JP7287637B2 - Liquid crystal panel manufacturing method - Google Patents

Liquid crystal panel manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP7287637B2
JP7287637B2 JP2018188731A JP2018188731A JP7287637B2 JP 7287637 B2 JP7287637 B2 JP 7287637B2 JP 2018188731 A JP2018188731 A JP 2018188731A JP 2018188731 A JP2018188731 A JP 2018188731A JP 7287637 B2 JP7287637 B2 JP 7287637B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal panel
panel
array substrate
groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018188731A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2020056958A (en
Inventor
達彦 田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSC Co Ltd
Original Assignee
NSC Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NSC Co Ltd filed Critical NSC Co Ltd
Priority to JP2018188731A priority Critical patent/JP7287637B2/en
Publication of JP2020056958A publication Critical patent/JP2020056958A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7287637B2 publication Critical patent/JP7287637B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Description

本発明は、一対のガラス基板が貼り合せられた液晶パネルに関し、特に、配線の簡略化や省スペース化を図ることが可能な液晶パネルに関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a liquid crystal panel in which a pair of glass substrates are bonded together, and more particularly to a liquid crystal panel capable of simplifying wiring and saving space.

一対のガラス基板が貼り合せられた液晶パネルは、それ自体では駆動しないため、駆動制御回路等の外部回路と接続され、動作が制御される。一般的に、液晶パネルと外部回路は、フレキシブルケーブルによって接続されている。液晶パネルへのフレキシブルケーブルの接続は、COG(チップオングラス)等の方式があり、より効率的な接続方法が開発されてきている。 Since the liquid crystal panel to which the pair of glass substrates are bonded is not driven by itself, it is connected to an external circuit such as a drive control circuit to control its operation. Generally, a liquid crystal panel and an external circuit are connected by a flexible cable. There are methods such as COG (chip-on-glass) for connecting a flexible cable to a liquid crystal panel, and more efficient connection methods are being developed.

しかし、依然としてフレキシブルケーブルが存在することによって薄型化および小型化を阻害することがあった。また、スマートフォン等の携帯用電子機器では、ディスプレイの狭額縁化も求められており、狭額縁化においてもフレキシブルケーブルや外部回路が問題になることがあった。 However, the presence of flexible cables still hinders thinning and miniaturization. Further, in mobile electronic devices such as smartphones, there is a demand for a narrower frame of the display, and even with the narrower frame, flexible cables and external circuits have sometimes become a problem.

そこで、表示領域から延出して設けられる端子部に貫通孔を形成することによって、表示パネルの端子と外部回路等を接続する表示パネルがあった(例えば、特許文献1参照)。貫通孔に導電性部材を充填することにより、フレキシブルケーブルを用いることなく、外部回路との接続が可能になるとされていた。 Therefore, there is a display panel in which through holes are formed in terminal portions extending from a display area to connect terminals of the display panel to an external circuit or the like (see, for example, Patent Document 1). By filling the through-hole with a conductive member, it is possible to connect to an external circuit without using a flexible cable.

特開2003-075859号公報JP 2003-075859 A

特許文献1における貫通孔の形成は、ドリルが使用されている。液晶パネルに使用されるガラス基板に対して、ドリルによる孔あけは、基板の破損につながるおそれが高い。特に、液晶パネルは、0.1~0.5mm程度に薄型化された基板が使用されており、このような基板に対して、ドリルで貫通孔を形成することは困難である。 A drill is used to form the through-holes in Patent Document 1. Drilling a glass substrate used for a liquid crystal panel has a high possibility of damaging the substrate. In particular, liquid crystal panels use thin substrates of about 0.1 to 0.5 mm, and it is difficult to drill through holes in such substrates.

また、薄型ガラス基板に対してレーザ照射により貫通孔を形成する方法も考えられるが、レーザの熱影響により貫通孔の周辺に悪影響を及ぼすおそれがある。つまり、レーザの照射領域の周辺部に形成されたメタル回路がレーザからの熱により溶融することで電極が破壊されたり、レーザアブレーションによるデブリが発生したりする。このような不具合が発生するため、基板に対して貫通孔を形成することは極めて困難である。 A method of forming through-holes in a thin glass substrate by irradiating a laser is also conceivable, but there is a possibility that the heat of the laser may adversely affect the periphery of the through-holes. In other words, the metal circuit formed in the periphery of the laser irradiation area is melted by the heat from the laser, thereby destroying the electrode or generating debris due to laser ablation. Due to such problems, it is extremely difficult to form a through hole in the substrate.

本発明の目的は、液晶パネルと外部回路をフレキシブルケーブル等の配線を使用せずに接続することが可能な液晶パネルを提供することである。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a liquid crystal panel that can be connected to an external circuit without using wiring such as a flexible cable.

本発明に係る液晶パネルは、端子部を有するアレイ基板および液晶層を挟んでアレイ基板と対向するように配置されたカラーフィルタ基板を少なくとも備える。端子部は、端面に沿って厚み方向に形成される溝部を有しており、溝部に沿って導電性部材が充填されている。 A liquid crystal panel according to the present invention includes at least an array substrate having a terminal portion and a color filter substrate arranged to face the array substrate with a liquid crystal layer interposed therebetween. The terminal portion has a groove formed in the thickness direction along the end face, and the conductive member is filled along the groove.

端子部に形成された導電性部材は、液晶パネルの回路に接続することで配線ケーブルと同様の機能を有することになる。また、溝部に導電性部材が充填されることにより、液晶パネルの寸法への影響も小さくなるので、狭額縁の液晶パネルを提供することが可能になる。さらに、溝部内に導電部が設けられることにより、導電部が欠損するといったおそれが軽減される。 The conductive member formed on the terminal portion has the same function as the wiring cable by connecting to the circuit of the liquid crystal panel. In addition, filling the grooves with the conductive member reduces the influence on the dimensions of the liquid crystal panel, so that it is possible to provide a liquid crystal panel with a narrow frame. Furthermore, since the conductive portion is provided in the groove, the risk of the conductive portion being damaged can be reduced.

また、本発明に係る液晶パネルは、端子部以外にも表示部に隣接する領域において溝部が形成されていても良い。この場合、溝部は、アレイ基板およびカラーフィルタ基板の少なくとも一方の端面で厚み方向に沿って形成されており、溝部に沿って導電性部材が充填される。通常、液晶パネルには、複数の制御回路が必要であるため、表示部の隣接領域にも溝部を形成することで、回路の配置をよりコンパクトにすることが可能になる。 Further, in the liquid crystal panel according to the present invention, a groove may be formed in an area adjacent to the display section in addition to the terminal section. In this case, the groove is formed along the thickness direction on at least one end surface of the array substrate and the color filter substrate, and the conductive member is filled along the groove. Since a liquid crystal panel usually requires a plurality of control circuits, it is possible to make the layout of the circuits more compact by forming the grooves in the area adjacent to the display section as well.

また、アレイ基板の表面に回路部が配置されており、回路部が導電性部材と電気的に接続されていることが好ましい。回路部をアレイ基板側に設けることにより、液晶パネルの更なる小型化を実現することが可能になる。 Moreover, it is preferable that the circuit portion is arranged on the surface of the array substrate and the circuit portion is electrically connected to the conductive member. By providing the circuit section on the array substrate side, it is possible to further reduce the size of the liquid crystal panel.

また、溝部は、厚み方向の全域にわたって貫通するように形成されていることが好ましい。厚み方向の全域に沿って溝部が形成されることにより、導電性部材の充填がより容易になる。 Moreover, it is preferable that the groove is formed so as to penetrate all the way in the thickness direction. Forming the groove along the entire thickness direction facilitates the filling of the conductive member.

この発明によれば、配線を使用せずに液晶パネルと外部回路を接続することが可能な液晶パネルを提供することが可能になる。 According to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal panel capable of connecting the liquid crystal panel and an external circuit without using wiring.

本発明の一実施形態に係る液晶パネルの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the liquid crystal panel which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態に係る液晶パネルの概略図である。4 is a schematic diagram of a liquid crystal panel according to another embodiment of the present invention; FIG. 複数の液晶パネルを含む多面取り用ガラス母材の概略構成を示す図である。1 is a diagram showing a schematic configuration of a multi-panel glass base material including a plurality of liquid crystal panels; FIG. 多面取り用ガラス母材に対するレーザ加工の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the laser processing with respect to the glass base material for multi-facets. 多面取り用ガラス母材に形成される改質ラインの概略を示す図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing modified lines formed in a glass base material for multi-panel production; 多面取り用ガラス母材への保護フィルムの貼付けとレーザ加工の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the affixing of the protective film to the glass base material for multi-panels, and laser processing. 本発明に適用されるエッチング装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the etching apparatus applied to this invention. 本発明に適用されるエッチング処理のバリエーションを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing variations of etching processes applied to the present invention; 多面取り用ガラス母材に形成される切断溝の概略を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an outline of cut grooves formed in a glass base material for multi-panel production; 保護フィルムの剥離工程と液晶パネルの分断工程の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the peeling process of a protective film, and the parting process of a liquid crystal panel. 溝部が形成された端面の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the end surface in which the groove part was formed.

図1(A)および図1(B)は、本発明の一実施形態に係る液晶パネル10の概略構成を示している。同図に示すように、液晶パネル10は、アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14が液晶層16を挟んで貼り合わされるように構成されている。アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14は、無アルカリガラス等のガラス基板が使用されている。アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14に形成される電極等の構成と同様の構成であるため、ここでは説明を省略する。 1A and 1B show a schematic configuration of a liquid crystal panel 10 according to one embodiment of the invention. As shown in the figure, the liquid crystal panel 10 is constructed such that an array substrate 12 and a color filter substrate 14 are bonded together with a liquid crystal layer 16 interposed therebetween. Glass substrates such as alkali-free glass are used for the array substrate 12 and the color filter substrate 14 . Since the configuration is the same as the configuration of the electrodes and the like formed on the array substrate 12 and the color filter substrate 14, description thereof is omitted here.

アレイ基板12は、カラーフィルタ基板14よりも延出した領域である電極端子部122を有している。電極端子部122は、カラーフィルタ基板14側の主面にメタル配線が形成されている。メタル配線は、液晶層16に対応する電極等と電気的に接続されている。 The array substrate 12 has electrode terminal portions 122 which are regions extending beyond the color filter substrate 14 . Metal wiring is formed on the main surface of the electrode terminal portion 122 on the color filter substrate 14 side. The metal wiring is electrically connected to electrodes and the like corresponding to the liquid crystal layer 16 .

アレイ基板12の主面には、回路部19が設けられている。回路部19は、外部からの信号を制御し、液晶パネル10に伝達するように構成される。回路部19は、公知の集積回路基板であり、端面電極22によって電極端子部122のメタル配線と電気的に接続されている。 A circuit section 19 is provided on the main surface of the array substrate 12 . The circuit unit 19 is configured to control signals from the outside and transmit them to the liquid crystal panel 10 . The circuit section 19 is a known integrated circuit board, and is electrically connected to the metal wiring of the electrode terminal section 122 by the end face electrodes 22 .

端面電極22は、電極端子部122の端面において、板厚方向に形成される導電性部材である。端面電極22の一例としては、銅ペーストを用いて形成することができる。端面電極22は、回路部19と接続するために、図1(B)に示すように、アレイ基板12の主面側にも一部形成されている。 The end surface electrode 22 is a conductive member formed in the thickness direction on the end surface of the electrode terminal portion 122 . As an example of the end surface electrode 22, it can be formed using a copper paste. The end surface electrodes 22 are also partially formed on the main surface side of the array substrate 12 as shown in FIG.

電極端子部122の端面において、端面電極22を形成するために、溝部24が形成される。溝部24は、アレイ基板12の端面において、板厚方向に沿って形成される。溝部24は、アレイ基板12の板厚方向の全域に形成された断面視半円状の凹部であり、凹部内に端面電極22となる銅ペーストが充填される。なお、銅ペーストの充填は、シリンジ等の塗布装置を使用することができる。溝部24の幅寸法は、表示部の解像度等によって決定されるが、10μm以下であれば良い。端面電極22は、溝部24の幅よりも広がることがないため、端面電極22のピッチが小さくなっても、隣接する端面電極22と接触することなく形成することができる。 A groove portion 24 is formed in the end face of the electrode terminal portion 122 to form the end face electrode 22 . The groove portion 24 is formed along the plate thickness direction on the end surface of the array substrate 12 . The groove portion 24 is a recess having a semicircular cross-sectional shape formed throughout the thickness direction of the array substrate 12 , and the recess is filled with a copper paste that will become the end surface electrode 22 . A coating device such as a syringe can be used to fill the copper paste. The width dimension of the groove portion 24 is determined by the resolution of the display portion, etc., and may be 10 μm or less. Since the edge electrodes 22 do not extend beyond the width of the grooves 24 , even if the pitch of the edge electrodes 22 is small, they can be formed without contacting adjacent edge electrodes 22 .

続いて、図2を用いて、本発明に係る液晶パネルの他の実施形態を説明する。図2は、本実施形態に係る液晶パネル100の構成を示す図である。液晶パネル100の構成は、図1(A)~図1(C)に示す液晶パネル10の構成と実質的に同一であるが、カラーフィルタ基板14の主面には、透明導電膜18が形成されている。透明性薄膜18は、公知のITO膜、金属ナノワイヤまたは有機導電膜等を使用することが可能である。透明性薄膜18は、例えばタッチ操作の検知や静電気放電(ESD)等の用途において形成される。 Next, another embodiment of the liquid crystal panel according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the liquid crystal panel 100 according to this embodiment. The configuration of the liquid crystal panel 100 is substantially the same as the configuration of the liquid crystal panel 10 shown in FIGS. It is A known ITO film, metal nanowires, organic conductive film, or the like can be used for the transparent thin film 18 . The transparent thin film 18 is formed for applications such as touch operation detection and electrostatic discharge (ESD), for example.

アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14の端部において、板厚方向に溝部24が形成されている。溝部24は、液晶層16が配置される画像表示部の周縁領域に形成され、アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14において、垂直方向に形成される。なお、本実施形態では、説明の便宜上、内部に端面電極22が形成されていない溝部24を記載している。 Grooves 24 are formed in the thickness direction at the ends of the array substrate 12 and the color filter substrate 14 . The grooves 24 are formed in the peripheral area of the image display section where the liquid crystal layer 16 is arranged, and are formed in the array substrate 12 and the color filter substrate 14 in the vertical direction. In addition, in this embodiment, for convenience of explanation, the groove portion 24 in which the end face electrode 22 is not formed is described.

溝部24内には、端面電極22が形成されている。端面電極22は、透明性薄膜18およびアレイ基板12の主面に設けられた回路部19を電気的に接続するように構成される。端面電極22は、上述のように溝部24に対して、銅ペーストを充填することによって形成することが可能である。 An edge electrode 22 is formed in the groove 24 . The edge electrode 22 is configured to electrically connect the transparent thin film 18 and the circuit portion 19 provided on the main surface of the array substrate 12 . The edge electrodes 22 can be formed by filling the grooves 24 with copper paste as described above.

端面電極22を形成することにより、フレキシブルケーブル等を使用することなく、液晶パネルの電極回路等と外部回路を接続することが可能になるため、ケーブルの取り回し等を考慮する必要がなくなり、液晶パネルの小型化および狭額縁化を図ることが可能になる。 By forming the end face electrodes 22, it is possible to connect the electrode circuits of the liquid crystal panel and the external circuit without using flexible cables, etc., so that it is not necessary to consider cable routing, etc., and the liquid crystal panel can be It is possible to reduce the size of the display and narrow the frame.

続いて、液晶パネル10を製造する方法の一例について説明する。図3(A)および図3(B)に示すように、一般的に、液晶パネル10は、これを複数含んだ多面取り用ガラス母材50として製造され、多面取り用ガラス母材50を分断することによって、単個の液晶パネル10が得られる。この実施形態では、便宜上、6つの液晶パネル10が3行2列のマトリクス状に配置された多面取り用ガラス母材50に対する処理について説明するが、多面取り用ガラス母材50に含まれる液晶パネル10の数は適宜増減することが可能である。また、多面取り用ガラス母材50の主面には、透明性薄膜18が形成されている。 Next, an example of a method for manufacturing the liquid crystal panel 10 will be described. As shown in FIGS. 3(A) and 3(B), the liquid crystal panel 10 is generally manufactured as a multi-panel glass base material 50 including a plurality of such panels, and the multi-panel glass base material 50 is divided. By doing so, a single liquid crystal panel 10 is obtained. In this embodiment, for the sake of convenience, the processing of the multi-panel glass base material 50 in which six liquid crystal panels 10 are arranged in a matrix of three rows and two columns will be described. The number of 10 can be increased or decreased as appropriate. A transparent thin film 18 is formed on the main surface of the multi-panel glass base material 50 .

多面取り用ガラス母材50から液晶パネル10を取り出すためには、まず、図4(A)および図4(B)に示すように、多面取り用ガラス母材50に対してレーザ光線を照射することで改質ライン20を形成する。この実施形態では、液晶パネル10の輪郭形状に対応する形状切断予定線において、透明性薄膜18が除去されつつ、改質ライン20が形成される。 In order to remove the liquid crystal panel 10 from the multi-panel glass base material 50, first, as shown in FIGS. 4A and 4B, the multi-panel glass base material 50 is irradiated with a laser beam. A reforming line 20 is thus formed. In this embodiment, the modified line 20 is formed while the transparent thin film 18 is being removed along the planned shape cutting line corresponding to the contour shape of the liquid crystal panel 10 .

また、液晶パネル10の形状切断予定線だけでなく、溝部24に対応する位置にも形成される凹状改質部201が形成される。凹状改質部201は、改質ライン20と同様にレーザ光線の照射で形成することが可能であり、形状切断予定線と連続するように、透明性薄膜18が除去されつつ、アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14において形成される。なお、本実施形態では、表示部に隣接する領域に溝部24を形成するために、アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14に凹状改質部201を形成しているが、電極端子部122の端面に溝部24を形成する場合は、アレイ基板12のみに凹状改質部201を形成すれば良い。 In addition, concave modified portions 201 are formed at positions corresponding to the grooves 24 as well as along the intended shape cutting lines of the liquid crystal panel 10 . The concave modified portion 201 can be formed by irradiating a laser beam in the same manner as the modified line 20. The transparent thin film 18 is removed so as to be continuous with the planned shape cutting line, and the array substrate 12 and the array substrate 12 are formed. It is formed on the color filter substrate 14 . In this embodiment, the concave modified portions 201 are formed in the array substrate 12 and the color filter substrate 14 in order to form the groove portions 24 in the regions adjacent to the display portion. When forming the groove portion 24 , the concave modified portion 201 may be formed only on the array substrate 12 .

改質ライン20(以下、特に記載がなければ、改質ライン20に凹状改質部201も含むものとする)は、例えば、ピコ秒レーザまたはフェムト秒レーザ等のパルスレーザから照射される光ビームパルス(ビーム径は1~5μm程度)によって形成される複数のフィラメント層を配列したフィラメントアレイである。この実施形態では、改質ライン20は、図5(A)に示すような、複数の貫通孔または亀裂が板厚方向に形成される。改質ライン20は、多面取り用ガラス母材50における他の箇所よりもエッチングされ易い性質を有している。もちろん、改質ライン20の形状は、このような形状には限定されるものではなく、エッチングされ易い性状を有するものであれば良い。 The modified line 20 (hereinafter, unless otherwise specified, the modified line 20 includes the concave modified portion 201) is, for example, a light beam pulse ( It is a filament array in which a plurality of filament layers formed by a beam diameter of about 1 to 5 μm are arranged. In this embodiment, the reforming line 20 has a plurality of through holes or cracks formed in the plate thickness direction as shown in FIG. 5(A). The reforming line 20 has a property of being etched more easily than other portions of the multi-panel glass base material 50 . Of course, the shape of the reforming line 20 is not limited to such a shape, and any shape that is easy to etch may be used.

ピコレーザからの光ビームは、少なくともアレイ基板12およびカラーフィルタ基板14の両方の基板を含む範囲よりも深い焦点深度を備えている。このため、アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14の両方の基板において液晶パネル10を分断するための改質ライン20が同時に形成される。原則として、アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14の両方の基板を同時に1つのレーザによって処理することが可能であるが、これによって液晶層16に不具合が生じる場合には、アレイ基板12側からアレイ基板12のみに改質ライン20を形成した後に、カラーフィルタ基板14側からカラーフィルタ基板14のみに改質ライン20を形成するようにすれば良い(図5(B)および図5(C)参照)。このような処理を行うことで、レーザの走査工数が増加してしまうが、液晶層16における不具合の発生を抑制し易くなる。また、アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14の板厚方向の全域に沿って改質ライン20を形成した方が分割処理を容易に行うことができるが、液晶パネル10に不具合が生じる場合は、改質ライン20の形成領域を適宜調整することも可能である。 The light beam from the pico laser has a depth of focus greater than the range that includes at least both the array substrate 12 and the color filter substrate 14 . Therefore, the modified lines 20 for dividing the liquid crystal panel 10 are simultaneously formed on both the array substrate 12 and the color filter substrate 14 . In principle, both the array substrate 12 and the color filter substrate 14 can be processed by one laser at the same time. After forming the modified lines 20 only on the substrate 12, the modified lines 20 may be formed only on the color filter substrate 14 from the side of the color filter substrate 14 (see FIGS. 5B and 5C). . By performing such processing, the number of man-hours required for laser scanning is increased, but the occurrence of problems in the liquid crystal layer 16 can be easily suppressed. Forming the modification lines 20 along the entire thickness direction of the array substrate 12 and the color filter substrate 14 facilitates the dividing process. It is also possible to appropriately adjust the formation area of the quality line 20 .

図6(A)に示すように、改質ライン20を形成した後に、多面取り用ガラス母材50の両主面を保護フィルム26で被覆する。保護フィルム26は、少なくとも後述のエッチング液に対する耐性を有しており、多面取り用ガラス母材50および透明性薄膜18を保護する役割を果たす。ここでは、保護フィルム26として、厚みが50~75μmのポリエチレンを採用している。ただし、保護フィルム26の構成はこれには限定されない。例えば、ポリプロピレンやポリ塩化ビニルやオレフィン系樹脂等のように、ガラスをエッチングするエッチング液に対する耐性を備えたものであれば適宜選択して採用することも可能である。 As shown in FIG. 6A, after forming the modified lines 20, both main surfaces of the multi-panel glass base material 50 are covered with protective films 26. As shown in FIG. The protective film 26 has resistance to at least an etchant, which will be described later, and serves to protect the multi-panel glass base material 50 and the transparent thin film 18 . Here, polyethylene having a thickness of 50 to 75 μm is used as the protective film 26 . However, the configuration of the protective film 26 is not limited to this. For example, materials such as polypropylene, polyvinyl chloride, and olefin-based resins, which are resistant to an etchant used to etch glass, can be appropriately selected and employed.

保護フィルム26の貼付が完了すると、続いて、図6(B)に示すように、改質ライン20が形成された領域に沿って保護フィルム26に対するレーザビームの走査が行われる。このレーザビームの走査によって、改質ライン20が形成された領域において保護フィルム26が除去される。そして、保護フィルム26の開口部が形成されることになり、その結果、図6(C)に示すように、多面取り用ガラス母材50の改質ライン20の形成位置が外部に露出することになる。 When the attachment of the protective film 26 is completed, subsequently, the protective film 26 is scanned with a laser beam along the area where the modified line 20 is formed, as shown in FIG. 6(B). The scanning of this laser beam removes the protective film 26 in the region where the modified line 20 is formed. Then, an opening is formed in the protective film 26, and as a result, as shown in FIG. become.

なお、本実施形態では、改質ライン20を形成した後に、保護フィルム26の貼付とパターニングを行っているが、本発明は、この順序に限定されるものではない。例えば、保護フィルム26を多面取り用ガラス母材50に貼り付けた後に、保護フィルム26のパターニングを改質ライン20の形成と同時に行っても良い。この場合、保護フィルム26を除去しつつ、曲線領域においてガラス基板を十分に改質できるように、レーザビームの出力や焦点距離等を調整する必要がある。 In this embodiment, the protective film 26 is adhered and patterned after the modified lines 20 are formed, but the present invention is not limited to this order. For example, patterning of the protective film 26 may be performed simultaneously with formation of the modified lines 20 after the protective film 26 is attached to the multi-panel glass base material 50 . In this case, it is necessary to adjust the power, focal length, etc. of the laser beam so that the glass substrate can be sufficiently reformed in the curved area while removing the protective film 26 .

保護フィルム26へのレーザ走査が終わると、図7に示すように、多面取り用ガラス母材50は、エッチング装置300に導入され、フッ酸および塩酸等を含むエッチング液によってエッチング処理が施される。エッチング装置300では、搬送ローラによって多面取り用ガラス母材50を搬送しつつ、エッチングチャンバ内で多面取り用ガラス母材50の片面または両面にエッチング液を接触させることによって、多面取り用ガラス母材50に対するエッチング処理が行われる。なお、エッチング装置300におけるエッチングチャンバの後段には、多面取り用ガラス母材50に付着したエッチング液を洗い流すための洗浄チャンバが設けられているため、多面取り用ガラス母材50はエッチング液が取り除かれた状態でエッチング装置300から排出される。 After the protective film 26 has been scanned with the laser, as shown in FIG. 7, the multi-panel glass base material 50 is introduced into an etching apparatus 300 and etched with an etchant containing hydrofluoric acid, hydrochloric acid, or the like. . In the etching apparatus 300, the multi-panel glass base material 50 is conveyed by the carrying rollers, and the etching liquid is brought into contact with one or both surfaces of the multi-panel glass base material 50 in the etching chamber. An etching process for 50 is performed. A cleaning chamber for washing away the etchant adhering to the multi-panel glass base material 50 is provided in the subsequent stage of the etching chamber in the etching apparatus 300. It is discharged from the etching apparatus 300 in a state where it is detached.

多面取り用ガラス母材50にエッチング液を接触させる手法の一例として、図8(A)に示すように、エッチング装置300の各エッチングチャンバ302において、多面取り用ガラス母材50に対してエッチング液をスプレイするスプレイエッチングが挙げられる。また、スプレイエッチングに代えて、図8(B)に示すように、オーバーフロー型のエッチングチャンバ304において、オーバーフローしたエッチング液に接触しながら多面取り用ガラス母材50が搬送される構成を採用することも可能である。 As an example of a method of bringing the etchant into contact with the multi-panel glass base material 50, as shown in FIG. and spray etching. Alternatively, instead of spray etching, as shown in FIG. 8B, in an overflow type etching chamber 304, a configuration may be employed in which the multi-panel glass base material 50 is conveyed while being in contact with the overflowing etchant. is also possible.

さらには、図8(C)に示すように、エッチング液が収納されたエッチング槽306に、キャリアに収納された単数または複数の多面取り用ガラス母材50を浸漬させるディップ式のエッチングを採用することも可能である。 Further, as shown in FIG. 8(C), dip etching is employed in which one or a plurality of multi-panel glass preforms 50 housed in a carrier are immersed in an etching tank 306 containing an etchant. is also possible.

いずれの場合であっても、エッチング処理中に、改質ライン20が形成された領域が厚み方向に貫通して、多面取り用ガラス母材50が分断してしまわないようにすることが重要である。エッチング処理中において改質ライン20の一部がアレイ基板12またはカラーフィルタ基板14を貫通してしまうと、エッチング液が液晶パネル10の内部に侵入してしまう。このため、エッチング処理中(特にエッチング処理の後半部分)においては、エッチングレートを遅くして、エッチング量を正確に制御する必要がある。この実施形態では、2重量%以下の薄いフッ酸によって、10μm/分以下の遅い速度にてエッチング処理が進行するようにしているが、この手法に限定されるものではない。 In any case, it is important to prevent the regions in which the modified lines 20 are formed from penetrating in the thickness direction during the etching process, so that the multi-panel glass base material 50 is not divided. be. If part of the modified line 20 penetrates the array substrate 12 or the color filter substrate 14 during the etching process, the etchant will enter the inside of the liquid crystal panel 10 . Therefore, during the etching process (particularly in the latter half of the etching process), it is necessary to slow down the etching rate and accurately control the etching amount. In this embodiment, thin hydrofluoric acid of 2% by weight or less is used to progress the etching process at a slow speed of 10 μm/min or less, but the method is not limited to this method.

エッチング処理の全体においてエッチングレートを遅くするのではなく、当初は速めのエッチングレートを採用しつつ段階的に遅くしていくようにすれば、エッチング処理の時間を短縮することが可能である。例えば、エッチング装置300の後段に進むにつれてエッチング液におけるフッ酸濃度を1~10重量%程度の範囲内で順次低下させるような構成を採用すると良い。 Rather than slowing down the etching rate throughout the etching process, it is possible to shorten the etching process time by adopting a faster etching rate at first and slowing it down step by step. For example, it is preferable to employ a configuration in which the concentration of hydrofluoric acid in the etching solution is gradually decreased within a range of about 1 to 10% by weight as the etching apparatus 300 proceeds to the later stage.

多面取り用ガラス母材50がエッチング装置300を通過すると、改質ライン20がエッチングされるため、レーザ照射時においてキズ等が発生していた場合であっても、このキズが消失し易くなる。また、改質ライン20では、他の箇所よりも速くエッチング液が浸透するため、幅方向よりもガラス基板の深さ方向においてエッチング量が多くなる。図9は、エッチング処理によって形成された切断溝28の断面を示している。切断溝28は、改質ライン20が形成された領域がエッチング処理されることによって形成される。 When the multi-panel glass base material 50 passes through the etching device 300, the reforming lines 20 are etched. Therefore, even if scratches or the like have occurred during laser irradiation, the scratches can be easily removed. In addition, since the etchant permeates the reforming line 20 faster than other locations, the amount of etching is greater in the depth direction of the glass substrate than in the width direction. FIG. 9 shows a cross section of the kerf 28 formed by the etching process. The cut groove 28 is formed by etching the region where the modified line 20 is formed.

切断溝28は、通常のエッチング処理で形成される溝とは異なり、幅方向に対して深さ方向のアスペクト比が大きくなる。このため、各液晶パネルが隣接するような多面取り用ガラス母材50であっても液晶パネル10に影響を与えることなく切断溝28を形成することができる。切断溝28は、アレイ基板12またはカラーフィルタ基板14において、板厚方向に完全に貫通してしまわないように形成される。この際、切断溝28の下部の板厚は、100μm以下になるように調整することが好ましい。エッチング未処理部の板厚が100μmを超えると、後述の分断処理における液晶パネル10の分断が困難になることがある。 The cut groove 28 has a large aspect ratio in the depth direction with respect to the width direction, unlike a groove formed by a normal etching process. Therefore, the cut grooves 28 can be formed without affecting the liquid crystal panel 10 even in the multi-panel glass base material 50 in which the liquid crystal panels are adjacent to each other. The cut groove 28 is formed in the array substrate 12 or the color filter substrate 14 so as not to penetrate completely in the plate thickness direction. At this time, it is preferable to adjust the thickness of the lower portion of the cut groove 28 to 100 μm or less. If the plate thickness of the unetched portion exceeds 100 μm, it may become difficult to divide the liquid crystal panel 10 in the later-described dividing process.

