JP2012006123A - Cleaning method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、研削装置に具備され研削加工するワークを負圧作用で吸着保持する保持テーブルの保持部を洗浄する洗浄方法に関する。 The present invention relates to a cleaning method for cleaning a holding portion of a holding table that is provided in a grinding apparatus and sucks and holds a workpiece to be ground by negative pressure.
半導体デバイス製造工程においては、ICやLSI等による多数の電子回路が表面に形成された半導体ウェーハは、チップに分割される前に裏面が研削装置によって研削され、所定の厚さに薄化されている。半導体ウェーハの裏面研削を行う研削装置としては、ワークの着脱領域と加工領域に沿って回転可能に配設されたターンテーブルと、該ターンテーブルに配設されて順次加工領域に移動させられ、ワークを負圧作用で吸着保持する複数個の保持テーブルと、加工領域に配設され、該加工領域に位置付けられた保持テーブル上に保持したワークの裏面を研削加工する研削ホイールを備えた研削加工手段とを有するものが知られている(特許文献1等参照)。 In a semiconductor device manufacturing process, a semiconductor wafer on which a large number of electronic circuits such as IC and LSI are formed on the front surface is ground by a grinding device before being divided into chips and thinned to a predetermined thickness. Yes. As a grinding apparatus for performing back surface grinding of a semiconductor wafer, a turntable disposed rotatably along a workpiece attachment / detachment region and a processing region, and disposed on the turntable and sequentially moved to the processing region, A plurality of holding tables that adsorb and hold the substrate by negative pressure action, and a grinding means provided with a grinding wheel that is disposed in the processing area and that grinds the back surface of the work held on the holding table positioned in the processing area Are known (see Patent Document 1).
上記保持テーブルは、一般に、ワークを吸着保持する保持部が多孔質セラミックで構成されている。このため、研削加工を繰り返すうちに研削屑が該保持部の孔に入り込んで詰まってしまい、吸引力が低下するという問題があった。 In the holding table, generally, a holding portion that holds a workpiece by suction is made of a porous ceramic. For this reason, there has been a problem that the grinding waste enters the hole of the holding portion and becomes clogged while repeating the grinding process, and the suction force is reduced.
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、その主な技術的課題は、多孔質セラミックからなる保持テーブルの保持部の孔に詰まった研削屑を効果的に除去して保持部の吸引力を回復させることができる洗浄方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and its main technical problem is to effectively remove grinding debris clogged in the hole of the holding part of the holding table made of porous ceramic, and An object of the present invention is to provide a cleaning method capable of recovering the suction force.
本発明の洗浄方法は、ワークを保持する保持テーブルと、該保持テーブルに保持されたワークを研削加工する研削加工手段と、を有し、前記保持テーブルは、ワークを吸着保持する多孔質セラミックで形成された保持部と、該保持部を囲む枠体と、該保持部に吸引力を発生させる吸引源に該保持部を連通させる吸引連通路と、を有する研削装置の前記保持部を洗浄する洗浄方法であって、前記研削装置は、前記保持部に空気を供給するエア供給源に該保持部を連通させるエア連通路と、前記保持部に水を供給する水供給源に該保持部を連通させる水連通路と、を有し、ワークを前記保持テーブルの前記保持部で保持する工程と、前記保持テーブルに保持されたワークを前記研削加工手段で研削加工する工程と、研削加工後に前記保持テーブルの前記保持部上からワークを搬出する工程と、前記保持テーブルの前記保持部にエアと水との混合流体を供給して該保持部を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。 The cleaning method of the present invention includes a holding table for holding a workpiece and a grinding means for grinding the workpiece held on the holding table, and the holding table is a porous ceramic that holds the workpiece by suction. The holding unit of the grinding apparatus having the formed holding unit, a frame surrounding the holding unit, and a suction communication path that communicates the holding unit with a suction source that generates a suction force in the holding unit is cleaned. In the cleaning method, the grinding apparatus includes an air communication path that communicates the holding unit with an air supply source that supplies air to the holding unit, and a water supply source that supplies water to the holding unit. A water communication passage for communicating, a step of holding the workpiece by the holding portion of the holding table, a step of grinding the workpiece held by the holding table by the grinding means, and after grinding Holding table A step of unloading the workpieces from the said holding part, characterized in that it comprises a, a step of washing the holder mixed fluid is supplied to the air and water in the holding portion of the holding table.
