JP7295764B2 - processing equipment - Google Patents
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Description
本発明は、加工装置に関する。 The present invention relates to processing equipment.
特許文献1、2に開示のように研削砥石を用いてウェーハを研削する研削装置は、研削加工を行う研削室の中から研削水のミストを排気させている。そのために、研削室と排気源との間に排気ボックスを配置して、研削室に形成される複数の排気口と排気ボックスとを接続して、排気ボックスと排気源とを接続している。
As disclosed in
研削装置は、複数枚のウェーハを収納したカセットからウェーハを吸引保持して搬出して、チャックテーブルに搬送する搬送手段を備えている。また、研削装置は、搬送手段等における吸引保持のための吸引力を生成する吸引力生成手段を備えている。吸引力生成手段は、バルブと、エアを供給することにより吸引力を生成するエジェクタと、エア供給手段とを用いて、エジェクタにエアを供給して吸引力を発生させている。なお、エジェクタに供給したエアは、排気ボックスに連通され研削室の排気と共に研削室の外に排気している。 The grinding apparatus has a conveying means for sucking and holding the wafers from a cassette containing a plurality of wafers, conveying the wafers to a chuck table. Further, the grinding apparatus is provided with suction force generating means for generating suction force for suction holding in the conveying means or the like. The suction force generating means uses a valve, an ejector that generates suction force by supplying air, and an air supply means, and supplies air to the ejector to generate suction force. The air supplied to the ejector is communicated with an exhaust box and exhausted out of the grinding chamber together with the exhaust of the grinding chamber.
研削水のミストには研削屑が含まれており、排気ボックスの内壁に研削屑が付着することがある。エジェクタからのエアを導入する導入口に研削屑が付着して、導入口を詰まらせると、エジェクタから排気ができなくなり吸引力を生成できなくなってしまう。
従って、加工装置には、エジェクタから排気されるエアを排気ボックスに導入する導入口が詰まらないようにするという課題がある。
Grinding water mist contains grinding dust, which may adhere to the inner wall of the exhaust box. If grinding dust adheres to the introduction port for introducing air from the ejector and clogs the introduction port, the ejector will not be able to exhaust air and will not be able to generate a suction force.
Therefore, the processing apparatus has a problem of preventing clogging of an introduction port for introducing air discharged from the ejector into the exhaust box.
本発明は、加工水を供給しながら加工具を用いてチャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、吸引力生成手段により生成される吸引力を伝達させた搬送パッドを用いて被加工物を吸引保持して該チャックテーブルに搬入するとともに該チャックテーブルから搬出する搬送手段と、該チャックテーブルと該加工具とを収容し、該チャックテーブルに保持された被加工物の加工が行われる加工室と、該加工室と排気源との間に配設され該加工室の内部の加工水のミストを該加工室の内部から排出する排気ボックスと、を備える加工装置であって、該吸引力生成手段は、エジェクタと、該エジェクタとエア源との間に配設されるバルブと、該排気ボックスに形成され該エジェクタの排気を導入する導入口に、エジェクタの排気よりも少ない流量のエアを供給する微量エア供給部と、を備え、該微量エア供給部から該排気ボックス内に常時エアを導入して、該導入口の詰まりを防止する加工装置である。 The present invention uses a processing means for processing a workpiece held on a chuck table using a processing tool while supplying processing water, and a transfer pad to which a suction force generated by a suction force generation means is transmitted. A conveying means for sucking and holding a workpiece to carry it into the chuck table and carrying it out from the chuck table, and containing the chuck table and the machining tool to process the workpiece held on the chuck table. A processing apparatus comprising: a processing chamber in which the The suction force generating means includes an ejector, a valve arranged between the ejector and an air source, and an introduction port formed in the exhaust box for introducing the exhaust gas from the ejector, and a flow rate lower than that of the exhaust gas from the ejector. and a small amount of air supply unit that supplies a small amount of air, and always introduces air into the exhaust box from the small amount of air supply unit to prevent clogging of the introduction port.
