００～７００℃で、Ｃ温度領域の温度が４００～６００℃で、Ｄ温度領域の温度が３００～５００℃で、Ｒｅｔ温度領域の温度が２００～４００℃で、Ｆ温度領域の温度が５０～２００℃であり、Ｒｅｔ温度領域とＦ温度領域との間に、窯壁が開いた自然冷却領域Ｅが設けられる。
発明の利点：
本発明に係るＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ラインは、第８．５世代や第１０．５／１１世代等の大型ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板を安定に生産でき、製品サイズが大きく、製品性能に優れ、生産効率が高く、生産能力が大きいなどの利点がある。
本発明に係るＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ラインは、第８．５世代や第１０．５／１１世代等の大型ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板を安定に生産でき、製品サイズが大きく、製品性能に優れ、生産効率が高く、生産能力が大きいなどの利点がある。
本発明の実施例及び従来技術の技術案をより明確に説明するために、以下では、実施例及び従来技術に用いられる図面について簡単に説明するが、以下に説明される図面は単に本発明に係るいくつかの実施例に過ぎず、当業者にとって、創造的な働きをせずに、これらの図面に基づいて他の図面を得られることは明らかである。
本発明の目的、技術案、及び利点をより明確にするために、以下、図面を参照し、実施例を挙げて、本発明をより詳しく説明する。説明される実施例は単に本発明の一部の実施例に過ぎず、全ての実施例ではないことは明らかである。当業者が本出願における実施例に基づいて得られる全ての実施例は、本出願の特許請求の範囲に含まれる。
図１～４に示すように、高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ラインは、順次に連結された窯炉ａ、貴金属通路ｂ、スズ槽ｃ、アニール炉ｄ、切断機ｅ、及びアンローダーｆを含み、前記窯炉ａは、窯炉壁ａ１の両側の内壁に対称的に設けられた１組の電極５と、窯炉ａの天井に設けられた１組の純酸素バーナー６とを含む。前記純酸素バーナー６は、縦に配置され、その火炎噴射口が鉛直下方に向いており、火炎が窯炉ａ内の溶融ガラスの液面に接触でき、火炎加熱の効率を大幅に向上させるとともに、火炎によって液面上に浮かぶ泡を消すこともできる。前記１組の純酸素バーナー６は２列に配置され、２列の純酸素バーナー６は交錯して配置される。
前記窯炉ａの生産能力は２０～１００トン／日である。２０トン／日未満の場合は、熔融効率が低下でコストが高いが、１００トン／日を超えた場合は、溶融ガラスが十分且つ効率的に溶融できない可能性があり、基板ガラスの基板品質に影響を及ぼす。
本出願のいくつかの実施形態では、前記貴金属通路は、大流量の貴金属通路である。
前記貴金属通路は、溶融ガラス混合攪拌区間１を含み、溶融ガラス混合攪拌区間１の一端に２つの溶融ガラス加熱清澄冷却区間２が並列に接続され、前記２つの溶融ガラス加熱清澄冷却区間２のそれぞれの一端は窯炉ａに連結されている。
前記溶融ガラス加熱清澄冷却区間２は一端が窯炉ａに連結される加熱通路２ａを含み、加熱通路２ａの他端には清澄槽２ｂと冷却通路２ｃが順次に連結されている。前記加熱通路２ａは直径が１５０ｍｍ～３００ｍｍであり、長さが５００ｍｍ～１５００ｍｍである。前記清澄槽２ｂは直径が２５０ｍｍ～４００ｍｍであり、長さは３０００ｍｍ～８０００ｍｍである。前記冷却通路２ｃは直径が２２０ｍｍ～３６０ｍｍであり、長さが２０００ｍｍ～６０００ｍｍである。前記加熱通路２ａの運転時の最高温度が１６５０℃であり、前記清澄槽２ｂの運転時の最高温度が１６７０℃であり、前記冷却通路２ｃの運転時の最高温度が１５００℃～１５５０℃である。
前記溶融ガラス混合攪拌区間１は合流通路１ａを含み、合流通路１ａの一端は前記２つの冷却通路２ｃに連結されている。合流通路１ａ内に１組のスポイラー１ｃが設けられている。合流通路１ａの他端に少なくとも１つの溶融ガラス攪拌槽１ｂが連結されている。例えば、３つの溶融ガラス攪拌槽１ｂが連結されている。隣接する２つの溶融ガラス攪拌槽１ｂの攪拌方向は異なる。
前記１組のスポイラー１ｃのうちの各スポイラー１ｃは、位置がずれて配置している。１組のスポイラー１ｃによって、合流通路１ａ内に１本の蛇行通路４が区画された。前記合流通路１ａは直径が３００ｍｍ～５００ｍｍである。前記溶融ガラス攪拌槽１ｂは、直径が３５０ｍｍ～５５０ｍｍであり、攪拌速度が２～２０回転／分である。前記加熱通路２ａ、清澄槽２ｂ、冷却通路２ｃ、合流通路１ａ、溶融ガラス攪拌槽１ｂ、スポイラー１ｃ、及び液体供給槽３は、白金ロジウム合金、又は白金イリジウム合金、又は白金からなる。
最後の溶融ガラス攪拌槽１ｂの液体出口は液体供給槽３に連結され、前記液体供給槽３の液体排出口はスズ槽ｃの液体入口に連結されている。前記液体供給槽３は、直径が３００ｍｍ～５００ｍｍであり、運転時の温度が１２００℃～１４００℃である。
