JP2021010993A - Grinding device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体ウェーハ等の被加工物を研削する研削装置に関する。 The present invention relates to a grinding apparatus for grinding a workpiece such as a semiconductor wafer.
研削水を供給しつつウェーハを研削砥石で研削する研削装置は、研削砥石の高速回転によって生み出される遠心力を研削水が受け、研削水は加工室内で飛び散り研削屑を含んだ噴霧となり、加工室の内壁や研削砥石が環状に配置された研削ホイールに付着する。 In a grinding device that grinds a wafer with a grinding wheel while supplying grinding water, the grinding water receives the centrifugal force generated by the high-speed rotation of the grinding wheel, and the grinding water scatters in the processing chamber and becomes a spray containing grinding debris. The inner wall and the grinding wheel adhere to the grinding wheel arranged in an annular shape.
また、ウェーハに研削加工を施すと、研削砥石が消耗するため、新たな研削ホイールに交換している。使用した研削ホイールが汚れている場合には、研削手段から汚れた研削ホイールを取り外した後に、取り外しの際に研削ホイールから加工室内又は研削装置が配設されているクリーンルームに落ちた研削屑や研削ホイールを洗浄ガンで洗浄した際にクリーンルームに落ちた研削屑が乾燥することで各所が汚染されるという問題がある。この問題を解決するために、特許文献1に開示されているような加工室内を洗浄する方法がある。
Further, when the wafer is ground, the grinding wheel is consumed, so the wafer is replaced with a new grinding wheel. If the used grinding wheel is dirty, after removing the dirty grinding wheel from the grinding means, grinding debris or grinding that fell from the grinding wheel from the grinding wheel to the processing room or the clean room where the grinding device is installed at the time of removal There is a problem that various parts are contaminated by drying the grinding debris that has fallen into the clean room when the wheel is cleaned with a cleaning gun. In order to solve this problem, there is a method of cleaning the processing chamber as disclosed in
しかし、クリーンルームを洗浄するのは時間が掛かるため、研削手段の研削ホイールが汚れている場合には、研削ホイールを交換する前に研削ホイールを加工室内で洗浄可能にし、クリーンルーム等の各所が汚されないようにするという課題がある。 However, since it takes time to clean the clean room, if the grinding wheel of the grinding means is dirty, the grinding wheel can be cleaned in the processing room before the grinding wheel is replaced, and various parts such as the clean room are not polluted. There is a problem to do so.
上記課題を解決するための本発明は、保持面で被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を環状に研削砥石を配置した研削ホイールを回転させ該研削砥石の下面で被加工物を研削する研削手段と、該チャックテーブルと該研削手段とを相対的に該保持面に平行な水平方向に移動させる水平移動手段と、該研削手段を該保持面に対し垂直方向に昇降させる昇降手段と、装置制御を行う制御手段と、を備える研削装置であって、該保持面を水供給源に連通する水連通路と、該水連通路を開閉する水バルブと、該保持面をエア供給源に連通するエア連通路と、該エア連通路を開閉するエアバルブと、を備え、該制御手段は、該水平移動手段と該昇降手段とを制御し、該保持面の上方に該研削砥石を位置づけ、該保持面と該研削砥石の下面との間に所定の隙間を形成させ、該水バルブと該エアバルブとを制御し、該保持面から水とエアとを噴出させ該研削ホイールを洗浄する、研削装置である。 In the present invention for solving the above problems, a chuck table for holding a work piece on a holding surface and a grinding wheel on which a work piece held on the chuck table is arranged in an annular shape are rotated to cause the grinding wheel. A grinding means for grinding an workpiece on the lower surface of the work piece, a horizontal moving means for moving the chuck table and the grinding means in a horizontal direction relatively parallel to the holding surface, and the grinding means for the holding surface. A grinding device including an elevating means for ascending and descending in a vertical direction and a control means for controlling the device, a water communication passage for communicating the holding surface with a water supply source, and a water valve for opening and closing the water communication passage. An air communication passage for communicating the holding surface with the air supply source and an air valve for opening and closing the air communication passage are provided, and the control means controls the horizontal moving means and the elevating means, and the holding surface. The grinding grindstone is positioned above the holding surface, a predetermined gap is formed between the holding surface and the lower surface of the grinding grindstone, the water valve and the air valve are controlled, and water and air are ejected from the holding surface. It is a grinding device for cleaning the grinding wheel.
また、上記課題を解決するための本発明は、保持面で被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を環状に研削砥石を配置した研削ホイールを回転させ該研削砥石の下面で被加工物を研削する研削手段と、該チャックテーブルと該研削手段とを相対的に該保持面に平行な水平方向に移動させる水平移動手段と、該研削手段を該保持面に対し垂直方向に昇降させる昇降手段と、装置制御を行う制御手段と、を備える研削装置であって、該研削砥石の下面に洗浄水を噴射させ該研削砥石の下面を洗浄する洗浄ノズルを備え、該制御手段は、少なくとも該水平移動手段を制御して該洗浄ノズルと該研削手段とを相対的に水平移動させつつ、該洗浄ノズルの上方に位置づけた該研削ホイールに該洗浄ノズルから水を噴射させ該研削ホイールを洗浄する、研削装置である。 Further, in the present invention for solving the above problems, the chuck table for holding the workpiece on the holding surface and the grinding wheel on which the workpiece held on the chuck table is annularly arranged with a grinding wheel are rotated. A grinding means for grinding an workpiece on the lower surface of a grinding wheel, a horizontal moving means for moving the chuck table and the grinding means in a horizontal direction relatively parallel to the holding surface, and the grinding means for the holding surface. A grinding device including an elevating means for ascending / descending in a direction perpendicular to the ground and a control means for controlling the device, and provided with a cleaning nozzle for injecting cleaning water onto the lower surface of the grinding wheel to clean the lower surface of the grinding wheel. The control means controls at least the horizontal moving means to move the washing nozzle and the grinding means relatively horizontally, and transfers water from the washing nozzle to the grinding wheel positioned above the washing nozzle. It is a grinding device that injects and cleans the grinding wheel.
本発明に係る研削装置は、制御手段が、水平移動手段と昇降手段とを制御し、保持面の上方に研削砥石を位置づけ、保持面と研削砥石の下面との間に所定の隙間を形成させ、水バルブとエアバルブとを制御し、保持面から水とエアとを噴出させ研削ホイールを洗浄することで、研削ホイールを交換する前に研削ホイールを洗浄して汚れていない状態にすることが可能となるため、研削ホイールの交換作業によって研削装置が配設されているクリーンルームを汚染させないようにすることが可能となる。 In the grinding device according to the present invention, the control means controls the horizontal moving means and the elevating means, positions the grinding wheel above the holding surface, and forms a predetermined gap between the holding surface and the lower surface of the grinding wheel. By controlling the water valve and the air valve and ejecting water and air from the holding surface to clean the grinding wheel, it is possible to clean the grinding wheel and keep it clean before replacing the grinding wheel. Therefore, it is possible to prevent the clean room in which the grinding device is arranged from being contaminated by the replacement work of the grinding wheel.
本発明に係る研削装置は、研削砥石の下面に洗浄水を噴射させ研削砥石の下面を洗浄する洗浄ノズルを備え、制御手段は、少なくとも水平移動手段を制御して洗浄ノズルと研削手段とを相対的に水平移動させつつ、洗浄ノズルの上方に位置づけた研削ホイールに洗浄ノズルから水を噴射させ研削ホイールを洗浄することで、研削ホイールを交換する前に研削ホイールを洗浄して汚れていない状態にすることが可能となるため、研削ホイールの交換作業によって研削装置が配設されているクリーンルームを汚染させないようにすることが可能となる。 The grinding apparatus according to the present invention includes a cleaning nozzle that injects cleaning water onto the lower surface of the grinding wheel to clean the lower surface of the grinding wheel, and the control means controls at least the horizontal moving means so that the cleaning nozzle and the grinding means are relative to each other. By injecting water from the cleaning nozzle onto the grinding wheel located above the cleaning nozzle to clean the grinding wheel while moving it horizontally, the grinding wheel is cleaned and cleaned before replacing the grinding wheel. Therefore, it is possible to prevent the clean room in which the grinding apparatus is arranged from being contaminated by the replacement work of the grinding wheel.
(実施形態1)
図1に示す研削装置1は、例えば、粗研削手段30、及び仕上げ研削手段31を備え、チャックテーブル50上に保持された被加工物Wを粗研削手段30又は仕上げ研削手段31により研削する装置である。なお、研削装置1は、研削手段が1軸の研削装置であってもよい。
研削装置1は、例えば、クリーンルームに配置されている。
(Embodiment 1)
The
The
研削装置1の装置ベース10上の前方(−Y方向側)は、被加工物Wの搬出入等が行われる搬出入領域となっている。装置ベース10上の後方(+Y方向側)は、粗研削手段30、又は仕上げ研削手段31によってチャックテーブル50で保持された被加工物Wが研削加工される研削加工領域となっている。研削加工領域は、図示しないケースで覆われてケース内部に加工室が形成されており、研削加工中に発生する研削屑を含む研削水噴霧が加工室からクリーンルームに飛び散らないようになっている。
The front side (-Y direction side) of the
被加工物Wは、例えば、シリコン母材等からなる円形の半導体ウェーハであり、図1において下方を向いている被加工物Wの表面Waは、複数のデバイスが形成されており、図示しない保護テープが貼着されて保護されている。被加工物Wの裏面Wbは、研削加工が施される被加工面となる。なお、被加工物Wはシリコン以外にガリウムヒ素、サファイア、窒化ガリウム、セラミックス、樹脂、又はシリコンカーバイド等で構成されていてもよいし、矩形のパッケージ基板等であってもよい。 The workpiece W is, for example, a circular semiconductor wafer made of a silicon base material or the like, and the surface Wa of the workpiece W facing downward in FIG. 1 has a plurality of devices formed therein and is not shown. The tape is attached to protect it. The back surface Wb of the workpiece W is the surface to be ground to be ground. The workpiece W may be made of gallium arsenide, sapphire, gallium nitride, ceramics, resin, silicon carbide or the like in addition to silicon, or may be a rectangular package substrate or the like.
装置ベース10の正面側(−Y方向側)には、第1のカセット載置部150及び第2のカセット載置部151が設けられており、第1のカセット載置部150には加工前の被加工物Wが収容される第1のカセット150aが載置され、第2のカセット載置部151には加工後の被加工物Wが収容される第2のカセット151aが載置される。
A first
第1のカセット150aの開口の後方には、第1のカセット150aから加工前の被加工物Wを搬出するとともに加工後の被加工物Wを第2のカセット151aに搬入するロボット155が配設されている。ロボット155に隣接する位置には、仮置き領域152が設けられており、仮置き領域152には位置合わせ手段153が配設されている。位置合わせ手段153は、第1のカセット150aから搬出され仮置き領域152に載置された被加工物Wを、縮径する位置合わせピンで所定の位置に位置合わせ(センタリング)する。
Behind the opening of the
位置合わせ手段153と隣接する位置には、被加工物Wを保持した状態で旋回するローディングアーム154aが配置されている。ローディングアーム154aは、位置合わせ手段153において位置合わせされた被加工物Wを保持し、研削加工領域内に配設されているいずれかのチャックテーブル50へ搬送する。ローディングアーム154aの隣には、加工後の被加工物Wを保持した状態で旋回するアンローディングアーム154bが設けられている。アンローディングアーム154bと近接する位置には、アンローディングアーム154bにより搬送された加工後の被加工物Wを洗浄する枚葉式の洗浄手段156が配置されている。洗浄手段156により洗浄された被加工物Wは、ロボット155により第2のカセット151aに搬入される。
A
図2に詳しく示す被加工物Wを保持するチャックテーブル50は、例えば、その外形が円形状であり、ポーラス部材等からなり被加工物Wを吸着する吸着部500と、縦断面が凹形状となっており吸着部500を支持する枠体501とを備える。枠体501の凹部にはめ込まれた状態の吸着部500は、図1、3に示す吸引源549に連通している。吸着部500の上面である保持面500aに吸引源549が生み出す吸引力が伝達されることで、チャックテーブル50は保持面500a上で被加工物Wを吸引保持する。
なお、チャックテーブル50の保持面500aは、チャックテーブル50の回転中心を頂点とし肉眼では判断できない程度の極めて緩やかな円錐面となっている。
The chuck table 50 for holding the workpiece W shown in detail in FIG. 2 has, for example, a
The
図1に示すように、チャックテーブル50は、カバー100によって囲繞されていると共に、図2に示すように、その下方に配設されたチャックベース52上に固定されている。また、チャックテーブル50は、図1に示すカバー100及びカバー100に連結された蛇腹カバー100aの下方に配設された水平移動手段11(図2参照)によってY軸方向に往復移動可能となっている。水平移動手段11によって、カバー100はチャックテーブル50と共にY軸方向に往復移動可能であり、蛇腹カバー100aはチャックテーブル50及びカバー100のY軸方向における移動に伴って伸縮する。
As shown in FIG. 1, the chuck table 50 is surrounded by the
図2に示す水平移動手段11は、チャックテーブル50を、粗研削手段30又は仕上げ研削手段31に対して相対的にチャックテーブル50の保持面500aに平行な水平方向(Y軸方向)に移動させる。以下、水平移動手段11を、チャックテーブル水平移動手段11とする。
The horizontal moving means 11 shown in FIG. 2 moves the chuck table 50 in the horizontal direction (Y-axis direction) parallel to the holding
チャックテーブル水平移動手段11は、Y軸方向の軸心を有するボールネジ110と、ボールネジ110と平行に配設されたガイドレール111と、ボールネジ110に連結しボールネジ110を回動させるモータ112と、ナット113aがボールネジ110に螺合し底部に配設されたスライダー113bがガイドレール111に摺接する可動板113とから構成され、モータ112がボールネジ110を回動させると、これに伴い可動板113がガイドレール111にガイドされてY軸方向に往復移動し、可動板113の上面に傾き調整手段55及びチャックベース52を介して取り付けられたチャックテーブル50もY軸方向に往復移動する。
なお、チャックテーブル水平移動手段11は、複数のチャックテーブル50が上面に配設されたターンテーブルであり、ターンテーブルが回動することで、チャックテーブル50を粗研削手段30の下方の位置、又は仕上げ研削手段31の下方の位置にそれぞれ位置づけ可能であってもよい。
The chuck table horizontal moving means 11 includes a
The chuck table horizontal moving means 11 is a turntable in which a plurality of chuck tables 50 are arranged on the upper surface, and when the turntable rotates, the chuck table 50 is placed at a position below the rough grinding means 30 or. It may be possible to position each position below the finish grinding means 31.
チャックベース52は、例えば、図2に示すチャックテーブル50の極めて緩やかな円錐面である保持面500aの傾きを、粗研削手段30の粗研削砥石304bの下面に平行になるように調整する傾き調整手段55によって支持されている。
傾き調整手段55は、例えば、チャックベース52の底面に周方向に等間隔空けて2つ以上設けられている。即ち、例えば該周方向に120度間隔で、2つの傾き調整手段55と、チャックベース52を固定する図示しない支持柱とが配設されている。なお、2つの傾き調整手段55及び図示しない支持柱とチャックベース52の下面との接続部位には、チャックベース52を回転可能にするためのベアリングが配設されている。
2つの傾き調整手段55は、例えば、ロッドをZ軸方向に上下動させる電動シリンダやエアシリンダ等である。2つの傾き調整手段55のロッドが上下動することで、保持面500aの粗研削手段30の粗研削砥石304bの研削面(下面)に対する傾きを調整することができる。
The
For example, two or more tilt adjusting means 55 are provided on the bottom surface of the
The two tilt adjusting means 55 are, for example, an electric cylinder or an air cylinder that moves the rod up and down in the Z-axis direction. By moving the rods of the two inclination adjusting means 55 up and down, the inclination of the rough grinding means 30 of the holding
チャックテーブル50が取り付けられている図2に示すチャックベース52の下面側には、チャックテーブル50を、Z軸を軸に回転させる回転手段56が接続されている。
回転手段56は、例えば、図3に詳しく示すように、プーリ機構であり、チャックベース52の下面に接続されチャックテーブル50に対して垂直に延在するテーブルスピンドル560を備えている。図3に示すテーブルスピンドル560を回転させる駆動源となるモータ561のシャフトには、主動プーリ562が取り付けられており、主動プーリ562には無端ベルト564が巻回されている。テーブルスピンドル560には従動プーリ563が取り付けられており、無端ベルト564は、この従動プーリ563にも巻回されている。図3に示すモータ561が主動プーリ562を回転駆動することで、主動プーリ562の回転に伴って無端ベルト564が回動し、無端ベルト564が回動することで従動プーリ563及びテーブルスピンドル560が回転する。
A rotating
As shown in detail in FIG. 3, for example, the rotating
図3に示すように、枠体501の凹部の底面からテーブルスピンドル560にかけては、吸着部500に連通する吸引流路540が形成されている。該吸引流路540は、テーブルスピンドル560を囲繞するように配設されたロータリージョイント543、配管544、及び吸引管545を介してエジェクター機構又は真空発生装置等の吸引源549に連通している。ロータリージョイント543は、吸引源549が生み出す吸引力を遺漏無くテーブルスピンドル560側に移送する。例えば、吸引管545には吸引バルブ545aが配設されている。
As shown in FIG. 3, a
配管544には、水連通路570が連通しており、水連通路570の上流側には、チャックテーブル50の保持面500aに水(例えば、純水)を供給するポンプ等からなる水供給源57が接続されている。また、水連通路570内には、水連通路570を開閉する水バルブ571が配設されている。
A
配管544には、エア連通路580が連通しており、エア連通路580の上流側には、チャックテーブル50の保持面500aにエアを供給するコンプレッサー等からなるエア供給源58が接続されている。また、エア連通路580内には、エア連通路580を開閉するエアバルブ581が配設されている。
An
例えば、チャックテーブル50による被加工物Wの吸引保持を解除して、チャックテーブル50から被加工物Wを搬出したい場合には、吸引バルブ545a及び水バルブ571が閉じられた状態で、エアバルブ581が開かれて、エア供給源58が圧縮エアをエア連通路580に供給する。圧縮エアは、エア連通路580、配管544、及び吸引流路540を通りチャックテーブル50の保持面500aから噴出する。その結果、保持面500aと被加工物Wとの間に残存する真空吸着力を排除して、被加工物Wを保持面500aから離脱可能な状態にすることができる。
For example, when it is desired to release the suction holding of the workpiece W by the chuck table 50 and carry out the workpiece W from the chuck table 50, the
例えば、チャックテーブル50の吸着部500につまった研削屑を吸着部500から排除したい場合には、吸引バルブ545aが閉じられた状態で、エアバルブ581又は水バルブ571が開かれて、エア供給源58が圧縮エアを吸着部500に供給する、又は水供給源57が水を吸着部500に供給する。圧縮エア若しくは水、又は圧縮エア及び水が混合されてなる二流体は、吸着部500に入り込んでいた研削屑等を保持面500aから噴出させて除去できる。
For example, when it is desired to remove the grinding dust stuck in the
例えば、図1に示すチャックテーブル50の移動経路両脇には、図示しないウォーターケースの排水溝が位置している。ウォーターケースは、被加工物Wが研削されることで排出される研削屑を含みチャックテーブル50から流下する加工廃液等を受け止めて、図示しない廃液処理機構へと送る。 For example, drainage grooves of a water case (not shown) are located on both sides of the movement path of the chuck table 50 shown in FIG. The water case receives the machining waste liquid and the like flowing down from the chuck table 50 including the grinding dust discharged when the workpiece W is ground, and sends it to a waste liquid treatment mechanism (not shown).
図1に示すように、装置ベース10上の後方(+Y方向側)にはコラム12が立設されており、コラム12の前面には、粗研削手段30と仕上げ研削手段31とを共にチャックテーブル50に対して相対的に保持面500aに平行な水平方向(Y軸方向に水平面において直交するX軸方向)に移動させる水平移動手段13が配設されている。以下、水平移動手段13を、研削手段水平移動手段13とする。
As shown in FIG. 1, a
研削手段水平移動手段13は、X軸方向の軸心を有するボールネジ130と、ボールネジ130と平行に配設された一対のガイドレール131と、ボールネジ130に連結しボールネジ130を回動させるモータ132と、粗研削手段30が配設され内部のナットがボールネジ130に螺合し側部がガイドレール131に摺接する第一可動ブロック133と、仕上げ研削手段31が配設され内部のナットがボールネジ130に螺合し側部がガイドレール131に摺接する第二可動ブロック134と、から構成され、モータ132がボールネジ130を回動させると、これに伴い第一可動ブロック133及び第二可動ブロック134がガイドレール131にガイドされてX軸方向に往復移動し、第一可動ブロック133に取り付けられた粗研削手段30及び第二可動ブロック134に取り付けられた仕上げ研削手段31が同方向に往復移動する。
なお、第一可動ブロック133と第二可動ブロック134とは一体となっていてもよいし、又は、別々のボールネジによって個々にX軸方向に移動可能となっていてもよい。
The grinding means horizontal moving means 13 includes a
The first
粗研削手段30は、第一可動ブロック133の前面に粗研削昇降手段20を介して配設されている。粗研削手段30をチャックテーブル50の保持面500aに対し垂直方向(Z軸方向)に昇降させる粗研削昇降手段20は、Z軸方向の軸心を有するボールネジ200と、ボールネジ200と平行に配設された一対のガイドレール201と、ボールネジ200に連結しボールネジ200を回動させるモータ202と、内部のナットがボールネジ200に螺合し側部がガイドレール201に摺接する昇降板203と、から構成され、モータ202がボールネジ200を回動させると、これに伴い昇降板203がガイドレール201にガイドされてZ軸方向に往復移動し、昇降板203に取り付けられた粗研削手段30もZ軸方向に往復移動する。
The rough grinding means 30 is arranged on the front surface of the first
粗研削手段30は、軸方向がZ軸方向であるスピンドル300と、スピンドル300を回転可能に支持するハウジング301と、スピンドル300を回転駆動するスピンドルモータ302と、スピンドル300の下端に接続された円形状のマウント303と、マウント303の下面に着脱可能に接続された研削ホイール304と、昇降板203に連結され縦断面略凹状でありハウジング301を保持するホルダ306と、を備える。そして、研削ホイール304は、ホイール基台304aと、ホイール基台304aの底面に環状に配置された略直方体形状の複数の粗研削砥石304bとを備える。粗研削砥石304bは、例えば、砥石中に含まれる砥粒が比較的大きな砥石であり、その下面が研削面となる。
The rough grinding means 30 includes a
例えば、スピンドル300の内部には、Z軸方向に延びる研削水流路が形成されており、この研削水流路に図示しない研削水供給手段が連通している。研削水供給手段からスピンドル300に対して供給される研削水は、研削水流路の下端の開口から粗研削砥石304bに向かって下方に噴出し、粗研削砥石304bと被加工物Wとの接触部位に到達する。
For example, a grinding water flow path extending in the Z-axis direction is formed inside the
仕上げ研削手段31は、第二可動ブロック134の前面に仕上げ研削昇降手段21を介して配設されている。仕上げ研削手段31をチャックテーブル50の保持面500aに対し垂直方向(Z軸方向)に昇降させる仕上げ研削昇降手段21は、Z軸方向の軸心を有するボールネジ210と、ボールネジ210と平行に配設された一対のガイドレール211と、ボールネジ210に連結しボールネジ210を回動させるモータ212と、内部のナットがボールネジ210に螺合し側部がガイドレール211に摺接する昇降板213と、から構成され、モータ212がボールネジ210を回動させると、これに伴い昇降板213がガイドレール211にガイドされてZ軸方向に往復移動し、昇降板213に取り付けられた仕上げ研削手段31もZ軸方向に往復移動する。
The finish grinding means 31 is arranged on the front surface of the second
仕上げ研削手段31は、軸方向がZ軸方向であるスピンドル310と、スピンドル310を回転可能に支持するハウジング311と、スピンドル310を回転駆動するスピンドルモータ312と、スピンドル310の下端に接続された円形状のマウント313と、マウント313の下面に着脱可能に接続された研削ホイール314と、昇降板213に連結され縦断面略凹状でありハウジング311を保持するホルダ316と、を備える。そして、研削ホイール314は、ホイール基台314aと、ホイール基台314aの底面に環状に配置された略直方体形状の複数の仕上げ研削砥石314bとを備える。仕上げ研削砥石314bは、砥石中に含まれる砥粒が比較的小さな砥石であり、その下面が研削面となる。
The finish grinding means 31 includes a
例えば、スピンドル310の内部には、Z軸方向に延びる研削水流路が形成されており、この研削水流路に図示しない研削水供給手段が連通している。研削水供給手段からスピンドル310に対して供給される研削水は、研削水流路の下端の開口から仕上げ研削砥石314bに向かって下方に噴出し、仕上げ研削砥石314bと被加工物Wとの接触部位に到達する。
For example, a grinding water flow path extending in the Z-axis direction is formed inside the
装置ベース10上の粗研削手段30又は仕上げ研削手段31の下方に位置づけられたチャックテーブル50に隣接する位置には、例えば、被加工物Wの厚みを接触式にて測定する厚み測定手段17が配設されている。
At a position adjacent to the chuck table 50 located below the rough grinding means 30 or the finish grinding means 31 on the
研削装置1は、例えば、粗研削砥石304bの下面又は仕上げ研削砥石314bの下面に洗浄水を噴射させ粗研削砥石304bの下面又は仕上げ研削砥石314bの下面を洗浄する洗浄ノズル18を備えている。なお、研削装置1は洗浄ノズル18を備えなくてもよい。
The grinding
洗浄ノズル18は、例えば、チャックテーブル50を囲繞するカバー100上の一角に配置されており、粗研削砥石304b又は仕上げ研削砥石314bの回転軌道下に位置づけ可能となっている。例えば、洗浄ノズル18は、その噴射口180が+Z方向側を向いている。洗浄ノズル18は、供給管182を介してポンプ等からなる高圧水供給源189に連通しており、供給管182内には開閉弁184が配設されている。なお、洗浄ノズル18は、水と空気との混合流体である二流体を供給可能な二流体供給源に連通しており、二流体を噴射可能となっていてもよい。
The cleaning
洗浄ノズル18の配設位置は、Y軸方向に移動可能なカバー100上に限定されるものではなく、その配設本数も1本に限定されるものではない。例えば、洗浄ノズル18は、装置ベース10上の粗研削手段30の下方となる位置、及び仕上げ研削手段31の下方となる位置にそれぞれ1本ずつ固定配置されていてもよい。
例えば、洗浄ノズル18は、図2に示すチャックテーブル50をY軸方向に移動させるチャックテーブル水平移動手段11の可動板113に、図示しないアーム部材等を介して配設されており、粗研削砥石304b又は仕上げ研削砥石314bの回転軌道下に位置づけ可能となっていてもよい。
The arrangement position of the cleaning
For example, the cleaning
研削装置1は、装置全体の制御を行う制御手段9を備えている。CPU及びメモリ等の記憶素子等で構成される制御手段9は、例えば、粗研削昇降手段20、仕上げ研削昇降手段21、チャックテーブル水平移動手段11、及び研削手段水平移動手段13等に電気的に接続されており、制御手段9の制御の下で、粗研削昇降手段20による粗研削手段30の昇降動作、仕上げ研削昇降手段21による仕上げ研削手段31の昇降動作、チャックテーブル水平移動手段11によるチャックテーブル50のY軸方向における移動動作、及び研削手段水平移動手段13による粗研削手段30及び仕上げ研削手段31のX軸方向における移動動作等が実施される。
The grinding
制御手段9による上記各手段の動作制御の一例として、例えば、粗研削昇降手段20のモータ202がサーボモータである場合には、サーボモータのロータリエンコーダは、サーボアンプとしての機能も有する制御手段9に接続されており、制御手段9の出力インターフェイスからサーボモータに対して動作信号が供給された後、サーボモータの回転数をエンコーダ信号として制御手段9の入力インターフェイスに対して出力する。そして、エンコーダ信号を受け取った制御手段9は、粗研削手段30の高さ位置を逐次認識しつつ、粗研削昇降手段20によって所望の下降速度で粗研削手段30を下降させることができる。
As an example of operation control of each of the above means by the control means 9, for example, when the
例えば、図1に示す開閉弁184、吸引バルブ545a、水バルブ571、及びエアバルブ581は、ソレノイドバルブであり、制御手段9に電気的に接続されており、制御手段9から送られる電気信号によって閉状態と開状態が制御される。
For example, the on-off
以下に、図1に示す研削装置1によりチャックテーブル50に保持された被加工物Wを研削する場合の研削装置1の動作について説明する。
まず、チャックテーブル50がローディングアーム154aの近傍まで移動し搬入出領域内に位置する。また、ロボット155が第1のカセット150aから一枚の被加工物Wを引き出し、被加工物Wを仮置き領域152に移動させる。
The operation of the grinding
First, the chuck table 50 moves to the vicinity of the
位置合わせ手段153により被加工物Wが仮置き領域152上でセンタリングされた後、ローディングアーム154aが、センタリングされた被加工物Wをチャックテーブル50上に搬送する。そして、図示しない吸引源が作動して、チャックテーブル50が保持面500a上で被加工物Wを裏面Wbが上方に露出した状態で吸引保持する。
After the workpiece W is centered on the
チャックテーブル50が被加工物Wを吸引保持した後、図2に示すチャックテーブル水平移動手段11が、被加工物Wを吸引保持したチャックテーブル50を搬入出領域から研削加工領域へと+Y方向へ移動する。そして、研削手段水平移動手段13(図2においては不図示、図1参照)によって粗研削手段30がY軸方向に移動されるとともに、粗研削手段30の粗研削砥石304bの回転中心が被加工物Wの回転中心に対して所定距離だけ水平方向にずれ、粗研削砥石304bの回転軌跡が被加工物Wの回転中心を通るように、チャックテーブル50が所定位置に位置づけられる。
After the chuck table 50 sucks and holds the workpiece W, the chuck table horizontal moving means 11 shown in FIG. 2 sucks and holds the workpiece W to the chuck table 50 from the loading / unloading region to the grinding region in the + Y direction. Moving. Then, the rough grinding means 30 is moved in the Y-axis direction by the grinding means horizontal moving means 13 (not shown in FIG. 2, see FIG. 1), and the center of rotation of the
スピンドルモータ302がスピンドル300を回転させるのに伴って、研削ホイール304が所定の回転速度で回転する。
粗研削手段30が粗研削昇降手段20によって−Z方向へと送られ、粗研削砥石304bが被加工物Wの裏面Wbに当接することで粗研削加工が行われる。研削中は、図2に示す回転手段56がチャックテーブル50を回転するのに伴って被加工物Wも回転するので、粗研削砥石304bが被加工物Wの裏面Wbの全面の研削加工を行う。また、粗研削砥石304bと被加工物Wの裏面Wbとの接触箇所に対してスピンドル300を通して研削水が供給され、研削水による接触箇所の冷却及び研削屑の洗浄除去が行われる。研削屑を含んだ研削水は、図示しないウォーターケースの排水溝へ排出される。
As the
The rough grinding means 30 is sent in the −Z direction by the rough
粗研削中においては、図2に示すように、粗研削砥石304bの一部は被加工物Wからはみ出した状態になっているので、例えば、被加工物Wからはみ出した粗研削砥石304bの下面に対して、その下方に位置付けられた洗浄ノズル18が洗浄水を噴射させて、粗研削砥石304bの下面を洗浄する。
During rough grinding, as shown in FIG. 2, a part of the
厚み測定手段17による被加工物Wの厚み測定がされつつ、仕上げ厚みに至らない所定の厚みになるまで被加工物Wが研削された後、図1に示す粗研削昇降手段20が粗研削手段30を上昇させ被加工物Wから離間させることで、被加工物Wの粗研削加工が完了する。