本発明によれば、研削加工したワークを保持テーブルの保持部上から搬出した後に、該保持部にエアと水との混合流体を供給することにより、保持部の孔に詰まった研削屑が放出され、保持部が洗浄される。このため、保持部の吸引力が回復する。 According to the present invention, after the ground workpiece is carried out from the holding part of the holding table, by supplying a mixed fluid of air and water to the holding part, grinding waste clogged in the hole of the holding part is released. And the holding part is washed. For this reason, the suction force of the holding part is restored.
なお、本発明で言うワークは特に限定はされないが、例えば、シリコン、ガリウムヒ素(GaAs)、シリコンカーバイド(SiC)等からなる半導体ウェーハ、セラミック、ガラス、サファイア(Al2O3)系の無機材料基板、板状金属や樹脂の延性材料、ミクロンオーダーからサブミクロンオーダーの平坦度(TTV:total thickness variation−ワークの被研削面を基準として厚さ方向に測定した高さのワークの被研削面全面における最大値と最小値の差)が要求される各種加工材料等が挙げられる。 The work referred to in the present invention is not particularly limited. For example, semiconductor wafers made of silicon, gallium arsenide (GaAs), silicon carbide (SiC), etc., ceramics, glass, sapphire (Al 2 O 3 ) -based inorganic materials Substrate, plate-like metal or resin ductile material, flatness on the order of micron to submicron (TTV: total thickness variation-the entire surface to be ground of the workpiece measured in the thickness direction based on the surface to be ground of the workpiece Examples of various processing materials that require a difference between the maximum value and the minimum value).
本発明によれば、多孔質セラミックからなる保持テーブルの保持部の孔に詰まった研削屑を効果的に除去して保持部の吸引力を回復させることができる洗浄方法が提供されるといった効果を奏する。 According to the present invention, it is possible to provide a cleaning method capable of effectively removing grinding dust clogged in the hole of the holding portion of the holding table made of porous ceramic and recovering the suction force of the holding portion. Play.
以下、図面を参照して本発明の一実施形態を説明する。
(1)研削装置の構成
図1により、一実施形態に係る研削装置を説明する。この研削装置10は、例えば厚さが700μm程度の円板状の半導体ウェーハ等をワークとするもので、そのようなワークを真空チャック式の保持テーブル20に水平に保持してワークの被加工面を上方に露出させ、その被加工面を研削加工手段30により研削してワークを所定厚さに加工するものである。保持テーブル20は、ワークを負圧作用で吸着保持する保持部21を表面側に有しており、本実施形態では、ワークの研削加工とともに保持部21の洗浄がなされる。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
(1) Configuration of Grinding Apparatus A grinding apparatus according to an embodiment will be described with reference to FIG. The
研削装置10は、X方向に長い直方体状の装置台を有している。装置台11には、長方形状のテーブルベース25がX方向に移動可能に設けられている。テーブルベース25には、真空チャック式の保持テーブル20がZ方向(鉛直方向)を回転軸方向として回転可能に支持されている。
The
保持テーブル20は、図2および図3に示すように、ステンレス等の中実な材料によって円板状に形成された枠体22と、この枠体22内で囲まれた上記保持部21とを備えている。枠体22は、外周縁部221と底部222とを有する皿状に形成されたもので、底部222の中心には吸引孔223が貫通形成されている。この吸引孔223は、図5に示す供給/吸引管部63および吸引管部73を介して、保持部21に吸引力を発生させる吸引源70に連通される。
