JP7244692B2 - 撮像素子、積層型撮像素子及び撮像装置、並びに、撮像素子の製造方法 - Google Patents
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Description
本開示の第1の態様に係る撮像素子にあっては、陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(1)を有する材料を含み、かつ、前記光電変換層との間にチエノアセン系材料からなる中間層を有するように形成され、
本開示の第2の態様に係る撮像素子にあっては、陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(2)を有する材料を含み、かつ、前記光電変換層との間にチエノアセン系材料からなる中間層を有するように形成され、
本開示の第3の態様に係る撮像素子にあっては、陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(3)を有する材料を含み、かつ、前記光電変換層との間にチエノアセン系材料からなる中間層を有するように形成される。
アリール基及びアリールアミノ基を置換基としたアリール基は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ナフチルフェニル基、フェニルナフチル基、トリル基、キシリル基、ターフェニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、テトラセニル基、フルオランテニル基、ピリジニル基、キノリニル基、アクリジニル基、インドール基、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基及びチエニル基から成る群から選択されたアリール基であり、
アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基から成る群から選択されたアルキル基であり、直鎖状のアルキル基でもよいし、分岐型のアルキル基でもよい。
少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成り、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた上記構造式(1)又は上記構造式(2)又は上記構造式(3)又は上記構造式(4)又は上記構造式(5)を有する材料を含み、かつ、前記光電変換層との間にチエノアセン系材料からなる中間層を有するように形成される撮像素子の製造方法であって、
陽極側バッファ層を物理的気相成長法によって成膜する。
1.本開示の第1の態様~第3の態様に係る撮像素子、本開示の積層型撮像素子、及び、本開示の第1の態様~第2の態様に係る撮像装置、全般に関する説明
2.実施例1(本開示の第1の態様~第3の態様に係る撮像素子、本開示の積層型撮像素子、及び、本開示の第1の態様~第2の態様に係る撮像装置)
3.実施例2(実施例1の変形)
4.実施例3(実施例2の変形)
5.その他
上記の好ましい形態を含む本開示の第1の態様~第3の態様に係る撮像素子、本開示の積層型撮像素子を構成する本開示の第1の態様~第3の態様に係る撮像素子、本開示の第1の態様~第2の態様に係る撮像装置を構成する本開示の第1の態様~第3の態様に係る撮像素子(以下、これらの撮像素子を総称して、『本開示の撮像素子等』と呼ぶ)において、陽極側バッファ層を構成する材料のHOMO値(Highest Occupied Molecular Orbital値)と、光電変換層を構成するp型材料(具体的には、p型有機半導体材料)が有するHOMO値との差は、±0.2eV以内の範囲にあることが好ましい。
[A]第1タイプの青色用光電変換部、第1タイプの緑色用光電変換部及び第1タイプの赤色用光電変換部が、垂直方向に積層され、
第1タイプの青色用撮像素子、第1タイプの緑色用撮像素子及び第1タイプの赤色用撮像素子の制御部のそれぞれが、半導体基板に設けられた構成、構造
[B]第1タイプの青色用光電変換部及び第1タイプの緑色用光電変換部が、垂直方向に積層され、
これらの2層の第1タイプの光電変換部の下方に、第2タイプの赤色用光電変換層が配置され、
第1タイプの青色用撮像素子、第1タイプの緑色用撮像素子及び第2タイプの赤色用撮像素子の制御部のそれぞれが、半導体基板に設けられた構成、構造
[C]第1タイプの緑色用光電変換部の下方に、第2タイプの青色用光電変換部及び第2タイプの赤色用光電変換部が配置され、
第1タイプの緑色用撮像素子、第2タイプの青色用撮像素子及び第2タイプの赤色用撮像素子の制御部のそれぞれが、半導体基板に設けられた構成、構造
[D]第1タイプの青色用光電変換部の下方に、第2タイプの緑色用光電変換部及び第2タイプの赤色用光電変換部が配置され、
第1タイプの青色用撮像素子、第2タイプの緑色用撮像素子及び第2タイプの赤色用撮像素子の制御部のそれぞれが、半導体基板に設けられた構成、構造
を挙げることができる。尚、これらの撮像素子の光電変換部の垂直方向における配置順は、光入射側から青色用光電変換部、緑色用光電変換部、赤色用光電変換部の順、あるいは、光入射側から緑色用光電変換部、青色用光電変換部、赤色用光電変換部の順であることが好ましい。これは、より短い波長の光がより光入射側において効率良く吸収されるからである。赤色は3色の中では最も長い波長であるが故に、光入射側から見て赤色用光電変換部を最下層に位置させることが好ましい。これらの撮像素子の積層構造によって、1つの画素が構成される。また、第1タイプの赤外線用光電変換部を備えていてもよい。ここで、第1タイプの赤外線用光電変換部の光電変換層は、例えば、有機系材料から構成され、第1タイプの撮像素子の積層構造の最下層であって、第2タイプの撮像素子よりも上に配置することが好ましい。あるいは又、第1タイプの光電変換部の下方に、第2タイプの赤外線用光電変換部を備えていてもよい。以上の説明した各種の第2タイプの光電変換層を半導体基板に形成してもよい。尚、光電変換部は、少なくとも陽極、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成る。
(a)単層又は複数層から成るp型有機半導体層から構成する。
(b)p型有機半導体層/n型有機半導体層の積層構造から構成する。p型有機半導体層/p型有機半導体材料とn型有機半導体材料との混合層(バルクヘテロ構造)/n型有機半導体層の積層構造から構成する。p型有機半導体層/p型有機半導体材料とn型有機半導体材料との混合層(バルクヘテロ構造)の積層構造から構成する。n型有機半導体層/p型有機半導体材料とn型有機半導体材料との混合層(バルクヘテロ構造)の積層構造から構成する。
(c)p型有機半導体材料とn型有機半導体材料の混合(バルクヘテロ構造)から構成する。
の3態様のいずれかとすることができる。但し、積層順は任意に入れ替えた構成とすることができる。また、p型有機半導体材料あるいはn型有機半導体材料を、同じ層に1種類含ませてもよいし、2種類以上含ませてもよい。バルクヘテロ構造には、2種類の半導体材料だけでなく、3種類以上の半導体材料が含まれる場合がある。
um Zinc Oxide)、酸化ガリウムにドーパントとしてインジウムを添加したインジウム-ガリウム酸化物(IGO)、酸化亜鉛にドーパントとしてインジウムとガリウムを添加したインジウム-ガリウム-亜鉛酸化物(IGZO,In-GaZnO4)、酸化亜鉛にドーパントとしてインジウムと錫を添加したインジウム-錫-亜鉛酸化物(ITZO)、IFO(FドープのIn2O3)、酸化錫(SnO2)、ATO(SbドープのSnO2)、FTO(FドープのSnO2)、酸化亜鉛(他元素をドープしたZnOを含む)、酸化亜鉛にドーパントとしてアルミニウムを添加したアルミニウム-亜鉛酸化物(AZO)、酸化亜鉛にドーパントとしてガリウムを添加したガリウム-亜鉛酸化物(GZO)、酸化チタン(TiO2)、酸化チタンにドーパントとしてニオブを添加したニオブ-チタン酸化物(TNO)、酸化アンチモン、スピネル型酸化物、YbFe2O4構造を有する酸化物を例示することができる。あるいは又、ガリウム酸化物、チタン酸化物、ニオブ酸化物、ニッケル酸化物等を母層とする透明電極を挙げることができる。透明電極の厚さとして、2×10-8m乃至2×10-7m、好ましくは3×10-8m乃至1×10-7mを挙げることができる。
(1)アルゴン置換した1リットルの四つ口フラスコに、3,6-ジブロモカルバゾールを50.6グラム(156ミリモル,1.00モル当量)、THFを500ミリリットル、(Bo)2Oを46.5グラム(213ミリモル,1.37モル当量)、仕込んだ。尚、「Bo」は、tert-ブトキシカルボニル基を意味する。
(2)N,N-ジメチル-4-アミノピリジン(DMAP)、2.30グラム(18.8ミリモル,0.12モル当量)を少しずつ添加した。
(3)室温で2時間攪拌した。
(4)反応液を水1.5リットルに注ぎ入れ、析出した結晶を濾過した。
(5)得られた結晶をクロロホルム1.5リットルに溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。
(6)濾液にエタノールを200ミリリットルを加え、減圧下で300ミリリットルになるまで濃縮した。
(7)濃縮液中に析出した結晶を濾過した。
(8)イソプロピルアルコール1リットル中で懸濁、洗浄、濾過した。
(9)得られた白色結晶を、減圧下、80゜C、2時間、乾燥し、中間体1-1を63.7グラム(150ミリモル、収率96.3%)を得た。純度をHPLCで分析したところ99.7%であった。1H NMRによる構造分析の結果、所望のプロトン数が得られており、中間体1-1であることを同定することができた。
中間体1-2を合成する際、一部の保護基が脱保護されてしまうため、第3ステップも連続して行い、精製後、同定を行った。以下に合成手順を示す。
(2)30分間、アルゴンガスを用いてバブリングした。
(3)10%P(tBu)3ヘキサン溶液を20.0ミリリットル(6.70ミリモル,0.05モル当量)、Pd(dBa)2を2.85グラム(4.96ミリモル,0.04モル当量)、加えた。
(4)107゜Cに昇温し、1時間攪拌した。
(5)放冷後、反応液に水500ミリリットルを加え、分液した。
(6)(5)において得られた水層をトルエン500ミリリットルにて2回抽出した。
