JP2019072776A - Holding method for plate-like object - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、反りを有した板状物の保持方法に関する。 The present invention relates to a method for holding a warped plate.
基板上に積層された複数のデバイスチップが樹脂で封止されて構成されるパッケージ基板は、樹脂封止時の熱の影響によって反りを有しているものがある。このような反りを有したパッケージ基板等の板状物は、保持テーブルで吸引保持しようとしても、板状物と保持テーブルの保持面とが接触していない箇所から吸引力がリークして保持出来ないという問題がある。 A package substrate configured by sealing a plurality of device chips stacked on a substrate with a resin may have a warp due to the influence of heat at the time of resin sealing. Even if it is attempted to suction and hold the holding substrate with a plate substrate such as a package substrate having such a warp, the suction force leaks from the portion where the plate member and the holding surface of the holding table are not in contact and can be held. There is a problem of not being.
上記問題を解決するために、反りを有した板状物を保持テーブル上で押圧しながら加熱して反りを矯正した後に保持テーブルで吸引保持する方法(例えば、特許文献1参照)が提案されている。 In order to solve the above-mentioned problems, a method is proposed in which a plate-like object having a warp is heated while being pressed on a holding table to correct the warp and then suction-held by the holding table (for example, see Patent Document 1) There is.
しかし、押圧及び加熱によっては反りが解消しない板状物もあり、このような反りを有した板状物であっても、保持テーブルにより確実に吸引保持できるようにするという課題がある。 However, there is also a plate-like object whose warping is not eliminated by pressing and heating, and there is a problem that even a plate-like object having such a warp can be reliably suctioned and held by the holding table.
上記課題を解決するための本発明は、反りを有した板状物の保持方法であって、板状物を保持する保持面と、該保持面に開口する吸引孔と、該吸引孔を吸引手段に選択的に連通する吸引路とを有した保持手段の該保持面上に液体を供給する液体供給ステップと、該液体を介して該保持面上に反りを有した板状物を載置する載置ステップと、該載置ステップを実施した後、該吸引手段に該吸引孔を連通して該液体とともに板状物を吸引して該保持面で保持する吸引保持ステップと、を備えた保持方法である。 The present invention for solving the above-mentioned problems is a method for holding a plate-like object having a warp, which comprises a holding surface for holding the plate-like object, a suction hole opened in the holding surface, and suction of the suction hole. A liquid supply step of supplying a liquid onto the holding surface of the holding means having a suction path selectively communicating with the means, and placing a plate having a warp on the holding surface through the liquid And a suction holding step for suctioning the plate-like object together with the liquid and holding the plate-like object on the holding surface after the mounting step is performed and the suction hole is communicated with the suction means. It is a holding method.
前記載置ステップを実施する前に、板状物の中心が前記保持面の中心に合致するように板状物を該保持面上に搬入する搬入ステップを更に備えると好ましい。 It is preferable to further include a carrying-in step of carrying the plate-like object onto the holding surface such that the center of the plate-like object coincides with the center of the holding surface before performing the placing step.
本発明に係る保持方法は、板状物を保持する保持面と、保持面に開口する吸引孔と、吸引孔を吸引手段に選択的に連通する吸引路とを有した保持手段の保持面上に液体を供給する液体供給ステップと、液体を介して保持面上に反りを有した板状物を載置する載置ステップと、載置ステップを実施した後、吸引手段に吸引孔を連通して液体とともに板状物を吸引して保持面で保持する吸引保持ステップと、を備えているため、吸引保持を行う際に保持面と板状物とが接触していない箇所に液体が介在してシールとしての役割を果たすため、負圧(吸引力)がリークすることがなくなり、反りを有した板状物でも保持面で確実に吸引保持することが可能になる。 The holding method according to the present invention comprises a holding surface for holding a plate-like object, a suction hole opened in the holding surface, and a suction passage having suction paths for selectively communicating the suction holes with the suction means. After performing the liquid supply step of supplying the liquid to the liquid, the mounting step of mounting the plate having a warp on the holding surface through the liquid, and the mounting step, the suction holes are communicated with the suction means And a suction holding step of suctioning the plate-like object together with the liquid and holding it on the holding surface, the liquid intervenes in a place where the holding surface and the plate-like object are not in contact when performing suction holding. Since it plays a role as a seal, the negative pressure (suction force) does not leak, and it becomes possible to reliably suction and hold even a plate having warpage on the holding surface.
また、載置ステップを実施する前に、板状物の中心が保持面の中心に合致するように板状物を保持面上に搬入する搬入ステップを更に備えるものとすることで、板状物を保持面上の適切な位置で吸引保持することが可能となる。 Further, before carrying out the mounting step, the plate-like object is further provided with a carrying-in step of carrying the plate-like object onto the holding surface such that the center of the plate-like object coincides with the center of the holding surface. Can be held by suction at an appropriate position on the holding surface.
図1に示す研削装置1は、研削手段4によってチャックテーブル30に保持された反りを有する板状物Wを研削する装置である。研削装置1のベース1A上の前方(−Y方向側)では、チャックテーブル30に対する板状物Wの着脱が行われ、ベース1A上の後方(+Y方向側)では、研削手段4によってチャックテーブル30上に保持された板状物Wの研削が行われる。
ベース1A上の前方側には、オペレータが研削装置1に対して加工条件等を入力するための入力手段19が配設されている。
The
On the front side of the
ベース1A上の前方側には、研削前の板状物Wを収容する第一のカセット11及び研削済みの板状物Wが収容される第二のカセット12が配設されている。第一のカセット11と第二のカセット12との間には、第一のカセット11から研削前の板状物Wを搬出するとともに研削加工後の板状物Wを第二のカセット12に搬入するロボット10が配設されている。ロボット10の可動域には、研削前の板状物Wを所定の位置に位置合わせする位置合わせ手段13及び研削済みの板状物Wを洗浄する洗浄手段7が配設されている。
On the front side of the
位置合わせ手段13の近傍には第一の搬送手段31が配設され、洗浄手段7の近傍には第二の搬送手段32が配設されている。第一の搬送手段31は、位置合わせ手段13に載置された板状物Wをチャックテーブル30に搬送し、第二の搬送手段32は、チャックテーブル30に保持された研削済みの板状物Wを洗浄手段7に搬送する。
A
第二の搬送手段32は、例えば、外形が円板状でありその下面(吸着面)で板状物Wを吸着保持する吸着パッド320と、水平方向に延在しその先端下面に吸着パッド320が固定されたアーム321と、アーム321に接続されアーム321をZ軸方向の軸心周りに水平方向に旋回させるとともにZ軸方向に上下動させるアーム移動手段322とを備えている。
The second transport means 32 has, for example, a
チャックテーブル30は、例えば、外形が円形状であり、ポーラス部材等からなる保持面30a上で板状物Wを吸引保持する。チャックテーブル30は、カバー33により周囲を囲まれており、Z軸方向の軸心周りに回転可能であると共に、カバー33及びカバー33に連結された蛇腹カバー33aの下方に配設された図示しないY軸方向送り手段によって、Y軸方向に往復移動可能となっている。チャックテーブル30の移動経路の両側には、カバー33上から流下する研削水を受け止める凹状の研削水収容部34が形成されている。
The chuck table 30 has, for example, a circular outer shape, and sucks and holds the plate-like object W on a
ベース1A上の後方側には、コラム1Bが立設されており、コラム1Bの側面には研削手段4をZ軸方向に研削送りする研削送り手段35が配設されている。研削送り手段35は、垂直方向の軸心を有するボールネジ350と、ボールネジ350と平行に配設された一対のガイドレール351と、ボールネジ350を回動させるモータ352と、研削手段4を保持し内部のナットがボールネジ350に螺合すると共に側部がガイドレール351に摺接する昇降ホルダー353とから構成されている。モータ352がボールネジ350を回転させることに伴い昇降ホルダー353がガイドレール351にガイドされて昇降し、昇降ホルダー353に支持されている研削手段4も昇降する。
A
研削手段4は、Z軸方向の軸心を有するスピンドル40と、スピンドル40を回転可能に支持するハウジング41と、スピンドル40を回転駆動する図示しないモータと、スピンドル40の下端に接続された円形状のマウント43と、マウント43の下面に着脱可能に接続された研削ホイール44とを備える。研削ホイール44は、環状のホイール基台の底面に複数の研削砥石が環状に配置されたものである。
The grinding means 4 has a
図1に示す洗浄手段7は、枚葉式のスピンナー洗浄装置であり、板状物Wを吸引保持する保持手段70と、ベース1Aに形成され保持手段70が収容される容器部71と、保持手段70をZ軸方向の軸心周りに回転させる回転手段72と、保持手段70に保持された板状物Wに洗浄用の液体(例えば、純水)を供給するノズル73と、液体の飛散を防止するためのカバー74とを備えている。
