JP7293772B2 - R-t-b系永久磁石 - Google Patents

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Description

本発明は、R-T-B系永久磁石に関する。
特許文献1にはR14B結晶粒を有するR-T-B系焼結磁石が開示されている。隣り合う2つ以上のR14B結晶粒によって形成された粒界中に、R14B結晶粒内よりも、R、Ga、Co、Cu、Nの濃度がともに高いR-Ga-Co-Cu-N濃縮部を有する旨が開示されている。そして、当該特徴により優れた耐食性および良好な磁気特性を併せ持つ旨が開示されている。
国際公開第2015/020180号
現在では、さらに磁気特性および耐食性が良好であるR-T-B系永久磁石が求められている。
本発明は、残留磁束密度Br,保磁力HcJおよび耐食性が良好であるR-T-B系永久磁石を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明に係るR-T-B系永久磁石は、
Rは1種以上の希土類元素、TはFeおよびCo、Bはホウ素であるR-T-B系永久磁石であって、
M,CおよびNを含有し、
MはCu,Ga,Mn,ZrおよびAlから選択される2種以上であり、少なくともCuおよびGaを含有し、
前記R-T-B系永久磁石全体を100質量%として、
Rの合計含有量が29.0質量%以上33.5質量%以下、
Coの含有量が0.10質量%以上0.49質量%以下、
Bの含有量が0.80質量%以上0.96質量%以下、
Mの合計含有量が0.63質量%以上4.00質量%以下、
Cuの含有量が0.51質量%以上0.97質量%以下、
Gaの含有量が0.12質量%以上1.07質量%以下、
Cの含有量が0.065質量%以上0.200質量%以下、
Nの含有量が0.023質量%以上0.323質量%以下であり、
Feが実質的な残部であるR-T-B系永久磁石である。
本発明に係るR-T-B系永久磁石は、上記の特徴を有することにより、残留磁束密度Br,保磁力HcJおよび耐食性が良好となる。
Mnの含有量が0.02質量%以上0.08質量%以下であってもよい。
Zrの含有量が0.15質量%以上0.42質量%以下であってもよい。
Alの含有量が0.08質量%以上0.41質量%以下であってもよい。
Co,CuおよびAlの合計含有量が1.00質量%以上2.00質量%以下であってもよい。
CoおよびMnの合計含有量が0.40質量%以上1.00質量%以下であってもよい。
以下、本発明を、実施形態に基づき説明する。
<R-T-B系永久磁石>
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石について説明する。本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、R14B型結晶構造を有する結晶粒子から成る主相粒子を有する。隣り合う2つ以上の主相粒子によって形成される粒界を有し、粒界中に、主相粒子よりも、R、Ga、Co、Cu、Nの濃度がともに高いR-Ga-Co-Cu-N濃縮部を有していてもよい。
主相粒子の平均粒子径は、通常1μm~30μm程度である。
粒界は、隣り合う2つの主相粒子によって形成される二粒子粒界と、隣り合う3つ以上の主相粒子によって形成される多粒子粒界と、を含むものである。また、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部とは、粒界中に存在し、R、Ga、Co、Cu、Nの各濃度がともに主相粒子内よりも高い領域である。R-Ga-Co-Cu-N濃縮部には、R、Ga、Co、Cu、Nが主な成分として含まれていれば、これら以外の成分が含まれていてもよい。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石の粒界は、少なくとも、上記のR-Ga-Co-Cu-N濃縮部を含む。R-Ga-Co-Cu-N濃縮部の他に、R14B結晶粒よりRの濃度が高いRリッチ相や、ホウ素(B)の濃度が高いBリッチ相などを含んでいてもよい。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、R-T-B系合金を用いて形成される焼結体であってもよい。