(7)(5)及び(6)で得られた有機層を合わせて、硫酸マグネシウムを用いて乾燥した。
(8)濾過後、濾液を減圧下、1.5リットル程度まで濃縮した。
(9)濃縮液に、トリフルオロ酢酸を131ミリリットル(1.70ミリモル,12.7モル当量)、加え、90゜Cで1時間攪拌した。
(10)放冷後、反応液を炭酸ナトリウム水溶液に注ぎ、アルカリ性にして分液した。
(11)有機層を水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。
(12)濾液をフロリジル濾過(フロリジル:500グラム/溶媒トルエン)した。
(13)濾液を濃縮乾固した。
(14)残渣にクロロホルムを加え、溶解させた後、メタノールを500ミリリットル加えた。
(15)減圧下、500ミリリットル程度まで濃縮し、析出結晶を濾過した。
(16)褐色の結晶粗体の中間体1-2を、38.4グラム(76.6ミリモル,収率57.1%)得ることができた。
(17)(16)で得られた結晶をトルエン300ミリリットル中で分散させ、1時間還流した。
(18)40゜Cまで放冷後、濾過した。
(19)得られた結晶を、減圧下、60゜C、2時間乾燥し、淡黄色の結晶化合物1-3を25.1グラム(50.0ミリモル,第2ステップから第3ステップまでの総合収率37.3%)を得た。1H NMRによる構造解析及びMALDI-TOF-MSによって、中間体1-3を同定することができた。
(1)アルゴン置換したシュレンクチューブに、5,5’-ジブロモ-2,2’-ビチオフェンを6.16グラム(19.0ミリモル,1.00モル当量)、中間体1-3を20.0グラム(399.9ミリモル,2.10モル当量)、リン酸三カリウムを31.4グラム(148ミリモル,7.79モル当量)、脱水1,4-ジオキサンを120ミリリットル、仕込んだ。
(2)30分間、アルゴンガスを用いてバブリングを行った。
(3)trans-1,2-シクロヘキサンジアミンを0.70ミリリットル(5.84ミリモル,0.31モル当量)、CuIを745ミリグラム(3.91ミリモル,0.21モル当量)、加えた。
(4)加熱還流下、一晩、攪拌した。
(5)中間体が残存していたため、trans-1,2-シクロヘキサンジアミンを0.50ミリリットル(4.17ミリモル,0.22モル当量)、CuIを378ミリグラム(1.98ミリモル,0.10モル当量)、追加した。
(6)加熱還流下、一晩、攪拌した。
(7)微量に中間体が残存していたため、trans-1,2-シクロヘキサンジアミンを0.50ミリリットル(4.17ミリモル,0.22モル当量)、CuIを130ミリグラム(0.68ミリモル,0.04モル当量)、追加し、還流したが、変化が小さかったため、加熱を終了した。
(8)放冷後、反応液を水に注いだ。
(9)オイル状になったものと固体とが混在していたため、超音波を15分間当てて、結晶を分散させて、濾過した。
(10)得られた結晶を取り出し、アセトニトリル200ミリリットル中で懸濁、洗浄後、濾過した。
(11)得られた茶色の結晶40.5グラムを、減圧下、80゜C、1時間、乾燥した。(12)結晶23.6グラムをトルエンに溶解し、活性白土(100グラム)/シリカゲル(PSQ200グラム)を用いて濾過した。
(13)黄色の濾液を、減圧下、50ミリリットル程度まで濃縮し、ヘプタンを加え、析出した結晶を濾過した。
(14)減圧乾燥し、黄色の結晶である化合物(A)16.3グラム(14.0ミリモル)を得た。
(15)(14)で得た化合物(A)粗体をソックスレー抽出を2回行って、精製した。
(16)減圧下、80゜C、1時間乾燥し、化合物(A)7.70グラム(6.61ミリモル,抽出収率79.1%)を得た。その後、HPLCを用いて純度分析を行い、純度97.1%を確認した。
(1)化合物(A)2.00グラムを、昇華精製装置の原料部に仕込んだ。
(2)昇華管内を7.2×10-4Paに減圧後、昇華精製を行った。
(3)昇華終了後、捕集管に析出した化合物(A)を回収した。回収量は1.29グラム(昇華回収率:64.3%)であった。
(4)昇華精製された化合物(A)についてHPLCを用いて純度分析を行い、99.1%を確認した。また、1H NMRによる構造分析、MALDI-TOF-MSによる質量分析から、化合物(A)であることも同定することができた。1H NMRの分析結果を図15に、MALDI-TOF-MS分析結果を図16に結果を示す。
LUMO=-|(HOMO)-(エネルギーギャップ)|
で表すことができる。
[A01]《撮像素子:第1の態様》
少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成り、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(1)を有する材料を含む撮像素子。
アリール基及びアリールアミノ基を置換基としたアリール基は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ナフチルフェニル基、フェニルナフチル基、トリル基、キシリル基、ターフェニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、テトラセニル基、フルオランテニル基、ピリジニル基、キノリニル基、アクリジニル基、インドール基、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基及びチエニル基から成る群から選択されたアリール基であり、
アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基から成る群から選択されたアルキル基であり、直鎖状のアルキル基でもよいし、分岐型のアルキル基でもよい。
[A02]《撮像素子:第2の態様》
少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成り、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(2)を有する材料を含む撮像素子。
アリール基及びアリールアミノ基を置換基としたアリール基は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ナフチルフェニル基、フェニルナフチル基、トリル基、キシリル基、ターフェニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、テトラセニル基、フルオランテニル基、ピリジニル基、キノリニル基、アクリジニル基、インドール基、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基及びチエニル基から成る群から選択されたアリール基であり、
アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基から成る群から選択されたアルキル基であり、直鎖状のアルキル基でもよいし、分岐型のアルキル基でもよい。
[A03]《撮像素子:第3の態様》
少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成り、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(3)を有する材料を含む撮像素子。
[A04]陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(4)又は構造式(5)を有する材料を含む[A03]に記載の撮像素子。
[A06]光電変換層を構成するp型材料が有するHOMO値は、-5.6eV乃至-5.7eVである[A05]に記載の撮像素子。
[A07]陽極側バッファ層を構成する材料のキャリア移動度は、5×10-6cm2/V・s以上である[A01]乃至[A06]のいずれか1項に記載の撮像素子。
[A08]陽極側バッファ層を構成する材料の吸収スペクトルは、425nm以下の波長に吸収極大を有する[A01]乃至[A07]のいずれか1項に記載の撮像素子。
[A09]陽極及び陰極は透明導電材料から成る[A01]乃至[A08]のいずれか1項に記載の撮像素子。
[A10]陽極及び陰極のいずれか一方は透明導電材料から成り、他方は金属材料から成る[A01]乃至[A08]のいずれか1項に記載の撮像素子。
[B01]《積層型撮像素子》
[A01]乃至[A10]のいずれか1項に記載の撮像素子が、少なくとも1つ、積層されて成る積層型撮像素子。
[C01]《撮像装置:第1の態様》
[A01]乃至[A10]のいずれか1項に記載の撮像素子を、複数、備えた撮像装置。
[C02]《撮像装置:第2の態様》
[B01]に記載の積層型撮像素子を、複数、備えた撮像装置。
[D01]《光電変換素子》
少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成る撮像素子であって、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた上記構造式(1)又は上記構造式(2)又は上記構造式(3)又は上記構造式(4)又は構造式(5)を有する材料を含む。
[E01]《撮像素子の製造方法》
少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成り、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた上記構造式(1)又は上記構造式(2)又は上記構造式(3)又は上記構造式(4)又は構造式(5)を有する材料を含む撮像素子の製造方法であって、
陽極側バッファ層を物理的気相成長法によって成膜する撮像素子の製造方法。
[E02]光電変換層も物理的気相成長法によって成膜する[E01]に記載の撮像素子の製造方法。
[E03]陽極側バッファ層を構成する材料のHOMO値と、光電変換層を構成するp型材料が有するHOMO値との差は、±0.2eV以内の範囲にある[E01]又は[E02]に記載の撮像素子の製造方法。
[E04]光電変換層を構成するp型材料が有するHOMO値は、-5.6eV乃至-5.7eVである[E03]に記載の撮像素子の製造方法。
[E05]陽極側バッファ層を構成する材料のキャリア移動度は、5×10-6cm2/V・s以上である[E01]乃至[E04]のいずれか1項に記載の撮像素子の製造方法。
[E06]陽極側バッファ層を構成する材料の吸収スペクトルは、425nm以下の波長に吸収極大を有する[E01]乃至[E05]のいずれか1項に記載の撮像素子の製造方法。
[E07]陽極及び陰極は透明導電材料から成る[E01]乃至[E06]のいずれか1項に記載の撮像素子の製造方法。
[E08]陽極及び陰極のいずれか一方は透明導電材料から成り、他方は金属材料から成る[E01]乃至[E07]のいずれか1項に記載の撮像素子の製造方法。
Claims (16)
- 少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成り、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(1)を有する材料を含み、かつ、前記光電変換層との間にチエノアセン系材料からなる中間層を有するように形成される撮像素子。
アリール基及びアリールアミノ基を置換基としたアリール基は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ナフチルフェニル基、フェニルナフチル基、トリル基、キシリル基、ターフェニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、テトラセニル基、フルオランテニル基、ピリジニル基、キノリニル基、アクリジニル基、インドール基、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基及びチエニル基から成る群から選択されたアリール基であり、
アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基から成る群から選択されたアルキル基であり、直鎖状のアルキル基でもよいし、分岐型のアルキル基でもよい。 - 少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成り、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(2)を有する材料を含み、かつ、前記光電変換層との間にチエノアセン系材料からなる中間層を有するように形成される撮像素子。
アリール基及びアリールアミノ基を置換基としたアリール基は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ナフチルフェニル基、フェニルナフチル基、トリル基、キシリル基、ターフェニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、テトラセニル基、フルオランテニル基、ピリジニル基、キノリニル基、アクリジニル基、インドール基、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基及びチエニル基から成る群から選択されたアリール基であり、
アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基から成る群から選択されたアルキル基であり、直鎖状のアルキル基でもよいし、分岐型のアルキル基でもよい。 - 少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成り、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(3)を有する材料を含み、かつ、前記光電変換層との間にチエノアセン系材料からなる中間層を有するように形成される撮像素子。
- 陽極側バッファ層を構成する材料のHOMO値と、光電変換層を構成するp型材料が有するHOMO値との差は、±0.2eV以内の範囲にある請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の撮像素子。
- 光電変換層を構成するp型材料が有するHOMO値は、-5.6eV乃至-5.7eVである請求項5に記載の撮像素子。
- 陽極側バッファ層を構成する材料のキャリア移動度は、5×10-6cm2/V・s以上である請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の撮像素子。
- 陽極側バッファ層を構成する材料の吸収スペクトルは、425nm以下の波長に吸収極大を有する請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の撮像素子。
- 陽極及び陰極は透明導電材料から成る請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の撮像素子。
- 陽極及び陰極のいずれか一方は透明導電材料から成り、他方は金属材料から成る請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の撮像素子。
- 請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の撮像素子が、少なくとも1つ、積層されて成る積層型撮像素子。
- 請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の撮像素子を、複数、備えた撮像装置。
- 請求項11に記載の積層型撮像素子を、複数、備えた撮像装置。
- 少なくとも、陽極、陽極側バッファ層、光電変換層及び陰極が、順次、積層されて成り、
陽極側バッファ層は、チオフェンとカルバゾールとが組み合わされた構造式(1)を有する材料を含み、かつ、前記光電変換層との間にチエノアセン系材料からなる中間層を有するように形成される撮像素子の製造方法であって、
陽極側バッファ層を物理的気相成長法によって成膜する撮像素子の製造方法。
アリール基及びアリールアミノ基を置換基としたアリール基は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ナフチルフェニル基、フェニルナフチル基、トリル基、キシリル基、ターフェニル基、アントラセニル基、フェナントリル基、ピレニル基、テトラセニル基、フルオランテニル基、ピリジニル基、キノリニル基、アクリジニル基、インドール基、イミダゾール基、ベンゾイミダゾール基及びチエニル基から成る群から選択されたアリール基であり、
アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基から成る群から選択されたアルキル基であり、直鎖状のアルキル基でもよいし、分岐型のアルキル基でもよい。 - 光電変換層は、2種類又は3種類の半導体材料を含み、p型有機半導体材料として、少なくとも、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、フェナントレン誘導体、ピレン誘導体、ペリレン誘導体、テトラセン誘導体、ペンタセン誘導体、キナクリドン誘導体、チオフェン誘導体、チエノチオフェン誘導体、ベンゾチオフェン誘導体、ベンゾチエノベンゾチオフェン(BTBT)誘導体、ジナフトチエノチオフェン(DNTT)誘導体、ジアントラセノチエノチオフェン(DATT)誘導体、ベンゾビスベンゾチオフェン(BBBT)誘導体、チエノビスベンゾチオフェン(TBBT)誘導体、ジベンゾチエノビスベンゾチオフェン(DBTBT)誘導体、ジチエノベンゾジチオフェン(DTBDT)誘導体、ジベンゾチエノジチオフェン(DBTDT)誘導体、ベンゾジチオフェン(BDT)誘導体、ナフトジチオフェン(NDT)誘導体、アントラセノジチオフェン(ADT)誘導体、テトラセノジチオフェン(TDT)誘導体、ペンタセノジチオフェン(PDT)誘導体、トリアリルアミン誘導体、カルバゾール誘導体、ピセン誘導体、クリセン誘導体、フルオランテン誘導体、フタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、サブポルフィラジン誘導体、複素環化合物を配位子とする金属錯体、ポリチオフェン誘導体、ポリベンゾチアジアゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体のいずれかを含み、
n型有機半導体材料として、少なくとも、フラーレン、フラーレン誘導体、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含有する複素環化合物、ピリジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、イソキノリン誘導体、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、フェナントロリン誘導体、テトラゾール誘導体、ピラゾール誘導体、イミダゾール誘導体、チアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、カルバゾール誘導体、ベンゾフラン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、サブポルフィラジン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリベンゾチアジアゾール誘導体、ポリフルオレン誘導体、サブフタロシアニン誘導体のいずれかを含む請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の撮像素子。 - 光電変換層は、結晶シリコン、アモルファスシリコン、微結晶シリコン、結晶セレン、アモルファスセレン、及び、カルコパライト系化合物であるCIGS(CuInGaSe)、CIS(CuInSe 2 )、CuInS 2 、CuAlS 2 、CuAlSe 2 、CuGaS 2 、CuGaSe 2 、AgAlS 2 、AgAlSe 2 、AgInS 2 、AgInSe 2 、あるいは又、III-V族化合物であるGaAs、InP、AlGaAs、InGaP、AlGaInP、InGaAsP、更には、CdSe、CdS、In 2 Se 3 、In 2 S 3 、Bi 2 Se 3 、Bi 2 S 3 、ZnSe、ZnS,PbSe、PbS、及び/又は、これらの材料から成る量子ドットを含む請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の撮像素子。
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