JP7237896B2 - 屈曲可能なガラススタックアセンブリおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
約25μm~約125μmの第1の厚さと、第1および第2の主面とを有するガラス素子であって、
(a)第1および第2の主面を有する第1のガラス層と、
(b)ガラス層の第2の主面からガラス層中の第1の深さまで延在する圧縮応力領域において、層の第2の主面における少なくとも約100MPaの圧縮応力によって画定される圧縮応力領域と、
をさらに含むガラス素子と;
第2の厚さを有するガラス層の第2の主面に結合した第2の層と、
を有するスタックアセンブリにおいて、
ガラス素子が、
(a)約25℃および相対湿度約50%において素子を約3mm~約20mmの曲げ半径で少なくとも60分間維持する場合に破壊が起こらないことと、
(b)素子の第2の主面が、(i)約1GPa未満の弾性率を有する厚さ約25μmの感圧接着剤および(ii)約10GPa未満の弾性率を有する厚さ約50μmのポリエチレンテレフタレート層によって支持され、素子の第1の主面が、直径200μmの平底を有するステンレス鋼ピンによる負荷を受ける場合に、約1.5kgf(約14.7N)を超える貫入抵抗と、
(c)8H以上の鉛筆硬度と、
(d)第2の主面と第1の厚さの半分との間に位置するガラス層中の中立軸と、
を特徴とする、スタックアセンブリが提供される。
約25μm~約125μmの第1の厚さを有するガラス層であって、
(a)第1の主面と、
(b)第2の主面と、
(c)ガラス層の第2の主面からガラス層中の第1の深さまで延在する圧縮応力領域において、層の第2の主面における少なくとも約100MPaの圧縮応力によって画定される圧縮応力領域と、
をさらに含むガラス層と;
第2の厚さを有するガラス層の第2の主面に結合した第2の層と、
を含むガラス物品において、
上記ガラス層が、
(a)約25℃および相対湿度約50%において層を約3mm~約20mmの曲げ半径で少なくとも60分間維持する場合に破壊が起こらないことと、
(b)層の第2の主面が、(i)約1GPa未満の弾性率を有する厚さ約25μmの感圧接着剤および(ii)約10GPa未満の弾性率を有する厚さ約50μmのポリエチレンテレフタレート層によって支持され、層の第1の主面が、直径200μmの平底を有するステンレス鋼ピンによる負荷を受ける場合に、約1.5kgf(約14.7N)を超える貫入抵抗と、
(c)8H以上の鉛筆硬度と、
(d)第2の主面と第1の厚さの半分との間に位置するガラス層中の中立軸と、
を特徴とする、ガラス物品が提供される。
第1のガラス層であって、第1および第2の主面と、ガラス層の第2の主面からガラス層中の第1の深さまで延在する圧縮応力領域と、最終厚さとを有し、上記領域が、層の第2の主面における少なくとも約100MPaの圧縮応力によって画定される第1のガラス層を形成するステップと;
第1のガラス層の第2の主面に結合する第2の厚さを有する第2の層を形成するステップと;
約25μm~約125μmの厚さを有するガラス素子であって、が第1および第2の主面、ならびに第1のガラス層をさらに含むガラス素子を形成するステップと、
を含み、
ガラス素子が、
(a)約25℃および相対湿度約50%において素子を約3mm~約20mmの曲げ半径で少なくとも60分間維持する場合に破壊が起こらないことと、
(b)素子の第2の主面が、(i)約1GPa未満の弾性率を有する厚さ約25μmの感圧接着剤および(ii)約10GPa未満の弾性率を有する厚さ約50μmのポリエチレンテレフタレート層によって支持され、素子の第1の主面が、直径200μmの平底を有するステンレス鋼ピンによる負荷を受ける場合に、約1.5kgf(約14.7N)を超える貫入抵抗と、
(c)8H以上の鉛筆硬度と、
(d)第2の主面と第1の厚さの半分との間に位置するガラス層中の中立軸と、
を特徴とする、製造方法が提供される。
ガラス層の第2の主面に実質的に向かって中立軸が移動するように、第1のガラス層および第2の層の厚さおよび弾性率を最適化させるステップをさらに含む、態様25の方法が提供される。
約25μm~約125μmの第1の厚さと、第1および第2の主面とを有するガラス素子であって、
(a)第1および第2の主面を有する第1のガラス層と、
(b)前記ガラス層の前記第2の主面から前記ガラス層中の第1の深さまで延在する圧縮応力領域において、前記層の前記第2の主面における少なくとも約100MPaの圧縮応力によって画定される圧縮応力領域と
をさらに含むガラス素子と;
第2の厚さを有する前記ガラス層の前記第2の主面に結合した第2の層と、
を有するスタックアセンブリにおいて、
前記ガラス素子が、
(a)約25℃および相対湿度約50%において前記素子を約3mm~約20mmの曲げ半径で少なくとも60分間維持する場合に破壊が起こらないことと、
(b)前記素子の前記第2の主面が、(i)約1GPa未満の弾性率を有する厚さ約25μmの感圧接着剤および(ii)約10GPa未満の弾性率を有する厚さ約50μmのポリエチレンテレフタレート層によって支持され、前記素子の前記第1の主面が、直径200μmの平底を有するステンレス鋼ピンによる負荷を受ける場合に、約1.5kgf(約14.7N)を超える貫入抵抗と、
(c)8H以上の鉛筆硬度と、
(d)前記第2の主面と前記第1の厚さの半分との間に位置する前記ガラス層中の中立軸と
を特徴とする、スタックアセンブリ。
前記素子の前記曲げ半径が約3mm~約10mmであることを特徴とする実施形態1に記載のアセンブリ。
前記ガラス層の前記第2の主面における前記圧縮応力が約300MPa~1000MPaであることを特徴とする実施形態1または2に記載のアセンブリ。
前記第1の深さが、前記ガラス層の前記第2の主面から前記ガラス層の前記厚さの約3分の1以下に設定されることを特徴とする実施形態1~3のいずれか一項に記載のアセンブリ。
前記ガラス層が端部をさらに含み、前記ガラス素子が、前記端部から前記ガラス層中の端部深さまで延在する端部圧縮応力領域をさらに含み、前記端部圧縮応力領域が、前記端部における少なくとも約100MPaの圧縮応力によって画定されることを特徴とする実施形態1~4のいずれか一項に記載のアセンブリ。
前記第2の層が、ポリエチレンテレフタレート(PET)と光学的に透明な接着剤(OCA)との複合材料を含み、前記接着剤が前記ガラス層の前記第2の主面に結合し、前記ガラス層の前記第2の主面に実質的に向かって前記中立軸が移動するように、前記PET、OCA、および前記ガラス層の厚さおよび弾性率が構成されることを特徴とする実施形態1~5のいずれか一項に記載のアセンブリ。
前記第2の層が、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)と光学的に透明な接着剤(OCA)との複合材料を含み、前記接着剤が前記ガラス層の前記第2の主面に結合し、前記ガラス層の前記第2の主面に実質的に向かって前記中立軸が移動するように、前記PMMA、OCA、および前記ガラス層の厚さおよび弾性率が構成されることを特徴とする実施形態1~5のいずれか一項に記載のアセンブリ。
前記第2の層が、前記ガラス層の弾性率よりも低い弾性率を有することを特徴とする実施形態1~7のいずれか一項に記載のアセンブリ。
スタックアセンブリの製造方法において、
第1のガラス層であって、第1および第2の主面と、前記ガラス層の前記第2の主面から前記ガラス層中の第1の深さまで延在する圧縮応力領域と、最終厚さとを有し、前記領域が、前記層の前記第2の主面における少なくとも約100MPaの圧縮応力によって画定される第1のガラス層を形成するステップと;
前記第1のガラス層の前記第2の主面に結合する第2の厚さを有する第2の層を形成するステップと;
約25μm~約125μmの厚さを有するガラス素子であって、第1および第2の主面と、前記第1のガラス層とをさらに含むガラス素子を形成するステップと
を含み、
前記ガラス素子が、
(a)約25℃および相対湿度約50%において前記素子を約3mm~約20mmの曲げ半径で少なくとも60分間維持する場合に破壊が起こらないことと、
(b)前記素子の前記第2の主面が、(i)約1GPa未満の弾性率を有する厚さ約25μmの感圧接着剤および(ii)約10GPa未満の弾性率を有する厚さ約50μmのポリエチレンテレフタレート層によって支持され、前記素子の前記第1の主面が、直径200μmの平底を有するステンレス鋼ピンによる負荷を受ける場合に、約1.5kgf(約14.7N)を超える貫入抵抗と、
(c)8H以上の鉛筆硬度と、
(d)前記第2の主面と前記第1の厚さの半分との間に位置する前記ガラス層中の中立軸と
を特徴とする、スタックアセンブリの製造方法。
前記ガラス層の前記第2の主面に実質的に向かって前記中立軸が移動するように、前記第1のガラス層および前記第2の層の厚さおよび弾性率を最適化するステップをさらに含むことを特徴とする実施形態9に記載の方法。
前記第2の層が、前記ガラス層の弾性率よりも低い弾性率を有することを特徴とする実施形態9または10に記載の方法。
Claims (6)
- ガラス素子及び第2の層を具備するスタックアセンブリであって、
25μm~125μmの第1の厚さと、第1および第2の主面とを有する前記ガラス素子であって、
(a)第1および第2の主面を有する第1のガラス層と、
(b)前記ガラス層の前記第2の主面から前記ガラス層中の第1の深さまで延在する圧縮応力領域であって、前記層の前記第2の主面における少なくとも100MPaの圧縮応力によって画定され、5μm以下の最大欠陥寸法を有する圧縮応力領域と
をさらに含む前記ガラス素子と;
前記ガラス層の前記第2の主面に結合した第2の厚さを有する前記第2の層であって、ポリエチレンテレフタレート及びポリメタクリル酸メチルの少なくとも一方を含むポリマと光学的に透明な接着剤(OCA)との複合材料を含み、前記OCAが前記ガラス層の前記第2の主面に結合し、前記ポリマの層、前記OCA、並びに前記ガラス層の厚さ及び弾性率が、前記第2の主面が張力下にある場合に、前記第2の層に結合しない場合の前記ガラス層の中立軸の位置と比較して、前記ガラス層の前記第2の主面に向かって前記中立軸が移動するよう構成された前記第2の層と
を有する前記スタックアセンブリにおいて、
前記ガラス素子が、
(a)25℃および相対湿度50%において前記ガラス素子を3mm~10mmの曲げ半径で少なくとも60分間維持する場合に破壊が起こらないことと、
(b)前記ガラス素子の前記第2の主面が、(i)1GPa未満の弾性率を有する厚さ25μmの感圧接着剤および(ii)10GPa未満の弾性率を有する厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートの層によって支持され、かつ、前記ガラス素子の前記第1の主面が、直径200μmの平底を有するステンレス鋼ピンによる負荷を受ける場合に、1.5kgf(14.7N)を超える貫入抵抗と、
(c)8H以上の鉛筆硬度と、
(d)前記第2の主面と前記第1の厚さの半分との間に位置する前記ガラス層中の中立軸と
により特徴付けられる、スタックアセンブリ。 - 前記ガラス層の前記第2の主面における前記圧縮応力が300MPa~1000MPaであることを特徴とする請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記第1の深さが、前記ガラス層の前記第2の主面から前記ガラス層の前記厚さの3分の1以下に設定されることを特徴とする請求項1に記載のアセンブリ。
- 前記ガラス層が端部をさらに含み、
前記ガラス素子が、前記端部から前記ガラス層中の端部深さまで延在する端部圧縮応力領域をさらに含み、
前記端部圧縮応力領域が、前記端部における少なくとも100MPaの圧縮応力によって画定されることを特徴とする請求項1に記載のアセンブリ。 - 前記第2の層が、前記ガラス層の弾性率よりも低い弾性率を有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記圧縮応力領域が2.5μm以下の最大欠陥寸法を有することを特徴とする請求項1に記載のアセンブリ。
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