As shown in FIGS. 2 and 3, the holding table 20 includes a
枠体22の外周縁部221の内周面には底部222に連なる環状の段部224が形成されており、また、底部222には、段部224と同じ高さの複数の仕切り225が、放射方向に複数形成されている。この場合の仕切り225は、吸引孔223を中心として同心状、かつ周方向に間欠的に配列されている。これら仕切り225間および最外周の仕切り225と段部224間に、放射方向および周方向に沿った複数の吸引溝226が形成されている。これら吸引溝226は、吸引孔223に連通している。
An
保持部21は多孔質セラミックにより円板状に形成されたもので、段部224および各仕切り225に載置された状態で、枠体22内の上部に嵌合されている。図3に示すように保持部21の上面は枠体22の外周縁部221の水平な上面と面一となっており、保持部21の上面が、ワーク1を吸着保持する保持面211として構成されている。枠体22の吸引溝226は保持部21で覆われ、吸引溝226と吸引孔223とにより、上記吸引源70に保持部21を連通させる吸引連通路が構成されている。
The
保持テーブル20は、図1においてテーブルベース25がX方向に移動することにより、手前側(X1側)の端部の搬入出位置から奥側(X2側)の加工位置の間を往復移動させられる。装置台11にはテーブルベース25をX方向に移動させる移動機構が設けられており、テーブルベース25には保持テーブル20を回転させる回転駆動機構が設けられている(いずれも図示略)。テーブルベース25の移動方向の両側には、テーブルベース25の移動路を覆って研削屑等が装置台11内に落下することを防ぐ伸縮自在な蛇腹状のカバー12が設けられている。
The holding table 20 is reciprocated between the loading / unloading position at the front end (X1 side) and the processing position on the back side (X2 side) by moving the
保持テーブル20は、はじめは搬入出位置に位置付けられており、この保持テーブル20の保持部21の保持面211に、オペレータによってワークを載置する。そして、上記吸引源70を作動させ、これによって保持面211に発生する負圧作用で保持面211にワークを吸着保持する(ワークを保持する工程)。ワークは保持部21と同程度の直径を有するものとされ、保持面211に同心状に載置される。吸引源70が作動して保持部21にワークが吸着保持される作用については後述する。
The holding table 20 is initially positioned at the carry-in / out position, and a work is placed on the
保持テーブル20の保持部21にワークを吸着保持させたら、テーブルベース25を図1においてX2方向に移動させ、ワークを加工位置に位置付けて上方の研削加工手段30に対向配置させる。
When the workpiece is sucked and held by the
図1に示すように、研削加工手段30は、装置台11の後端部(X2側の端部)に立設されたコラム13の前面側に配設されている。コラム13の前面には、一対のZ軸ガイド14を介してスライダ15がZ方向に沿って昇降可能に取り付けられており、このスライダ15に、研削加工手段30が固定されている。
As shown in FIG. 1, the grinding means 30 is disposed on the front side of the
研削加工手段30は、軸方向がZ方向に延びる円筒状のスピンドルハウジング31内に図示せぬスピンドルシャフトが同軸的、かつ回転自在に組み込まれ、該スピンドルシャフトの下端に設けられたフランジ状のホイールマウント32に研削ホイール33が着脱自在に固定された構成のものである。スピンドルハウジング31の上端部にはモータ部34が設けられており、このモータ部34によって上記スピンドルシャフトが回転駆動される。
The grinding means 30 is a flange-shaped wheel provided at the lower end of a spindle shaft, in which a spindle shaft (not shown) is coaxially and rotatably incorporated in a
研削ホイール33は、ホイールマウント32の下面に着脱可能に固定される環状の基台部331と、基台部331の下面の外周部に環状に配列されて固着された多数の砥石332とから構成されるものである。砥石332はワークに応じたものが用いられ、例えば、ダイヤモンドの砥粒をメタルボンドやレジンボンド等の結合剤で固めて成形したダイヤモンド砥石等が用いられる。研削ホイール33は、モータ部34によって上記スピンドルシャフトと一体に回転駆動される。
The