搬送パッドに被加工物を吸引保持していなく、エジェクタの内部をエアが通過していないときにおいてもエア源を作動させており、エアがエア源から導入管を通じて常時微量エア供給部に供給される。そして、微量エア供給部においてその流量が調整されて導入口から排気ボックスの内部にエアが供給されるため、導入口に加工屑が固着して導入口が詰まるのを防止できる。 The air source is operated even when the workpiece is not held by suction on the transfer pad and the air is not passing through the inside of the ejector. be. Further, since the flow rate of the air is adjusted in the trace air supply unit and the air is supplied from the introduction port to the inside of the exhaust box, it is possible to prevent the introduction port from being clogged with processing chips.
1 加工装置の構成
図1に示す加工装置1は、加工手段3を用いて半導体ウェーハ等の被加工物Wを加工する加工装置である。以下、加工装置1の構成について説明する。
1 Configuration of Processing Apparatus A processing apparatus 1 shown in FIG. The configuration of the processing apparatus 1 will be described below.
図1に示すように、加工装置1は、被加工物Wを吸引保持するチャックテーブル2を備えている。チャックテーブル2は、保持部20と保持部20の下部に連結された移動基台21とを備えている。保持部20の上面は被加工物Wが保持される保持面20aとなっている。保持面20aに被加工物Wが載置された状態で図示しない吸引手段等を作動させることにより、被加工物Wを保持面20aに吸引保持することができる。
As shown in FIG. 1, the processing apparatus 1 includes a chuck table 2 that holds a workpiece W by suction. The chuck table 2 includes a
加工装置1は、チャックテーブル2をX軸方向に往復移動させる水平移動手段10を備えている。 The processing apparatus 1 includes horizontal movement means 10 for reciprocating the chuck table 2 in the X-axis direction.
加工装置1は、被加工物Wを加工する加工手段3を備えている。加工手段3は例えば研削手段であり、スピンドル30と、スピンドル30の下端に連結されたマウント33と、マウント33の下端に連結された研削ホイール34とを備えている。研削ホイール34は、ホイール基台341とホイール基台341の下端に連結された加工具としての研削砥石340とを備えている。研削砥石340の下面は、被加工物Wの研削加工の際に被加工物Wに当接される研削面340aとなっている。
図示しないモータ等を用いてZ軸方向の回転軸35を軸にしてスピンドル30を回転させると、研削砥石340が回転軸35を軸にして回転することとなる。
The processing apparatus 1 includes processing means 3 for processing a workpiece W. As shown in FIG. The processing means 3 is, for example, grinding means, and includes a
When the
加工装置1は、加工室8を備えている。加工室8の天板80には、開口800が形成されている。例えば、加工手段3は、開口800からスピンドル30の略半分が突出している状態で加工室8の内部に収容されており、図示しない加工送り手段等によってZ軸方向に昇降可能となっている。
加工室8の-X方向側には、Z軸方向に昇降可能な仕切り板81が配設されている。例えば、仕切り板81が+Z方向に上昇すると加工室8の-X方向側が開放されることとなる。例えば加工室8の-X方向側が開放されている状態で、水平移動手段10を用いてチャックテーブル2をX軸方向に移動させることにより、チャックテーブル2を加工室8の内外に移動させることができる。
The processing device 1 has a
A
加工室8の内部には、加工水供給手段7が配設されている。例えば被加工物Wの加工時等に、加工水供給手段7から研削砥石340と被加工物Wとの接触部分に対して加工水Lを供給することによって、研削砥石340と被加工物Wとの接触部分に発生した熱を取り除いたり、被加工物Wの加工によって生じた加工屑を洗い流したりすることができる。なお、加工水供給手段7は、加工水Lがスピンドル30の内部を通って研削ホイール34の下部から吐出される構成としてもよい。
A machining water supply means 7 is provided inside the
加工装置11は、排気源9を備えている。加工室8と排気源9との間には排気ボックス6が配設されている。被加工物Wの加工によって生じた研削屑と加工水Lとの混合流体である加工水LのミストMは、排気ボックス6によって加工室8の内部から排出されて、排気源9から排気されることとなる。
また、排気ボックス6には、エジェクタ50から排気されるエアを排気ボックス6に導入する導入口60が形成されている。
The processing device 11 has an
Further, the