前記スズ槽ｃの液体入口の温度が１２００～１４００℃であり、スズ槽ｃの液体出口の温度が６５０～８５０℃である。前記スズ槽ｃ内には、水素の割合が３～８％である窒素水素混合シールドガスが導入される。スズ槽ｃ内には、それと合わせたトップロールがさらに設けられている。前記スズ槽ｃとトップロールは従来技術であるため、それらの構成、及びスズ槽ｃとトップロールとの組合せ関係についての説明を省略する。
前記スズ槽ｃの液体出口は受け渡しローラーテーブルを介してアニール炉ｄに連結されている。前記アニール炉ｄ内において、入口から出口に向けて、温度領域であるＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｒｅｔ及びＦが区切られ、Ａ温度領域の温度が６００～８００℃であり、Ｂ温度領域の温度が５００～７００℃であり、Ｃ温度領域の温度が４００～６００℃であり、Ｄ温度領域の温度が３００～５００℃であり、Ｒｅｔ温度領域の温度が２００～４００℃であり、Ｆ温度領域の温度が５０～２００℃である。Ｒｅｔ温度領域とＦ温度領域との間に、窯壁が開いた自然冷却領域Ｅが設けられている。アニール炉ｄでアニールした後のガラス板は、表面温度?７０℃であり、内部応力が５０Ｐｓｉ未満であり、板全体の反りが０．１ｍｍ未満である。
その後、ガラス板は搬送ローラーを介して切断機ｅに搬入されて、切断、縁折り、及び折切りをされて合格なガラス板になる。そして、アンローダーｆによって、取出され、積み重ねられ、箱詰めされる。前記切断機ｅとアンローダーｆは周知技術での成熟した製品であるため、ここで切断機ｅとアンローダーｆの構成についての説明を省略する。
以上は本発明の好ましい実施例に過ぎず、本発明を限定するものではなく、本発明の主旨と原則内になされた如何なる修正、置換、改善などは、いずれも、本出願の特許請求の範囲に含むすべきである。
Claims (9)
- 順次に連結された窯炉（ａ）、貴金属通路（ｂ）、スズ槽（ｃ）、アニール炉（ｄ）、切断機（ｅ）、及びアンローダー（ｆ）を含む高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板製造ラインであって、
前記窯炉（ａ）は、窯炉壁（ａ１）の両側の内壁に対称的に設けられた１組の電極（５）と、窯炉（ａ）の天井に設けられた１組の純酸素バーナー（６）とを含み、
前記貴金属通路は、溶融ガラス混合攪拌区間（１）を含み、
溶融ガラス混合攪拌区間（１）の一端に２つの溶融ガラス加熱清澄冷却区間（２）が並列に接続され、
前記２つの溶融ガラス加熱清澄冷却区間（２）のそれぞれの一端は窯炉（ａ）に連結され、
溶融ガラス混合攪拌区間（１）の他端は液体供給槽（３）に連結され、
前記液体供給槽（３）はスズ槽（ｃ）の液体入口に連結されており、
前記アニール炉（ｄ）内において、入口から出口に向けて、温度領域であるＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｒｅｔ及びＦが区切られ、
Ａ温度領域の温度が６００～８００℃であり、Ｂ温度領域の温度が５００～７００℃であり、Ｃ温度領域の温度が４００～６００℃であり、Ｄ温度領域の温度が３００～５００℃であり、Ｒｅｔ温度領域の温度が２００～４００℃であり、Ｆ温度領域の温度が５０～２００℃であり、
Ｒｅｔ温度領域とＦ温度領域との間に、窯壁が開いた自然冷却領域Ｅが設けられる、
高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。 - 前記１組の純酸素バーナー（６）は、火炎噴射口が鉛直下方を向いており、火炎は窯炉（ａ）内の溶融ガラスの液面に接触できる、
ことを特徴とする請求項１に記載の高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。 - 前記溶融ガラス加熱清澄冷却区間（２）は、一端が窯炉（ａ）に連結される加熱通路（２ａ）を含み、
加熱通路（２ａ）の他端に清澄槽（２ｂ）と冷却通路（２ｃ）とが順次に連結されている、
ことを特徴とする請求項１に記載の高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。 - 前記溶融ガラス混合攪拌区間（１）は合流通路（１ａ）を含み、
合流通路（１ａ）の一端は２つの前記冷却通路（２ｃ）に連結され、
合流通路（１ａ）内に１組のスポイラー（１ｃ）が設けられ、
合流通路（１ａ）の他端には少なくとも１つの溶融ガラス攪拌槽（１ｂ）が連結され、
溶融ガラス攪拌槽（１ｂ）の液体出口が液体供給槽（３）に連結されている、
ことを特徴とする請求項３に記載の高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。 - 前記１組のスポイラー（１ｃ）のうちの各スポイラー（１ｃ）はずれて配置しており、
１組のスポイラー（１ｃ）によって、合流通路（１ａ）内に１本の蛇行通路（４）が区画された、
ことを特徴とする請求項４に記載の高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。 - 合流通路（１ａ）の他端に少なくとも１つの溶融ガラス攪拌槽（１ｂ）が順次に連結されている、