研削加工手段30は、ホイールマウント32を下方に配して軸方向をZ方向と平行にした状態で、スピンドルハウジング31がホルダ35を介してスライダ15に固定されている。スライダ15は、一対のZ軸ガイド14間に配設されてスライダ15に螺合した状態で連結されたZ方向に延びるボールねじ361と、ボールねじ361を回転駆動するサーボモータ362とを備えた加工送り手段36によって昇降駆動される。したがって、研削加工手段30は加工送り手段36によってスライダ15と一体に昇降する。
In the grinding means 30, the
上記加工位置に位置付けられたワークは、上方に露出させられた被加工面が研削加工手段30によって研削され、目的厚さに薄化される(ワークを研削加工する工程)。研削加工手段30による研削は、モータ部34を作動させて研削ホイール33を回転させながら、かつ保持テーブル20を一方向に回転させてワークを自転させながら、加工送り手段36によりスライダ15とともに研削加工手段30を下降させ、回転する研削ホイール33の砥石332をワークの被加工面に押し付けることによりなされる。研削の際には、潤滑、冷却および清浄化等を目的として、研削ホイールの基台部331からワークの被加工面に研削液を供給する。
The workpiece positioned at the machining position is ground at the workpiece surface exposed by the grinding means 30 and thinned to a target thickness (step of grinding the workpiece). Grinding by the grinding means 30 is performed together with the
図4は、加工位置に位置付けられたワーク1と研削ホイール33との水平方向における位置関係を示している。同図に示すように、研削ホイール33の研削外径(砥石332の回転軌跡の最外径)は、ワーク1の直径と同程度に設定される。また、ワーク1の加工位置は、砥石332の下面である刃先が、自転するワーク1の回転中心を通過する位置に設定される。そして、保持テーブル20を一方向に回転させてワーク1を自転させながら研削ホイール33の砥石332をワーク1の被加工面に押し付けることにより、被加工面の全面が研削される。
FIG. 4 shows the positional relationship in the horizontal direction between the
研削加工中のワークの厚さは、図示せぬ厚さ測定手段で測定される。加工送り手段36による研削加工手段30の加工送り動作は、該厚さ測定手段で逐一測定される厚さ測定値に基づいて制御する。そして、厚さ測定値が目的値になったら研削加工手段30を上昇させて砥石332をワークから離し、研削加工を終了する。研削加工終了後は、テーブルベース25を図1のX1方向に移動させてワークを搬入出位置まで戻すとともに保持テーブル20の回転を停止させる。そして、保持テーブル20によるワークの吸着保持を解除し、研削加工済みのワークを保持テーブル20上から搬出して次の工程に移す(ワークを搬出する工程)。
The thickness of the workpiece during grinding is measured by a thickness measuring means (not shown). The machining feed operation of the grinding means 30 by the machining feed means 36 is controlled based on the thickness measurement values measured one by one by the thickness measuring means. When the measured thickness value reaches the target value, the grinding means 30 is raised to separate the
(2)保持部の洗浄
ワークを保持テーブル20の保持部21上から搬出したら、次いで保持部21を洗浄する。研削装置10には、図5に示す保持部21を洗浄するための配管系を有している。まず、この配管系から説明する。
(2) Cleaning of holding part After the work is carried out from the holding
(2−1)配管系
図5で符号40,50は、それぞれ水供給源、エア供給源である。水供給源40には水供給管部41が接続され、エア供給源50にはエア供給管部51が接続されている。これら水供給管部41とエア供給管部51とは合流点60で合流しており、合流点60よりも下流側の合流管部61が、供給/吸引管部63を介して上記保持テーブル20の枠体22の吸引孔223に接続されている。合流管部61には、ソレノイドバルブ62が設けられている。
(2-1) Piping
水供給管部41とエア供給管部51においては、水供給源40およびエア供給源50の近傍に、開閉バルブ42,52がそれぞれ設けられている。水供給管部41における開閉バルブ42と合流点60との間には上流側より水流量計43とチェックバルブ44が設けられており、エア供給管部51における開閉バルブ52と合流点60との間には上流側よりエア流量計53とチェックバルブ54が設けられている。
In the water