加工装置1は、吸引力生成手段5を備えている。吸引力生成手段5は、エジェクタ50と、エア源51と、エジェクタ50とエア源51との間に配設されるエアバルブ52とを備えている。エジェクタ50と導入口60とはエア流路53を介して接続されている。
エアバルブ52は例えば電磁弁であり、その開閉状態を電気的に制御することが可能となっている。
例えば、エア源51が作動している状態でエアバルブ52を開放すると、エアがエジェクタ50の内部を通過して、エア流路53を通じて導入口60から排気ボックス6の内部に供給される。エジェクタ50の内部をエアが通過するのに伴い、ベンチュリ効果により、エジェクタ50に接続された吸引路48の内部に+Z方向への吸引力が生成されることとなる。
The processing device 1 includes suction force generating means 5 . The suction force generating means 5 includes an
The
For example, when the
また、吸引力生成手段5は微量エア供給部54を備えている。微量エア供給部54は、一方の端部がエア源51に接続された導入管55aと、導入管55aの他端に接続された調整部55bとを備えており、微量エア供給部54の調整部55bと導入口60とは、エア流路53を介して接続されている。
微量エア供給部54は、調整部55bにおいてエアの流量を調節して、調節された流量のエアを導入口60から排気ボックス6の内部に供給することができる。
なお、微量エア供給部54の調整部55bと導入口60とは、エアバルブ52の下流側に配設されていればよい。例えば図2に示す加工装置1Aの微量エア供給部54のように、エアバルブ52を迂回してエア源51とエジェクタ50とを接続する導入管55bを設けるとともに導入管55bに調整部55bを設けることにより、導入口60から導入する微量のエアを、エジェクタ50を介して導入してもよい。
Further, the suction force generating means 5 is provided with a very small amount of
The minute
The adjusting
図1を参照して説明を続けると、さらに、吸引力生成手段5は、吸引ポンプ56と、吸引ポンプ56に接続された吸引バルブ57とを備えている。
吸引バルブ57は例えば電磁弁であり、その開閉状態を電気的に制御することが可能となっている。
吸引バルブ57が開いている状態で吸引ポンプ56を作動することにより、吸引ポンプ56において生成された吸引力が吸引路48にも作用する。
なお、吸引ポンプ56を駆動させる電力は、加工装置1から供給されている。
Continuing the description with reference to FIG. 1 , the suction force generating means 5 further includes a
The
By operating the
Electric power for driving the
加工装置1は、搬送手段4を備えている。搬送手段4は、搬送パッド40と搬送パッド40の上部に連結された軸部41と、軸部41の上端に連結されたアーム部42とを備えている。
搬送パッド40は、吸引部400と吸引部400を支持する枠体401とを備えており、吸引部400の下面は、被加工物Wの上面Waに接触する吸引面400aとなっている。
吸引部400は、吸引路48を介して吸引ポンプ56及びエジェクタ50に接続されている。
The processing device 1 includes a conveying means 4 . The conveying means 4 includes a conveying
The
The
被加工物Wの上面Waに吸引面400aが当接している状態で、例えば、吸引ポンプ56を作動させて吸引力を生成して、吸引路48を通じて吸引面400aに伝達することにより、吸引面400aに被加工物Wの上面Waを吸引保持することができる。
また、同様に被加工物Wの上面Waに吸引面400aが当接している状態で、例えば、エアバルブ52を開き、エア源51を作動させて、エア源51からエジェクタ50の内部にエアを通すと、吸引路48に+Z方向への吸引力が生成されて吸引面400aに被加工物Wの上面Waを吸引保持することができる。
In a state where the
Similarly, while the
搬送手段4は、例えば、図示しないカセット等に収容されている加工前の被加工物Wをチャックテーブル2の保持面20aの上に搬入したり、加工後の被加工物Wを保持面20aの上から搬出したりすることができる。
The conveying means 4 carries, for example, an unprocessed workpiece W stored in a cassette or the like (not shown) onto the holding
2 加工装置の動作
(被加工物の搬送)
上記の加工装置1を用いて被加工物Wを加工する際の加工装置1の動作について説明する。
まず、図示しないカセット等に収容されている被加工物Wの上面Waに搬送手段4の搬送パッド40の吸引面400aを当接させる。そして、吸引バルブ57を開き、吸引ポンプ56を作動させて、吸引ポンプ56により生成された吸引力を吸引面400aに伝達する。これにより、搬送パッド40に被加工物Wを吸引保持する。
搬送パッド40に被加工物Wが吸引保持されている状態で、アーム部42を移動させてチャックテーブル2の保持面20aに被加工物Wを載置して、図示しない吸引手段等を用いて被加工物Wを保持面20aに吸引保持する。
2 Operation of processing equipment (conveyance of workpiece)
The operation of the processing apparatus 1 when processing the workpiece W using the processing apparatus 1 will be described.