While the thickness of the workpiece W is measured by the thickness measuring means 17, the workpiece W is ground to a predetermined thickness that does not reach the finished thickness, and then the rough
研削手段水平移動手段13によって粗研削手段30がY軸方向に移動されチャックテーブル50上方から退避すると共に、仕上げ研削手段31の仕上げ研削砥石314bの回転中心が被加工物Wの回転中心に対して所定距離だけ水平方向にずれ、仕上げ研削砥石314bの回転軌跡が被加工物Wの回転中心を通るように、仕上げ研削手段31がY軸方向に移動されて所定位置に位置づけられる。
The rough grinding means 30 is moved in the Y-axis direction by the grinding means horizontal moving means 13 and retracts from above the chuck table 50, and the rotation center of the
仕上げ研削手段31が仕上げ研削昇降手段21によって−Z方向へと送られ、仕上げ研削砥石314bが被加工物Wの裏面Wbに当接することで仕上げ研削加工が行われる。研削中は、被加工物Wも回転されて、仕上げ研削砥石314bが被加工物Wの裏面Wbの全面の研削加工を行う。また、仕上げ研削砥石314bと被加工物Wの裏面Wbとの接触箇所に対してスピンドル310を通して研削水が供給され、研削水による接触箇所の冷却及び研削屑の洗浄除去が行われる。
The finish grinding means 31 is sent in the −Z direction by the finish grinding elevating
仕上げ研削中においては、仕上げ研削砥石314bの一部は被加工物Wからはみ出した状態になっているので、例えば、被加工物Wからはみ出した仕上げ研削砥石314bの下面に対して、その下方に位置付けられた洗浄ノズル18が洗浄水を噴射させて、仕上げ研削砥石314bの下面を洗浄する。
During the finish grinding, a part of the
厚み測定手段17による被加工物Wの厚み測定がなされつつ、仕上げ厚みに至るまで被加工物Wが研削された後、図1に示す仕上げ研削昇降手段21が仕上げ研削手段31を上昇させ被加工物Wから離間させることで、被加工物Wの仕上げ研削加工が完了する。
While the thickness of the workpiece W is measured by the thickness measuring means 17, after the workpiece W is ground to the finish thickness, the finish grinding elevating
次いで、被加工物Wを吸引保持したチャックテーブル50が、チャックテーブル水平移動手段11によって−Y方向に移動されて、アンローディングアーム154bの近傍に位置づけられる。そして、図1に示すアンローディングアーム154bが、チャックテーブル50上の被加工物Wを洗浄手段156に搬送する。洗浄手段156が被加工物Wを洗浄した後、ロボット155が被加工物Wを第2のカセット151aに搬入する。
Next, the chuck table 50 that sucks and holds the workpiece W is moved in the −Y direction by the chuck table horizontal moving means 11 and is positioned in the vicinity of the
複数枚の被加工物Wを上記のように研削していくことで、例えば粗研削砥石304bが消耗するため、粗研削手段30の研削ホイール304を新たな研削ホイール304に交換する必要がある。ここで、研削中において、粗研削砥石304bの高速回転によって生み出される遠心力を研削水が受け、研削水は加工室内で飛び散り研削屑を含んだ噴霧となり、加工室の内壁や粗研削手段30の研削ホイール304の外側面や内側面等に付着しているため、交換すべき研削ホイール304は研削屑等が付着して汚れた状態になっている。
By grinding a plurality of workpieces W as described above, for example, the
例えば、作業者が、研削ホイール交換のための準備をして、実際に研削加工領域のケースを開けて加工室内にある研削ホイール304の交換の作業に取り掛かるまでには時間が掛かるため、例えば、該時間内に汚れた研削ホイール304の加工室内での洗浄を研削装置1自体が行い、作業者が汚れた研削ホイール304をクリーンルーム内に出さなくても済むようにする。
For example, it takes time for the operator to prepare for the replacement of the grinding wheel, actually open the case of the grinding area, and start the work of replacing the
以下に、図1に示す研削装置1において、研削装置1自体が汚れた研削ホイール304の洗浄を行う場合について説明する。
例えば、作業者が、装置付属のキーボードやタッチパネル等の入力手段から研削装置1の制御手段9に、研削ホイール304の交換作業を実施する旨の情報を入力すると、制御手段9による制御の下で、図3に簡略化して示すチャックテーブル水平移動手段11が被加工物Wを吸引保持していないチャックテーブル50を搬入出領域から研削加工領域へと+Y方向へ移動する。そして、研削手段水平移動手段13によって粗研削手段30がX軸方向に移動されるとともに、例えば、粗研削砥石304bの回転軌跡がチャックテーブル50の保持面500aの中心を通過するように、チャックテーブル50が所定位置に位置づけられる。なお、粗研削砥石304bとチャックテーブル50との位置合わせは、上記例に限定されるものではなく、少なくとも、粗研削砥石304bが保持面500aの上方に位置づけられればよい。また、制御手段9は、チャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13の少なくともいずれか一方の制御を行うことで、粗研削砥石304bを保持面500aの上方に位置づけてもよい。
Hereinafter, in the grinding
For example, when an operator inputs information to the control means 9 of the grinding
さらに、制御手段9による制御の下で、粗研削手段30が粗研削昇降手段20によって−Z方向へと送られ、粗研削砥石304bの下面とチャックテーブル50の保持面500aとの間に所定の隙間Vを設ける高さ位置に粗研削手段30が位置づけられる。該所定の隙間Vの大きさは、例えば、数十μm〜100μm程度である。図3に示すように、研削ホイール304は、主にその外側面に研削屑等からなる汚れMが付着している。
Further, under the control of the control means 9, the rough grinding means 30 is sent in the −Z direction by the rough
次いで、図3に示すように、例えば、制御手段9による制御の下で、吸引バルブ545a及びエアバルブ581が閉じられ、かつ、水バルブ571が開かれた状態で、水供給源57が水(例えば、純水)を水連通路570に供給する。水J1は、さらに、配管544、吸引流路540、及びチャックテーブル50の吸着部500を通り、保持面500aから噴出する。そして、保持面500a上に表面張力によって所定量膜状に堆積したら、水バルブ571が閉じられて、水供給源57から保持面500aへの水J1の供給が停止される。なお、保持面500aへの水J1の供給が継続されてもよい。
例えば、図3に示すように、粗研削砥石304bの下面が膜状の水J1に接触した状態になると好ましいが、粗研削砥石304bの下面が膜状の水J1から離れていてもよい。
Then, as shown in FIG. 3, for example, under the control of the control means 9, the
For example, as shown in FIG. 3, it is preferable that the lower surface of the
その後、図4に示すように、制御手段9による制御の下で、エアバルブ581が開かれると共に、エア供給源58が圧縮エアをエア連通路580に供給する。圧縮エアは、さらに、配管544、吸引流路540、及びチャックテーブル50の吸着部500を通り、保持面500aから噴出する。その結果、保持面500aに形成されている膜状の水J1が保持面500aから噴き上げられて、研削ホイール304の外側面、内側面、及び下面にまとわりついた状態になる。
After that, as shown in FIG. 4, the
さらに、図4に示すように、スピンドルモータ302(図4には不図示)がスピンドル300を回転させるのに伴って、研削ホイール304が回転して、噴き上げられた水J1によって研削ホイール304の外側面、内側面、及び下面の各全面が洗浄され、主に研削ホイール304の外側面に付着していた汚れMが除去される。
なお、研削ホイール304の外側面に付着していた汚れMを除去する際には、研削加工におけるスピンドルモータ302の回転速度より遅い回転速度で回転させるとよい。回転速度を遅くすることで、噴き上げられた水J1を外側面の全面に当てることができる。
Further, as shown in FIG. 4, as the spindle motor 302 (not shown in FIG. 4) rotates the
When removing the dirt M adhering to the outer surface of the
所定時間上記洗浄が行われた後、チャックテーブル50の保持面500aには、研削ホイール304から除去された汚れが混じった水が残存しているため、例えば、制御手段9による制御の下で、水バルブ571が開かれて、水供給源57が水を送出する。したがって、エア供給源58が供給するエアと水供給源57が供給する水とが、配管544内等で混合されて二流体となって保持面500aから噴射される。また、チャックテーブル50が回転手段56によって回転されることで、遠心力によって汚れた水が保持面500aから径方向外側に向かって排出されつつ、二流体によって保持面500aが洗浄される。汚れた水は、図示しないウォーターケースの排水溝へ排出される。
After the cleaning is performed for a predetermined time, water mixed with dirt removed from the
上記のように本発明に係る研削装置1は、制御手段9が、チャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13と粗研削昇降手段20とを制御し、チャックテーブル50の保持面500aの上方に粗研削砥石304bを位置づけ、保持面500aと粗研削砥石304bの下面との間に所定の隙間Vを形成させ、水バルブ571とエアバルブ581とを制御し、保持面500aから水とエアとを噴出させ研削ホイール304を洗浄することで、例えば、作業者が研削ホイール304を交換する前に研削ホイール304を洗浄して汚れていない状態にすることが可能となるため、研削ホイール304の交換作業によって研削装置1が配設されているクリーンルームが汚染されなくなる
なお、仕上げ研削手段31の研削ホイール314を洗浄する場合も、粗研削手段30の研削ホイール304の洗浄と略同様に実施できる。
As described above, in the
(実施形態2)
本発明に係る研削装置1は、実施形態1のようにチャックテーブル50の保持面500aから噴出させた水とエアとで、例えば粗研削手段30の研削ホイール304を洗浄するのではなく、少なくともチャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13を制御して洗浄ノズル18と粗研削手段30とを相対的に水平移動させつつ、洗浄ノズル18の上方に位置づけた研削ホイール304に洗浄ノズル18から水を噴射させ研削ホイール304を洗浄する構成となっていてもよい。
(Embodiment 2)
The grinding
以下に、図1に示す研削装置1において、研削装置1自体が、洗浄ノズル18を使用して、汚れた研削ホイール304の洗浄を作業者が研削ホイール304を交換する前に行う場合について説明する。
Hereinafter, in the grinding
例えば、作業者が、装置付属のタッチパネル等の入力手段から研削装置1の制御手段9に研削ホイール304の交換作業を実施する旨の情報を入力すると、制御手段9による制御の下で、図6に示すチャックテーブル水平移動手段11が被加工物Wを吸引保持していないチャックテーブル50を搬入出領域から研削加工領域へと+Y方向へ移動することで、カバー100に配設された洗浄ノズル18も+Y方向へ移動し、また、研削手段水平移動手段13(図2参照)によって粗研削手段30がX軸方向に移動されるとともに、例えば、粗研削砥石304bの下面に対して洗浄ノズル18の噴射口180が対向するように、洗浄ノズル18と粗研削手段30との位置合わせが行われる。
なお、制御手段9は、チャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13の少なくともいずれか一方の制御を行うことで、上記位置合わせを行ってもよい。
For example, when an operator inputs information to the control means 9 of the grinding
The control means 9 may perform the above alignment by controlling at least one of the chuck table horizontal moving means 11 and the grinding means horizontal moving means 13.
さらに、制御手段9による制御の下で、粗研削手段30が粗研削昇降手段20によって−Z方向へと送られ、粗研削砥石304bの下面が洗浄ノズル18の噴射口180に僅かに接触しない程度の高さ位置に粗研削手段30が位置づけられる。図6に示すように、研削ホイール304は主にその外側面に研削屑等からなる汚れMが付着している。
Further, under the control of the control means 9, the rough grinding means 30 is sent in the −Z direction by the rough
次いで、図6に示すように、例えば、制御手段9による制御の下で、開閉弁184が開かれ、高圧水供給源189が高圧水を供給管182に供給することで、洗浄ノズル18から高圧の洗浄水が上方に向かって噴射されて、研削ホイール304が洗浄が開始される。なお、洗浄ノズル18が二流体を噴射させてもよいし、超音波を伝播させた洗浄水を噴射させてもよい。
Then, as shown in FIG. 6, for example, under the control of the control means 9, the on-off
また、制御手段9による制御の下で、例えば、チャックテーブル水平移動手段11がカバー100をY軸方向において往復移動させることで、研削ホイール304の内側面と外側面との間を洗浄ノズル18が洗浄水を上方に噴射させつつ移動して、研削ホイール304の外側面、内側面、及び下面が満遍なく洗浄される。さらに、スピンドルモータ302がスピンドル300を回転させるのに伴って、研削ホイール304が回転して、研削ホイール304の外側面全面、内側面全面、及び下面全面が満遍なく洗浄される。そして、主に研削ホイール304の外側面に付着していた汚れMが除去される。研削ホイール304を洗浄し汚れた水は、図示しないウォーターケースの排水溝へ排出される。
なお、スピンドルモータ302の回転速度を研削加工における回転速度より遅くすることで洗浄ノズル18から噴射される水を研削ホイール304の外側面全面、内側面全面、及び下面全面に万遍なく当てることができる。
なお、制御手段9による制御の下で、研削手段水平移動手段13が粗研削手段30をX軸方向に往復移動させることで、研削ホイール304の下方に位置付けられた洗浄ノズル18から噴射される洗浄水が、研削ホイール304の外側面全面、内側面全面、及び下面全面を満遍なく洗浄していくようにしてもよい。
Further, under the control of the control means 9, for example, the chuck table horizontal moving means 11 reciprocates the
By making the rotation speed of the
Under the control of the control means 9, the grinding means horizontal moving means 13 reciprocates the rough grinding means 30 in the X-axis direction to perform cleaning injected from the cleaning
上記のように本発明に係る研削装置1は、粗研削砥石304bの下面に洗浄水を噴射させ粗研削砥石304bの下面を洗浄する洗浄ノズル18を備え、制御手段9は、チャックテーブル水平移動手段11又は研削手段水平移動手段13を制御して洗浄ノズル18と粗研削手段30とを相対的に水平移動させつつ、洗浄ノズル18の上方に位置づけた研削ホイール304に洗浄ノズル18から水を噴射させ研削ホイール304を洗浄することで、例えば、作業者が研削ホイール304を交換する前に、研削ホイール304を洗浄して汚れていない状態にすることが可能となるため、研削ホイール304の交換作業によって研削装置1が配設されているクリーンルームを汚染させないようにすることが可能となる。
As described above, the grinding
なお、本発明に係る研削装置1は上記実施形態1、2に限定されるものではなく、また、添付図面に図示されている各構成等についても、これに限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
The grinding
W:被加工物 Wa:被加工物の表面 Wb:被加工物の裏面
1:研削装置 10:装置ベース
150:第1のカセット載置部 150a:第1のカセット 151:第2のカセット載置部 151a:第2のカセット
152:仮置き領域 153:位置合わせ手段 154a:ローディングアーム
154b:アンローディングアーム 155:ロボット 156:洗浄手段
50:チャックテーブル 500:吸着部 500a:保持面 501:枠体
100:カバー 100a:蛇腹カバー
11:チャックテーブル水平移動手段
110:ボールネジ 112:モータ 113:可動板
52:チャックベース 55:傾き調整手段
56:回転手段 560:テーブルスピンドル 561:モータ 562:主動プーリ
563:従動プーリ 564:無端ベルト
540:吸引流路 543:ロータリージョイント 544:配管
545:吸引管 545a:吸引バルブ 549:吸引源
570:水連通路 571:水バルブ 57:水供給源
580:エア連通路 581:エアバルブ 58:エア供給源
12:コラム
13:研削手段水平移動手段 130:ボールネジ 132:モータ 133:第一可動ブロック 134:第二可動ブロック
20:粗研削昇降手段 200:ボールネジ 202:モータ 203:昇降板
30:粗研削手段 300:スピンドル 301:ハウジング 302:スピンドルモータ
303:マウント 304:研削ホイール 304b:粗研削砥石
21:仕上げ研削昇降手段 210:ボールネジ 212:モータ 213:昇降板
31:仕上げ研削手段 310:スピンドル 311:ハウジング 312:スピンドルモータ 313:マウント 314:研削ホイール 314b:仕上げ研削砥石
17:厚み測定手段
9:制御手段
18:洗浄ノズル 182:供給管 184:開閉弁 189:高圧水供給源
W: Work piece Wa: Front surface of work work Wb: Back side of work work 1: Grinding device 10: Equipment base 150: First
154b: Unloading arm 155: Robot 156: Cleaning means 50: Chuck table 500:
100:
56: Rotating means 560: Table spindle 561: Motor 562: Main pulley 563: Driven pulley 564: Endless belt 540: Suction flow path 543: Rotary joint 544: Pipe 545:
Claims (2)
該保持面を水供給源に連通する水連通路と、該水連通路を開閉する水バルブと、
該保持面をエア供給源に連通するエア連通路と、該エア連通路を開閉するエアバルブと、を備え、
該制御手段は、該水平移動手段と該昇降手段とを制御し、該保持面の上方に該研削砥石を位置づけ、該保持面と該研削砥石の下面との間に所定の隙間を形成させ、該水バルブと該エアバルブとを制御し、該保持面から水とエアとを噴出させ該研削ホイールを洗浄する、研削装置。 A grinding means for grinding a work piece on the lower surface of the grinding wheel by rotating a chuck table that holds the work piece on the holding surface and a grinding wheel on which a grinding wheel is arranged in an annular shape on the work piece held on the chuck table. A horizontal moving means for moving the chuck table and the grinding means in a horizontal direction relatively parallel to the holding surface, an elevating means for raising and lowering the grinding means in a direction perpendicular to the holding surface, and device control. A grinding device including a control means for performing the above.
A water passage that connects the holding surface to the water supply source, and a water valve that opens and closes the water passage.
An air passage for communicating the holding surface with the air supply source and an air valve for opening and closing the air passage are provided.
The control means controls the horizontal moving means and the elevating means, positions the grinding wheel above the holding surface, and forms a predetermined gap between the holding surface and the lower surface of the grinding wheel. A grinding device that controls the water valve and the air valve and ejects water and air from the holding surface to clean the grinding wheel.
該研削砥石の下面に洗浄水を噴射させ該研削砥石の下面を洗浄する洗浄ノズルを備え、
該制御手段は、少なくとも該水平移動手段を制御して該洗浄ノズルと該研削手段とを相対的に水平移動させつつ、該洗浄ノズルの上方に位置づけた該研削ホイールに該洗浄ノズルから水を噴射させ該研削ホイールを洗浄する、研削装置。 A grinding means for grinding a work piece on the lower surface of the grinding wheel by rotating a chuck table that holds the work piece on the holding surface and a grinding wheel on which a grinding wheel is arranged in an annular shape on the work piece held on the chuck table. A horizontal moving means for moving the chuck table and the grinding means in a horizontal direction relatively parallel to the holding surface, an elevating means for raising and lowering the grinding means in a direction perpendicular to the holding surface, and device control. A grinding device including a control means for performing the above.
A cleaning nozzle for injecting cleaning water onto the lower surface of the grinding wheel to clean the lower surface of the grinding wheel is provided.
The control means injects water from the cleaning nozzle onto the grinding wheel located above the cleaning nozzle while controlling at least the horizontal moving means to relatively horizontally move the cleaning nozzle and the grinding means. A grinding device for cleaning the grinding wheel.
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