エッチング処理された多面取り用ガラス母材50は、両主面から保護フィルム26が除去される。保護フィルム26を除去する際は、多面取り用ガラス母材50の四隅の1つにおいて、保護フィルム26を物理的な力を用いて浮き上がらせた後に、保護フィルム26を多面取り用ガラス母材50の対角方向に向かって引っ張ることによって容易に剥離することができる(図10(A)参照)。 The protective films 26 are removed from both main surfaces of the etched multi-panel glass base material 50 . When removing the protective film 26 , at one of the four corners of the multi-panel glass base material 50 , the protective film 26 is lifted using a physical force, and then the protective film 26 is removed from the multi-panel glass base material 50 . It can be easily peeled off by pulling it in the diagonal direction (see FIG. 10(A)).

保護フィルム26が剥離された多面取り用ガラス母材50は、電極端子部122と対向する領域のカラーフィルタ基板14を取り除くために、端子切断用溝を形成する。端子切断用溝は、公知のスクライブホイールをカラーフィルタ基板14に沿って走査することによって形成される。 The multi-panel glass base material 50 from which the protective film 26 has been peeled off forms a groove for terminal cutting in order to remove the color filter substrate 14 in the region facing the electrode terminal portion 122 . The terminal cutting grooves are formed by scanning a known scribing wheel along the color filter substrate 14 .

端子切断用溝を形成した後に、多面取り用ガラス母材50から液晶パネル10を分離する。切断溝28および端子切断用溝に対して機械的応力を加えることによって、切断溝28の下部から垂直方向に亀裂が進行し、液晶パネル10が形状切断予定線に沿って分断される。また、液晶パネル10の分断と同様に、端子切断用溝に対しても応力を加えることにより、電極端子部122と対向する領域のカラーフィルタ基板12の一部を取り除くことができる。分断時に予期せぬ領域に亀裂が進行するおそれがある場合は、超音波切断具を用いて、液晶パネル10の分断を行ってもよい。 After forming the terminal cutting grooves, the liquid crystal panel 10 is separated from the multi-panel glass base material 50 . By applying a mechanical stress to the cut grooves 28 and the terminal cutting grooves, cracks progress vertically from the bottom of the cut grooves 28, and the liquid crystal panel 10 is divided along the intended shape cutting lines. Further, by applying stress to the terminal cutting grooves in the same manner as the liquid crystal panel 10 is divided, a portion of the color filter substrate 12 in the region facing the electrode terminal portions 122 can be removed. If there is a risk that cracks may develop in an unexpected region during division, the liquid crystal panel 10 may be divided using an ultrasonic cutting tool.

図11(A)および図11(B)は、分断後の液晶パネル10の端面の概略構成を示している。図11(A)は、液晶パネル10の分断後の端面を示している。液晶パネル10の端面は、傾斜部80と垂直部82を有している。傾斜部80は、アレイ基板12およびカラーフィルタ基板14の主面から外側に向かって傾斜する端面領域である。傾斜部80は、例えば、それぞれが0.15mm~0.25mm程度の板厚のアレイ基板12およびカラーフィルタ基板14の各端面に発生するテーパ幅(図11(A)における、L1およびL2)を、50μm以下(多くは20~35μm)に抑えるように形成されることが好ましい。このようなテーパ幅に制御することで、サイドエッチングの影響がほとんど発生しないため、液晶パネル10どうしを近接配置した多面取り用ガラス母材50の設計することができる。例えば、レーザ幅2μm+αで合計10μm程度の隙間があれば、多面取り用ガラス母材50を適正に単個の液晶パネル10に分離することが可能である。 FIGS. 11A and 11B show schematic configurations of end surfaces of the liquid crystal panel 10 after division. FIG. 11A shows the end surface of the liquid crystal panel 10 after being cut. An end surface of the liquid crystal panel 10 has an inclined portion 80 and a vertical portion 82 . The inclined portion 80 is an end face region that is inclined outward from the main surfaces of the array substrate 12 and the color filter substrate 14 . The inclined portion 80, for example, reduces the taper widths (L1 and L2 in FIG. 11A) generated on the end surfaces of the array substrate 12 and the color filter substrate 14, each having a thickness of about 0.15 mm to 0.25 mm. , 50 μm or less (mostly 20 to 35 μm). By controlling the taper width in such a manner, the influence of side etching hardly occurs, so that it is possible to design the multi-panel glass base material 50 in which the liquid crystal panels 10 are arranged close to each other. For example, if the laser width is 2 μm+α and there is a total gap of about 10 μm, the multi-panel glass base material 50 can be properly separated into the single liquid crystal panels 10 .

図11(B)に示すように、液晶パネル10の端面は、凹状改質部201がエッチングされたことにより、溝部24が形成される。溝部24は、エッチングされたことにより、表面部から中央部に向かって先細りするように形成される。また、エッチングは、板厚方向の全域にわたって行われていないため、溝部24も板厚方向の中心部においては形成されていない。この状態においても溝部24の形成方向に沿って銅ペーストを充填することで端面電極22を形成することが可能である。 As shown in FIG. 11B, grooves 24 are formed in the end faces of the liquid crystal panel 10 by etching the concave modified portions 201 . The groove portion 24 is formed so as to taper from the surface portion toward the central portion by being etched. In addition, since etching is not performed over the entire thickness direction, the groove 24 is not formed in the central portion in the thickness direction. Even in this state, it is possible to form the end face electrodes 22 by filling copper paste along the formation direction of the grooves 24 .

必要に応じて、分断後の液晶パネル10の溝部24に対してレーザを照射することにより、中央部に残ったガラス基板を除去し、溝部24を板厚方向に貫通させることが可能である。このレーザ照射で除去するガラス基板のごくわずかであるため、周辺部に熱影響が生じるおそれはほとんどない。また、ガラス基板を除去すべき中央部は、傾斜部80より突出した垂直部82であるため、レーザの照射も容易である。液晶パネル10の板厚方向の全域にわたって溝部24が形成されることにより、端面電極22の形成がさらに容易になる。 If necessary, by irradiating the groove 24 of the liquid crystal panel 10 after division with a laser, it is possible to remove the glass substrate remaining in the central portion and allow the groove 24 to penetrate in the plate thickness direction. Since the amount of the glass substrate removed by this laser irradiation is very small, there is almost no possibility that the peripheral portion will be affected by heat. Further, since the central portion where the glass substrate should be removed is the vertical portion 82 protruding from the inclined portion 80, it is easy to irradiate the laser. Forming the grooves 24 over the entire thickness direction of the liquid crystal panel 10 further facilitates the formation of the end face electrodes 22 .

回路部19は、後工程における所望のタイミングで配置することが可能である。回路部19を設けた後に、端面電極22と電気的に接続し、さらに液晶パネル10の引出配線等と接続することにより液晶パネルが製造される。 The circuit section 19 can be arranged at desired timing in a post-process. After the circuit section 19 is provided, it is electrically connected to the end surface electrode 22 and further connected to the lead wiring of the liquid crystal panel 10, thereby manufacturing the liquid crystal panel.

上述の実施形態においては、透明性薄膜18を保護するために、保護フィルム26を用いたが、透明性薄膜18が形成されていない態様においては、必ずしも保護フィルム26を貼り付ける必要はない。その場合は、改質ライン20を所望の領域に形成した後に、多面取り用ガラス母材50をエッチングすれば良い。多面取り用ガラス母材50は、全体的に薄型化されることになるが、液晶パネル10において特段の不具合は生じないため、上述の方法で液晶パネル10を分断することで、液晶パネル10が製造される。 In the above-described embodiment, the protective film 26 is used to protect the transparent thin film 18, but in the mode in which the transparent thin film 18 is not formed, the protective film 26 is not necessarily attached. In that case, after forming the modified lines 20 in the desired regions, the glass base material 50 for multi-panel formation may be etched. Although the thickness of the multi-panel glass base material 50 is reduced as a whole, no particular problem occurs in the liquid crystal panel 10. Therefore, by dividing the liquid crystal panel 10 by the above-described method, the liquid crystal panel 10 can be obtained. manufactured.

上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 The description of the above-described embodiments should be considered illustrative in all respects and not restrictive. The scope of the invention is indicated by the claims rather than the above-described embodiments. Furthermore, the scope of the present invention is intended to include all modifications within the meaning and range of equivalents of the claims.

10-液晶パネル
12-アレイ基板
14-カラーフィルタ基板
16-液晶層
18-透明性薄膜
20-改質ライン
22-端面電極
24-溝部
122-電極端子部
10-liquid crystal panel 12-array substrate 14-color filter substrate 16-liquid crystal layer 18-transparent thin film 20-modification line 22-end surface electrode 24-groove 122-electrode terminal

Claims (4)

端子部を有するアレイ基板と、
液晶層を挟んで前記アレイ基板と対向するように配置されたカラーフィルタ基板と、
を少なくとも備える液晶パネルであって、
前記端子部は、端面に沿って厚み方向に形成される溝部を有しており、
前記溝部に沿って導電性部材が充填されていることを特徴とする液晶パネルの製造方法において、
前記液晶パネルを多面取りするための多面取り用ガラス母材に対してレーザ光線を照射することによって、前記液晶パネルの形状切断予定線および前記溝部のそれぞれに対応する位置を連続してエッチングされ易い性質に改質するステップと、
前記改質するステップの後に、前記液晶パネルの形状切断予定線および前記溝部のそれぞれに対応する位置を同時にエッチングするステップと、
を含むことを特徴する液晶パネル製造方法。
an array substrate having a terminal portion;
a color filter substrate arranged to face the array substrate with a liquid crystal layer interposed therebetween;
A liquid crystal panel comprising at least
The terminal portion has a groove formed in the thickness direction along the end face,
In the method for manufacturing a liquid crystal panel, characterized in that a conductive member is filled along the groove,
By irradiating a laser beam to the multi-panel glass base material for multi-panel cutting of the liquid crystal panel, the positions corresponding to the planned shape cutting lines of the liquid crystal panel and the grooves are easily etched continuously. modifying properties;
After the step of modifying, simultaneously etching the positions corresponding to the intended shape cutting lines of the liquid crystal panel and the grooves;
A liquid crystal panel manufacturing method comprising:
端子部を有するアレイ基板と、
液晶層を挟んで前記アレイ基板と対向するように配置されたカラーフィルタ基板と、
を少なくとも備える液晶パネルであって、前記アレイ基板または前記カラーフィルタ基板の少なくとも一方の端面であって表示領域に隣接する箇所に厚み方向に沿って溝部が形成されており、
前記溝部に沿って導電性部材が充填されることを特徴とする液晶パネルの製造方法において、
前記液晶パネルを多面取りするための多面取り用ガラス母材に対してレーザ光線を照射することによって、前記液晶パネルの形状切断予定線および前記溝部のそれぞれに対応する位置を連続してエッチングされ易い性質に改質するステップと、
前記改質するステップの後に、前記液晶パネルの形状切断予定線および前記溝部のそれぞれに対応する位置を同時にエッチングするステップと、
を含むことを特徴する液晶パネル製造方法。
an array substrate having a terminal portion;
a color filter substrate arranged to face the array substrate with a liquid crystal layer interposed therebetween;
wherein a groove is formed along the thickness direction in at least one end surface of the array substrate or the color filter substrate and adjacent to the display area,
In the method for manufacturing a liquid crystal panel, the conductive member is filled along the groove,
By irradiating a laser beam to the multi-panel glass base material for multi-panel cutting of the liquid crystal panel, the positions corresponding to the planned shape cutting lines of the liquid crystal panel and the grooves are easily etched continuously. modifying properties;
After the step of modifying, simultaneously etching the positions corresponding to the intended shape cutting lines of the liquid crystal panel and the grooves;
A liquid crystal panel manufacturing method comprising:
前記アレイ基板の表面に回路部が配置されており、
前記回路部は、前記導電性部材と電気的に接続されていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶パネル製造方法。
A circuit part is arranged on the surface of the array substrate,
3. The method of manufacturing a liquid crystal panel according to claim 1, wherein the circuit section is electrically connected to the conductive member.
前記溝部は、厚み方向の全域にわたって貫通するように形成されていることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の液晶パネル製造方法。 4. The method of manufacturing a liquid crystal panel according to claim 1, wherein the groove is formed so as to penetrate all the way in the thickness direction.
JP2018188731A 2018-10-04 2018-10-04 Liquid crystal panel manufacturing method Active JP7287637B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018188731A JP7287637B2 (en) 2018-10-04 2018-10-04 Liquid crystal panel manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018188731A JP7287637B2 (en) 2018-10-04 2018-10-04 Liquid crystal panel manufacturing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020056958A JP2020056958A (en) 2020-04-09
JP7287637B2 true JP7287637B2 (en) 2023-06-06

Family

ID=70107171

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018188731A Active JP7287637B2 (en) 2018-10-04 2018-10-04 Liquid crystal panel manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7287637B2 (en)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006235010A (en) 2005-02-23 2006-09-07 Sony Corp Electro-optical display device and method for manufacturing the same
JP2010181747A (en) 2009-02-06 2010-08-19 Seiko Instruments Inc Liquid crystal display device with touch sensor function
JP2012093468A (en) 2010-10-26 2012-05-17 Mitsubishi Electric Corp Display device, liquid crystal display device, and touch panel device
US20130328051A1 (en) 2012-06-06 2013-12-12 Jeremy C. Franklin Notched Display Layers
JP2015175969A (en) 2014-03-14 2015-10-05 日本放送協会 Tile type display and method of manufacturing the same
JP2016138009A (en) 2015-01-26 2016-08-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 Laser cutting method
JP2016534008A (en) 2013-08-07 2016-11-04 トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH Method for processing a plate-like workpiece having a transparent, glassy, vitreous, ceramic and / or crystalline layer, as well as a separating device for such a workpiece, and from such a workpiece Product
JP2017501453A (en) 2013-11-28 2017-01-12 ジオ・オプトエレクトロニクス・コーポレイションGio Optoelectronics Corp. Matrix circuit board, display device, and manufacturing method of matrix circuit board
JP2018116235A (en) 2017-01-20 2018-07-26 株式会社Nsc Liquid crystal panel production method

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5386195A (en) * 1976-12-13 1978-07-29 Citizen Watch Co Ltd Liquid crystal display cell
JPS5995378U (en) * 1982-12-17 1984-06-28 富士通株式会社 display panel
JPS61236585A (en) * 1985-04-12 1986-10-21 松下電器産業株式会社 Liquid crystal display unit
JPH10293319A (en) * 1997-04-18 1998-11-04 Citizen Watch Co Ltd Liquid crystal display device

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006235010A (en) 2005-02-23 2006-09-07 Sony Corp Electro-optical display device and method for manufacturing the same
JP2010181747A (en) 2009-02-06 2010-08-19 Seiko Instruments Inc Liquid crystal display device with touch sensor function
JP2012093468A (en) 2010-10-26 2012-05-17 Mitsubishi Electric Corp Display device, liquid crystal display device, and touch panel device
US20130328051A1 (en) 2012-06-06 2013-12-12 Jeremy C. Franklin Notched Display Layers
JP2016534008A (en) 2013-08-07 2016-11-04 トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH Method for processing a plate-like workpiece having a transparent, glassy, vitreous, ceramic and / or crystalline layer, as well as a separating device for such a workpiece, and from such a workpiece Product
JP2017501453A (en) 2013-11-28 2017-01-12 ジオ・オプトエレクトロニクス・コーポレイションGio Optoelectronics Corp. Matrix circuit board, display device, and manufacturing method of matrix circuit board
JP2015175969A (en) 2014-03-14 2015-10-05 日本放送協会 Tile type display and method of manufacturing the same
JP2016138009A (en) 2015-01-26 2016-08-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 Laser cutting method
JP2018116235A (en) 2017-01-20 2018-07-26 株式会社Nsc Liquid crystal panel production method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020056958A (en) 2020-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101050959B1 (en) Manufacturing Method Of Liquid Crystal Display
JP5784273B2 (en) Laser processing method, cutting method, and method for dividing structure having multilayer substrate
JP5605097B2 (en) Manufacturing method of electronic device
TWI238444B (en) Method for manufacturing optoelectronic device, optoelectronic device and electronic machine
TWI798279B (en) Through glass via fabrication using a protective material
KR20100070730A (en) Method of flexible display device
JP5949334B2 (en) Bonded substrate and manufacturing method
CN110770640A (en) Method for manufacturing glass panel with transparent film, method for manufacturing liquid crystal panel with transparent film, method for manufacturing glass panel, and method for manufacturing liquid crystal panel
JP2018081242A (en) Method for manufacturing liquid crystal panel
TW202023085A (en) Systems and methods for forming displays including recessed side electrodes
JP7287637B2 (en) Liquid crystal panel manufacturing method
US20180139853A1 (en) Method of manufacturing an electric device based on glass substrate
KR101358385B1 (en) Manufacturing method of flexible display device
CN112105984B (en) Method for manufacturing liquid crystal panel
JP6519045B2 (en) Glass panel manufacturing method and liquid crystal panel manufacturing method
JP2022057692A (en) Method of manufacturing image display panel
JP2016224201A (en) Method for manufacturing liquid crystal panel
JP6501093B1 (en) METHOD FOR MANUFACTURING GLASS PANEL WITH TRANSPARENT THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL PANEL WITH TRANSPARENT THIN FILM
JP2016157056A (en) Manufacturing method of liquid crystal panel
CN110865494B (en) Liquid crystal display and preparation method thereof
JP7058870B2 (en) LCD panel manufacturing method
JP2019159178A (en) Liquid crystal panel and manufacturing method for liquid crystal panel
KR102518456B1 (en) Method of manufacturing glass panel
JP2019210158A (en) Glass substrate suction apparatus and manufacturing method of glass substrate having through hole using the same
WO2021220890A1 (en) Production method for glass substrate having through-hole and production method for display device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210927

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220427

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220524

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221122

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230111

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230425

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230518

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7287637

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150