First, the
In a state where the workpiece W is suction-held by the
(被加工物の加工)
次に、加工室8の仕切り板81を+Z方向に上昇させて、加工室8の-X方向側を開放するとともに、水平移動手段10を用いてチャックテーブル2を所定の距離だけ+X方向に移動させる。これにより、チャックテーブル2及びチャックテーブル2に吸引保持されている被加工物Wが加工室8の内部に移動して、加工手段3の下方に位置付けられる。
この状態で、図示しない回転手段等を用いてZ軸方向の回転軸25を軸にしてチャックテーブル2を回転させる。これにより、保持面20aに吸引保持されている被加工物Wが回転軸25を軸にして回転する。
(Processing of workpiece)
Next, the
In this state, the chuck table 2 is rotated around the
その後、図示しないモータ等を用いて回転軸35を軸にしてスピンドル30を回転させる。これにより、回転軸35を軸にして研削砥石340が回転する。研削砥石340が回転軸35を軸にして回転して、かつ、被加工物Wが回転軸25を軸にして回転している状態で、図示しない加工送り手段等を用いて、研削砥石340を-Z方向に移動させる。これにより、研削砥石340の研削面340aが被加工物Wの上面Waに当接して、被加工物Wが研削加工される。
After that, the
被加工物Wの研削加工時、加工水供給手段7を用いて研削面340aと被加工物の上面Waとの当接位置に加工水Lを供給する。
供給された加工水Lは、研削加工によって発生した加工屑と混ざり合い、ミストMとして加工室8の内部に飛散する。
このとき、排気源9によって排気ボックス6を介して加工室8の内部の空気が吸引されており、加工室8の内部に飛散されているミストMは、排気ボックス6を通って排気源9から加工装置1の外部に排気されている。
During grinding of the workpiece W, the machining water supply means 7 is used to supply the machining water L to the contact position between the grinding
The supplied machining water L mixes with machining waste generated by the grinding process and scatters inside the
At this time, the air inside the
被加工物Wの搬送時、及び研削加工時にはエア源51が作動しており、エアバルブ52が閉じているため、エアが、エア源51からエジェクタ50に供給されていないが、微量エア供給部54にはエアが供給されている。この状態から、例えば加工装置1の電源がオフになる等してエアバルブ52、57に電源が供給されなくなると、図3に示すようにエアバルブ52が開き、エア源51からのエアが、エジェクタ50に供給される。このとき、微量エア供給部54に対しては、エア源51から引き続きエアが供給されている。ここで、微量エア供給部54に供給されたエアは、その流量がエジェクタ50の排気よりも少ない流量となるように調整部55bにおいて調節される。このように、加工装置1に電源が供給されなくなった場合を含め、常時、導入口60から排気ボックス6の内部に供給されている。図2に示した加工装置1Aにおいても同様である。
微量エア供給部54から供給されるエアが、常時導入口60を通過しているため、例えば被加工物Wの研削加工時や研削加工後に排気源9の作用により加工室8から吸引されて排気ボックス6の内部に流入したミストMが、導入口60に付着して、ミストMに含まれる研削屑が乾燥し、導入口60において固化されて導入口60を塞いでしまうのが防止されている。
Since the
Since the air supplied from the trace
なお、図1に示した吸引力生成手段5は、加工装置から電源を供給されている吸引ポンプ56と吸引バルブ57とエアバルブ52とエジェクタ50とを備え、吸引ポンプ56における吸引力と、加工装置の電源がOFFになった際に吸引に吸引ポンプ56が停止することにより吸引路48内の負圧が低下するのを防止させるためのエジェクタ50における吸引力とを搬送手段4において利用できる構成としたが、吸引ポンプ56と吸引バルブ57とを備えず、エジェクタ50における吸引力のみを搬送手段4の吸引部400に作用させる構成としてもよい。
The suction force generating means 5 shown in FIG. 1 includes a
1:加工装置 10:水平移動手段
2:保持テーブル 20:保持部 20a:保持面 21:枠体 25:回転軸
3:加工手段 30:スピンドル 33:マウント 34:研削ホイール
340:研削砥石 340a: 341:ホイール基台 35:回転手段
4:搬送手段 40:搬送パッド 400:吸引部 400a:吸引面
401:枠体 41:軸部 42:アーム部 48:吸引路
5:吸引力生成手段 50:エジェクタ 51:エア源 52:エアバルブ
53:エア流路 54:微量エア供給部 55a:導入管 55b:調整部
56:吸引ポンプ
57;吸引バルブ 6:排気ボックス 60:導入口 7:加工水供給手段
8:加工室 80:天板 800:開口 81:仕切り板 9:排気源
W:被加工物 Wa:被加工物の上面 L:加工水 M:ミスト
1: processing device 10: horizontal movement means 2: holding table 20: holding
Claims (1)
吸引力生成手段により生成される吸引力を伝達させた搬送パッドを用いて被加工物を吸引保持して該チャックテーブルに搬入するとともに該チャックテーブルから搬出する搬送手段と、
該チャックテーブルと該加工具とを収容し、該チャックテーブルに保持された被加工物の加工が行われる加工室と、
該加工室と排気源との間に配設され該加工室の内部の加工水のミストを該加工室の内部から排出する排気ボックスと、を備える加工装置であって、
該吸引力生成手段は、
エジェクタと、
該エジェクタとエア源との間に配設されるバルブと、
該排気ボックスに形成され該エジェクタの排気を導入する導入口に、該エジェクタの排気よりも少ない流量のエアを供給する微量エア供給部と、を備え、
該微量エア供給部から該排気ボックス内に常時エアを導入して、該導入口の詰まりを防止する加工装置。 a processing means for processing a workpiece held on a chuck table using a processing tool while supplying processing water;
a conveying means for sucking and holding a workpiece using a conveying pad to which the suction force generated by the suction force generating means is transmitted, and carrying the workpiece into and out of the chuck table;
a processing chamber housing the chuck table and the processing tool, and processing the workpiece held by the chuck table;
a processing apparatus comprising an exhaust box disposed between the processing chamber and an exhaust source for discharging mist of processing water in the processing chamber from the processing chamber,
The suction force generating means is
an ejector;
a valve disposed between the ejector and an air source;
a trace air supply unit that supplies air at a flow rate lower than that of the ejector exhaust to an introduction port formed in the exhaust box for introducing the exhaust gas from the ejector,
A processing device that constantly introduces air into the exhaust box from the small amount of air supply unit to prevent clogging of the introduction port.
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003324140A (en) | 2002-05-01 | 2003-11-14 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Wafer suction device |
US20090264049A1 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-22 | Applied Materials, Inc. | Platen exhaust for chemical mechanical polishing system |
JP2014233796A (en) | 2013-06-03 | 2014-12-15 | 株式会社ディスコ | Processing device |
JP2017228617A (en) | 2016-06-21 | 2017-12-28 | 株式会社ディスコ | Holding mechanism and processing device of workpiece |
JP7223142B2 (en) | 2019-07-22 | 2023-02-15 | 株式会社日立製作所 | Elevator safety device and inspection device for elevator safety device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3733973B2 (en) * | 1993-12-14 | 2006-01-11 | 株式会社荏原製作所 | Polishing device |
JP2019072776A (en) * | 2017-10-12 | 2019-05-16 | 株式会社ディスコ | Holding method for plate-like object |
-
2019
- 2019-09-26 JP JP2019175320A patent/JP7295764B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003324140A (en) | 2002-05-01 | 2003-11-14 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Wafer suction device |
US20090264049A1 (en) | 2008-04-18 | 2009-10-22 | Applied Materials, Inc. | Platen exhaust for chemical mechanical polishing system |
JP2014233796A (en) | 2013-06-03 | 2014-12-15 | 株式会社ディスコ | Processing device |
JP2017228617A (en) | 2016-06-21 | 2017-12-28 | 株式会社ディスコ | Holding mechanism and processing device of workpiece |
JP7223142B2 (en) | 2019-07-22 | 2023-02-15 | 株式会社日立製作所 | Elevator safety device and inspection device for elevator safety device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021049619A (en) | 2021-04-01 |
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