ことを特徴とする請求項４に記載の高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。 - 溶融ガラス攪拌槽（１ｂ）が複数ある場合、隣接する２つの溶融ガラス攪拌槽（１ｂ）の攪拌方向が異なる、
ことを特徴とする請求項６に記載の高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。 - 前記スズ槽（ｃ）の液体入口の温度が１２００～１４００℃であり、スズ槽（ｃ）の液体出口の温度が６５０～８５０℃である、
ことを特徴とする請求項１に記載の高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。 - 前記スズ槽（ｃ）内に、水素の割合が３～８％である窒素水素混合シールドガスが導入される、
ことを特徴とする請求項１に記載の高世代ＴＦＴ－ＬＣＤガラス基板生産ライン。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202010510899.7A CN111747634B (zh) | 2020-06-08 | 2020-06-08 | 一种高世代tft-lcd玻璃基板生产线 |
| CN202010510899.7 | 2020-06-08 | ||
| PCT/CN2021/089346 WO2021249042A1 (zh) | 2020-06-08 | 2021-04-23 | 一种高世代tft-lcd玻璃基板生产线 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022542479A JP2022542479A (ja) | 2022-10-03 |
| JP7300553B2 true JP7300553B2 (ja) | 2023-06-29 |
Family
ID=72674774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022506648A Active JP7300553B2 (ja) | 2020-06-08 | 2021-04-23 | 高世代ｔｆｔ－ｌｃｄガラス基板生産ライン |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230219835A1 (ja) |
| JP (1) | JP7300553B2 (ja) |
| KR (1) | KR20220075408A (ja) |
| CN (1) | CN111747634B (ja) |
| WO (1) | WO2021249042A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111747634B (zh) * | 2020-06-08 | 2022-03-15 | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 | 一种高世代tft-lcd玻璃基板生产线 |
| CN113845291B (zh) * | 2021-10-25 | 2023-04-07 | 北京工业大学 | 一种消除中硼硅药用玻璃浮渣的方法及玻璃熔窑结构 |
| CN114230149A (zh) * | 2021-12-21 | 2022-03-25 | 中国建材国际工程集团有限公司 | 用于tft玻璃的生产线 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1948196A (zh) | 2006-09-30 | 2007-04-18 | 河南安彩高科股份有限公司 | 一种提高玻璃质量的方法和设备 |
| WO2012073624A1 (ja) | 2010-11-29 | 2012-06-07 | 旭硝子株式会社 | フロート板ガラスの製造装置およびフロート板ガラスの製造方法 |
| WO2012132472A1 (ja) | 2011-03-31 | 2012-10-04 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | ガラス板の製造方法 |
| WO2014175362A1 (ja) | 2013-04-24 | 2014-10-30 | 旭硝子株式会社 | フロート板ガラス製造方法 |
| WO2015099133A1 (ja) | 2013-12-26 | 2015-07-02 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置 |
| JP2019011236A (ja) | 2017-06-30 | 2019-01-24 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | ガラス基板の製造方法、及びガラス基板製造装置 |
| CN209957636U (zh) | 2019-03-13 | 2020-01-17 | 泰安恒成复合材料工程技术有限公司 | 大熔化率窑炉 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4744809A (en) * | 1987-01-02 | 1988-05-17 | Ppg Industries, Inc. | Method and apparatus for homogenizing flat glass |