Rは、希土類元素の少なくとも1種を表す。希土類元素とは、長周期型周期表の第3族に属するScとYとランタノイド元素とのことをいう。ランタノイド元素には、例えば、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等が含まれる。希土類元素は、軽希土類および重希土類に分類され、重希土類元素とは、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luをいい、軽希土類元素は重希土類元素以外の希土類元素である。本実施形態においては、製造コストおよび磁気特性を好適に制御する観点から、RとしてNdおよび/またはPrを含んでもよい。また、特にHcJを向上させる観点から軽希土類元素と重希土類元素との両方を含んでもよい。重希土類元素の含有量には特に制限はなく、重希土類元素を含まなくてもよい。重希土類元素の含有量は例えば5質量%以下(0質量%を含む)である。
本実施形態では、Tは、FeおよびCoである。また、Bはホウ素である。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石におけるRの合計含有量は、29.0質量%以上33.5質量%以下である。Rの合計含有量が少なすぎる場合には、R-T-B系永久磁石の主相粒子の生成が十分ではない。このため、軟磁性を持つα-Feなどが析出し、HcJが低下する。また、Rの合計含有量が多すぎると、R-T-B系永久磁石の主相粒子の体積比率が減少し、Brが低下する。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石におけるBの含有量は、0.80質量%以上0.96質量%以下である。0.80質量%以上0.90質量%以下であってもよい。Bの含有量が少なすぎる場合には、HcJが低下する。さらに、焼結性が低下する。Bの含有量が多すぎる場合には、異常粒成長が発生しやすくなる。そして、Brおよび耐食性が低下する。
Tは、FeおよびCoである。本実施形態に係るR-T-B系永久磁石におけるCoの含有量は0.10質量%以上0.49質量%以下である。0.10質量%以上0.44質量%以下であってもよい。0.20質量%以上0.42質量%以下であってもよく、0.20質量%以上0.39質量%以下であってもよい。Coの含有量が少なすぎる場合には、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部が形成しにくくなり、耐食性が低下する。Coの含有量が多すぎる場合には、BrおよびHcJが低下する。また、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石が高価となる傾向がある。
本実施形態のR-T-B系永久磁石はさらにMを含む。MはCu,Ga,Mn,ZrおよびAlから選択される2種以上であり、少なくともCuおよびGaを含む。Mの合計含有量には特に制限はなく、例えば0.63質量%以上4.00質量%以下である。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石におけるCuの含有量は0.51質量%以上0.97質量%以下である。0.53質量%以上0.97質量%以下であってもよい。0.55質量%以上0.80質量%以下であってもよい。Cuを十分に含むことで、Coの含有量が0.49質量%以下であってもR-Ga-Co-Cu-N濃縮部が十分に形成される。Cuの含有量が少なすぎる場合には、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部が形成しにくくなり、耐食性が低下する。Cuの含有量が多すぎる場合には、Brが低下する。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石におけるGaの含有量は0.12質量%以上1.07質量%以下である。0.13質量%以上1.06質量%以下であってもよい。0.55質量%以上0.82質量%以下であってもよい。Gaを十分に含むことで、Coの含有量が0.49質量%以下であってもR-Ga-Co-Cu-N濃縮部が十分に形成される。Gaの含有量が少なすぎる場合には、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部が形成しにくくなり、耐食性が低下する。Gaの含有量が多すぎる場合には、Brが低下する。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は必要に応じてAlを含有してもよい。Alを含有することで、Coの含有量が0.49質量%以下であってもR-Ga-Co-Cu-N濃縮部が十分に形成されやすくなる。Alの含有量には特に制限はなく、Alを含まなくてもよい。Alの含有量は例えば0.08質量%以上0.41質量%以下である。0.10質量%以上0.19質量%以下であってもよい。Alの含有量が少ないほどHcJおよび耐食性が低下しやすくなる。Alの含有量が多いほどBrが低下しやすくなる。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は必要に応じてZrを含有してもよい。Zrを含有することで、粒界にZrB相が形成されやすくなる。ZrB相が形成されることで耐食性および焼結温度による特性安定性が向上する。Zrの含有量には特に制限はなくZrを含まなくてもよい。Zrの含有量は例えば、0.15質量%以上0.42質量%以下である。0.22質量%以上0.31質量%以下であってもよい。Zrの含有量が少ないほど耐食性および焼結性が低下しやすくなる。Zrの含有量が多いほどBrが低下しやすくなる。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は必要に応じてMnを含有してもよい。Mnを含有することで、Coの含有量が0.49質量%以下であってもR-Ga-Co-Cu-N濃縮部が十分に形成されやすくなる。Mnの含有量には特に制限はなく、Mnを含まなくてもよい。Mnの含有量は例えば、0.02質量%以上0.08質量%以下である。0.03質量%以上0.05質量%以下であってもよい。Mnの含有量が少ないほど耐食性が低下しやすくなる。Mnの含有量が多いほどBrおよびHcJが低下しやすくなる。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石におけるCo,CuおよびAlの合計含有量は1.00質量%以上であってもよい。Co,CuおよびAlの合計含有量を1.00質量%以上とすることで耐食性が向上しやすくなる。Co,CuおよびAlの合計含有量に上限はないが、例えば2.00質量%以下である。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石におけるCoおよびMnの合計含有量は0.40質量%以上であってもよい。CoおよびMnの合計含有量を0.40質量%以上とすることで耐食性が向上しやすくなる。CoおよびMnの合計含有量に上限はないが、例えば1.00質量%以下である。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、CおよびNを含む。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石においては、炭素量は、0.065質量%以上0.200質量%以下である。0.073質量%以上0.202質量%以下であってもよく、0.076質量%以上0.105質量%以下であってもよい。炭素量が上記の範囲内であることにより、粒界にFeリッチ相が適量、形成されやすくなる。Feリッチ相とは、主相粒子内よりもFeの濃度が高くLaCo11Ga型の結晶構造を持つ相のことである。炭素量が少なすぎる場合には焼結性が低下し、HcJおよび耐食性が低下する。炭素量が多すぎる場合には、HcJおよび耐食性が低下する。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石においては、窒素量は、0.023質量%以上0.323質量%以下である。0.035質量%以上0.096質量%以下であってもよい。窒素量が上記の範囲内であることにより、粒界にR-Ga-Co-Cu-N濃縮部が形成されやすくなる。窒素量が少なすぎる場合には、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部が形成しにくくなり、耐食性が低下する。窒素量が多すぎる場合には、HcJが低下する。R-T-B系永久磁石中の窒素の添加方法は、特に限定されないが、たとえば後述するように、所定濃度の窒素ガス雰囲気下で原料合金を熱処理することにより導入しても良い。あるいは粉砕助剤として、例えば尿素などの窒素を含む助剤などを用いてもよい。その他、原料合金の処理剤として窒素を含む化合物を用いることで、R-T-B系永久磁石中の粒界に窒素を導入してもよい。
R-T-B系永久磁石中の炭素量、窒素量の測定方法は、一般的に知られている方法を用いることができる。炭素量は、例えば、酸素気流中燃焼-赤外線吸収法により測定され、窒素量は、例えば、不活性ガス融解-熱伝導度法により測定される。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石におけるFeの含有量は、R-T-B系永久磁石の構成要素における実質的な残部である。Feの含有量が実質的な残部であるとは、具体的には、上述した元素、すなわちR,T,B,M,C,N以外の元素の合計含有量が1質量%以下である場合を指す。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石では、粒界中に、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部が形成されていてもよい。R-Ga-Co-Cu-N濃縮部が形成されないR-T-B系永久磁石では、使用環境における水蒸気などによる水に起因した腐食反応で発生する水素の粒界への吸蔵を十分に抑制しにくくなり、R-T-B系永久磁石の耐食性が低下しやすくなる。
本実施形態では、粒界中に、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部が形成されることで、使用環境における水蒸気などによる水がR-T-B系永久磁石内に侵入してR-T-B系永久磁石中のRと反応して発生した水素が粒界全体に吸蔵されるのを効果的に抑制できる。R-T-B系永久磁石の腐食が内部に進行することを抑制することができると共に、良好な磁気特性を有することができる。
R-T-B系永久磁石の腐食は、使用環境下の水蒸気などによる水とR-T-B系永久磁石中のRとによる腐食反応で発生する水素が、R-T-B系永久磁石中の粒界に存在するRリッチ相に吸蔵されることにより進行する。この結果、R-T-B系永久磁石の腐食が加速度的にR-T-B系永久磁石の内部に進行していく。
すなわち、R-T-B系永久磁石の腐食は、以下のようなプロセスで進行すると考えられる。まず、粒界に存在するRリッチ相は酸化されやすいことから、粒界に存在するRリッチ相のRが使用環境下の水蒸気などによる水により酸化されてRは腐食され、水酸化物に変わり、その過程で水素を発生する。
2R + 6HO → 2R(OH)+3H ・・・(I)
次に、この発生した水素が、腐食されていないRリッチ相に吸蔵される。
2R + xH → 2RHx ・・・(II)
そして、水素吸蔵することでRリッチ相がより腐食され易くなると共に、水素吸蔵されたRリッチ相と水とによる腐食反応により、Rリッチ相に吸蔵された量以上の水素を発生する。
2RH + 6HO → 2R(OH)+ (3+x)H…(III)
上記(I)~(III)の連鎖反応によりR-T-B系永久磁石の腐食がR-T-B系永久磁石の内部に進行していき、Rリッチ相がR水酸化物、R水素化物に変化していく。この変化に伴う体積膨張によって応力が蓄積され、R-T-B系永久磁石の主相粒子の脱落に至る。そして、主相粒子の脱落によって、R-T-B系永久磁石の新生面が現れ、R-T-B系永久磁石の腐食はさらにR-T-B系永久磁石の内部に進行していく。
そこで、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、粒界、特に多粒子粒界に、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部を有しやすい。R-Ga-Co-Cu-N濃縮部は、水素を吸蔵しにくいため、腐食反応により発生する水素が内部のRリッチ相へ吸蔵されていくことを防ぐことができ、上記のプロセスによる腐食の内部への進行を抑制できる。また、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部はRリッチ相と比較して酸化され難いため、腐食による水素発生自体も抑制することができる。そのため、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石によれば、R-T-B系永久磁石の耐食性を大幅に向上することができる。また、本実施形態では、粒界中にRリッチ相が存在していてもよい。粒界中にRリッチ相が存在していてもR-Ga-Co-Cu-N濃縮部を有することによって内部のRリッチ相へ水素が吸蔵されていくことを効果的に防ぐことができるため、十分耐食性を向上することが可能である。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石では、粒界のR-Ga-Co-Cu-N濃縮部は、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部におけるNの原子数が、R、Fe、Ga、Co、Cu、Nの原子数の和に対して1~13%であってもよい。このような比率でNを含むR-Ga-Co-Cu-N濃縮部が存在することにより、水とR-T-B系永久磁石中のRとによる腐食反応により発生する水素が内部のRリッチ相へ吸蔵されていくことを効果的に抑制し、R-T-B系永久磁石の腐食の内部への進行を抑制することができると共に、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は良好な磁気特性を有することができる。
また、R-Ga-Co-Cu-N濃縮部におけるGaの原子数は、R、Fe、Ga、Co、Cu、Nの原子数の和に対して7~16%、Coの原子数は、R、Fe、Ga、Co、Cu、Nの原子数の和に対して1~9%、Cuの原子数は、R、Fe、Ga、Co、Cu、Nの原子数の和に対して4~8%、であってもよい。このような比率で各元素を含むR-Ga-Co-Cu-N濃縮部が存在することにより、水とR-T-B系永久磁石中のRとによる腐食反応により発生する水素が内部のRリッチ相へ吸蔵されていくことを効果的に抑制しやすくなる。R-T-B系永久磁石の腐食の内部への進行を抑制することができると共に、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石はさらに良好な磁気特性を有すやすくなる。
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、一般的には任意の形状に加工されて使用される。本実施形態に係るR-T-B系永久磁石の形状は特に限定されるものではなく、例えば、直方体、六面体、平板状、四角柱などの柱状、R-T-B系永久磁石の断面形状がC型の円筒状等の任意の形状とすることができる。四角柱としては、たとえば、底面が長方形の四角柱、底面が正方形の四角柱であってもよい。
また、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石には、当該磁石を加工して着磁した磁石製品と、当該磁石を着磁していない磁石製品との両方が含まれる。
<R-T-B系永久磁石の製造方法>
上述したような構成を有する本実施形態に係るR-T-B系永久磁石を製造する方法の一例について説明する。本実施形態に係るR-T-B系永久磁石(R-T-B系焼結磁石)を製造する方法は、以下の工程を有する。
(a)原料合金を準備する合金準備工程
(b)原料合金を粉砕する粉砕工程
(c)得られた合金粉末を成形する成形工程
(d)成形体を焼結し、R-T-B系永久磁石を得る焼結工程
(e)R-T-B系永久磁石を時効処理する時効処理工程
(f)R-T-B系永久磁石を冷却する冷却工程
(g)R-T-B系永久磁石を加工する加工工程
(h)R-T-B系永久磁石の粒界に重希土類元素を拡散させる粒界拡散工程
(i)R-T-B系永久磁石に表面処理する表面処理工程
[合金準備工程]
本実施形態に係るR-T-B系永久磁石の元となる組成の原料合金を準備する(合金準備工程)。合金準備工程では、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石の組成に対応する原料金属を、真空またはArガスなどの不活性ガス雰囲気中で溶解する。その後、溶解した原料金属を用いて鋳造を行うことによって所望の組成を有する原料合金を作製する。なお、本実施形態では、1合金法について説明するが、第1合金と第2合金との2合金を混合して原料粉末を作製する2合金法でもよい。
原料金属としては、例えば、希土類金属あるいは希土類合金、純鉄、フェロボロン、さらにはこれらの合金や化合物等を使用することができる。原料金属を鋳造する鋳造方法は、例えばインゴット鋳造法やストリップキャスト法やブックモールド法や遠心鋳造法などである。得られた原料合金は、凝固偏析がある場合は必要に応じて均質化処理を行う。原料合金の均質化処理を行う際は、真空または不活性ガス雰囲気の下、700℃以上1500℃以下の温度で1時間以上保持して行う。これにより、原料合金は融解されて均質化される。
[粉砕工程]
原料合金を作製した後、原料合金を粉砕する(粉砕工程)。粉砕工程は、粒径が数百μm~数mm程度になるまで粉砕する粗粉砕工程と、粒径が数μm程度になるまで微粉砕する微粉砕工程とがある。
(粗粉砕工程)
原料合金を粒径が数百μm~数mm程度になるまで粗粉砕する(粗粉砕工程)。これにより、原料合金の粗粉砕粉末を得る。粗粉砕は、例えば原料合金に水素を吸蔵させた後、異なる相間の水素吸蔵量の相違に基づいて水素を放出させ、脱水素を行なうことで自己崩壊的な粉砕を生じさせる(水素吸蔵粉砕)ことによって行うことができる。
R-Ga-Co-Cu-N濃縮部を形成する場合に必要な窒素の添加量は、水素吸蔵粉砕において、脱水素処理時の雰囲気の窒素ガス濃度を調節することにより、制御することができる。最適な窒素ガス濃度は原料合金の組成等により変化するが、300ppm以上であってもよい。
なお、粗粉砕工程は、上記のように水素吸蔵粉砕を用いる以外に、不活性ガス雰囲気中にて、スタンプミル、ジョークラッシャー、ブラウンミル等の粗粉砕機を用いて行うようにしてもよい。
また、高い磁気特性を得るために、粉砕工程から後述する焼結工程までの各工程の雰囲気は、低酸素濃度としてもよい。酸素濃度は、各製造工程における雰囲気の制御等により調節される。各製造工程の酸素濃度が高いと原料合金を粉砕して得られる合金粉末中の希土類元素が酸化してR酸化物が生成されてしまう。R酸化物は、焼結中に還元されず、R酸化物の形でそのまま粒界に析出する。その結果、得られるR-T-B系永久磁石のBrが低下する。そのため、例えば、各工程の酸素の濃度を100ppm以下としてもよい。
(微粉砕工程)
原料合金を粗粉砕した後、得られた原料合金の粗粉砕粉末を平均粒子径が数μm程度になるまで微粉砕する(微粉砕工程)。これにより、原料合金の微粉砕粉末を得る。粗粉砕した粉末を更に微粉砕することで、例えば1μm以上10μm以下、または3μm以上5μm以下の粒子を有する微粉砕粉末を得ることができる。
微粉砕は、粉砕時間等の条件を適宜調整しながら、ジェットミル、ボールミル、振動ミル、湿式アトライター等の微粉砕機を用いて粗粉砕した粉末の更なる粉砕を行なうことで実施される。ジェットミルは、高圧の不活性ガス(たとえば、Nガス)を狭いノズルより開放して高速のガス流を発生させ、この高速のガス流により原料合金の粗粉砕粉末を加速して原料合金の粗粉砕粉末同士の衝突やターゲットまたは容器壁との衝突を発生させて粉砕する方法である。
原料合金の粗粉砕粉末を微粉砕する際、ステアリン酸亜鉛、尿素、オレイン酸アミド等の粉砕助剤を添加することにより、成形時に配向性の高い微粉砕粉末を得ることができる。また、粉砕助剤の添加量を制御することで、最終的に得られるR-T-B系永久磁石におけるCの含有量、Nの含有量などを制御することができる。
[成形工程]
微粉砕粉末を目的の形状に成形する(成形工程)。成形工程では、微粉砕粉末を、電磁石に抱かれた金型内に充填して加圧することによって、微粉砕粉末を任意の形状に成形する。このとき、磁場を印加しながら行い、磁場印加によって微粉砕粉末に所定の配向を生じさせ、結晶軸を配向させた状態で磁場中成形する。これにより成形体が得られる。得られる成形体は、特定方向に配向するので、より磁性の強い異方性を有するR-T-B系永久磁石が得られる。
成形時の加圧は、30MPa~300MPaで行ってもよい。印加する磁場は、950kA/m~1600kA/mであってもよい。印加する磁場は静磁場に限定されず、パルス状磁場とすることもできる。また、静磁場とパルス状磁場とを併用することもできる。
なお、成形方法としては、上記のように微粉砕粉末をそのまま成形する乾式成形のほか、微粉砕粉末を油等の溶媒に分散させたスラリーを成形する湿式成形を適用することもできる。
微粉砕粉末を成形して得られる成形体の形状は特に限定されるものではなく、例えば直方体、平板状、柱状、リング状等、所望とするR-T-B系永久磁石の形状に応じて任意の形状とすることができる。
[焼結工程]
磁場中で成形し、目的の形状に成形して得られた成形体を真空または不活性ガス雰囲気中で焼結し、R-T-B系永久磁石を得る(焼結工程)。焼結温度は、組成、粉砕方法、粒度と粒度分布の違い等、諸条件により調整する必要がある。成形体に対して、例えば、真空中または不活性ガスの存在下、1000℃以上1200℃以下で1時間以上48時間以下、加熱することにより焼結する。これにより、微粉砕粉末が液相焼結を生じ、主相粒子の体積比率が向上したR-T-B系永久磁石(R-T-B系磁石の焼結体)が得られる。成形体を焼結して焼結体を得た後は、生産効率を向上させる観点から焼結体を急冷してもよい。
[時効処理工程]
成形体を焼結した後、R-T-B系永久磁石を時効処理する(時効処理工程)。焼結後、得られたR-T-B系永久磁石を焼結時よりも低い温度で保持することなどによって、R-T-B系永久磁石に時効処理を施す。時効処理は、例えば、700℃以上1000℃以下の温度で10分から6時間、更に500℃から700℃の温度で10分から6時間加熱する2段階加熱や、600℃付近の温度で10分から6時間加熱する1段階加熱等、時効処理を施す回数に応じて適宜処理条件を調整する。このような時効処理によって、R-T-B系永久磁石の磁気特性を向上させることができる。また、時効処理工程は後述する加工工程の後に行ってもよい。
[冷却工程]
R-T-B系永久磁石に時効処理を施した後、R-T-B系永久磁石はArガス雰囲気中で急冷を行う(冷却工程)。これにより、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石を得ることができる。冷却速度は、特に限定されるものではなく、30℃/min以上としてもよい。