The cleaning means 7 shown in FIG. 1 is a sheet-fed spinner cleaning apparatus, and includes
容器部71の外形は、例えば、多角形状に形成されており、容器部71の底には図示しない排水口が形成されている。図示しない液体供給源に連通し板状物Wに液体を供給するノズル73は、例えば、容器部71内に立設しており、−Z方向側に向かって開口し液体を噴射する噴射口を備えている。ノズル73は、Z軸方向の軸心周りに旋回可能となっており、保持手段70の上方から退避位置まで噴射口が移動可能となっている。
The outer shape of the
図2に示すように、保持手段70は、例えば、その外形が板状物Wよりも小径の円形に形成されたスピンナーテーブル70Aを備えており、スピンナーテーブル70Aは、板状物Wを吸着するポーラス部材等からなる吸着部700と、吸着部700を支持する枠体701とを備える。吸着部700の露出面であり枠体701の上面と面一である保持面700aには、図示しない細かな吸引孔が開口しており、スピンナーテーブル70Aは保持面700aで板状物Wを吸引保持することができる。
As shown in FIG. 2, the
吸着部700の下面と枠体701の底部との間には吸引空間702が広がっており、この吸引空間702には枠体701の底部を通る吸引管703が連通している。吸引管703には吸引手段76が接続されている。
吸引管703内には、例えば、吸引管703内を流れるエアから液体を分離する分離器704と、逆止弁705とが配設されている。逆止弁705は、吸引管703内に保持手段70に向かう方向のエアの流れを許容しない向きに取り付けられている。上記、吸引空間702、吸引管703、分離器704、及び逆止弁705によって吸引路70Bが形成され、吸引路70Bは、保持面700aに開口する図示しない吸引孔と吸引手段76とを選択的に連通する。
A
In the
吸引手段76は、例えば、コンプレッサー及びエア貯留タンク等からなり圧縮されたエアを供給することができるエア供給源760と、エア供給源760と後述するエジェクター763との間を連通させる配管761と、配管761に配設された開閉弁762と、エア供給源760から供給されるエアの流れにより負圧を発生させるエジェクター763と、エアを排気する排気口764と、エジェクター763と排気口764との間を連通させる配管765とを備えている。
開閉弁762は、例えば、単動ソレノイドを有するスプリングリターンの常時閉のソレノイドバルブであるが、これに限定されるものではない。
吸引管703の下流側は、エジェクター763に対してほぼ垂直に接続されている。
The suction means 76 includes, for example, an
The on-off
The downstream side of the
以下に、図1に示す研削装置1を用いて板状物Wを研削する場合について説明する。
図1、3に示す板状物Wは、例えば、シリコン母材等からなる円形のウェーハW1を備えており、図示しないデバイスが形成されたウェーハW1の表面W1a(図3参照)には、金属又は樹脂からなる一様な厚さの膜W2が積層されている。ウェーハW1の露出面は、板状物Wの裏面W1bとなる。板状物Wは、膜W2の形成時における熱影響(膜W2の収縮等)によって、その全体が中凸状に湾曲している、即ち、反りを有している。なお、この中凸状の反りとは、保持手段70の保持面700aに板状物Wを載置した際に、板状物Wが保持面700a上で山のように、即ち、板状物Wの裏面W1bがその外周側の領域から中央の領域に向かって徐々に高くなっていくような反りである。また、膜W2の露出面には、研削時における研削圧力から図示しないデバイスを保護する保護テープTが貼着されている。
なお、板状物Wは上記のような膜W2がウェーハW1に積層された膜積層ウェーハに限定されるものではなく、例えば、WL−CSPウェーハ、即ち、ウェーハの状態で再配線層や電極が形成され、ウェーハの表面が樹脂で封止され、切削ブレード等で各パッケージチップに分割されるウェーハであってもよい。または、複数のウェーハを重ねて樹脂等からなる接着層でウェーハ同士を接合した積層ウェーハやパッケージ基板等の反りを有したウェーハであってもよい。
Below, the case where plate-like object W is ground using
The plate-like object W shown in FIGS. 1 and 3 includes, for example, a circular wafer W1 made of a silicon base material or the like, and a metal W is used on the surface W1a (see FIG. 3) of the wafer W1 on which devices not shown are formed. Alternatively, a film W2 of uniform thickness made of resin is laminated. The exposed surface of the wafer W1 is the back surface W1b of the plate-like object W. The plate-like object W is entirely convexly curved in a convex shape, that is, has warpage, due to thermal effects (such as contraction of the film W2) at the time of formation of the film W2. In addition, when the plate-like object W is placed on the holding
The plate-like object W is not limited to the film laminated wafer in which the film W2 as described above is laminated on the wafer W1. For example, a rewiring layer or an electrode in the state of a WL-CSP wafer, that is, a wafer The wafer may be formed, sealed on the surface of the wafer with a resin, and divided into each package chip by a cutting blade or the like. Alternatively, it may be a wafer having a warp such as a laminated wafer or a package substrate in which wafers are joined together by bonding a plurality of wafers with an adhesive layer made of resin or the like.
まず、図1に示す着脱領域内において、板状物Wが裏面W1bが上側になるようにチャックテーブル30の保持面30a上に載置される。そして、図示しない吸引源により生み出される吸引力が保持面30aに伝達されることにより、チャックテーブル30が保持面30a上で板状物Wを吸引保持する。
First, in the attachment / removal region shown in FIG. 1, the plate-like object W is placed on the holding
次いで、板状物Wを保持したチャックテーブル30が、着脱領域から研削領域内の研削手段4の下まで+Y方向へ移動する。また、図示しないモータがスピンドル40を回転駆動し、これに伴って研削ホイール44も回転する。研削手段4が研削送り手段35により−Z方向へと送られ、回転する研削ホイール44の研削砥石が板状物Wの裏面W1bに当接することで研削が行われる。研削中は、チャックテーブル30が回転するのに伴って板状物Wも回転するので、板状物Wの裏面W1b全面が研削される。
Next, the chuck table 30 holding the plate-like object W moves in the + Y direction from the mounting and demounting area to below the grinding means 4 in the grinding area. Further, a motor (not shown) rotationally drives the
板状物Wが所定の厚さまで研削されて研削ホイール44が板状物Wから離間した後、板状物Wを吸引保持するチャックテーブル30が−Y方向に送られて、第二の搬送手段32の近傍に位置付けられる。アーム移動手段322が、吸着パッド320を板状物W上へと移動させ、次いで吸着パッド320を下降させて板状物Wに接触させ、吸着パッド320によって板状物Wが吸着保持される。なお、吸着パッド320の吸着面の中心と板状物Wの中心とは略合致した状態になる。そして、第二の搬送手段32が、板状物Wを洗浄手段7に搬送する。
After the plate-like object W is ground to a predetermined thickness and the
洗浄手段7は、板状物Wが搬送されてくる前に、反りを有する板状物Wを保持手段70によって確実に吸引保持できるようにセットされる。即ち、以下に説明する本発明に係る板状物Wの保持方法が実施される。 The cleaning means 7 is set so that the plate-like object W having a warp can be reliably suctioned and held by the holding means 70 before the plate-like object W is transported. That is, the holding method of the plate-like object W which concerns on this invention demonstrated below is implemented.
(1)液体供給ステップ
まず、図4に示すように、保持手段70の保持面700a上に液体Lが供給される。即ち、例えば、ノズル73が旋回移動し、その噴射口がスピンナーテーブル70Aの中央上方に位置付けられる。そして、ノズル73からスピンナーテーブル70Aの保持面700aに向けて液体L(純水)が適量滴下される。液体Lが保持面700a上に表面張力によって所定量堆積したら、ノズル73は液体Lの供給を停止し、スピンナーテーブル70A上方から退避する。
なお、液体供給ステップは、本実施形態における例に限定されるものではない。例えば、保持手段70の吸引路70Bに液体供給源を連通させて、吸引路70Bから保持面700a上に液体を供給するものとしてもよい。
(1) Liquid Supply Step First, as shown in FIG. 4, the liquid L is supplied onto the holding
In addition, a liquid supply step is not limited to the example in this embodiment. For example, the liquid supply source may be communicated with the
(2)搬入ステップ
次いで、図5に示すように、アーム移動手段322がアーム321を旋回移動させて、板状物Wを吸着保持した吸着パッド320が、その吸着面の中心がスピンナーテーブル70Aの保持面700aの中心と略合致するように板状物Wの上方に位置付けられる。板状物Wは、その中心が吸着パッド320の吸着面の中心と略合致した状態で吸着パッド320によって吸着保持されているため、板状物Wは、その中心が保持手段70の保持面700aの中心に合致するように保持面700a上に搬入された状態になる。
なお、本搬入ステップを実施せずに、後述する載置ステップを実施してもよい。
(2) Loading Step Next, as shown in FIG. 5, the arm moving means 322 pivotally moves the
In addition, you may implement the mounting step mentioned later, without implementing this carrying-in step.
本実施形態においては、上記のように液体供給ステップを実施した後に搬入ステップを実施しているが、液体供給ステップを実施する前に搬入ステップを実施してもよい。この場合、液体供給ステップにおいて、保持手段70の保持面700aに対して、保持面700aの横から液体Lが例えば放物線を描くように噴射されて供給される。
In the present embodiment, the carry-in step is performed after the liquid supply step is performed as described above, but the carry-in step may be performed before the liquid supply step is performed. In this case, in the liquid supply step, the liquid L is jetted and supplied from the side of the holding
(3)載置ステップ
次に、吸着パッド320が−Z方向へと降下し、板状物Wの膜W2に貼着されている保護テープTと保持手段70の保持面700aとが液体Lを介して接触する。この状態において、板状物Wは中凸状の反りを有しているため、液体Lが仮に保持面700a上に無いと仮定すると、保護テープTと保持面700aとの間には吸引力をリークさせる隙間ができる場合がある。しかし、本発明に係る保持方法では、保持面700a上に堆積している液体Lによって上記隙間が塞がれた状態で、図6に示すように、保持面700a上に板状物Wが載置される。そして、吸着パッド320による板状物Wの吸着が解除され、吸着パッド320が板状物Wから離間する。
なお、板状物Wの反りの度合いによっては、板状物Wを保持手段70の保持面700aに中凹状になるように載置する、即ち、板状物Wを図6に示す状態とは上下逆さまになるように保持面700aに載置するものとしてもよい。
また、例えば板状物Wが有する反りが、被研削面である裏面W1bがその外周側の領域から中央の領域に向かって徐々に低くなっていくような反り(中凹状の反り)である場合であっても、該中凹状の反りを有する板状物Wを保持手段70の保持面700aに裏面W1bが上側になるように載置するものとしてもよい。
さらに、本実施形態のように、板状物Wの直径よりも保持手段70の保持面700aの直径が小さいと好ましいが、保持手段の保持面の直径は板状物Wの直径と略同等の大きさであってもよい。
(3) Mounting Step Next, the
Depending on the degree of warpage of the plate-like object W, the plate-like object W is placed on the holding
Also, for example, when the warpage of the plate-like material W is such that the back surface W1b, which is the surface to be ground, is gradually lowered from the area on the outer peripheral side toward the center area (inward concave warpage) Even in such a case, the plate-like object W having the concaved concave shape may be placed on the holding
Furthermore, although it is preferable that the diameter of the holding
(4)吸引保持ステップ
板状物Wが保持手段70の保持面700a上に載置されてから、吸着パッド320による板状物Wの吸着が解除された後、又は吸着が解除されるのと並行して、吸引手段76に保持面700aに開口する図示しない吸引孔を連通して液体Lとともに板状物Wを吸引して保持面700aで保持する。具体的には、まず、図7に示すように、開閉弁762が閉状態から開状態へと切り換わる。そして、エア供給源760から圧縮エアが配管761に供給され、該エアが開閉弁762を通過してエジェクター763に至る。
(4) Suction and holding step After the plate-like object W is placed on the holding
エジェクター763は、その内部に径が絞られた流路を備えており、エジェクター763に至ったエアがこの径の絞られた流路を通過して配管765に流れていくことで、エジェクター763により、吸引管703から矢印R1方向に向かってエアを吸引する吸引力が生成される。そして、生み出された吸引力が保持面700aに開口する図示しない複数の吸引孔に伝達されることで、保持面700aで板状物Wが吸引保持される。この際に、保持面700a上の液体Lによって、保護テープTと保持面700aとの間の吸引力をリークさせる隙間がシールされているため、保持面700aで板状物Wが確実に吸引保持される。吸引管703から吸引されたエアは、エア供給源760から供給されたエアとともに、排気口764から排気される。
The
板状物Wが保持面700aで吸引保持されるのと並行して、保持面700a上に堆積していた液体Lは、吸引空間702を通り吸引管703内に引き込まれる。この液体がエジェクター763に流れてくると、エジェクター763により生成される吸引力が低下してしまうが、吸引管703の途中に分離器704を設けているため、分離器704によって吸引管703内を通るエアから液体Lが分離されることで、吸引力の低下は防がれる。
The liquid L deposited on the holding
上記のように、本発明に係る保持方法は、板状物Wを保持する保持面700aと、保持面700aに開口する図示しない吸引孔と、吸引孔を吸引手段76に選択的に連通する吸引路70Bとを有した保持手段70の保持面700a上に液体Lを供給する液体供給ステップと、液体Lを介して保持面700a上に反りを有した板状物Wを載置する載置ステップと、載置ステップを実施した後、吸引手段76に吸引孔を連通して液体Lとともに板状物Wを吸引して保持面700aで保持する吸引保持ステップと、を備えているため、吸引保持が開始される際に、保持面700aと板状物Wとが接触していない部分に液体Lが介在してシールとしての役割を果たすため、吸引力がリークすることがなくなり、反りを有した板状物Wでも保持面700aで確実に吸引保持することが可能になる。
As described above, in the holding method according to the present invention, the holding
また、載置ステップを実施する前に、板状物Wの中心が保持面700aの中心に合致するように板状物Wを保持面700a上に搬入する搬入ステップを更に備えるものとすることで、板状物Wを保持面700a上の適切な位置で吸引保持することが可能となる。
Further, before carrying out the mounting step, the method further includes a carry-in step of carrying the plate-like object W onto the holding
なお、本発明に係る保持方法は上記実施形態に限定されるものではなく、また、添付図面に図示されている保持手段70及び吸引手段76等の各構成についても、これに限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。 The holding method according to the present invention is not limited to the above embodiment, and the configurations of the holding means 70 and the suction means 76 shown in the attached drawings are not limited to this, either. It can change suitably in the range which can exhibit the effect of invention.
例えば、本発明に係る保持方法を実施する際に用いられる保持手段は、洗浄手段7に配設された保持手段70に限定されるものではなく、研削加工時に板状物Wを吸引保持するチャックテーブル30が、保持手段として用いられてもよい。また、本実施形態においては、研削装置1に保持手段70が配設されているが、研削装置1ではなく、回転する切削ブレードで板状物Wを切削する切削装置、レーザビームを板状物Wに照射して各種の加工を施すレーザ加工装置、又は板状物Wを旋削するバイト切削装置に保持手段70が配設されており、これらの各装置において本発明に係る保持方法が実施されるものとしてもよい。
For example, the holding means used when carrying out the holding method according to the present invention is not limited to the holding means 70 disposed in the cleaning means 7, and a chuck for sucking and holding the plate-like object W at the time of grinding The table 30 may be used as a holding means. Further, in the present embodiment, the holding means 70 is disposed in the
本実施形態においては、保持手段70はポーラス部材等からなる吸着部700を備えており、吸着部700の細かな細孔が吸引孔として機能しているが、吸引孔の形態はこれに限定されるものではない。例えば、保持手段は、その保持面に同心状に複数の環状吸引溝が形成されており、これらの環状吸引溝が吸引孔として機能する構成となっていてもよい。また、例えば、吸引保持の対象となる板状物が矩形の反ったパッケージ基板であり、かつ、切削加工が施される場合においては、保持手段は、その保持面にブレード逃げ溝が形成された治具テーブルを備える構成となっており、ブレード逃げ溝によって区画された各領域に吸引孔がそれぞれ形成されていてもよい。
In the present embodiment, the holding means 70 is provided with the
1:研削装置 1A:ベース 1B:コラム 19:入力手段
10:ロボット 11:第一のカセット 12:第二のカセット 13:位置合わせ手段
30:チャックテーブル 30a:保持面
31:第一の搬送手段 32:第二の搬送手段 320:吸着パッド 321:アーム 322:アーム移動手段
35:研削送り手段 4:研削手段
7:洗浄手段
70:保持手段
70A:スピンナーテーブル 700a:保持面
70B:吸引路 702:吸引空間 703:吸引管 704:分離器 705:逆止弁
71:容器部 72:回転手段 73:ノズル 74:カバー
76:吸引手段 760:エア供給源 761:配管 762:開閉弁 763:エジェクター 764:排水口 765:配管
W:板状物 W1:ウェーハ W2:膜 T:保護テープ
1: Grinding
31: first conveying means 32: second conveying means 320: suction pad 321: arm 322: arm moving means 35: grinding feeding means 4: grinding means 7: washing means
70: Holding means
70A: Spinner table 700a: Holding
Claims (2)
板状物を保持する保持面と、該保持面に開口する吸引孔と、該吸引孔を吸引手段に選択的に連通する吸引路とを有した保持手段の該保持面上に液体を供給する液体供給ステップと、
該液体を介して該保持面上に反りを有した板状物を載置する載置ステップと、
該載置ステップを実施した後、該吸引手段に該吸引孔を連通して該液体とともに板状物を吸引して該保持面で保持する吸引保持ステップと、を備えた保持方法。 It is a holding method of the plate-like object which had curvature, and
A liquid is supplied onto the holding surface of a holding means having a holding surface for holding a plate-like object, a suction hole opened in the holding surface, and a suction passage selectively communicating the suction hole with the suction means. A liquid supply step,
Placing a plate having a warp on the holding surface via the liquid;
A suction holding step of communicating the suction hole to the suction means after the mounting step, and sucking and holding the plate-like material together with the liquid on the holding surface.
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