JP7242414B2 - 真空搬送装置及び成膜装置 - Google Patents

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本発明は、真空中で基板を保持する基板保持器を水平に支持した状態で水平方向に搬送する水平搬送機構及びこれを用いた成膜装置に関する。
従来より、真空中で基板を保持する基板保持器を水平に支持した状態で複数の搬送ローラによって水平方向に搬送し、基板上にスパッタリング等によって成膜を行う成膜装置が知られている。
このような従来技術では、基板保持器の蛇行を抑制するため、基板保持器の両側部に接触して基板保持器をガイドするガイドローラを設けることが行われている。
しかし、近年、基板の大型化に伴ってその重量が増加することによって搬送ローラに対する負荷も増加し、その結果、基板保持器と搬送ローラの接触部分から発生するパーティクルの量も増加するという問題がある。
また、ガイドローラに付着した真空槽内の浮遊物(例えば成膜材料)の除去作業に時間がかかることによってメンテナンス作業の効率が低下するという問題もある。
本発明は、このような従来の技術の課題を考慮してなされたもので、その目的とするところは、基板保持器を水平方向に搬送して基板上に成膜を行う成膜装置において、基板保持器の蛇行を防止するとともに、基板保持器と搬送ローラの接触部分から発生するパーティクルの量を減少させ、さらに、メンテナンス作業の効率を向上させることができる技術を提供することにある。
上記課題を解決するためになされた本発明は、真空中で基板を保持する基板保持器を搬送する搬送装置であって、真空槽と、前記真空槽内において、複数の支持ローラによって前記基板保持器を水平に支持した状態で水平方向に搬送する水平搬送機構とを有し、前記基板保持器に第1の磁石装置が設けられるとともに、前記真空槽内に前記第1の磁石装置を鉛直方向に吸着する第2の磁石装置が設けられ、前記第1の磁石装置に対する前記真空槽内の浮遊物の付着を防止する第1の防着部材を有するとともに、前記第2の磁石装置に対する前記真空槽内の浮遊物の付着を防止する第2の防着部材を有する真空搬送装置である。
本発明は、前記第1の磁石装置が前記基板保持器の上部に設けられるとともに、前記第2の磁石装置が前記第1の磁石装置の上方に設けられている真空搬送装置である。
本発明は、前記第1及び第2の防着部材が、それぞれ前記第1及び第2の磁石装置を収容可能な密閉された空間を有する真空搬送装置である。
本発明は、前記第1の防着部材が前記基板保持器に対して着脱自在に設けられるとともに、前記第2の防着部材が前記真空槽に対して着脱自在に設けられている真空搬送装置である。
本発明は、上記記載の真空搬送装置と、前記基板保持器に保持された基板に対して成膜を行う成膜源とを有する成膜装置である。
本発明によれば、基板保持器に第1の磁石装置が設けられるとともに、真空槽内に第1の磁石装置を鉛直方向に吸着する第2の磁石装置が設けられていることから、水平搬送機構によって基板保持器を水平に支持した状態で水平方向に搬送する際、基板保持器を第1及び第2の磁石装置に沿うようにガイドして基板保持器の蛇行を防止することができる。
また、第1及び第2の磁石装置間の距離を変化させることによって第1及び第2の磁石装置間の吸着力を調整することができ、これにより種々の基板保持器に応じてその蛇行を防止することができる。
また、本発明によれば、第1の磁石装置に対する真空槽内の浮遊物の付着を防止する第1の防着部材を有するとともに、第2の磁石装置に対する真空槽内の浮遊物の付着を防止する第2の防着部材を有することから、第1及び第2の磁石装置に対して真空槽内の浮遊物(例えば成膜材料)が付着することがない。
本発明において、第1の磁石装置が基板保持器の上部に設けられるとともに、第2の磁石装置が第1の磁石装置の上方に設けられている場合には、搬送時における搬送ローラに加わる荷重を小さくすることができ、これにより搬送ローラの摩耗を軽減することができる。
また、本発明において、第1の防着部材が基板保持器に対して着脱自在に設けられるとともに、第2の防着部材が真空槽に対して着脱自在に設けられている場合には、第1及び第2の防着部材に付着した真空槽内の浮遊物(例えば成膜材料)の除去を容易に行うことができ、これによりメンテナンス作業の効率を向上させることができる。
本発明に係る成膜装置の一例であるスパッタリング装置の概略内部構成を示す平面図 図1のA-A線断面図 図1のB-B線断面図 本例における第1及び第2の磁石装置の構成を示す断面図 同第1及び第2の磁石装置の構成を示す正面図
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図1~図3は、本発明に係る成膜装置の一例であるスパッタリング装置の全体構成を示すもので、図1は、概略内部構成を示す平面図、図2は、図1のA-A線断面図、図3は、図1のB-B線断面図である。
図1に示すように、本例のスパッタリング装置1は、図示しない真空排気系に接続された真空槽2と、この真空槽2の内部に配置された基板保持器3を水平に支持した状態で水平方向に搬送する水平搬送機構4とを有している。また、真空槽2の底部には複数のスパッタリングターゲット(成膜源)5が設けられている。
本例の基板保持器3は、例えば矩形枠状に形成された本体部3aを有し、この本体部3a上に保持された基板10に対し、開口部3bを介して成膜を行うように構成されている。
水平搬送機構4は、例えば水平方向に並べられた複数の一対の搬送ローラ4aによって基板保持器3の対向する取付部3cの下面をそれぞれ支持し(図2及び図4参照)、これら複数の一対の搬送ローラ4aを駆動機構(図示せず)によって同期して回転させることにより基板保持器3を水平方向に搬送するように構成されている。
基板保持器3の本体部3aの対向する両側部には、搬送方向に直線状に延びる第1の磁石装置11がそれぞれ設けられている。また、本例では、一対の第1の磁石装置11の上方に、一対の第2の磁石装置12が設けられている(図3及び図4参照)。
第1の磁石装置11は、密閉された空間を有する第1のハウジング(防着部材)21の内部に第1の磁石11Mが収容され、第2の磁石装置12は、密閉された空間を有する第2のハウジング(防着部材)22の内部に第2の磁石12Mが収容されている。
図4は、本例における第1及び第2の磁石装置の構成を示す断面図、図5は、同第1及び第2の磁石装置の構成を示す正面図である。
図3及び図4に示すように、本例の第1の磁石装置11は、基板保持器3の両側部の取付部3cの上面に例えばボルト(図示せず)によって取り付けられた第1のハウジング21内にそれぞれ配置されている。
この第1の磁石装置11は、第1のハウジング21内において、それぞれ基板保持器3の搬送方向に延びるケース11aの内部に複数の磁石を搬送方向に沿って並べて設けることにより構成され、この第1の磁石11Mが、ケース11aに固定された非磁性材料からなるヨーク11bの上部に配置されている。
ここで、第1のハウジング21及びケース11aは非磁性材料からなる。また、ケース11aは第1の磁石11Mを保護するためのもので、本発明の防着部材として機能する。
なお、第1の磁石装置11は、それぞれ基板保持器3の取付部3cに取り付けられた支持ブロック3dの上面に取り付けられている。ここで、取付部3c及び支持ブロック3dは非磁性材料からなる。
第1の磁石装置11は、第1のハウジング21の両端部の開口部がそれぞれカバー21Cによって塞がれており(図5参照)、これにより第1のハウジング21内の空間が密閉されている。
本例の第2の磁石装置12は、真空槽2の両側壁2aに設けられた取付部材6の下部に例えばボルト(図示せず)によって取付ブロック6a及び6bが固定され、これら取付ブロック6a、6bに取り付けられた第2のハウジング22内にそれぞれ配置されている。
本例では、第2の磁石装置12は、第2のハウジング22内において、それぞれ基板保持器3の搬送方向に延びるケース12aの内部に複数の磁石を搬送方向に沿って並べて設ることにより構成されている。
この第2の磁石12Mは、取付ブロック6bの下面及びケース12aに固定された磁性材料からなるヨーク12bの下部に配置されている。
ここで、第2のハウジング22、ケース12a並びに取付ブロック6a及び6bは非磁性材料からなる。また、ケース12aは第2の磁石12Mを保護するためのもので、本発明の防着部材として機能する。
第2の磁石装置12は、第2のハウジング22の両端部の開口部がそれぞれカバー22Cによって塞がれており(図5参照)、これにより第2のハウジング22内の空間が密閉されている。
このような構成を有する本例においては、第1及び第2のハウジング21、22が鉛直方向に近接して配置され、第1及び第2の磁石装置11、12の異なる磁極が鉛直方向に対向するように配置されている。したがって、第1及び第2の磁石装置11、12間には、鉛直方向に吸着する力が働く。
以上説明した本実施の形態によれば、基板保持器3に第1の磁石装置11が設けられるとともに、真空槽2内に第1の磁石装置11を鉛直方向に吸着する第2の磁石装置12が設けられていることから、水平搬送機構4によって基板保持器3を水平に支持した状態で水平方向に搬送する際、基板保持器3を第1及び第2の磁石装置11、12に沿うようにガイドして基板保持器3の蛇行を防止することができる。
また、第1及び第2の磁石装置11、12間の距離を変化させることによって第1及び第2の磁石装置11、12間の吸着力を調整することができ、これにより種々の基板保持器3に応じてその蛇行を防止することができる。
さらに、本実施の形態によれば、第1の磁石装置11が、密閉空間を有する第1のハウジング21内に配置されるとともに、第2の磁石装置12が、密閉空間を有する第2のハウジング22内に配置されていることから、第1及び第2の磁石装置11、12に対して真空槽2内の浮遊物(例えば成膜材料)が付着することがない。
さらにまた、本実施の形態においては、第1の磁石装置11が基板保持器3の上部に設けられるとともに、第2の磁石装置12が第1の磁石装置11の上方に設けられていることから、搬送時における搬送ローラ4aに加わる荷重を小さくすることができ、これにより搬送ローラ4aの摩耗を軽減することができる。
また、本実施の形態においては、第1のハウジング21が基板保持器3に対して着脱自在に設けられるとともに、第2のハウジング22が真空槽2に対して着脱自在に設けられていることから、第1及び第2のハウジング21、22に付着した真空槽2内の浮遊物(例えば成膜材料)の除去を容易に行うことができ、これによりメンテナンス作業の効率を向上させることができる。
なお、本発明は上述した実施の形態に限られず、種々の変更を行うことができる。
例えば、上記実施の形態では、第1の磁石装置11の上方に第2の磁石装置12を配置するようにしたが、本発明はこれに限られず、第1及び第2の磁石装置11、12の上下関係を逆にすることもできる。
また、第1及び第2のハウジング21、22の形状は一例であり、本発明の範囲を超えない限り、適宜変更することができる。
さらに、本発明はスパッタリング装置のみならず、例えば蒸着装置等の種々の成膜装置に適用することができる。
1……スパッタリング装置(成膜装置)
2……真空槽
3……基板保持器
3a…本体部
3b…開口部
4……水平搬送機構
5……スパッタリングターゲット(成膜源)
10…基板
11…第1の磁石装置
11a…ケース(防着部材)
11M…第1の磁石
12…第2の磁石装置
12a…ケース(防着部材)
12M…第2の磁石
21…第1のハウジング(防着部材)
21C…カバー
22…第2のハウジング(防着部材)
22C…カバー

Claims (5)

  1. 真空中で基板を保持する基板保持器を搬送する搬送装置であって、
    真空槽と、
    前記真空槽内において、複数の支持ローラによって前記基板保持器を水平に支持した状態で水平方向に搬送する水平搬送機構とを有し、
    前記基板保持器に第1の磁石装置が設けられるとともに、前記真空槽内に前記第1の磁石装置を鉛直方向に吸着する第2の磁石装置が設けられ、
    前記第1の磁石装置に対する前記真空槽内の浮遊物の付着を防止する第1の防着部材を有するとともに、前記第2の磁石装置に対する前記真空槽内の浮遊物の付着を防止する第2の防着部材を有する真空搬送装置。
  2. 前記第1の磁石装置が前記基板保持器の上部に設けられるとともに、前記第2の磁石装置が前記第1の磁石装置の上方に設けられている請求項1記載の真空搬送装置。
  3. 前記第1及び第2の防着部材が、それぞれ前記第1及び第2の磁石装置を収容可能な密閉された空間を有する請求項1又は2のいずれか1項記載の真空搬送装置。
  4. 前記第1の防着部材が前記基板保持器に対して着脱自在に設けられるとともに、前記第2の防着部材が前記真空槽に対して着脱自在に設けられている請求項1乃至3のいずれか1項記載の真空搬送装置。
  5. 請求項1乃至4のいずれか1項記載の真空搬送装置と、
    前記基板保持器に保持された基板に対して成膜を行う成膜源とを有する成膜装置。
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