また、エア供給管部51における開閉バルブ52とエア流量計53との間からは吸引用エア供給管部71が分岐している。この吸引用エア供給管部71の末端には排気口72が設けられている。吸引用エア供給管部71には、供給/吸引管部63から分岐した吸引管部73が合流しており、その合流点が、保持テーブル20の保持部21に吸引力を発生させる吸引源70として構成されている。
Further, a suction air
吸引管部73の途中には、ソレノイドバルブ74が設けられている。このソレノイドバルブ74を開放し、合流管部61のソレノイドバルブ62を閉じた状態で、開閉バルブ52を開けてエア供給源50からエア供給管部51にエアを供給すると、吸引用エア供給管部71を流れて排気口72から排出されるエアの流れによって吸引管部73が負圧となる。そしてこの吸引管部73の負圧が供給/吸引管部63、枠体22の吸引孔223、吸引溝226を経て保持部21に伝わり、保持部21に吸引力が発生するようになっている。上記の「ワークを保持する工程」では、このようにして吸引源70を作動状態とすることにより、保持部21の保持面211に負圧が発生し、保持面211にワークが吸着保持される。
A
図5においては、水または水とエアの供給経路を一点鎖線で示し、エアの供給経路を実線で示し、保持テーブル20の保持部21に吸引力を発生させる吸引経路を破線で示している。本実施形態では、水供給管部41、合流管部61および供給/吸引管部63により本発明の水連通路が構成され、エア供給管部51、合流管部61および供給/吸引管部63により本発明のエア連通路が構成されている。
In FIG. 5, the supply path of water or water and air is indicated by a one-dot chain line, the supply path of air is indicated by a solid line, and the suction path for generating a suction force on the holding
(2−2)保持部を洗浄する工程
研削加工を終えて搬入出位置にワークを戻したら、吸引管部73のソレノイドバルブ74を閉じて吸引源70の作動状態を停止させ、これにより保持テーブル20の保持部21によるワークの吸着保持を解除する。この後、以下のように操作して保持部21を洗浄する。
(2-2) Step of Cleaning the Holding Unit When the workpiece is returned to the loading / unloading position after the grinding process is finished, the
すなわち、合流管部61のソレノイドバルブ62を開放し、かつ吸引管部73のソレノイドバルブ74を閉じたままで、水供給管部41とエア供給管部51の各開閉弁42,52を開いた状態とする。すると、水供給源40から供給される水が水供給管部41を通って合流管部61のソレノイドバルブ62に至り、エア供給源50から供給されるエアがエア供給管部51を通って合流管部61のソレノイドバルブ62に至る。
That is, the open /
水とエアは合流点60で合流し、ソレノイドバルブ62を通過することにより混合流体となる。この水とエアの混合流体が、供給/吸引管部63を流れて枠体22の吸引孔223から吸引溝226を経て保持部21に至る。そしてこの混合流体は、保持部21の下面から保持部21内の孔を通過して保持面211から上方に吹き上げる。これにより保持部21内の孔は洗浄され、ワークの研削加工時に発生した研削屑がその孔に入り込んで詰まっていた場合、その研削屑は保持部21から放出除去される。
Water and air merge at the
また、図3に示すように、枠体22の底部222と仕切り225や段部224とで形成される内隅部に研削屑2が付着して溜まる場合がある。このような研削屑2は、単なる流体の接触では除去されにくいが、吸引溝226を迷路状に流動することによりバブル状となる混合流体で覆われることにより剥離し、除去されやすくなる。
In addition, as shown in FIG. 3, there is a case where the grinding
保持部21を洗浄する時の、水供給源40から供給される水の圧力および流量と、エア供給源50から供給されるエアの圧力および流量は、適切な混合流体が生成されるように適宜に設定される。例えば水とエアの流量の比率は、水:エア=7:3程度が好適とされ、実際の流量としては水が20.0L/min程度でエアが8.6L/min程度とされる。また、圧力は、水が0.2〜0.3MPa(好ましくは0.3MPa付近)、エアは0.5〜0.8MPa程度が好適な例である。水の流量は水流量計43を確認しながら制御することができ、エアの流量はエア流量計53を確認しながら制御することができ。また、水とエアの圧力は、図示せぬそれぞれの圧力計で確認しながら制御される。
The pressure and flow rate of water supplied from the
保持部21へ混合流体を供給する洗浄工程が所定時間なされたら、合流管部61のソレノイドバルブ62を閉じて混合流体の供給を停止する。この状態で、保持テーブル20の保持部21に新たなワークを載置するとともに吸引管部73のソレノイドバルブ74を開放して吸引源70を作動させ、上記の研削加工を繰り返す。
When the cleaning process for supplying the mixed fluid to the holding
(2−3)一実施形態の効果
本実施形態によれば、研削加工したワークを保持テーブル20の保持部21上から搬出した後に保持部21に水とエアとの混合流体を供給して保持部21から吹き出させることにより、保持部21内の孔は洗浄され、研削屑が孔に詰まっていた場合にはその研削屑が保持部21から除去される。このため、保持部21の研削屑による詰まりが解消され、保持部21の吸引力が回復する。
(2-3) Effect of One Embodiment According to the present embodiment, after a ground workpiece is carried out from the holding
なお、保持部21の洗浄は、1枚のワークの研削加工が終わる度に行ってもよく、また、所定枚数のワークを研削加工する度に間欠的に行ってもよい。さらには、保持部21の吸引力の低減が認められた段階で行うようにしてもよい。
The holding
1…ワーク
10…研削装置
20…保持テーブル
21…保持部
22…枠体
223…吸引孔(吸引連通路)
226…吸引溝(吸引連通路)
30…研削加工手段
40…水供給源
41…水供給管部(水連通路)
50…エア供給源
51…エア供給管部(エア連通路)
61…合流管部(水連通路)
63…供給/吸引管部(水連通路)
70…吸引源
DESCRIPTION OF
226 ... Suction groove (suction communication path)
DESCRIPTION OF
50 ...
61 ... Junction pipe section (water communication passage)
63 ... Supply / suction pipe section (water communication passage)
70 ... suction source
Claims (1)
前記保持テーブルは、ワークを吸着保持する多孔質セラミックで形成された保持部と、該保持部を囲む枠体と、該保持部に吸引力を発生させる吸引源に該保持部を連通させる吸引連通路と、を有する研削装置の前記保持部を洗浄する洗浄方法であって、
前記研削装置は、
前記保持部に空気を供給するエア供給源に該保持部を連通させるエア連通路と、
前記保持部に水を供給する水供給源に該保持部を連通させる水連通路と、
を有し、
ワークを前記保持テーブルの前記保持部で保持する工程と、
前記保持テーブルに保持されたワークを前記研削加工手段で研削加工する工程と、
研削加工後に前記保持テーブルの前記保持部上からワークを搬出する工程と、
前記保持テーブルの前記保持部にエアと水との混合流体を供給して該保持部を洗浄する工程と、
を含むことを特徴とする洗浄方法。 A holding table for holding the workpiece, and a grinding means for grinding the workpiece held on the holding table,
The holding table includes a holding portion formed of a porous ceramic for sucking and holding a workpiece, a frame surrounding the holding portion, and a suction communication that connects the holding portion to a suction source that generates a suction force in the holding portion. A cleaning method for cleaning the holding part of the grinding device having a passage,
The grinding apparatus includes:
An air communication path for communicating the holding unit with an air supply source for supplying air to the holding unit;
A water communication path for communicating the holding unit with a water supply source for supplying water to the holding unit;
Have
Holding the workpiece with the holding portion of the holding table;
Grinding the workpiece held on the holding table with the grinding means;
A step of unloading the workpiece from the holding portion of the holding table after grinding;
Supplying a mixed fluid of air and water to the holding unit of the holding table to wash the holding unit;
A cleaning method comprising:
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