JP7238053B1 - ワーク研磨装置、研磨補助装置およびワーク製造方法 - Google Patents
ワーク研磨装置、研磨補助装置およびワーク製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7238053B1 JP7238053B1 JP2021139524A JP2021139524A JP7238053B1 JP 7238053 B1 JP7238053 B1 JP 7238053B1 JP 2021139524 A JP2021139524 A JP 2021139524A JP 2021139524 A JP2021139524 A JP 2021139524A JP 7238053 B1 JP7238053 B1 JP 7238053B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- work
- holding
- rotation
- workpiece
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 307
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 6
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 52
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 16
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 15
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 6
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 6
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000181 Ethylene propylene rubber Polymers 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920010741 Ultra High Molecular Weight Polyethylene (UHMWPE) Polymers 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Abstract
【解決手段】平板状のワークWを保持しながら従動回転可能な保持部12と、保持部12により保持された前記ワークWに当接して研磨する研磨面を有する定盤11と、を備えるワーク研磨装置であって、保持部12の回転を補助する研磨補助装置20と、研磨補助装置20の動作を制御する制御装置30と、を備え、研磨補助装置20は、モーター23と、当該モーター23により回転駆動するサポートローラー21とを有し、制御装置30は、サポートローラー21の、保持部12に当接しない第1位置から、保持部12に当接する第2位置への移動を制御する、ワーク研磨装置。
【選択図】図1
Description
上記ワーク研磨装置において、前記制御装置は、前記定盤を駆動する駆動源の回転出力の1/100以下の回転出力で、前記サポートローラーを回転させる構成とすることができる。
上記ワーク研磨装置において、前記制御装置は、前記保持部の回転速度、前記保持部で保持する前記ワークのサイズ、または前記保持部の前記ワークに対する押圧力に基づいて、前記サポートローラーの動作を制御する構成とすることができる。
上記ワーク研磨装置において、前記制御装置は、前記保持部の回転速度が所定値以下である場合、前記保持部の回転速度が安定せず所定値以上ばらつく場合、または、前記保持部で保持するワークのサイズが所定値以下である場合に、前記サポートローラーを前記第1位置から前記第2位置へと移動させる構成とすることができる。
上記ワーク研磨装置において、複数の前記保持部と、当該複数の保持部にそれぞれ対応して設けられた複数の前記研磨補助装置とを有し、前記制御装置は、前記複数の保持部間における、前記保持部の回転速度のばらつきが所定値以下となるように、1または複数の前記研磨補助装置の前記サポートローラーの動作を制御する構成とすることができる。
上記ワーク研磨装置において、前記ワークを研磨する際に前記保持部を支持する部材として、前記定盤の中心位置に配設され前記保持部の回転に従動して回転可能なセンターローラー、前記定盤の外周側に配置され前記保持部の回転に従動して回転可能なガイドローラー、または、前記保持部と連結する回転軸を有する構成とすることができる。
上記ワーク研磨装置において、前記制御装置は、前記保持部がワークを前記定盤に圧接する押圧力が第1圧力値以上である場合、または、前記第1圧力値よりも低い第2圧力値以下である場合に、前記サポートローラーを前記第1位置から前記第2位置へと移動させる構成とすることができる。
上記ワーク研磨装置において、前記制御装置は、前記サポートローラーが前記第2位置にある場合に、前記保持部の回転速度、若しくは、前記保持部で保持する前記ワークのサイズまたは前記保持部の前記ワークに対する押圧力に基づいて、前記サポートローラーの回転出力を変更する構成とすることができる。
上記ワーク研磨装置において、前記保持部は、前記ワークを保持する保持プレートと、前記保持プレートを装着可能な研磨ヘッドとを有し、前記サポートローラーは、前記研磨ヘッドまたは前記保持プレートの側面に当接することで、前記研磨ヘッドまたは前記保持プレートを介して前記ワークの回転を補助する構成とすることができる。
上記ワーク研磨装置において、前記保持部の回転速度の情報を回転情報として検出する検出部を備え、前記制御装置は、前記検出部により検出された前記回転情報に基づいて、前記研磨補助装置の動作を制御する構成とすることができる。
(A)φ300mm 690φ/390φ=1.77
(B)φ200mm 640φ/440φ=1.45
(C)φ150mm 615φ/465φ=1.32
(D)φ100mm 590φ/490φ=1.20
そのため、ワークWの外周側から定盤11の中心点C1までの距離L1と、ワークWの内周側から定盤11の中心点C1までの距離L2との比が1.45未満の場合、より好ましくは1.35未満の場合に、サポートローラー21を、研磨ヘッド120に当接しない第1位置から、研磨ヘッド120に当接する第2位置へと移動させる構成とすることができる。
なお、ワークWの外周側から定盤11の中心点C1までの距離L1および内周側から定盤11の中心点C1までの距離L2は、ワークWの外周側の周速度と内周側の周速度の速度にそれぞれ比例するため、ワークWの外周側と内周側との周速度比が1.45未満、の場合、より好ましくは1.35未満の場合に、サポートローラー21を、研磨ヘッド120に当接しない第1位置から、研磨ヘッド120に当接する第2位置へと移動させる構成とすることもできる。また、当然ながら、ワークWの内周側から定盤11の中心点C1までの距離L2÷ワークWの外周側から定盤11の中心点C1までの距離L1でサポートローラー21の動作を制御する構成とすることもできる。
10…研磨装置本体
11…定盤
110…研磨面
12…保持部
120…研磨ヘッド
121…保持プレート
13…センターローラー
20…研磨補助装置
21…サポートローラー
22…アクチュエーター
23…回転モーター
24,25…回転検出センサー
30…制御装置
40…ガイドローラー
W…ワーク
Claims (10)
- 平板状のワークを保持しながら従動回転可能な保持部と、前記保持部により保持された前記ワークに当接して研磨する研磨面を有する定盤と、前記定盤の中心位置に配設され、前記保持部の回転に従動して回転可能なセンターローラーと、前記定盤の外周側に配置され、前記保持部の回転に従動して回転可能なガイドローラーと、を備えるワーク研磨装置であって、
前記保持部の回転を補助する研磨補助装置と、
前記研磨補助装置の動作を制御する制御装置と、を備え、
前記ワークを研磨する際に、前記センターローラーおよび前記ガイドローラーが、前記保持部を支持し、
前記研磨補助装置は、モーターと、当該モーターにより回転駆動するサポートローラーとを有し、
前記制御装置は、前記サポートローラーの、前記保持部に当接しない第1位置から、前記保持部に当接する第2位置への移動を制御する、ワーク研磨装置。 - 前記制御装置は、前記定盤を駆動する駆動源の回転出力の1/100以下の回転出力で、前記サポートローラーを回転させる、請求項1に記載のワーク研磨装置。
- 前記制御装置は、前記保持部の回転速度、前記保持部で保持する前記ワークのサイズ、または前記保持部の前記ワークに対する押圧力に基づいて、前記サポートローラーの動作を制御する、請求項1または2に記載のワーク研磨装置。
- 前記制御装置は、前記保持部の回転速度が所定値以下である場合、前記保持部の回転速度が安定せず所定値以上ばらつく場合、または、前記保持部で保持するワークのサイズが所定値以下である場合に、前記サポートローラーを前記第1位置から前記第2位置へと移動させる、請求項3に記載のワーク研磨装置。
- 複数の前記保持部と、当該複数の保持部にそれぞれ対応して設けられた複数の前記研磨補助装置とを有し、
前記制御装置は、前記複数の保持部間における、前記保持部の回転速度のばらつきが所定値以下となるように、1または複数の前記研磨補助装置の前記サポートローラーの動作を制御する、請求項3または4に記載のワーク研磨装置。 - 前記ワークを研磨する際に前記保持部を支持する部材として、前記定盤の中心位置に配設され前記保持部の回転に従動して回転可能なセンターローラー、前記定盤の外周側に配置され前記保持部の回転に従動して回転可能なガイドローラー、または、前記保持部と連結する回転軸を有する、請求項1ないし5のいずれかに記載のワーク研磨装置。
- 前記制御装置は、前記保持部がワークを前記定盤に圧接する押圧力が第1圧力値以上である場合、または、前記第1圧力値よりも低い第2圧力値以下である場合に、前記サポートローラーを前記第1位置から前記第2位置へと移動させる、請求項3ないし6のいずれかに記載のワーク研磨装置。
- 前記制御装置は、前記サポートローラーが前記第2位置にある場合に、前記保持部の回転速度、若しくは、前記保持部で保持する前記ワークのサイズまたは前記保持部の前記ワークに対する押圧力に基づいて、前記サポートローラーの回転出力を変更する、請求項1ないし7のいずれかに記載のワーク研磨装置。
- 前記保持部は、前記ワークを保持する保持プレートと、前記保持プレートを装着可能な研磨ヘッドとを有し、
前記サポートローラーは、前記研磨ヘッドまたは前記保持プレートの側面に当接することで、前記研磨ヘッドまたは前記保持プレートを介して前記ワークの回転を補助する、請求項1ないし8のいずれかに記載のワーク研磨装置。 - 前記保持部の回転速度の情報を回転情報として検出する検出部を備え、
前記制御装置は、前記検出部により検出された前記回転情報に基づいて、前記研磨補助装置の動作を制御する、請求項1ないし9のいずれかに記載のワーク研磨装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021139524A JP7238053B1 (ja) | 2021-08-30 | 2021-08-30 | ワーク研磨装置、研磨補助装置およびワーク製造方法 |
JP2023012656A JP7240078B1 (ja) | 2021-08-30 | 2023-01-31 | ワーク研磨装置および研磨補助装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021139524A JP7238053B1 (ja) | 2021-08-30 | 2021-08-30 | ワーク研磨装置、研磨補助装置およびワーク製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023012656A Division JP7240078B1 (ja) | 2021-08-30 | 2023-01-31 | ワーク研磨装置および研磨補助装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP7238053B1 true JP7238053B1 (ja) | 2023-03-13 |
JP2023039454A JP2023039454A (ja) | 2023-03-22 |
Family
ID=85513835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021139524A Active JP7238053B1 (ja) | 2021-08-30 | 2021-08-30 | ワーク研磨装置、研磨補助装置およびワーク製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7238053B1 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000158333A (ja) | 1998-12-02 | 2000-06-13 | Noritake Co Ltd | 平面研磨加工方法および装置 |
JP2012206189A (ja) | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Hamai Co Ltd | 片面研磨装置 |
JP2013052455A (ja) | 2011-09-01 | 2013-03-21 | Disco Corp | 砥粒埋め込み装置、ラッピング装置及びラッピング方法 |
JP2017144531A (ja) | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 株式会社島津製作所 | キャリアプレート及びそれを用いた片面研磨装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01301057A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-05 | Toshin Seiki Kk | ポリッシングマシン |
JPH0475870A (ja) * | 1990-07-16 | 1992-03-10 | Tokin Corp | 平面ラップ研磨盤 |
JP2716653B2 (ja) * | 1993-11-01 | 1998-02-18 | 不二越機械工業株式会社 | ウェーハの研磨装置および研磨方法 |
-
2021
- 2021-08-30 JP JP2021139524A patent/JP7238053B1/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000158333A (ja) | 1998-12-02 | 2000-06-13 | Noritake Co Ltd | 平面研磨加工方法および装置 |
JP2012206189A (ja) | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Hamai Co Ltd | 片面研磨装置 |
JP2013052455A (ja) | 2011-09-01 | 2013-03-21 | Disco Corp | 砥粒埋め込み装置、ラッピング装置及びラッピング方法 |
JP2017144531A (ja) | 2016-02-19 | 2017-08-24 | 株式会社島津製作所 | キャリアプレート及びそれを用いた片面研磨装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2023039454A (ja) | 2023-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2559650B2 (ja) | ウエーハ面取部研磨装置 | |
JP2000005988A (ja) | 研磨装置 | |
US6179690B1 (en) | Substrate polishing apparatus | |
US8382558B2 (en) | Apparatus for dressing a polishing pad, chemical mechanical polishing apparatus and method | |
US6402588B1 (en) | Polishing apparatus | |
TW495415B (en) | Semiconductor wafer, polishing apparatus and method | |
JPH0569310A (ja) | ウエーハの鏡面研磨装置 | |
JP2008288599A (ja) | 研磨パッドを使用して基板のノッチを研磨する方法及び装置 | |
JP2008284682A (ja) | 効率的なテープのルーティング配置を有する斜面研磨ヘッドを使用する方法及び装置 | |
US6220936B1 (en) | In-site roller dresser | |
JP6204848B2 (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
JP2002144201A (ja) | 円板形ワークの外周研磨装置及び研磨方法 | |
JP2018001325A (ja) | ヘッド高さ調整装置およびヘッド高さ調整装置を備える基板処理装置 | |
JP7238053B1 (ja) | ワーク研磨装置、研磨補助装置およびワーク製造方法 | |
JP7240078B1 (ja) | ワーク研磨装置および研磨補助装置 | |
JP7339811B2 (ja) | リテーナリングに局所荷重を伝達するローラーの異常検出方法および研磨装置 | |
US6951511B2 (en) | Platen with peripheral frame for supporting a web of polishing material in a chemical mechanical planarization system | |
US20230191553A1 (en) | Method of raising polishing head after polishing of workpiece, polishing apparatus for workpiece, and computer-readable storage medium storing program | |
JP2000317835A (ja) | 半導体の平坦化加工方法および装置 | |
TW202007480A (zh) | 用以研磨基板周緣部的研磨裝置及研磨方法 | |
JPH1029153A (ja) | 半導体ウェーハ研磨装置 | |
JPH09225820A (ja) | 研磨装置 | |
JP2016078159A (ja) | 研磨ヘッド及び研磨処理装置 | |
JP2020040188A (ja) | リテーナリング、これを有する研磨ヘッド及び研磨加工装置 | |
JP7264039B2 (ja) | 研磨ヘッド、化学的機械的研磨装置、および、化学的機械的研磨方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210909 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220927 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221018 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20230111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230131 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20230131 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20230208 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20230214 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230228 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230301 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7238053 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |