JP7236123B1 - 洗浄剤 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】過酸化水素とキレート剤とを含有し、塩化物イオン濃度を前記過酸化水素濃度で除したときの割合が0.004~0.400%であることを特徴とする洗浄剤
【選択図】なし
Description
例えば、半導体や液晶製造工場等では、電子部品の洗浄や製造プラントの殺菌消毒処理のために使用され、水処理分野では、例えば、特許文献1にはスライムを過酸化水素水によって洗浄除去する方法が開示されている。
また、上記特許文献3には、過酸化水素とキレート剤とを含有する洗浄剤における塩化物イオン濃度を具体的にどの程度に制御すべきか開示されておらず、また、塩化物イオン濃度を特定の範囲に制御することと洗浄剤における過酸化水素の安定性との関係についても記載されていない。
本発明において、キレート剤は、有機ホスホン酸であることが好ましい。
また、本発明において、有機ホスホン酸は、1-ヒドロキシエタン-1,1-ジホスホン酸、2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸、及び、アミノトリメチレンホスホン酸からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
上記塩化物イオン濃度を上記過酸化水素濃度で除したときの割合とは、具体的には、[本発明の洗浄剤における塩化物イオン濃度(%)/本発明の洗浄剤における過酸化水素濃度(質量%)]×100で算出される値である。
上記割合を0.004未満とすることは技術上困難であり、上記割合が0.400を超えると、上記過酸化水素の安定性が劣り本発明の洗浄剤に十分な洗浄効果が得られなくなる。
なお、上記塩化物イオン濃度は、チオシアン酸水銀(II)吸光光度分析方法を用いて測定された値である。
本発明の洗浄剤における上記塩化物イオン濃度を上記過酸化水素濃度で除した割合の好ましい下限が、0.004%、好ましい上限が0.400%である。上記割合が0.400%を超えると過酸化水素の安定性が劣り十分な洗浄効果が得られなくなることがあり、0.004%未満とすることは技術的に困難である。上記塩化物イオン濃度割合のより好ましい上限は0.300%である。
なお、上記過酸化水素の減少率は酸化還元滴定により測定することができる。
本発明の洗浄剤において、上記キレート剤としては、有機ホスホン酸であることが好ましい。
上記有機ホスホン酸としては、例えば、1-ヒドロキシエタン-1,1-ジホスホン酸(別名:1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸:HEDP)、2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸(PBTC)、アミノトリメチレンホスホン酸(ATMP)、ヘキサメチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メチレンホスホン酸)及びジエチレントリアミンペンタ(メチレンホスホン酸)等が挙げられ、本発明ではこれらの1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。なかでも、上記有機ホスホン酸としては、1-ヒドロキシエタン-1,1-ジホスホン酸(HEDP)、2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸(PBTC)、及び、アミノトリメチレンホスホン酸(ATMP)からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、洗浄能力が高く、化学物質排出把握管理促進法等法規制による使用制限に該当しないことから、アミノトリメチレンホスホン酸(ATMP)がより好ましい。
また、上記無機酸としては、例えば、スルファミン酸(SA)等が挙げられる。
上記他の添加剤としては、例えば、ポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド(DADMAC)、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルリン酸ジエタノールアミン(PA)等が挙げられる。
製紙工場における紙を製造する工程には、紙・パルプ製造工程又は抄紙工程もしくは脱水工程があり、本発明の洗浄剤は、これらの工程水系における部材、壁材表面にしばしば付着して各種トラブルを引き起こすスライム汚れやスラッジ状の汚れを、簡便に剥離分散して系外へ除去することができる。