| US5139558A (en) * | 1991-11-20 | 1992-08-18 | Union Carbide Industrial Gases Technology Corporation | Roof-mounted auxiliary oxygen-fired burner in glass melting furnace |
| JP3724153B2 (ja) * | 1997-10-24 | 2005-12-07 | 旭硝子株式会社 | 溶融ガラスの減圧脱泡装置 |
| TW201116496A (en) * | 2003-02-10 | 2011-05-16 | Nippon Electric Glass Co | Molten glass supply device, glass formed product, and method of producing the glass formed product |
| DE102005050871B4 (de) * | 2005-10-24 | 2007-02-08 | Beteiligungen Sorg Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung zum Konditionieren und Homogenisieren von Glasschmelzen |
| CN101935146B (zh) * | 2010-03-24 | 2012-07-04 | 东旭集团有限公司 | 铂金通道中玻璃液的处理方法 |
| CN202175606U (zh) * | 2011-07-20 | 2012-03-28 | 陕西彩虹电子玻璃有限公司 | 一种电极加热与全氧燃烧结合的玻璃熔化炉 |
| CN206529398U (zh) * | 2016-11-28 | 2017-09-29 | 北京正兴鸿业金属材料有限公司 | 可调式全氧顶烧燃烧器及具有该燃烧器的窑炉 |
| CN107129141A (zh) * | 2017-04-14 | 2017-09-05 | 中建材（宜兴）新能源有限公司 | 一种超薄光伏压延玻璃的制备方法 |
| CN110395881A (zh) * | 2019-07-19 | 2019-11-01 | 东旭(锦州)精密光电科技有限公司 | 一种玻璃液澄清设备和玻璃液澄清方法 |
| CN111747634B (zh) * | 2020-06-08 | 2022-03-15 | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 | 一种高世代tft-lcd玻璃基板生产线 |
| CN111704347B (zh) * | 2020-06-08 | 2022-03-18 | 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 | 一种大流量贵金属通道 |
| CN112142295B (zh) * | 2020-10-23 | 2022-06-21 | 蚌埠中光电科技有限公司 | 一种适用于高世代电子显示玻璃的铂金通道 |
-
2020
- 2020-06-08 CN CN202010510899.7A patent/CN111747634B/zh active Active
-
2021
- 2021-04-23 US US17/778,255 patent/US20230219835A1/en active Pending
- 2021-04-23 JP JP2022506648A patent/JP7300553B2/ja active Active
- 2021-04-23 KR KR1020227014863A patent/KR20220075408A/ko not_active Application Discontinuation
- 2021-04-23 WO PCT/CN2021/089346 patent/WO2021249042A1/zh active Application Filing
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1948196A (zh) | 2006-09-30 | 2007-04-18 | 河南安彩高科股份有限公司 | 一种提高玻璃质量的方法和设备 |
| WO2012073624A1 (ja) | 2010-11-29 | 2012-06-07 | 旭硝子株式会社 | フロート板ガラスの製造装置およびフロート板ガラスの製造方法 |
| WO2012132472A1 (ja) | 2011-03-31 | 2012-10-04 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | ガラス板の製造方法 |
| WO2014175362A1 (ja) | 2013-04-24 | 2014-10-30 | 旭硝子株式会社 | フロート板ガラス製造方法 |
| WO2015099133A1 (ja) | 2013-12-26 | 2015-07-02 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置 |
| JP2019011236A (ja) | 2017-06-30 | 2019-01-24 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | ガラス基板の製造方法、及びガラス基板製造装置 |
| CN209957636U (zh) | 2019-03-13 | 2020-01-17 | 泰安恒成复合材料工程技术有限公司 | 大熔化率窑炉 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20220075408A (ko) | 2022-06-08 |
| JP2022542479A (ja) | 2022-10-03 |
| WO2021249042A1 (zh) | 2021-12-16 |
| CN111747634B (zh) | 2022-03-15 |
| CN111747634A (zh) | 2020-10-09 |
| US20230219835A1 (en) | 2023-07-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7300553B2 (ja) | 高世代ｔｆｔ－ｌｃｄガラス基板生産ライン | |
| CN102046541B (zh) | 减压脱泡装置、玻璃制品的制造装置及玻璃制品的制造方法 | |
| US3337324A (en) | Process for melting and refining glass batch | |
| CN100434377C (zh) | 熔融玻璃供给装置和玻璃成型产品 | |
| EP0546238B1 (en) | Process for melting glas in a furnace having a roof-mounted, oxygen-fired auxiliary burner | |
| CN103253864B (zh) | 超白浮法太阳能电池用玻璃制造工艺 | |
| CN112830661B (zh) | 一种大长宽比高电负荷型混熔窑炉及熔化工艺 | |
| WO2004092086A2 (en) | Fining glassmelts using helium bubbles | |
| TW201302645A (zh) | 玻璃板之製造方法 | |
| JP6015671B2 (ja) | 溶融ガラス製造装置、溶融ガラス製造方法およびそれらを用いた板ガラスの製造方法 | |
| CN111484233B (zh) | 一种浮法制备高硼硅玻璃的方法及装置 | |
| CN113292225A (zh) | 一种半冷顶电气混合玻璃熔窑 | |
| KR101453629B1 (ko) | 용융 유리 제조 장치, 용융 유리 제조 방법 및 그것을 사용한 판유리의 제조 방법 | |
| CN202785940U (zh) | 一种玻璃窑炉 | |
| JP2004262745A (ja) | 溶融ガラス供給装置 | |
| JP2016052964A (ja) | 溶解窯、溶解方法、無アルカリガラス板の製造方法、および無アルカリガラス板 | |
| JP2019077584A (ja) | ガラス溶解炉、及びガラス物品の製造方法 | |
| TW201733919A (zh) | 用於增加的分批溶解與玻璃同質性的玻璃熔融系統及方法 | |
| JP2009221106A (ja) | 溶融ガラス供給装置及びガラス成形品の製造方法 | |
| CN1923734B (zh) | 生产玻璃产品的方法 | |
| KR20180132967A (ko) | 용융 유리의 혼합 장치 및 방법 | |
| CN107399902B (zh) | 熔化方法和无碱玻璃板的制造方法 | |
| US20160122222A1 (en) | Feeder | |
| JP2024047906A (ja) | ガラス溶解方法およびガラス物品の製造方法 | |
| CN116621423A (zh) | 玻璃熔化炉、玻璃制品的制造设备和玻璃制品的制造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220201 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230112 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230207 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230421 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230530 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230619 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7300553 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |