JP2021010993A - Grinding device - Google Patents

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Abstract

To enable a grinding wheel to be washed in a processing chamber before wheel replacement in a case where the grinding wheel is soiled.SOLUTION: A grinding device 1 comprising: means 30 that rotates a grinding wheel 304 to grind a work piece held on a table 50; means 11 that moves the table 50 and the grinding means 30 relatively in a horizontal direction parallel to a holding surface 500a; means 20 that raises/lowers the grinding means 30 in a perpendicular direction relative to the holding surface 500a; and control means 9, comprises: a water valve 571 that opens/closes a water communication passage 570 that allows the holding surface 500a to communicate with a water supply source 57; and an air valve 581 that opens/closes an air communication passage 580 that allows the holding surface 500a to communicate with an air supply source 58. The control means 9 controls the horizontal moving means 11 and the raising/lowering means 20, positions a grind stone 304b above the holding surface 500a, forms an empty space between the holding surface 500a and a lower surface of the grind stone 304b, controls the water valve 571 and the air valve 581, and jets water and air from the holding surface 500a to wash the grinding wheel 304.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、半導体ウェーハ等の被加工物を研削する研削装置に関する。 The present invention relates to a grinding apparatus for grinding a workpiece such as a semiconductor wafer.

研削水を供給しつつウェーハを研削砥石で研削する研削装置は、研削砥石の高速回転によって生み出される遠心力を研削水が受け、研削水は加工室内で飛び散り研削屑を含んだ噴霧となり、加工室の内壁や研削砥石が環状に配置された研削ホイールに付着する。 In a grinding device that grinds a wafer with a grinding wheel while supplying grinding water, the grinding water receives the centrifugal force generated by the high-speed rotation of the grinding wheel, and the grinding water scatters in the processing chamber and becomes a spray containing grinding debris. The inner wall and the grinding wheel adhere to the grinding wheel arranged in an annular shape.

また、ウェーハに研削加工を施すと、研削砥石が消耗するため、新たな研削ホイールに交換している。使用した研削ホイールが汚れている場合には、研削手段から汚れた研削ホイールを取り外した後に、取り外しの際に研削ホイールから加工室内又は研削装置が配設されているクリーンルームに落ちた研削屑や研削ホイールを洗浄ガンで洗浄した際にクリーンルームに落ちた研削屑が乾燥することで各所が汚染されるという問題がある。この問題を解決するために、特許文献1に開示されているような加工室内を洗浄する方法がある。 Further, when the wafer is ground, the grinding wheel is consumed, so the wafer is replaced with a new grinding wheel. If the used grinding wheel is dirty, after removing the dirty grinding wheel from the grinding means, grinding debris or grinding that fell from the grinding wheel from the grinding wheel to the processing room or the clean room where the grinding device is installed at the time of removal There is a problem that various parts are contaminated by drying the grinding debris that has fallen into the clean room when the wheel is cleaned with a cleaning gun. In order to solve this problem, there is a method of cleaning the processing chamber as disclosed in Patent Document 1.

特開2015−199146号公報JP-A-2015-199146

しかし、クリーンルームを洗浄するのは時間が掛かるため、研削手段の研削ホイールが汚れている場合には、研削ホイールを交換する前に研削ホイールを加工室内で洗浄可能にし、クリーンルーム等の各所が汚されないようにするという課題がある。 However, since it takes time to clean the clean room, if the grinding wheel of the grinding means is dirty, the grinding wheel can be cleaned in the processing room before the grinding wheel is replaced, and various parts such as the clean room are not polluted. There is a problem to do so.

上記課題を解決するための本発明は、保持面で被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を環状に研削砥石を配置した研削ホイールを回転させ該研削砥石の下面で被加工物を研削する研削手段と、該チャックテーブルと該研削手段とを相対的に該保持面に平行な水平方向に移動させる水平移動手段と、該研削手段を該保持面に対し垂直方向に昇降させる昇降手段と、装置制御を行う制御手段と、を備える研削装置であって、該保持面を水供給源に連通する水連通路と、該水連通路を開閉する水バルブと、該保持面をエア供給源に連通するエア連通路と、該エア連通路を開閉するエアバルブと、を備え、該制御手段は、該水平移動手段と該昇降手段とを制御し、該保持面の上方に該研削砥石を位置づけ、該保持面と該研削砥石の下面との間に所定の隙間を形成させ、該水バルブと該エアバルブとを制御し、該保持面から水とエアとを噴出させ該研削ホイールを洗浄する、研削装置である。 In the present invention for solving the above problems, a chuck table for holding a work piece on a holding surface and a grinding wheel on which a work piece held on the chuck table is arranged in an annular shape are rotated to cause the grinding wheel. A grinding means for grinding an workpiece on the lower surface of the work piece, a horizontal moving means for moving the chuck table and the grinding means in a horizontal direction relatively parallel to the holding surface, and the grinding means for the holding surface. A grinding device including an elevating means for ascending and descending in a vertical direction and a control means for controlling the device, a water communication passage for communicating the holding surface with a water supply source, and a water valve for opening and closing the water communication passage. An air communication passage for communicating the holding surface with the air supply source and an air valve for opening and closing the air communication passage are provided, and the control means controls the horizontal moving means and the elevating means, and the holding surface. The grinding grindstone is positioned above the holding surface, a predetermined gap is formed between the holding surface and the lower surface of the grinding grindstone, the water valve and the air valve are controlled, and water and air are ejected from the holding surface. It is a grinding device for cleaning the grinding wheel.

また、上記課題を解決するための本発明は、保持面で被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を環状に研削砥石を配置した研削ホイールを回転させ該研削砥石の下面で被加工物を研削する研削手段と、該チャックテーブルと該研削手段とを相対的に該保持面に平行な水平方向に移動させる水平移動手段と、該研削手段を該保持面に対し垂直方向に昇降させる昇降手段と、装置制御を行う制御手段と、を備える研削装置であって、該研削砥石の下面に洗浄水を噴射させ該研削砥石の下面を洗浄する洗浄ノズルを備え、該制御手段は、少なくとも該水平移動手段を制御して該洗浄ノズルと該研削手段とを相対的に水平移動させつつ、該洗浄ノズルの上方に位置づけた該研削ホイールに該洗浄ノズルから水を噴射させ該研削ホイールを洗浄する、研削装置である。 Further, in the present invention for solving the above problems, the chuck table for holding the workpiece on the holding surface and the grinding wheel on which the workpiece held on the chuck table is annularly arranged with a grinding wheel are rotated. A grinding means for grinding an workpiece on the lower surface of a grinding wheel, a horizontal moving means for moving the chuck table and the grinding means in a horizontal direction relatively parallel to the holding surface, and the grinding means for the holding surface. A grinding device including an elevating means for ascending / descending in a direction perpendicular to the ground and a control means for controlling the device, and provided with a cleaning nozzle for injecting cleaning water onto the lower surface of the grinding wheel to clean the lower surface of the grinding wheel. The control means controls at least the horizontal moving means to move the washing nozzle and the grinding means relatively horizontally, and transfers water from the washing nozzle to the grinding wheel positioned above the washing nozzle. It is a grinding device that injects and cleans the grinding wheel.

本発明に係る研削装置は、制御手段が、水平移動手段と昇降手段とを制御し、保持面の上方に研削砥石を位置づけ、保持面と研削砥石の下面との間に所定の隙間を形成させ、水バルブとエアバルブとを制御し、保持面から水とエアとを噴出させ研削ホイールを洗浄することで、研削ホイールを交換する前に研削ホイールを洗浄して汚れていない状態にすることが可能となるため、研削ホイールの交換作業によって研削装置が配設されているクリーンルームを汚染させないようにすることが可能となる。 In the grinding device according to the present invention, the control means controls the horizontal moving means and the elevating means, positions the grinding wheel above the holding surface, and forms a predetermined gap between the holding surface and the lower surface of the grinding wheel. By controlling the water valve and the air valve and ejecting water and air from the holding surface to clean the grinding wheel, it is possible to clean the grinding wheel and keep it clean before replacing the grinding wheel. Therefore, it is possible to prevent the clean room in which the grinding device is arranged from being contaminated by the replacement work of the grinding wheel.

本発明に係る研削装置は、研削砥石の下面に洗浄水を噴射させ研削砥石の下面を洗浄する洗浄ノズルを備え、制御手段は、少なくとも水平移動手段を制御して洗浄ノズルと研削手段とを相対的に水平移動させつつ、洗浄ノズルの上方に位置づけた研削ホイールに洗浄ノズルから水を噴射させ研削ホイールを洗浄することで、研削ホイールを交換する前に研削ホイールを洗浄して汚れていない状態にすることが可能となるため、研削ホイールの交換作業によって研削装置が配設されているクリーンルームを汚染させないようにすることが可能となる。 The grinding apparatus according to the present invention includes a cleaning nozzle that injects cleaning water onto the lower surface of the grinding wheel to clean the lower surface of the grinding wheel, and the control means controls at least the horizontal moving means so that the cleaning nozzle and the grinding means are relative to each other. By injecting water from the cleaning nozzle onto the grinding wheel located above the cleaning nozzle to clean the grinding wheel while moving it horizontally, the grinding wheel is cleaned and cleaned before replacing the grinding wheel. Therefore, it is possible to prevent the clean room in which the grinding apparatus is arranged from being contaminated by the replacement work of the grinding wheel.

研削装置の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a grinding apparatus. 研削装置の一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of a grinding apparatus. 研削ホイールに付着した汚れを洗浄するために、制御手段が、水平移動手段と昇降手段とを制御し、チャックテーブルの保持面の上方に研削砥石を位置づけ、保持面と研削砥石の下面との間に所定の隙間を形成させ、水バルブとエアバルブとを制御し、保持面に水の膜を形成している状態を説明する断面図である。In order to clean the dirt adhering to the grinding wheel, the control means controls the horizontal moving means and the elevating means, positions the grinding wheel above the holding surface of the chuck table, and between the holding surface and the lower surface of the grinding wheel. It is sectional drawing explaining the state which formed a predetermined gap, controlled a water valve and an air valve, and formed a water film on a holding surface. 研削ホイールに付着した汚れを洗浄するために、制御手段が、水バルブとエアバルブとを制御し、保持面から水とエアとを噴出させ研削ホイールを洗浄している状態を説明する断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a state in which a control means controls a water valve and an air valve and ejects water and air from a holding surface to clean the grinding wheel in order to clean the dirt adhering to the grinding wheel. .. 研削ホイールの洗浄に使用され、保持面上に残存する汚れた水がチャックテーブルの回転により遠心力を受けて保持面から外側に向かって排出されている状態を説明する断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a state in which dirty water used for cleaning a grinding wheel and remaining on a holding surface receives centrifugal force due to rotation of a chuck table and is discharged outward from the holding surface. 制御手段が、少なくとも水平移動手段を制御して洗浄ノズルと研削手段とを相対的に水平移動させつつ、洗浄ノズルの上方に位置づけた研削ホイールに洗浄ノズルから水を噴射させ研削ホイールを洗浄している状態を説明する断面図である。The control means controls at least the horizontal moving means to move the cleaning nozzle and the grinding means relatively horizontally, and injects water from the cleaning nozzle onto the grinding wheel located above the cleaning nozzle to clean the grinding wheel. It is sectional drawing explaining the state which is.

(実施形態1)
図1に示す研削装置1は、例えば、粗研削手段30、及び仕上げ研削手段31を備え、チャックテーブル50上に保持された被加工物Wを粗研削手段30又は仕上げ研削手段31により研削する装置である。なお、研削装置1は、研削手段が1軸の研削装置であってもよい。
研削装置1は、例えば、クリーンルームに配置されている。
(Embodiment 1)
The grinding device 1 shown in FIG. 1 includes, for example, a rough grinding means 30 and a finish grinding means 31, and is a device that grinds a workpiece W held on the chuck table 50 by the rough grinding means 30 or the finish grinding means 31. Is. The grinding device 1 may be a grinding device whose grinding means is uniaxial.
The grinding device 1 is arranged in a clean room, for example.

研削装置1の装置ベース10上の前方(−Y方向側)は、被加工物Wの搬出入等が行われる搬出入領域となっている。装置ベース10上の後方(+Y方向側)は、粗研削手段30、又は仕上げ研削手段31によってチャックテーブル50で保持された被加工物Wが研削加工される研削加工領域となっている。研削加工領域は、図示しないケースで覆われてケース内部に加工室が形成されており、研削加工中に発生する研削屑を含む研削水噴霧が加工室からクリーンルームに飛び散らないようになっている。 The front side (-Y direction side) of the grinding device 1 on the device base 10 is a loading / unloading area where the workpiece W is loaded / unloaded. The rear side (+ Y direction side) on the apparatus base 10 is a grinding region in which the workpiece W held by the rough grinding means 30 or the finish grinding means 31 on the chuck table 50 is ground. The grinding area is covered with a case (not shown) to form a processing chamber inside the case, so that the grinding water spray containing grinding debris generated during the grinding process does not scatter from the processing chamber to the clean room.

被加工物Wは、例えば、シリコン母材等からなる円形の半導体ウェーハであり、図1において下方を向いている被加工物Wの表面Waは、複数のデバイスが形成されており、図示しない保護テープが貼着されて保護されている。被加工物Wの裏面Wbは、研削加工が施される被加工面となる。なお、被加工物Wはシリコン以外にガリウムヒ素、サファイア、窒化ガリウム、セラミックス、樹脂、又はシリコンカーバイド等で構成されていてもよいし、矩形のパッケージ基板等であってもよい。 The workpiece W is, for example, a circular semiconductor wafer made of a silicon base material or the like, and the surface Wa of the workpiece W facing downward in FIG. 1 has a plurality of devices formed therein and is not shown. The tape is attached to protect it. The back surface Wb of the workpiece W is the surface to be ground to be ground. The workpiece W may be made of gallium arsenide, sapphire, gallium nitride, ceramics, resin, silicon carbide or the like in addition to silicon, or may be a rectangular package substrate or the like.

装置ベース10の正面側(−Y方向側)には、第1のカセット載置部150及び第2のカセット載置部151が設けられており、第1のカセット載置部150には加工前の被加工物Wが収容される第1のカセット150aが載置され、第2のカセット載置部151には加工後の被加工物Wが収容される第2のカセット151aが載置される。 A first cassette mounting portion 150 and a second cassette mounting portion 151 are provided on the front side (-Y direction side) of the apparatus base 10, and the first cassette mounting portion 150 is before processing. The first cassette 150a in which the workpiece W is housed is placed, and the second cassette 151a in which the work piece W after processing is housed is placed in the second cassette mounting portion 151. ..

第1のカセット150aの開口の後方には、第1のカセット150aから加工前の被加工物Wを搬出するとともに加工後の被加工物Wを第2のカセット151aに搬入するロボット155が配設されている。ロボット155に隣接する位置には、仮置き領域152が設けられており、仮置き領域152には位置合わせ手段153が配設されている。位置合わせ手段153は、第1のカセット150aから搬出され仮置き領域152に載置された被加工物Wを、縮径する位置合わせピンで所定の位置に位置合わせ(センタリング)する。 Behind the opening of the first cassette 150a, a robot 155 that carries out the work piece W before processing from the first cassette 150a and carries the work piece W after processing into the second cassette 151a is arranged. Has been done. A temporary placement area 152 is provided at a position adjacent to the robot 155, and an alignment means 153 is provided in the temporary placement area 152. The alignment means 153 aligns (centers) the workpiece W, which has been carried out from the first cassette 150a and placed on the temporary placement area 152, at a predetermined position with a diameter-reducing alignment pin.

位置合わせ手段153と隣接する位置には、被加工物Wを保持した状態で旋回するローディングアーム154aが配置されている。ローディングアーム154aは、位置合わせ手段153において位置合わせされた被加工物Wを保持し、研削加工領域内に配設されているいずれかのチャックテーブル50へ搬送する。ローディングアーム154aの隣には、加工後の被加工物Wを保持した状態で旋回するアンローディングアーム154bが設けられている。アンローディングアーム154bと近接する位置には、アンローディングアーム154bにより搬送された加工後の被加工物Wを洗浄する枚葉式の洗浄手段156が配置されている。洗浄手段156により洗浄された被加工物Wは、ロボット155により第2のカセット151aに搬入される。 A loading arm 154a that swivels while holding the workpiece W is arranged at a position adjacent to the positioning means 153. The loading arm 154a holds the workpiece W aligned by the alignment means 153 and conveys it to any chuck table 50 arranged in the grinding region. Next to the loading arm 154a, an unloading arm 154b that swivels while holding the work piece W after processing is provided. A single-wafer cleaning means 156 for cleaning the processed workpiece W conveyed by the unloading arm 154b is arranged at a position close to the unloading arm 154b. The work piece W cleaned by the cleaning means 156 is carried into the second cassette 151a by the robot 155.

図2に詳しく示す被加工物Wを保持するチャックテーブル50は、例えば、その外形が円形状であり、ポーラス部材等からなり被加工物Wを吸着する吸着部500と、縦断面が凹形状となっており吸着部500を支持する枠体501とを備える。枠体501の凹部にはめ込まれた状態の吸着部500は、図1、3に示す吸引源549に連通している。吸着部500の上面である保持面500aに吸引源549が生み出す吸引力が伝達されることで、チャックテーブル50は保持面500a上で被加工物Wを吸引保持する。
なお、チャックテーブル50の保持面500aは、チャックテーブル50の回転中心を頂点とし肉眼では判断できない程度の極めて緩やかな円錐面となっている。
The chuck table 50 for holding the workpiece W shown in detail in FIG. 2 has, for example, a suction portion 500 having a circular outer shape and a porous member or the like for adsorbing the workpiece W, and a concave vertical cross section. It is provided with a frame body 501 that supports the suction portion 500. The suction portion 500 in a state of being fitted in the recess of the frame 501 communicates with the suction source 549 shown in FIGS. 1 and 3. By transmitting the suction force generated by the suction source 549 to the holding surface 500a which is the upper surface of the suction portion 500, the chuck table 50 sucks and holds the workpiece W on the holding surface 500a.
The holding surface 500a of the chuck table 50 is an extremely gentle conical surface whose apex is the center of rotation of the chuck table 50 and cannot be determined with the naked eye.

図1に示すように、チャックテーブル50は、カバー100によって囲繞されていると共に、図2に示すように、その下方に配設されたチャックベース52上に固定されている。また、チャックテーブル50は、図1に示すカバー100及びカバー100に連結された蛇腹カバー100aの下方に配設された水平移動手段11(図2参照)によってY軸方向に往復移動可能となっている。水平移動手段11によって、カバー100はチャックテーブル50と共にY軸方向に往復移動可能であり、蛇腹カバー100aはチャックテーブル50及びカバー100のY軸方向における移動に伴って伸縮する。 As shown in FIG. 1, the chuck table 50 is surrounded by the cover 100, and as shown in FIG. 2, is fixed on the chuck base 52 arranged below the cover 100. Further, the chuck table 50 can be reciprocated in the Y-axis direction by the cover 100 shown in FIG. 1 and the horizontal moving means 11 (see FIG. 2) arranged below the bellows cover 100a connected to the cover 100. There is. The cover 100 can be reciprocated in the Y-axis direction together with the chuck table 50 by the horizontal moving means 11, and the bellows cover 100a expands and contracts as the chuck table 50 and the cover 100 move in the Y-axis direction.

図2に示す水平移動手段11は、チャックテーブル50を、粗研削手段30又は仕上げ研削手段31に対して相対的にチャックテーブル50の保持面500aに平行な水平方向(Y軸方向)に移動させる。以下、水平移動手段11を、チャックテーブル水平移動手段11とする。 The horizontal moving means 11 shown in FIG. 2 moves the chuck table 50 in the horizontal direction (Y-axis direction) parallel to the holding surface 500a of the chuck table 50 relative to the rough grinding means 30 or the finish grinding means 31. .. Hereinafter, the horizontal moving means 11 will be referred to as a chuck table horizontal moving means 11.

チャックテーブル水平移動手段11は、Y軸方向の軸心を有するボールネジ110と、ボールネジ110と平行に配設されたガイドレール111と、ボールネジ110に連結しボールネジ110を回動させるモータ112と、ナット113aがボールネジ110に螺合し底部に配設されたスライダー113bがガイドレール111に摺接する可動板113とから構成され、モータ112がボールネジ110を回動させると、これに伴い可動板113がガイドレール111にガイドされてY軸方向に往復移動し、可動板113の上面に傾き調整手段55及びチャックベース52を介して取り付けられたチャックテーブル50もY軸方向に往復移動する。
なお、チャックテーブル水平移動手段11は、複数のチャックテーブル50が上面に配設されたターンテーブルであり、ターンテーブルが回動することで、チャックテーブル50を粗研削手段30の下方の位置、又は仕上げ研削手段31の下方の位置にそれぞれ位置づけ可能であってもよい。
The chuck table horizontal moving means 11 includes a ball screw 110 having an axial center in the Y-axis direction, a guide rail 111 arranged in parallel with the ball screw 110, a motor 112 connected to the ball screw 110 to rotate the ball screw 110, and a nut. The slider 113b arranged at the bottom of the slider 113b screwed into the ball screw 110 is composed of a movable plate 113 that is in sliding contact with the guide rail 111. When the motor 112 rotates the ball screw 110, the movable plate 113 guides the ball screw 110. Guided by the rail 111, it reciprocates in the Y-axis direction, and the chuck table 50 attached to the upper surface of the movable plate 113 via the tilt adjusting means 55 and the chuck base 52 also reciprocates in the Y-axis direction.
The chuck table horizontal moving means 11 is a turntable in which a plurality of chuck tables 50 are arranged on the upper surface, and when the turntable rotates, the chuck table 50 is placed at a position below the rough grinding means 30 or. It may be possible to position each position below the finish grinding means 31.

チャックベース52は、例えば、図2に示すチャックテーブル50の極めて緩やかな円錐面である保持面500aの傾きを、粗研削手段30の粗研削砥石304bの下面に平行になるように調整する傾き調整手段55によって支持されている。
傾き調整手段55は、例えば、チャックベース52の底面に周方向に等間隔空けて2つ以上設けられている。即ち、例えば該周方向に120度間隔で、2つの傾き調整手段55と、チャックベース52を固定する図示しない支持柱とが配設されている。なお、2つの傾き調整手段55及び図示しない支持柱とチャックベース52の下面との接続部位には、チャックベース52を回転可能にするためのベアリングが配設されている。
2つの傾き調整手段55は、例えば、ロッドをZ軸方向に上下動させる電動シリンダやエアシリンダ等である。2つの傾き調整手段55のロッドが上下動することで、保持面500aの粗研削手段30の粗研削砥石304bの研削面(下面)に対する傾きを調整することができる。
The chuck base 52 adjusts the inclination of the holding surface 500a, which is an extremely gentle conical surface of the chuck table 50 shown in FIG. 2, so as to be parallel to the lower surface of the rough grinding wheel 304b of the rough grinding means 30. Supported by means 55.
For example, two or more tilt adjusting means 55 are provided on the bottom surface of the chuck base 52 at equal intervals in the circumferential direction. That is, for example, two inclination adjusting means 55 and a support column (not shown) for fixing the chuck base 52 are arranged at intervals of 120 degrees in the circumferential direction. Bearings for making the chuck base 52 rotatable are provided at the connection portions between the two tilt adjusting means 55 and the support column (not shown) and the lower surface of the chuck base 52.
The two tilt adjusting means 55 are, for example, an electric cylinder or an air cylinder that moves the rod up and down in the Z-axis direction. By moving the rods of the two inclination adjusting means 55 up and down, the inclination of the rough grinding means 30 of the holding surface 500a with respect to the grinding surface (lower surface) of the rough grinding wheel 304b can be adjusted.

チャックテーブル50が取り付けられている図2に示すチャックベース52の下面側には、チャックテーブル50を、Z軸を軸に回転させる回転手段56が接続されている。
回転手段56は、例えば、図3に詳しく示すように、プーリ機構であり、チャックベース52の下面に接続されチャックテーブル50に対して垂直に延在するテーブルスピンドル560を備えている。図3に示すテーブルスピンドル560を回転させる駆動源となるモータ561のシャフトには、主動プーリ562が取り付けられており、主動プーリ562には無端ベルト564が巻回されている。テーブルスピンドル560には従動プーリ563が取り付けられており、無端ベルト564は、この従動プーリ563にも巻回されている。図3に示すモータ561が主動プーリ562を回転駆動することで、主動プーリ562の回転に伴って無端ベルト564が回動し、無端ベルト564が回動することで従動プーリ563及びテーブルスピンドル560が回転する。
A rotating means 56 for rotating the chuck table 50 about the Z axis is connected to the lower surface side of the chuck base 52 shown in FIG. 2 to which the chuck table 50 is attached.
As shown in detail in FIG. 3, for example, the rotating means 56 is a pulley mechanism, and includes a table spindle 560 connected to the lower surface of the chuck base 52 and extending perpendicularly to the chuck table 50. A main pulley 562 is attached to the shaft of the motor 561 which is a drive source for rotating the table spindle 560 shown in FIG. 3, and an endless belt 564 is wound around the main pulley 562. A driven pulley 563 is attached to the table spindle 560, and the endless belt 564 is also wound around the driven pulley 563. When the motor 561 shown in FIG. 3 rotates and drives the main pulley 562, the endless belt 564 rotates with the rotation of the main pulley 562, and the endless belt 564 rotates to cause the driven pulley 563 and the table spindle 560 to rotate. Rotate.

図3に示すように、枠体501の凹部の底面からテーブルスピンドル560にかけては、吸着部500に連通する吸引流路540が形成されている。該吸引流路540は、テーブルスピンドル560を囲繞するように配設されたロータリージョイント543、配管544、及び吸引管545を介してエジェクター機構又は真空発生装置等の吸引源549に連通している。ロータリージョイント543は、吸引源549が生み出す吸引力を遺漏無くテーブルスピンドル560側に移送する。例えば、吸引管545には吸引バルブ545aが配設されている。 As shown in FIG. 3, a suction flow path 540 communicating with the suction portion 500 is formed from the bottom surface of the recess of the frame 501 to the table spindle 560. The suction flow path 540 communicates with a suction source 549 such as an ejector mechanism or a vacuum generator via a rotary joint 543, a pipe 544, and a suction pipe 545 arranged so as to surround the table spindle 560. The rotary joint 543 transfers the suction force generated by the suction source 549 to the table spindle 560 side without omission. For example, the suction pipe 545 is provided with a suction valve 545a.

配管544には、水連通路570が連通しており、水連通路570の上流側には、チャックテーブル50の保持面500aに水(例えば、純水)を供給するポンプ等からなる水供給源57が接続されている。また、水連通路570内には、水連通路570を開閉する水バルブ571が配設されている。 A water communication passage 570 communicates with the pipe 544, and a water supply source including a pump or the like for supplying water (for example, pure water) to the holding surface 500a of the chuck table 50 on the upstream side of the water communication passage 570. 57 is connected. Further, in the water passage 570, a water valve 571 that opens and closes the water passage 570 is arranged.

配管544には、エア連通路580が連通しており、エア連通路580の上流側には、チャックテーブル50の保持面500aにエアを供給するコンプレッサー等からなるエア供給源58が接続されている。また、エア連通路580内には、エア連通路580を開閉するエアバルブ581が配設されている。 An air communication passage 580 communicates with the pipe 544, and an air supply source 58 including a compressor or the like that supplies air to the holding surface 500a of the chuck table 50 is connected to the upstream side of the air communication passage 580. .. Further, in the air passage 580, an air valve 581 for opening and closing the air passage 580 is arranged.

例えば、チャックテーブル50による被加工物Wの吸引保持を解除して、チャックテーブル50から被加工物Wを搬出したい場合には、吸引バルブ545a及び水バルブ571が閉じられた状態で、エアバルブ581が開かれて、エア供給源58が圧縮エアをエア連通路580に供給する。圧縮エアは、エア連通路580、配管544、及び吸引流路540を通りチャックテーブル50の保持面500aから噴出する。その結果、保持面500aと被加工物Wとの間に残存する真空吸着力を排除して、被加工物Wを保持面500aから離脱可能な状態にすることができる。 For example, when it is desired to release the suction holding of the workpiece W by the chuck table 50 and carry out the workpiece W from the chuck table 50, the air valve 581 is opened with the suction valve 545a and the water valve 571 closed. When opened, the air supply source 58 supplies compressed air to the air passage 580. The compressed air passes through the air passage 580, the pipe 544, and the suction passage 540, and is ejected from the holding surface 500a of the chuck table 50. As a result, the vacuum suction force remaining between the holding surface 500a and the workpiece W can be eliminated so that the workpiece W can be separated from the holding surface 500a.

例えば、チャックテーブル50の吸着部500につまった研削屑を吸着部500から排除したい場合には、吸引バルブ545aが閉じられた状態で、エアバルブ581又は水バルブ571が開かれて、エア供給源58が圧縮エアを吸着部500に供給する、又は水供給源57が水を吸着部500に供給する。圧縮エア若しくは水、又は圧縮エア及び水が混合されてなる二流体は、吸着部500に入り込んでいた研削屑等を保持面500aから噴出させて除去できる。 For example, when it is desired to remove the grinding dust stuck in the suction portion 500 of the chuck table 50 from the suction portion 500, the air valve 581 or the water valve 571 is opened with the suction valve 545a closed, and the air supply source 58 is opened. Supply compressed air to the suction unit 500, or the water supply source 57 supplies water to the suction unit 500. The compressed air or water, or the two fluids in which the compressed air and water are mixed can be removed by ejecting grinding debris or the like that has entered the adsorption portion 500 from the holding surface 500a.

例えば、図1に示すチャックテーブル50の移動経路両脇には、図示しないウォーターケースの排水溝が位置している。ウォーターケースは、被加工物Wが研削されることで排出される研削屑を含みチャックテーブル50から流下する加工廃液等を受け止めて、図示しない廃液処理機構へと送る。 For example, drainage grooves of a water case (not shown) are located on both sides of the movement path of the chuck table 50 shown in FIG. The water case receives the machining waste liquid and the like flowing down from the chuck table 50 including the grinding dust discharged when the workpiece W is ground, and sends it to a waste liquid treatment mechanism (not shown).

図1に示すように、装置ベース10上の後方(+Y方向側)にはコラム12が立設されており、コラム12の前面には、粗研削手段30と仕上げ研削手段31とを共にチャックテーブル50に対して相対的に保持面500aに平行な水平方向(Y軸方向に水平面において直交するX軸方向)に移動させる水平移動手段13が配設されている。以下、水平移動手段13を、研削手段水平移動手段13とする。 As shown in FIG. 1, a column 12 is erected behind the device base 10 (on the + Y direction side), and a chuck table is provided with both the rough grinding means 30 and the finish grinding means 31 on the front surface of the column 12. A horizontal moving means 13 for moving in the horizontal direction (X-axis direction orthogonal to the horizontal plane in the horizontal plane in the Y-axis direction) is arranged so as to be relatively parallel to the holding surface 500a with respect to 50. Hereinafter, the horizontal moving means 13 will be referred to as a grinding means horizontal moving means 13.

研削手段水平移動手段13は、X軸方向の軸心を有するボールネジ130と、ボールネジ130と平行に配設された一対のガイドレール131と、ボールネジ130に連結しボールネジ130を回動させるモータ132と、粗研削手段30が配設され内部のナットがボールネジ130に螺合し側部がガイドレール131に摺接する第一可動ブロック133と、仕上げ研削手段31が配設され内部のナットがボールネジ130に螺合し側部がガイドレール131に摺接する第二可動ブロック134と、から構成され、モータ132がボールネジ130を回動させると、これに伴い第一可動ブロック133及び第二可動ブロック134がガイドレール131にガイドされてX軸方向に往復移動し、第一可動ブロック133に取り付けられた粗研削手段30及び第二可動ブロック134に取り付けられた仕上げ研削手段31が同方向に往復移動する。
なお、第一可動ブロック133と第二可動ブロック134とは一体となっていてもよいし、又は、別々のボールネジによって個々にX軸方向に移動可能となっていてもよい。
The grinding means horizontal moving means 13 includes a ball screw 130 having an axial center in the X-axis direction, a pair of guide rails 131 arranged in parallel with the ball screw 130, and a motor 132 connected to the ball screw 130 to rotate the ball screw 130. The first movable block 133 in which the rough grinding means 30 is arranged and the internal nut is screwed into the ball screw 130 and the side portion is in sliding contact with the guide rail 131, and the finish grinding means 31 is arranged and the internal nut is attached to the ball screw 130. It is composed of a second movable block 134 whose screwed side is in sliding contact with the guide rail 131, and when the motor 132 rotates the ball screw 130, the first movable block 133 and the second movable block 134 are guided accordingly. Guided by the rail 131, it reciprocates in the X-axis direction, and the rough grinding means 30 attached to the first movable block 133 and the finish grinding means 31 attached to the second movable block 134 reciprocate in the same direction.
The first movable block 133 and the second movable block 134 may be integrated, or may be individually movable in the X-axis direction by separate ball screws.

粗研削手段30は、第一可動ブロック133の前面に粗研削昇降手段20を介して配設されている。粗研削手段30をチャックテーブル50の保持面500aに対し垂直方向(Z軸方向)に昇降させる粗研削昇降手段20は、Z軸方向の軸心を有するボールネジ200と、ボールネジ200と平行に配設された一対のガイドレール201と、ボールネジ200に連結しボールネジ200を回動させるモータ202と、内部のナットがボールネジ200に螺合し側部がガイドレール201に摺接する昇降板203と、から構成され、モータ202がボールネジ200を回動させると、これに伴い昇降板203がガイドレール201にガイドされてZ軸方向に往復移動し、昇降板203に取り付けられた粗研削手段30もZ軸方向に往復移動する。 The rough grinding means 30 is arranged on the front surface of the first movable block 133 via the rough grinding elevating means 20. The rough grinding elevating means 20 for raising and lowering the rough grinding means 30 in the direction perpendicular to the holding surface 500a of the chuck table 50 (Z-axis direction) is arranged in parallel with the ball screw 200 having an axial center in the Z-axis direction and the ball screw 200. It is composed of a pair of guide rails 201, a motor 202 connected to the ball screw 200 to rotate the ball screw 200, and an elevating plate 203 in which an internal nut is screwed into the ball screw 200 and a side portion is in sliding contact with the guide rail 201. Then, when the motor 202 rotates the ball screw 200, the elevating plate 203 is guided by the guide rail 201 and reciprocates in the Z-axis direction, and the rough grinding means 30 attached to the elevating plate 203 also moves in the Z-axis direction. Move back and forth to.

粗研削手段30は、軸方向がZ軸方向であるスピンドル300と、スピンドル300を回転可能に支持するハウジング301と、スピンドル300を回転駆動するスピンドルモータ302と、スピンドル300の下端に接続された円形状のマウント303と、マウント303の下面に着脱可能に接続された研削ホイール304と、昇降板203に連結され縦断面略凹状でありハウジング301を保持するホルダ306と、を備える。そして、研削ホイール304は、ホイール基台304aと、ホイール基台304aの底面に環状に配置された略直方体形状の複数の粗研削砥石304bとを備える。粗研削砥石304bは、例えば、砥石中に含まれる砥粒が比較的大きな砥石であり、その下面が研削面となる。 The rough grinding means 30 includes a spindle 300 whose axial direction is the Z-axis direction, a housing 301 that rotatably supports the spindle 300, a spindle motor 302 that rotationally drives the spindle 300, and a circle connected to the lower end of the spindle 300. A mount 303 having a shape, a grinding wheel 304 detachably connected to the lower surface of the mount 303, and a holder 306 connected to an elevating plate 203 and having a substantially concave vertical cross section to hold the housing 301 are provided. The grinding wheel 304 includes a wheel base 304a and a plurality of roughly rectangular parallelepiped rough grinding wheels 304b arranged in an annular shape on the bottom surface of the wheel base 304a. The rough grinding wheel 304b is, for example, a grindstone in which the abrasive grains contained in the grindstone are relatively large, and the lower surface thereof is the grinding surface.

例えば、スピンドル300の内部には、Z軸方向に延びる研削水流路が形成されており、この研削水流路に図示しない研削水供給手段が連通している。研削水供給手段からスピンドル300に対して供給される研削水は、研削水流路の下端の開口から粗研削砥石304bに向かって下方に噴出し、粗研削砥石304bと被加工物Wとの接触部位に到達する。 For example, a grinding water flow path extending in the Z-axis direction is formed inside the spindle 300, and a grinding water supply means (not shown) communicates with the grinding water flow path. The grinding water supplied from the grinding water supply means to the spindle 300 is ejected downward from the opening at the lower end of the grinding water flow path toward the rough grinding wheel 304b, and the contact portion between the rough grinding wheel 304b and the workpiece W. To reach.

仕上げ研削手段31は、第二可動ブロック134の前面に仕上げ研削昇降手段21を介して配設されている。仕上げ研削手段31をチャックテーブル50の保持面500aに対し垂直方向(Z軸方向)に昇降させる仕上げ研削昇降手段21は、Z軸方向の軸心を有するボールネジ210と、ボールネジ210と平行に配設された一対のガイドレール211と、ボールネジ210に連結しボールネジ210を回動させるモータ212と、内部のナットがボールネジ210に螺合し側部がガイドレール211に摺接する昇降板213と、から構成され、モータ212がボールネジ210を回動させると、これに伴い昇降板213がガイドレール211にガイドされてZ軸方向に往復移動し、昇降板213に取り付けられた仕上げ研削手段31もZ軸方向に往復移動する。 The finish grinding means 31 is arranged on the front surface of the second movable block 134 via the finish grinding elevating means 21. The finish grinding elevating means 21 for raising and lowering the finish grinding means 31 in the direction perpendicular to the holding surface 500a of the chuck table 50 (Z-axis direction) is arranged in parallel with the ball screw 210 having the axis in the Z-axis direction and the ball screw 210. It is composed of a pair of guide rails 211, a motor 212 connected to the ball screw 210 to rotate the ball screw 210, and an elevating plate 213 in which an internal nut is screwed into the ball screw 210 and a side portion is in sliding contact with the guide rail 211. Then, when the motor 212 rotates the ball screw 210, the elevating plate 213 is guided by the guide rail 211 and reciprocates in the Z-axis direction, and the finish grinding means 31 attached to the elevating plate 213 also moves in the Z-axis direction. Move back and forth to.

仕上げ研削手段31は、軸方向がZ軸方向であるスピンドル310と、スピンドル310を回転可能に支持するハウジング311と、スピンドル310を回転駆動するスピンドルモータ312と、スピンドル310の下端に接続された円形状のマウント313と、マウント313の下面に着脱可能に接続された研削ホイール314と、昇降板213に連結され縦断面略凹状でありハウジング311を保持するホルダ316と、を備える。そして、研削ホイール314は、ホイール基台314aと、ホイール基台314aの底面に環状に配置された略直方体形状の複数の仕上げ研削砥石314bとを備える。仕上げ研削砥石314bは、砥石中に含まれる砥粒が比較的小さな砥石であり、その下面が研削面となる。 The finish grinding means 31 includes a spindle 310 whose axial direction is the Z-axis direction, a housing 311 that rotatably supports the spindle 310, a spindle motor 312 that rotationally drives the spindle 310, and a circle connected to the lower end of the spindle 310. A mount 313 having a shape, a grinding wheel 314 detachably connected to the lower surface of the mount 313, and a holder 316 connected to an elevating plate 213 and having a substantially concave vertical cross section to hold the housing 311 are provided. The grinding wheel 314 includes a wheel base 314a and a plurality of finish grinding wheels 314b having a substantially rectangular parallelepiped shape arranged in an annular shape on the bottom surface of the wheel base 314a. The finish grinding wheel 314b is a grindstone in which the abrasive grains contained in the grindstone are relatively small, and the lower surface thereof serves as a grinding surface.

例えば、スピンドル310の内部には、Z軸方向に延びる研削水流路が形成されており、この研削水流路に図示しない研削水供給手段が連通している。研削水供給手段からスピンドル310に対して供給される研削水は、研削水流路の下端の開口から仕上げ研削砥石314bに向かって下方に噴出し、仕上げ研削砥石314bと被加工物Wとの接触部位に到達する。 For example, a grinding water flow path extending in the Z-axis direction is formed inside the spindle 310, and a grinding water supply means (not shown) communicates with the grinding water flow path. The grinding water supplied from the grinding water supply means to the spindle 310 is ejected downward from the opening at the lower end of the grinding water flow path toward the finishing grinding wheel 314b, and the contact portion between the finishing grinding wheel 314b and the workpiece W. To reach.

装置ベース10上の粗研削手段30又は仕上げ研削手段31の下方に位置づけられたチャックテーブル50に隣接する位置には、例えば、被加工物Wの厚みを接触式にて測定する厚み測定手段17が配設されている。 At a position adjacent to the chuck table 50 located below the rough grinding means 30 or the finish grinding means 31 on the apparatus base 10, for example, a thickness measuring means 17 for measuring the thickness of the workpiece W by a contact method is provided. It is arranged.

研削装置1は、例えば、粗研削砥石304bの下面又は仕上げ研削砥石314bの下面に洗浄水を噴射させ粗研削砥石304bの下面又は仕上げ研削砥石314bの下面を洗浄する洗浄ノズル18を備えている。なお、研削装置1は洗浄ノズル18を備えなくてもよい。 The grinding device 1 includes, for example, a cleaning nozzle 18 that injects cleaning water onto the lower surface of the rough grinding wheel 304b or the lower surface of the finishing grinding wheel 314b to clean the lower surface of the rough grinding wheel 304b or the lower surface of the finishing grinding wheel 314b. The grinding device 1 does not have to include the cleaning nozzle 18.

洗浄ノズル18は、例えば、チャックテーブル50を囲繞するカバー100上の一角に配置されており、粗研削砥石304b又は仕上げ研削砥石314bの回転軌道下に位置づけ可能となっている。例えば、洗浄ノズル18は、その噴射口180が+Z方向側を向いている。洗浄ノズル18は、供給管182を介してポンプ等からなる高圧水供給源189に連通しており、供給管182内には開閉弁184が配設されている。なお、洗浄ノズル18は、水と空気との混合流体である二流体を供給可能な二流体供給源に連通しており、二流体を噴射可能となっていてもよい。 The cleaning nozzle 18 is arranged, for example, in a corner on the cover 100 surrounding the chuck table 50, and can be positioned under the rotation trajectory of the rough grinding wheel 304b or the finishing grinding wheel 314b. For example, the cleaning nozzle 18 has an injection port 180 facing the + Z direction side. The cleaning nozzle 18 communicates with a high-pressure water supply source 189 including a pump or the like via a supply pipe 182, and an on-off valve 184 is provided in the supply pipe 182. The cleaning nozzle 18 communicates with a bifluid supply source capable of supplying a bifluid which is a mixed fluid of water and air, and may be capable of injecting the bifluid.

洗浄ノズル18の配設位置は、Y軸方向に移動可能なカバー100上に限定されるものではなく、その配設本数も1本に限定されるものではない。例えば、洗浄ノズル18は、装置ベース10上の粗研削手段30の下方となる位置、及び仕上げ研削手段31の下方となる位置にそれぞれ1本ずつ固定配置されていてもよい。
例えば、洗浄ノズル18は、図2に示すチャックテーブル50をY軸方向に移動させるチャックテーブル水平移動手段11の可動板113に、図示しないアーム部材等を介して配設されており、粗研削砥石304b又は仕上げ研削砥石314bの回転軌道下に位置づけ可能となっていてもよい。
The arrangement position of the cleaning nozzle 18 is not limited to the cover 100 that can move in the Y-axis direction, and the number of arrangements thereof is not limited to one. For example, one cleaning nozzle 18 may be fixedly arranged at a position below the rough grinding means 30 and one below the finish grinding means 31 on the apparatus base 10.
For example, the cleaning nozzle 18 is arranged on the movable plate 113 of the chuck table horizontal moving means 11 for moving the chuck table 50 shown in FIG. 2 in the Y-axis direction via an arm member or the like (not shown), and is a rough grinding wheel. It may be possible to position it under the rotation trajectory of the 304b or the finish grinding wheel 314b.

研削装置1は、装置全体の制御を行う制御手段9を備えている。CPU及びメモリ等の記憶素子等で構成される制御手段9は、例えば、粗研削昇降手段20、仕上げ研削昇降手段21、チャックテーブル水平移動手段11、及び研削手段水平移動手段13等に電気的に接続されており、制御手段9の制御の下で、粗研削昇降手段20による粗研削手段30の昇降動作、仕上げ研削昇降手段21による仕上げ研削手段31の昇降動作、チャックテーブル水平移動手段11によるチャックテーブル50のY軸方向における移動動作、及び研削手段水平移動手段13による粗研削手段30及び仕上げ研削手段31のX軸方向における移動動作等が実施される。 The grinding device 1 includes a control means 9 that controls the entire device. The control means 9 composed of a storage element such as a CPU and a memory is electrically connected to, for example, the rough grinding elevating means 20, the finish grinding elevating means 21, the chuck table horizontal moving means 11, the grinding means horizontal moving means 13, and the like. It is connected, and under the control of the control means 9, the rough grinding means 20 raises and lowers, the finish grinding raising and lowering means 21 raises and lowers the finish grinding means 31, and the chuck table horizontal moving means 11 chucks. The moving operation of the table 50 in the Y-axis direction and the moving operation of the rough grinding means 30 and the finish grinding means 31 in the X-axis direction by the grinding means horizontal moving means 13 are carried out.

制御手段9による上記各手段の動作制御の一例として、例えば、粗研削昇降手段20のモータ202がサーボモータである場合には、サーボモータのロータリエンコーダは、サーボアンプとしての機能も有する制御手段9に接続されており、制御手段9の出力インターフェイスからサーボモータに対して動作信号が供給された後、サーボモータの回転数をエンコーダ信号として制御手段9の入力インターフェイスに対して出力する。そして、エンコーダ信号を受け取った制御手段9は、粗研削手段30の高さ位置を逐次認識しつつ、粗研削昇降手段20によって所望の下降速度で粗研削手段30を下降させることができる。 As an example of operation control of each of the above means by the control means 9, for example, when the motor 202 of the rough grinding elevating means 20 is a servomotor, the rotary encoder of the servomotor also has a function as a servoamplifier 9 After the operation signal is supplied to the servomotor from the output interface of the control means 9, the rotation speed of the servomotor is output to the input interface of the control means 9 as an encoder signal. Then, the control means 9 that has received the encoder signal can lower the rough grinding means 30 at a desired lowering speed by the rough grinding raising / lowering means 20 while sequentially recognizing the height position of the rough grinding means 30.

例えば、図1に示す開閉弁184、吸引バルブ545a、水バルブ571、及びエアバルブ581は、ソレノイドバルブであり、制御手段9に電気的に接続されており、制御手段9から送られる電気信号によって閉状態と開状態が制御される。 For example, the on-off valve 184, the suction valve 545a, the water valve 571, and the air valve 581 shown in FIG. 1 are solenoid valves, which are electrically connected to the control means 9, and are closed by an electric signal sent from the control means 9. The state and open state are controlled.

以下に、図1に示す研削装置1によりチャックテーブル50に保持された被加工物Wを研削する場合の研削装置1の動作について説明する。
まず、チャックテーブル50がローディングアーム154aの近傍まで移動し搬入出領域内に位置する。また、ロボット155が第1のカセット150aから一枚の被加工物Wを引き出し、被加工物Wを仮置き領域152に移動させる。
The operation of the grinding device 1 when grinding the workpiece W held on the chuck table 50 by the grinding device 1 shown in FIG. 1 will be described below.
First, the chuck table 50 moves to the vicinity of the loading arm 154a and is located in the loading / unloading region. Further, the robot 155 pulls out one workpiece W from the first cassette 150a and moves the workpiece W to the temporary placement area 152.

位置合わせ手段153により被加工物Wが仮置き領域152上でセンタリングされた後、ローディングアーム154aが、センタリングされた被加工物Wをチャックテーブル50上に搬送する。そして、図示しない吸引源が作動して、チャックテーブル50が保持面500a上で被加工物Wを裏面Wbが上方に露出した状態で吸引保持する。 After the workpiece W is centered on the temporary placement area 152 by the alignment means 153, the loading arm 154a conveys the centered workpiece W onto the chuck table 50. Then, a suction source (not shown) is activated, and the chuck table 50 sucks and holds the workpiece W on the holding surface 500a with the back surface Wb exposed upward.

チャックテーブル50が被加工物Wを吸引保持した後、図2に示すチャックテーブル水平移動手段11が、被加工物Wを吸引保持したチャックテーブル50を搬入出領域から研削加工領域へと+Y方向へ移動する。そして、研削手段水平移動手段13(図2においては不図示、図1参照)によって粗研削手段30がY軸方向に移動されるとともに、粗研削手段30の粗研削砥石304bの回転中心が被加工物Wの回転中心に対して所定距離だけ水平方向にずれ、粗研削砥石304bの回転軌跡が被加工物Wの回転中心を通るように、チャックテーブル50が所定位置に位置づけられる。 After the chuck table 50 sucks and holds the workpiece W, the chuck table horizontal moving means 11 shown in FIG. 2 sucks and holds the workpiece W to the chuck table 50 from the loading / unloading region to the grinding region in the + Y direction. Moving. Then, the rough grinding means 30 is moved in the Y-axis direction by the grinding means horizontal moving means 13 (not shown in FIG. 2, see FIG. 1), and the center of rotation of the rough grinding wheel 304b of the rough grinding means 30 is processed. The chuck table 50 is positioned at a predetermined position so that the rotation locus of the rough grinding wheel 304b passes through the rotation center of the workpiece W so as to be displaced horizontally by a predetermined distance from the rotation center of the object W.

スピンドルモータ302がスピンドル300を回転させるのに伴って、研削ホイール304が所定の回転速度で回転する。
粗研削手段30が粗研削昇降手段20によって−Z方向へと送られ、粗研削砥石304bが被加工物Wの裏面Wbに当接することで粗研削加工が行われる。研削中は、図2に示す回転手段56がチャックテーブル50を回転するのに伴って被加工物Wも回転するので、粗研削砥石304bが被加工物Wの裏面Wbの全面の研削加工を行う。また、粗研削砥石304bと被加工物Wの裏面Wbとの接触箇所に対してスピンドル300を通して研削水が供給され、研削水による接触箇所の冷却及び研削屑の洗浄除去が行われる。研削屑を含んだ研削水は、図示しないウォーターケースの排水溝へ排出される。
As the spindle motor 302 rotates the spindle 300, the grinding wheel 304 rotates at a predetermined rotation speed.
The rough grinding means 30 is sent in the −Z direction by the rough grinding elevating means 20, and the rough grinding grindstone 304b comes into contact with the back surface Wb of the workpiece W to perform the rough grinding process. During grinding, the workpiece W also rotates as the rotating means 56 shown in FIG. 2 rotates the chuck table 50, so that the rough grinding wheel 304b grinds the entire surface of the back surface Wb of the workpiece W. .. Further, grinding water is supplied through the spindle 300 to the contact portion between the rough grinding wheel 304b and the back surface Wb of the workpiece W, and the contact portion is cooled by the grinding water and the grinding debris is cleaned and removed. Grinding water containing grinding debris is discharged into a drainage ditch of a water case (not shown).

粗研削中においては、図2に示すように、粗研削砥石304bの一部は被加工物Wからはみ出した状態になっているので、例えば、被加工物Wからはみ出した粗研削砥石304bの下面に対して、その下方に位置付けられた洗浄ノズル18が洗浄水を噴射させて、粗研削砥石304bの下面を洗浄する。 During rough grinding, as shown in FIG. 2, a part of the rough grinding wheel 304b is in a state of protruding from the workpiece W. Therefore, for example, the lower surface of the rough grinding wheel 304b protruding from the workpiece W. On the other hand, the cleaning nozzle 18 located below the cleaning nozzle 18 injects cleaning water to clean the lower surface of the rough grinding wheel 304b.

厚み測定手段17による被加工物Wの厚み測定がされつつ、仕上げ厚みに至らない所定の厚みになるまで被加工物Wが研削された後、図1に示す粗研削昇降手段20が粗研削手段30を上昇させ被加工物Wから離間させることで、被加工物Wの粗研削加工が完了する。 While the thickness of the workpiece W is measured by the thickness measuring means 17, the workpiece W is ground to a predetermined thickness that does not reach the finished thickness, and then the rough grinding elevating means 20 shown in FIG. 1 is the rough grinding means. By raising 30 and separating it from the workpiece W, the rough grinding of the workpiece W is completed.

研削手段水平移動手段13によって粗研削手段30がY軸方向に移動されチャックテーブル50上方から退避すると共に、仕上げ研削手段31の仕上げ研削砥石314bの回転中心が被加工物Wの回転中心に対して所定距離だけ水平方向にずれ、仕上げ研削砥石314bの回転軌跡が被加工物Wの回転中心を通るように、仕上げ研削手段31がY軸方向に移動されて所定位置に位置づけられる。 The rough grinding means 30 is moved in the Y-axis direction by the grinding means horizontal moving means 13 and retracts from above the chuck table 50, and the rotation center of the finish grinding wheel 314b of the finish grinding means 31 is relative to the rotation center of the workpiece W. The finish grinding means 31 is moved in the Y-axis direction and positioned at a predetermined position so that the rotation locus of the finish grinding wheel 314b is displaced in the horizontal direction by a predetermined distance and passes through the rotation center of the workpiece W.

仕上げ研削手段31が仕上げ研削昇降手段21によって−Z方向へと送られ、仕上げ研削砥石314bが被加工物Wの裏面Wbに当接することで仕上げ研削加工が行われる。研削中は、被加工物Wも回転されて、仕上げ研削砥石314bが被加工物Wの裏面Wbの全面の研削加工を行う。また、仕上げ研削砥石314bと被加工物Wの裏面Wbとの接触箇所に対してスピンドル310を通して研削水が供給され、研削水による接触箇所の冷却及び研削屑の洗浄除去が行われる。 The finish grinding means 31 is sent in the −Z direction by the finish grinding elevating means 21, and the finish grinding grindstone 314b comes into contact with the back surface Wb of the workpiece W to perform the finish grinding process. During grinding, the workpiece W is also rotated, and the finish grinding wheel 314b grinds the entire surface of the back surface Wb of the workpiece W. Further, grinding water is supplied through the spindle 310 to the contact portion between the finish grinding wheel 314b and the back surface Wb of the workpiece W, and the contact portion is cooled by the grinding water and the grinding debris is cleaned and removed.

仕上げ研削中においては、仕上げ研削砥石314bの一部は被加工物Wからはみ出した状態になっているので、例えば、被加工物Wからはみ出した仕上げ研削砥石314bの下面に対して、その下方に位置付けられた洗浄ノズル18が洗浄水を噴射させて、仕上げ研削砥石314bの下面を洗浄する。 During the finish grinding, a part of the finish grinding wheel 314b is in a state of protruding from the workpiece W. Therefore, for example, it is below the lower surface of the finish grinding wheel 314b protruding from the workpiece W. The positioned cleaning nozzle 18 injects cleaning water to clean the lower surface of the finish grinding wheel 314b.

厚み測定手段17による被加工物Wの厚み測定がなされつつ、仕上げ厚みに至るまで被加工物Wが研削された後、図1に示す仕上げ研削昇降手段21が仕上げ研削手段31を上昇させ被加工物Wから離間させることで、被加工物Wの仕上げ研削加工が完了する。 While the thickness of the workpiece W is measured by the thickness measuring means 17, after the workpiece W is ground to the finish thickness, the finish grinding elevating means 21 shown in FIG. 1 raises the finish grinding means 31 to be processed. By separating it from the object W, the finish grinding process of the workpiece W is completed.

次いで、被加工物Wを吸引保持したチャックテーブル50が、チャックテーブル水平移動手段11によって−Y方向に移動されて、アンローディングアーム154bの近傍に位置づけられる。そして、図1に示すアンローディングアーム154bが、チャックテーブル50上の被加工物Wを洗浄手段156に搬送する。洗浄手段156が被加工物Wを洗浄した後、ロボット155が被加工物Wを第2のカセット151aに搬入する。 Next, the chuck table 50 that sucks and holds the workpiece W is moved in the −Y direction by the chuck table horizontal moving means 11 and is positioned in the vicinity of the unloading arm 154b. Then, the unloading arm 154b shown in FIG. 1 conveys the workpiece W on the chuck table 50 to the cleaning means 156. After the cleaning means 156 cleans the workpiece W, the robot 155 carries the workpiece W into the second cassette 151a.

複数枚の被加工物Wを上記のように研削していくことで、例えば粗研削砥石304bが消耗するため、粗研削手段30の研削ホイール304を新たな研削ホイール304に交換する必要がある。ここで、研削中において、粗研削砥石304bの高速回転によって生み出される遠心力を研削水が受け、研削水は加工室内で飛び散り研削屑を含んだ噴霧となり、加工室の内壁や粗研削手段30の研削ホイール304の外側面や内側面等に付着しているため、交換すべき研削ホイール304は研削屑等が付着して汚れた状態になっている。 By grinding a plurality of workpieces W as described above, for example, the rough grinding wheel 304b is consumed, so it is necessary to replace the grinding wheel 304 of the rough grinding means 30 with a new grinding wheel 304. Here, during grinding, the grinding water receives the centrifugal force generated by the high-speed rotation of the rough grinding wheel 304b, and the grinding water scatters in the processing chamber and becomes a spray containing grinding debris, and the inner wall of the processing chamber and the rough grinding means 30. Since it adheres to the outer surface, the inner surface, and the like of the grinding wheel 304, the grinding wheel 304 to be replaced is in a dirty state due to adhesion of grinding debris and the like.

例えば、作業者が、研削ホイール交換のための準備をして、実際に研削加工領域のケースを開けて加工室内にある研削ホイール304の交換の作業に取り掛かるまでには時間が掛かるため、例えば、該時間内に汚れた研削ホイール304の加工室内での洗浄を研削装置1自体が行い、作業者が汚れた研削ホイール304をクリーンルーム内に出さなくても済むようにする。 For example, it takes time for the operator to prepare for the replacement of the grinding wheel, actually open the case of the grinding area, and start the work of replacing the grinding wheel 304 in the machining chamber. The grinding device 1 itself cleans the dirty grinding wheel 304 in the processing chamber within the time, so that the operator does not have to take the dirty grinding wheel 304 out into the clean room.

以下に、図1に示す研削装置1において、研削装置1自体が汚れた研削ホイール304の洗浄を行う場合について説明する。
例えば、作業者が、装置付属のキーボードやタッチパネル等の入力手段から研削装置1の制御手段9に、研削ホイール304の交換作業を実施する旨の情報を入力すると、制御手段9による制御の下で、図3に簡略化して示すチャックテーブル水平移動手段11が被加工物Wを吸引保持していないチャックテーブル50を搬入出領域から研削加工領域へと+Y方向へ移動する。そして、研削手段水平移動手段13によって粗研削手段30がX軸方向に移動されるとともに、例えば、粗研削砥石304bの回転軌跡がチャックテーブル50の保持面500aの中心を通過するように、チャックテーブル50が所定位置に位置づけられる。なお、粗研削砥石304bとチャックテーブル50との位置合わせは、上記例に限定されるものではなく、少なくとも、粗研削砥石304bが保持面500aの上方に位置づけられればよい。また、制御手段9は、チャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13の少なくともいずれか一方の制御を行うことで、粗研削砥石304bを保持面500aの上方に位置づけてもよい。
Hereinafter, in the grinding device 1 shown in FIG. 1, a case where the grinding device 1 itself cleans the dirty grinding wheel 304 will be described.
For example, when an operator inputs information to the control means 9 of the grinding device 1 from an input means such as a keyboard or a touch panel attached to the device to replace the grinding wheel 304, the operator is under the control of the control means 9. , The chuck table horizontal moving means 11 simplified in FIG. 3 moves the chuck table 50 that does not suck and hold the workpiece W from the loading / unloading region to the grinding region in the + Y direction. Then, the rough grinding means 30 is moved in the X-axis direction by the grinding means horizontal moving means 13, and the chuck table is, for example, so that the rotation locus of the rough grinding wheel 304b passes through the center of the holding surface 500a of the chuck table 50. 50 is positioned in place. The alignment of the rough grinding wheel 304b and the chuck table 50 is not limited to the above example, and at least the rough grinding wheel 304b may be positioned above the holding surface 500a. Further, the control means 9 may position the rough grinding wheel 304b above the holding surface 500a by controlling at least one of the chuck table horizontal moving means 11 and the grinding means horizontal moving means 13.

さらに、制御手段9による制御の下で、粗研削手段30が粗研削昇降手段20によって−Z方向へと送られ、粗研削砥石304bの下面とチャックテーブル50の保持面500aとの間に所定の隙間Vを設ける高さ位置に粗研削手段30が位置づけられる。該所定の隙間Vの大きさは、例えば、数十μm〜100μm程度である。図3に示すように、研削ホイール304は、主にその外側面に研削屑等からなる汚れMが付着している。 Further, under the control of the control means 9, the rough grinding means 30 is sent in the −Z direction by the rough grinding elevating means 20, and a predetermined value is provided between the lower surface of the rough grinding wheel 304b and the holding surface 500a of the chuck table 50. The rough grinding means 30 is positioned at a height position where the gap V is provided. The size of the predetermined gap V is, for example, about several tens of μm to 100 μm. As shown in FIG. 3, the grinding wheel 304 has dirt M mainly made of grinding debris adhered to its outer surface.

次いで、図3に示すように、例えば、制御手段9による制御の下で、吸引バルブ545a及びエアバルブ581が閉じられ、かつ、水バルブ571が開かれた状態で、水供給源57が水(例えば、純水)を水連通路570に供給する。水J1は、さらに、配管544、吸引流路540、及びチャックテーブル50の吸着部500を通り、保持面500aから噴出する。そして、保持面500a上に表面張力によって所定量膜状に堆積したら、水バルブ571が閉じられて、水供給源57から保持面500aへの水J1の供給が停止される。なお、保持面500aへの水J1の供給が継続されてもよい。
例えば、図3に示すように、粗研削砥石304bの下面が膜状の水J1に接触した状態になると好ましいが、粗研削砥石304bの下面が膜状の水J1から離れていてもよい。
Then, as shown in FIG. 3, for example, under the control of the control means 9, the water supply source 57 is water (for example, with the suction valve 545a and the air valve 581 closed and the water valve 571 open. , Pure water) is supplied to the water passage 570. Water J1 further passes through the pipe 544, the suction flow path 540, and the suction portion 500 of the chuck table 50, and is ejected from the holding surface 500a. Then, when a predetermined amount of water is deposited on the holding surface 500a in the form of a film due to surface tension, the water valve 571 is closed and the supply of water J1 from the water supply source 57 to the holding surface 500a is stopped. The supply of water J1 to the holding surface 500a may be continued.
For example, as shown in FIG. 3, it is preferable that the lower surface of the rough grinding wheel 304b is in contact with the film-shaped water J1, but the lower surface of the rough grinding wheel 304b may be separated from the film-shaped water J1.

その後、図4に示すように、制御手段9による制御の下で、エアバルブ581が開かれると共に、エア供給源58が圧縮エアをエア連通路580に供給する。圧縮エアは、さらに、配管544、吸引流路540、及びチャックテーブル50の吸着部500を通り、保持面500aから噴出する。その結果、保持面500aに形成されている膜状の水J1が保持面500aから噴き上げられて、研削ホイール304の外側面、内側面、及び下面にまとわりついた状態になる。 After that, as shown in FIG. 4, the air valve 581 is opened and the air supply source 58 supplies compressed air to the air passage 580 under the control of the control means 9. The compressed air further passes through the pipe 544, the suction flow path 540, and the suction portion 500 of the chuck table 50, and is ejected from the holding surface 500a. As a result, the film-like water J1 formed on the holding surface 500a is spouted from the holding surface 500a and clings to the outer surface, the inner surface, and the lower surface of the grinding wheel 304.

さらに、図4に示すように、スピンドルモータ302(図4には不図示)がスピンドル300を回転させるのに伴って、研削ホイール304が回転して、噴き上げられた水J1によって研削ホイール304の外側面、内側面、及び下面の各全面が洗浄され、主に研削ホイール304の外側面に付着していた汚れMが除去される。
なお、研削ホイール304の外側面に付着していた汚れMを除去する際には、研削加工におけるスピンドルモータ302の回転速度より遅い回転速度で回転させるとよい。回転速度を遅くすることで、噴き上げられた水J1を外側面の全面に当てることができる。
Further, as shown in FIG. 4, as the spindle motor 302 (not shown in FIG. 4) rotates the spindle 300, the grinding wheel 304 rotates, and the water J1 spouted out of the grinding wheel 304. The entire surfaces of the side surface, the inner surface surface, and the lower surface surface are cleaned, and dirt M adhering to the outer surface surface of the grinding wheel 304 is mainly removed.
When removing the dirt M adhering to the outer surface of the grinding wheel 304, it is preferable to rotate the spindle motor 302 at a rotation speed slower than the rotation speed of the spindle motor 302 in the grinding process. By slowing down the rotation speed, the spouted water J1 can be applied to the entire outer surface.

所定時間上記洗浄が行われた後、チャックテーブル50の保持面500aには、研削ホイール304から除去された汚れが混じった水が残存しているため、例えば、制御手段9による制御の下で、水バルブ571が開かれて、水供給源57が水を送出する。したがって、エア供給源58が供給するエアと水供給源57が供給する水とが、配管544内等で混合されて二流体となって保持面500aから噴射される。また、チャックテーブル50が回転手段56によって回転されることで、遠心力によって汚れた水が保持面500aから径方向外側に向かって排出されつつ、二流体によって保持面500aが洗浄される。汚れた水は、図示しないウォーターケースの排水溝へ排出される。 After the cleaning is performed for a predetermined time, water mixed with dirt removed from the grinding wheel 304 remains on the holding surface 500a of the chuck table 50. Therefore, for example, under the control of the control means 9. The water valve 571 is opened and the water supply source 57 delivers water. Therefore, the air supplied by the air supply source 58 and the water supplied by the water supply source 57 are mixed in the pipe 544 or the like to form a bifluid and are injected from the holding surface 500a. Further, when the chuck table 50 is rotated by the rotating means 56, the holding surface 500a is washed by the two fluids while the water contaminated by the centrifugal force is discharged from the holding surface 500a toward the outside in the radial direction. Dirty water is discharged into a drain of a water case (not shown).

上記のように本発明に係る研削装置1は、制御手段9が、チャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13と粗研削昇降手段20とを制御し、チャックテーブル50の保持面500aの上方に粗研削砥石304bを位置づけ、保持面500aと粗研削砥石304bの下面との間に所定の隙間Vを形成させ、水バルブ571とエアバルブ581とを制御し、保持面500aから水とエアとを噴出させ研削ホイール304を洗浄することで、例えば、作業者が研削ホイール304を交換する前に研削ホイール304を洗浄して汚れていない状態にすることが可能となるため、研削ホイール304の交換作業によって研削装置1が配設されているクリーンルームが汚染されなくなる
なお、仕上げ研削手段31の研削ホイール314を洗浄する場合も、粗研削手段30の研削ホイール304の洗浄と略同様に実施できる。
As described above, in the grinding apparatus 1 according to the present invention, the control means 9 controls the chuck table horizontal moving means 11 or the grinding means horizontal moving means 13 and the rough grinding elevating means 20, and the holding surface 500a of the chuck table 50. The rough grinding wheel 304b is positioned above, a predetermined gap V is formed between the holding surface 500a and the lower surface of the rough grinding wheel 304b, the water valve 571 and the air valve 581 are controlled, and water and air are transferred from the holding surface 500a. By ejecting and cleaning the grinding wheel 304, for example, the grinding wheel 304 can be cleaned and cleaned before the operator replaces the grinding wheel 304, so that the grinding wheel 304 can be replaced. The clean room in which the grinding device 1 is arranged is not contaminated by the work. The grinding wheel 314 of the finish grinding means 31 can be cleaned in substantially the same manner as the cleaning of the grinding wheel 304 of the rough grinding means 30.

(実施形態2)
本発明に係る研削装置1は、実施形態1のようにチャックテーブル50の保持面500aから噴出させた水とエアとで、例えば粗研削手段30の研削ホイール304を洗浄するのではなく、少なくともチャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13を制御して洗浄ノズル18と粗研削手段30とを相対的に水平移動させつつ、洗浄ノズル18の上方に位置づけた研削ホイール304に洗浄ノズル18から水を噴射させ研削ホイール304を洗浄する構成となっていてもよい。
(Embodiment 2)
The grinding device 1 according to the present invention does not clean the grinding wheel 304 of the rough grinding means 30, for example, with water and air ejected from the holding surface 500a of the chuck table 50 as in the first embodiment, but at least chucks. From the cleaning nozzle 18 to the grinding wheel 304 positioned above the cleaning nozzle 18 while controlling the table horizontal moving means 11 or the grinding means horizontal moving means 13 to relatively horizontally move the cleaning nozzle 18 and the rough grinding means 30. The grinding wheel 304 may be cleaned by injecting water.

以下に、図1に示す研削装置1において、研削装置1自体が、洗浄ノズル18を使用して、汚れた研削ホイール304の洗浄を作業者が研削ホイール304を交換する前に行う場合について説明する。 Hereinafter, in the grinding device 1 shown in FIG. 1, a case where the grinding device 1 itself uses the cleaning nozzle 18 to clean the dirty grinding wheel 304 before the operator replaces the grinding wheel 304 will be described. ..

例えば、作業者が、装置付属のタッチパネル等の入力手段から研削装置1の制御手段9に研削ホイール304の交換作業を実施する旨の情報を入力すると、制御手段9による制御の下で、図6に示すチャックテーブル水平移動手段11が被加工物Wを吸引保持していないチャックテーブル50を搬入出領域から研削加工領域へと+Y方向へ移動することで、カバー100に配設された洗浄ノズル18も+Y方向へ移動し、また、研削手段水平移動手段13(図2参照)によって粗研削手段30がX軸方向に移動されるとともに、例えば、粗研削砥石304bの下面に対して洗浄ノズル18の噴射口180が対向するように、洗浄ノズル18と粗研削手段30との位置合わせが行われる。
なお、制御手段9は、チャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13の少なくともいずれか一方の制御を行うことで、上記位置合わせを行ってもよい。
For example, when an operator inputs information to the control means 9 of the grinding device 1 to replace the grinding wheel 304 from an input means such as a touch panel attached to the device, FIG. 6 is under the control of the control means 9. The chuck table horizontal moving means 11 shown in the above moves the chuck table 50 that does not suck and hold the workpiece W from the loading / unloading region to the grinding region in the + Y direction, so that the cleaning nozzle 18 arranged on the cover 100 Also moves in the + Y direction, and the rough grinding means 30 is moved in the X-axis direction by the grinding means horizontal moving means 13 (see FIG. 2), and for example, the cleaning nozzle 18 with respect to the lower surface of the rough grinding wheel 304b. The cleaning nozzle 18 and the rough grinding means 30 are aligned so that the injection ports 180 face each other.
The control means 9 may perform the above alignment by controlling at least one of the chuck table horizontal moving means 11 and the grinding means horizontal moving means 13.

さらに、制御手段9による制御の下で、粗研削手段30が粗研削昇降手段20によって−Z方向へと送られ、粗研削砥石304bの下面が洗浄ノズル18の噴射口180に僅かに接触しない程度の高さ位置に粗研削手段30が位置づけられる。図6に示すように、研削ホイール304は主にその外側面に研削屑等からなる汚れMが付着している。 Further, under the control of the control means 9, the rough grinding means 30 is sent in the −Z direction by the rough grinding elevating means 20, and the lower surface of the rough grinding wheel 304b does not slightly contact the injection port 180 of the cleaning nozzle 18. The rough grinding means 30 is positioned at the height position of. As shown in FIG. 6, the grinding wheel 304 has dirt M mainly made of grinding debris adhered to its outer surface.

次いで、図6に示すように、例えば、制御手段9による制御の下で、開閉弁184が開かれ、高圧水供給源189が高圧水を供給管182に供給することで、洗浄ノズル18から高圧の洗浄水が上方に向かって噴射されて、研削ホイール304が洗浄が開始される。なお、洗浄ノズル18が二流体を噴射させてもよいし、超音波を伝播させた洗浄水を噴射させてもよい。 Then, as shown in FIG. 6, for example, under the control of the control means 9, the on-off valve 184 is opened, and the high-pressure water supply source 189 supplies the high-pressure water to the supply pipe 182, whereby the high pressure is increased from the cleaning nozzle 18. The washing water of the above is sprayed upward, and the grinding wheel 304 starts washing. The cleaning nozzle 18 may inject two fluids, or may inject cleaning water propagating ultrasonic waves.

また、制御手段9による制御の下で、例えば、チャックテーブル水平移動手段11がカバー100をY軸方向において往復移動させることで、研削ホイール304の内側面と外側面との間を洗浄ノズル18が洗浄水を上方に噴射させつつ移動して、研削ホイール304の外側面、内側面、及び下面が満遍なく洗浄される。さらに、スピンドルモータ302がスピンドル300を回転させるのに伴って、研削ホイール304が回転して、研削ホイール304の外側面全面、内側面全面、及び下面全面が満遍なく洗浄される。そして、主に研削ホイール304の外側面に付着していた汚れMが除去される。研削ホイール304を洗浄し汚れた水は、図示しないウォーターケースの排水溝へ排出される。
なお、スピンドルモータ302の回転速度を研削加工における回転速度より遅くすることで洗浄ノズル18から噴射される水を研削ホイール304の外側面全面、内側面全面、及び下面全面に万遍なく当てることができる。
なお、制御手段9による制御の下で、研削手段水平移動手段13が粗研削手段30をX軸方向に往復移動させることで、研削ホイール304の下方に位置付けられた洗浄ノズル18から噴射される洗浄水が、研削ホイール304の外側面全面、内側面全面、及び下面全面を満遍なく洗浄していくようにしてもよい。
Further, under the control of the control means 9, for example, the chuck table horizontal moving means 11 reciprocates the cover 100 in the Y-axis direction, so that the cleaning nozzle 18 moves between the inner surface and the outer surface of the grinding wheel 304. The outer surface, inner surface, and lower surface of the grinding wheel 304 are evenly washed by moving while injecting the washing water upward. Further, as the spindle motor 302 rotates the spindle 300, the grinding wheel 304 rotates, and the entire outer surface, the inner surface surface, and the lower surface surface of the grinding wheel 304 are evenly cleaned. Then, the dirt M adhering to the outer surface of the grinding wheel 304 is mainly removed. The water that has washed the grinding wheel 304 and becomes dirty is discharged to a drainage groove of a water case (not shown).
By making the rotation speed of the spindle motor 302 slower than the rotation speed in the grinding process, the water injected from the cleaning nozzle 18 can be evenly applied to the entire outer surface, inner surface, and lower surface of the grinding wheel 304. it can.
Under the control of the control means 9, the grinding means horizontal moving means 13 reciprocates the rough grinding means 30 in the X-axis direction to perform cleaning injected from the cleaning nozzle 18 positioned below the grinding wheel 304. Water may evenly wash the entire outer surface, the entire inner surface, and the entire lower surface of the grinding wheel 304.

上記のように本発明に係る研削装置1は、粗研削砥石304bの下面に洗浄水を噴射させ粗研削砥石304bの下面を洗浄する洗浄ノズル18を備え、制御手段9は、チャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13を制御して洗浄ノズル18と粗研削手段30とを相対的に水平移動させつつ、洗浄ノズル18の上方に位置づけた研削ホイール304に洗浄ノズル18から水を噴射させ研削ホイール304を洗浄することで、例えば、作業者が研削ホイール304を交換する前に、研削ホイール304を洗浄して汚れていない状態にすることが可能となるため、研削ホイール304の交換作業によって研削装置1が配設されているクリーンルームを汚染させないようにすることが可能となる。 As described above, the grinding apparatus 1 according to the present invention includes a cleaning nozzle 18 that injects cleaning water onto the lower surface of the rough grinding wheel 304b to clean the lower surface of the rough grinding wheel 304b, and the control means 9 is a chuck table horizontal moving means. 11 or the grinding means horizontal moving means 13 is controlled to move the cleaning nozzle 18 and the rough grinding means 30 relatively horizontally, and water is sprayed from the cleaning nozzle 18 to the grinding wheel 304 located above the cleaning nozzle 18. By cleaning the grinding wheel 304, for example, the grinding wheel 304 can be cleaned and cleaned before the operator replaces the grinding wheel 304. Therefore, by replacing the grinding wheel 304, for example, the grinding wheel 304 can be cleaned. It is possible to prevent the clean room in which the grinding device 1 is arranged from being contaminated.

なお、本発明に係る研削装置1は上記実施形態1、2に限定されるものではなく、また、添付図面に図示されている各構成等についても、これに限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。 The grinding device 1 according to the present invention is not limited to the above-described first and second embodiments, and the configurations and the like shown in the attached drawings are not limited to this, and the effects of the present invention can be achieved. It can be changed as appropriate within the range that can be exhibited.

W:被加工物 Wa:被加工物の表面 Wb:被加工物の裏面
1:研削装置 10:装置ベース
150:第1のカセット載置部 150a:第1のカセット 151:第2のカセット載置部 151a:第2のカセット
152:仮置き領域 153:位置合わせ手段 154a:ローディングアーム
154b:アンローディングアーム 155:ロボット 156:洗浄手段
50:チャックテーブル 500:吸着部 500a:保持面 501:枠体
100:カバー 100a:蛇腹カバー
11:チャックテーブル水平移動手段
110:ボールネジ 112:モータ 113:可動板
52:チャックベース 55:傾き調整手段
56:回転手段 560:テーブルスピンドル 561:モータ 562:主動プーリ
563:従動プーリ 564:無端ベルト
540:吸引流路 543:ロータリージョイント 544:配管
545:吸引管 545a:吸引バルブ 549:吸引源
570:水連通路 571:水バルブ 57:水供給源
580:エア連通路 581:エアバルブ 58:エア供給源
12:コラム
13:研削手段水平移動手段 130:ボールネジ 132:モータ 133:第一可動ブロック 134:第二可動ブロック
20:粗研削昇降手段 200:ボールネジ 202:モータ 203:昇降板
30:粗研削手段 300:スピンドル 301:ハウジング 302:スピンドルモータ
303:マウント 304:研削ホイール 304b:粗研削砥石
21:仕上げ研削昇降手段 210:ボールネジ 212:モータ 213:昇降板
31:仕上げ研削手段 310:スピンドル 311:ハウジング 312:スピンドルモータ 313:マウント 314:研削ホイール 314b:仕上げ研削砥石
17:厚み測定手段
9:制御手段
18:洗浄ノズル 182:供給管 184:開閉弁 189:高圧水供給源
W: Work piece Wa: Front surface of work work Wb: Back side of work work 1: Grinding device 10: Equipment base 150: First cassette mounting part 150a: First cassette 151: Second cassette mounting Part 151a: Second cassette 152: Temporary storage area 153: Alignment means 154a: Loading arm
154b: Unloading arm 155: Robot 156: Cleaning means 50: Chuck table 500: Suction part 500a: Holding surface 501: Frame
100: Cover 100a: Bellows cover 11: Chuck table horizontal moving means 110: Ball screw 112: Motor 113: Movable plate 52: Chuck base 55: Tilt adjusting means
56: Rotating means 560: Table spindle 561: Motor 562: Main pulley 563: Driven pulley 564: Endless belt 540: Suction flow path 543: Rotary joint 544: Pipe 545: Suction pipe 545a: Suction valve 549: Suction source 570: Water Linkage 571: Water valve 57: Water supply source 580: Air linkage passage 581: Air valve 58: Air supply source 12: Column 13: Grinding means Horizontal movement means 130: Ball screw 132: Motor 133: First movable block 134: Second Movable block 20: Rough grinding elevating means 200: Ball screw 202: Motor 203: Elevating plate 30: Rough grinding means 300: Spindle 301: Housing 302: Spindle motor 303: Mount 304: Grinding wheel 304b: Rough grinding grind 21: Finish grinding elevating Means 210: Ball screw 212: Motor 213: Elevating plate 31: Finish grinding means 310: Spindle 311: Housing 312: Spindle motor 313: Mount 314: Grinding wheel 314b: Finish grinding grindstone 17: Thickness measuring means 9: Control means 18: Cleaning Nozzle 182: Supply pipe 184: On-off valve 189: High-pressure water supply source

Claims (2)

保持面で被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を環状に研削砥石を配置した研削ホイールを回転させ該研削砥石の下面で被加工物を研削する研削手段と、該チャックテーブルと該研削手段とを相対的に該保持面に平行な水平方向に移動させる水平移動手段と、該研削手段を該保持面に対し垂直方向に昇降させる昇降手段と、装置制御を行う制御手段と、を備える研削装置であって、
該保持面を水供給源に連通する水連通路と、該水連通路を開閉する水バルブと、
該保持面をエア供給源に連通するエア連通路と、該エア連通路を開閉するエアバルブと、を備え、
該制御手段は、該水平移動手段と該昇降手段とを制御し、該保持面の上方に該研削砥石を位置づけ、該保持面と該研削砥石の下面との間に所定の隙間を形成させ、該水バルブと該エアバルブとを制御し、該保持面から水とエアとを噴出させ該研削ホイールを洗浄する、研削装置。
A grinding means for grinding a work piece on the lower surface of the grinding wheel by rotating a chuck table that holds the work piece on the holding surface and a grinding wheel on which a grinding wheel is arranged in an annular shape on the work piece held on the chuck table. A horizontal moving means for moving the chuck table and the grinding means in a horizontal direction relatively parallel to the holding surface, an elevating means for raising and lowering the grinding means in a direction perpendicular to the holding surface, and device control. A grinding device including a control means for performing the above.
A water passage that connects the holding surface to the water supply source, and a water valve that opens and closes the water passage.
An air passage for communicating the holding surface with the air supply source and an air valve for opening and closing the air passage are provided.
The control means controls the horizontal moving means and the elevating means, positions the grinding wheel above the holding surface, and forms a predetermined gap between the holding surface and the lower surface of the grinding wheel. A grinding device that controls the water valve and the air valve and ejects water and air from the holding surface to clean the grinding wheel.
保持面で被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を環状に研削砥石を配置した研削ホイールを回転させ該研削砥石の下面で被加工物を研削する研削手段と、該チャックテーブルと該研削手段とを相対的に該保持面に平行な水平方向に移動させる水平移動手段と、該研削手段を該保持面に対し垂直方向に昇降させる昇降手段と、装置制御を行う制御手段と、を備える研削装置であって、
該研削砥石の下面に洗浄水を噴射させ該研削砥石の下面を洗浄する洗浄ノズルを備え、
該制御手段は、少なくとも該水平移動手段を制御して該洗浄ノズルと該研削手段とを相対的に水平移動させつつ、該洗浄ノズルの上方に位置づけた該研削ホイールに該洗浄ノズルから水を噴射させ該研削ホイールを洗浄する、研削装置。
A grinding means for grinding a work piece on the lower surface of the grinding wheel by rotating a chuck table that holds the work piece on the holding surface and a grinding wheel on which a grinding wheel is arranged in an annular shape on the work piece held on the chuck table. A horizontal moving means for moving the chuck table and the grinding means in a horizontal direction relatively parallel to the holding surface, an elevating means for raising and lowering the grinding means in a direction perpendicular to the holding surface, and device control. A grinding device including a control means for performing the above.
A cleaning nozzle for injecting cleaning water onto the lower surface of the grinding wheel to clean the lower surface of the grinding wheel is provided.
The control means injects water from the cleaning nozzle onto the grinding wheel located above the cleaning nozzle while controlling at least the horizontal moving means to relatively horizontally move the cleaning nozzle and the grinding means. A grinding device for cleaning the grinding wheel.
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