これらの紙を製造する工程水系において付着、堆積する汚れは、バージンパルプからのピッチ成分、微細繊維、古紙からの印刷インキ、填料としてのクレー、珪藻土、タルク、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム等、サイズ剤としてのロジンサイズ、アルキルケテンダイマー、アルケニル無水コハク酸、硫酸バンド、紙力増強剤としてのポリアクリル樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、メラミン-ホルムアルデヒド樹脂、デンプン、カチオン化デンプン等、また用水からの鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属塩類さらにバクテリア、カビ等によるスライム、等々からなる複雑な組成を有し、その由来成分の特殊性により一般冷却水系のような通常の工業用水系中で生じるスラッジ状の汚れとは成分、性質等が大きく異なるものである。本発明の洗浄剤は、これらの製紙工場の工程水系で生じる汚れに特に好適に用いられる洗浄剤である。
[洗浄剤の調製]
原料キレート剤として、アミノトリメチレンホスホン酸(ATMP)をイオン交換膜法により精製し、塩化物イオン含有量が0.14%、鉄含有量が2.5mg/L、カルシウムの含有量が5.3mg/LのATMP(1)を調製した。
次いで、過酸化水素25質量%、ATMP(1)12質量%、純水63質量%となるように各原料を混合し、実施例1に係る洗浄剤を調製した。
なお、製造した洗浄剤における塩化物イオン濃度は0.033%であり、塩化物イオン濃度を過酸化水素濃度で除した塩化物イオン濃度割合は0.132であった。
原料キレート剤の精製の条件を変更し、表1に示した組成のキレート剤としてATMP(2)~(8)を調製した。なお、表1に記載の濃度はATMPに対する濃度である。
ATMP(1)に代えてATMP(2)~(8)をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様にして実施例2~3、比較例1~5に係る洗浄剤をそれぞれ調製した。
また、過酸化水素13質量%、ATMP(4)6質量%、純水81質量%となるように各原料を混合し、比較例6に係る洗浄剤を調整した。
調整後50℃、4週間経過した実施例及び比較例に係る各洗浄剤における過酸化水素の減少率を酸化還元滴定により測定し、結果を表2に示した。
なお、実施例1と比較例3、5との比較から、鉄イオン濃度が低いものであっても、塩化物イオン濃度が高いと過酸化水素減少率が高くなり、実施例1と比較例5との比較から、カルシウムイオン濃度が低くても塩化物イオン濃度が高いと過酸化水素減少率が高くなっていた。
上記表1に示したように、原料キレート剤としてHEDP、PBTC及びホスフィノカルボン酸を使用し、実施例1と同様に精製を行ってキレート剤を調製すると、塩化物イオン濃度割合が0.004~0.040%と極めて低い値であった。
そして、キレート剤として調製したHEDP、PBTC及びホスフィノカルボン酸を用いた以外は実施例1と同様に洗浄剤を製造し、過酸化水素減少率を20%以下に抑制できることを確認した。
原料キレート剤の精製の条件を変更し、キレート剤として洗浄剤における塩化物イオン濃度が表3に示した値となるATMP(9)~(16)を調製した。
ATMP(1)に代えてATMP(9)~(16)をそれぞれ用い、過酸化水素濃度を表3に示した値とした以外は実施例1と同様にして実施例4~11に係る洗浄剤をそれぞれ調製した。
その後、実施例1と同様にして過酸化水素の減少率を測定し、結果を表3に示した。
Claims (2)
- 過酸化水素とアミノトリメチレンホスホン酸と水のみを含有する洗浄剤において、塩化物イオン濃度を前記過酸化水素濃度で除したときの割合を0.004~0.400%とすることを特徴とする過酸化水素とアミノトリメチレンホスホン酸と水のみを含有する洗浄剤における過酸化水素の分解を抑制する方法。
- 過酸化水素とアミノトリメチレンホスホン酸と水のみを含有する洗浄剤の製造方法であって、
塩化物イオン濃度を前記過酸化水素濃度で除したときの割合が0.004~0.400%となるように、前記過酸化水素及び前記アミノトリメチレンホスホン酸を前記水に加え、混合することを特徴とする過酸化水素とアミノトリメチレンホスホン酸と水のみを含有する洗浄剤の製造方法。
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