[加工工程]
得られたR-T-B系永久磁石は、必要に応じて所望の形状に加工してもよい(加工工程)。加工方法は、例えば切断、研削などの形状加工や、バレル研磨などの面取り加工などが挙げられる。
[粒界拡散工程]
加工されたR-T-B系永久磁石の粒界に対して、さらに重希土類元素を拡散させてもよい(粒界拡散工程)。粒界拡散の方法には特に制限はない。例えば、塗布または蒸着等により重希土類元素を含む化合物をR-T-B系永久磁石の表面に付着させた後に熱処理を行うことで実施してもよい。また、重希土類元素の蒸気を含む雰囲気中でR-T-B系永久磁石に対して熱処理を行うことで実施してもよい。粒界拡散により、R-T-B系永久磁石のHcJをさらに向上させることができる。
[表面処理工程]
以上の工程により得られたR-T-B系永久磁石は、めっきや樹脂被膜や酸化処理、化成処理などの表面処理を施してもよい(表面処理工程)。これにより、耐食性をさらに向上させることができる。
なお、本実施形態では、加工工程、粒界拡散工程、表面処理工程を行っているが、これらの工程は必ずしも行う必要はない。
以上のようにして得られる本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、優れた耐食性を有すると共に、良好な磁気特性を有する。
このようにして得られる本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、モータなど回転機用の磁石に用いた場合、耐食性が高いため長期に渡って使用することができ、信頼性の高いR-T-B系永久磁石を得ることができる。本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、例えば、ロータ表面に磁石を取り付けた表面磁石型(Surface Permanent Magnet:SPM)回転機、インナーロータ型のブラシレスモータのような内部磁石埋込型(Interior Permanent Magnet:IPM)回転機、PRM(Permanent magnet Reluctance Motor)などの磁石として好適に用いられる。具体的には、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は、ハードディスクドライブのハードディスク回転駆動用スピンドルモータやボイスコイルモータ、電気自動車やハイブリッドカー用モータ、自動車の電動パワーステアリング用モータ、工作機械のサーボモータ、携帯電話のバイブレータ用モータ、プリンタ用モータ、発電機用モータ等の用途として好適に用いられる。
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。
R-T-B系永久磁石の製造方法は上記の方法に制限されず、適宜変更してもよい。例えば、本実施形態に係るR-T-B系永久磁石は熱間加工によって製造されていてもよい。熱間加工によってR-T-B系永久磁石を製造する方法は、以下の工程を有する。
(a)原料金属を溶解し、得られた浴湯を急冷して薄帯を得る溶解急冷工程
(b)薄帯を粉砕してフレーク状の原料粉末を得る粉砕工程
(c)粉砕した原料粉末を冷間成形する冷間成形工程
(d)冷間成形体を予備加熱する予備加熱工程
(e)予備加熱した冷間成形体を熱間成形する熱間成形工程
(f)熱間成形体を所定の形状に塑性変形させる熱間塑性加工工程。
(g)R-T-B系永久磁石を時効処理する時効処理工程
以下、実施例により発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
まず、表1~表9に示す磁石組成を有する永久磁石が得られるように、ストリップキャスティング法により原料合金を準備した。なお、表1~表9に示す各元素の含有量の単位は質量%である。
次いで、原料合金に対して室温で水素を吸蔵させた後、Ar雰囲気下で600℃、1時間の脱水素を行う水素粉砕処理(粗粉砕)を行い、合金粉末を得た。
なお、本実施例では、この水素粉砕処理から焼結までの各工程(微粉砕および成形)を、50ppm未満の酸素濃度のAr雰囲気下で行った。
次に、合金粉末に対して、粉砕助剤として、ステアリン酸亜鉛および尿素を添加し、ナウタミキサを用いて混合した。ステアリン酸亜鉛((C1835Zn)および尿素(CHO)の添加量は、最終的に得られるR-T-B系永久磁石における炭素の含有量および窒素の含有量が表1~表9に示す値となるように適宜制御した。その後、ジェットミルを用いて微粉砕を行い、平均粒径が3.0μm程度の微粉砕粉末とした。
得られた微粉砕粉末を、電磁石中に配置された金型内に充填し、1200kA/mの磁場を印加しながら120MPaの圧力を加える磁場中成形を行い、成形体を得た。
その後、得られた成形体を、真空中1040℃で8時間保持して焼結した後、急冷して、表1~表9に示す磁石組成を有する焼結体を得た。そして、得られた焼結体に対して、900℃で1時間、および、500℃で2時間(ともにAr雰囲気下)の2段階の時効処理を施し、R-T-B系永久磁石を得た。
<評価>
[組成分析]
各実施例および比較例のR-T-B系永久磁石について、蛍光X線分析法、誘導結合プラズマ質量分析法(ICP法)、およびガス分析により組成分析した。炭素濃度は、酸素気流中燃焼-赤外線吸収法により測定した。窒素濃度は、不活性ガス融解-熱伝導度法により測定した。その結果、いずれのR-T-B系永久磁石の組成も表1~表9に示す磁石組成となっていることが確認できた。
[磁気特性]
各実施例および比較例のR-T-B系永久磁石の磁気特性をB-Hトレーサーを用いて測定した。磁気特性として、BrとHcJとを測定した。結果を表1~表9に示す。なお、Brは1360mT以上を良好とし、1370mT以上をさらに良好とした。HcJは1560kA/m以上を良好とし、1600kA/m以上をさらに良好とした。
[耐食性]
各実施例および比較例のR-T-B系永久磁石を、15mm×10mm×2mmの板状に加工した。この板状に加工した磁石を120℃、2気圧、相対湿度100%の飽和水蒸気雰囲気中に200時間放置し、腐食による重量減少量を評価した。結果を表1~表9に示す。なお、重量減少量が10.0mg/cm以下である場合を耐食性が良好であるとし、6.0mg/cm以下である場合を耐食性がさらに良好であるとした。
Figure 0007293772000001
Figure 0007293772000002
Figure 0007293772000003
Figure 0007293772000004
Figure 0007293772000005
Figure 0007293772000006
Figure 0007293772000007
Figure 0007293772000008
Figure 0007293772000009
表1~表9に示されるように、全ての成分の含有量が特定の範囲内である各実施例はBrおよびHcJが良好であり、耐食性も良好であった。
これに対し、いずれかの成分の含有量が特定の範囲外である比較例はBr,HcJおよび/または耐食性が悪化した。

Claims (6)

  1. Rは1種以上の希土類元素、TはFeおよびCo、Bはホウ素であるR-T-B系永久磁石であって、
    M,CおよびNを含有し、
    MはCu,Ga,Mn,ZrおよびAlから選択される2種以上であり、少なくともCu,GaおよびMnを含有し、
    前記R-T-B系永久磁石全体を100質量%として、
    Rの合計含有量が29.0質量%以上33.5質量%以下、
    Coの含有量が0.10質量%以上0.49質量%以下、
    Bの含有量が0.80質量%以上0.96質量%以下、
    Mの合計含有量が0.65質量%以上4.00質量%以下、
    Cuの含有量が0.51質量%以上0.97質量%以下、
    Gaの含有量が0.12質量%以上1.07質量%以下、
    Mnの含有量が0.02質量%以上0.05質量%以下、
    Cの含有量が0.065質量%以上0.200質量%以下、
    Nの含有量が0.023質量%以上0.323質量%以下であり、
    Feが実質的な残部であるR-T-B系永久磁石。
  2. Zrの含有量が0.15質量%以上0.42質量%以下である請求項に記載のR-T-B系永久磁石。
  3. Alの含有量が0.08質量%以上0.41質量%以下である請求項1または2に記載のR-T-B系永久磁石。
  4. Co,CuおよびAlの合計含有量が1.00質量%以上2.00質量%以下である請求項1~のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石。
  5. CoおよびMnの合計含有量が0.40質量%以上1.00質量%以下である請求項1~のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石。
  6. Zrの含有量が0.22質量%以上0.42質量%以下である請求項1~5のいずれかに記載のR-T-B系永久磁石。

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