JP7234729B2 - ノズル、塗布装置および塗布方法並びにディスプレイ用部材の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、金属、ガラス、フィルム、紙等の基材に、ストライプ状に塗布液を塗布してストライプ塗布膜を形成するノズル、塗布装置および塗布方法並びにディスプレイ用部材の製造方法の改良に関する。

金属、ガラス、フィルム、紙等の基材に、塗布膜を所望の幅とピッチでストライプ状に多数形成するストライプ塗布膜形成方法が注目されている。そして、このストライプ塗布膜を簡便かつ精度よく形成する手段として、ストライプノズルが知られている（例えば、特許文献１、図２参照）。

このストライプノズルは、内部に塗布液が供給される流入流路と、ノズルの長手方向である塗布幅方向に延在するマニホールドと、塗布幅方向にストライプ塗布膜のピッチＬＲで設けられた複数の流出流路と、を備えている。そして、ノズルの外部には、各流出流路の流出側がノズル本体より基材側に突き出るように複数の突出部を備え、各突出部は流出側先端が平面に形成されており、該平面に吐出口が形成されている。流入流路に投入された塗布液は、マニホールドに流入して塗布幅方向に拡幅された後、各流出流路に均等に分配されて、流出流路の出口である吐出口から、流出流路の本数だけストライプ状に吐出される。

そのため、吐出口のある突出部の流出側先端の平面（以下、吐出口先端面という）の塗布幅方向の長さは、吐出口の幅ＬＥより少し大きな幅ＬＤとなっている。また、隣り合う突出部間には、谷となる凹部形状の切欠きがあり、この切欠きが各吐出口ごとにある吐出口先端面を形状的に分離し、その結果吐出口先端面両側に、塗布方向に延びるエッジを形成する。このエッジは通常は９０度よりも大きな鈍角の角（かど）となる。そして、このような塗布幅方向両側にエッジのある吐出口先端面を基材と一定の隙間を設けて対向させ、各吐出口からストライプ状に塗布液を吐出させながら、基材をノズルに対して一定速度Ｖで相対移動させる。すると吐出口から吐出された塗布液は、幅ＬＤの吐出口先端面両側のエッジまで広がりそこで一旦留まった後に、幅ＬＤで基材上に落下して、幅ＬＢでピッチＬＲのストライプ塗布膜を形成する。ストライプ塗布膜の幅ＬＢは、基材の相対移動速度Ｖに依存し、速度Ｖが大きければ吐出口先端面の塗布液を引きこむことになるので幅ＬＢは幅ＬＤより小さくなり、速度Ｖが小さければその反対の関係となる。

しかしながら、以上の状況はすべての塗布液や塗布条件に対して成り立つものではない。例えば塗布液が１００ｍＰａｓ以上の粘度で、ストライプ塗布膜の厚さが２０μｍ以下と小さく、ノズルからの吐出速度や吐出量が小さい場合は、移動速度Ｖが大きくても、図６に示すように、ストライプ塗布膜の幅ＷＤ（特許文献１のＬＢに相当）は、吐出口先端面の幅ＷＥ（特許文献１のＬＤに相当）よりもかなり大きくなり、厚さも狙い厚さよりも相当小さくなる。これは、吐出口から吐出された塗布液が、壁面作用により吐出口先端面両側のエッジまで広がった後も移動してエッジを乗り越え、エッジの先にある斜面をはい上がることの結果として起こる。すなわち、斜面をはい上がる塗布液が一定量溜まってから重力により落下して基材上にストライプ塗布膜が形成されるので、ストライプ塗布膜の幅ＷＤは、吐出口先端面両側のエッジを乗り越えて形成される塗布液の溜まり部分の最大幅（塗布幅方向長さ）に依存するようになり、吐出口先端面の幅ＷＥよりもかなり大きくなる。そして、吐出口からの塗布液吐出量は同じであることから、ストライプ塗布膜の幅ＷＤが吐出口先端面の幅ＷＥよりもかなり大きいときの膜厚は、幅ＷＥより少し大きい時の膜厚よりも減少する。

以上のことを改善するために、吐出された塗布液が吐出口先端面両側のエッジで留まるように、エッジを鈍角ではなく、例えば特許文献２に記載されるように９０度の角にしたり、さらには鋭角の角にすることが対策として考えられるが、全く改善効果がない。

以上、塗布液の粘度や塗布条件に制約されずに、所望の小さな幅と厚さでストライプ塗布膜を形成できるノズルがないというのが現状である。

特開２０１３－１９２９８３号公報 特開２０１６－７８０１２号公報

本発明は、上述のような従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、いかなる粘度の塗布液や塗布条件であっても、所望の小さな幅と厚さでストライプ塗布膜を形成できるノズルとそれを使用した塗布装置および塗布方法を提供することにある。本発明はまた、上記の塗布方法を使用して、低コストで高品質のディスプレイ用部材を製造できるディスプレイ用部材の製造方法を提供することも目的としている。

本発明の目的は、以下のいずれかに述べる手段によって達成される。
（１）塗布液が供給される塗布液供給口と、塗布液供給口から内部に流入する塗布液を塗布幅方向に拡幅するマニホールドと、該マニホールドに連通して塗布液が下流に向かって流れる流出流路と、該流出流路の下流側端部で開口して塗布液が外部に吐出される吐出口と、を有するノズルであって、前記吐出口を含む吐出口先端面と、前記吐出口の塗布幅方向両端で上流側に向けて連なる外側斜面とで、下流側に突き出る突出部を外部に形成するとともに、前記流出流路の塗布幅方向両端に存在する両端流出面と前記外側斜面とで、塗布方向に延びる線状のエッジを形成し、かつ、前記両端流出面と前記外側斜面とがなす角度は６０度以上９０度以下であることを特徴とするノズル。
（２）前記吐出口を含む平面と前記外側斜面とがなす角度は５度以上８５度以下であることを特徴とする、前記（１）に記載のノズル。
（３）前記吐出口を含む平面と前記両端流出面とがなす角度は１５度以上９０度以下であることを特徴とする、前記（１）または（２）に記載のノズル。
（４）前記（１）～（３）のいずれかに記載のノズルと、該ノズルに定量の塗布液を供給する塗布液供給装置と、基材を保持する基材載置台と、前記ノズルおよび前記基材載置台のうちの少なくとも一方を相対的に移動させる移動装置と、前記ノズルを基材に近接させる近接装置と、前記ノズルの吐出口を前記基材上の任意の場所に位置合わせをする位置合わせ装置と、を備えている塗布装置。
（５）前記（１）～（３）のいずれかに記載のノズルを所望する場所で基材に近接させ、前記ノズルに塗布液を供給して前記ノズルの吐出口から塗布液を吐出するとともに、前記基材の前記ノズルに対する相対移動を行って、前記基材上にストライプ塗布膜を形成することを特徴とする塗布方法。
（６）前記（５）に記載の塗布方法を用いて、ディスプレイ用部材を製造することを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。

本発明のノズルは、吐出口を含む吐出口先端面と、前記吐出口の塗布幅方向両端で上流側に向けて連なる外側斜面とで、ノズルの下流側に突き出る突出部を外部に形成するとともに、流出流路の塗布幅方向両端に存在する両端流出面と前記外側斜面とで、塗布方向に延びる線状のエッジを形成し、かつ、前記両端流出面と前記外側斜面とがなす角度、すなわちエッジの角度を６０度以上９０度以下の鋭い角になるようにしたので、両端流出面に沿って下流側に向かって流れる塗布液は、エッジの位置で上流側に急激に反転する外側斜面に沿って流れることが難しくなって、エッジを乗り越えることが困難となる。そしてその位置で塗布液が落下して基材に塗布されるため、吐出口両端のエッジ間長さがほぼそのまま幅となる、小さな幅のストライプ塗布膜を安定して形成することができる。また吐出口から吐出される塗布液量を制御することにより、それがそのまま、基材上に塗布されるストライプ塗布膜の厚さを制御することになり、この厚さを所望の値にすることができる。以上のことは塗布液の粘度や塗布条件に関係なく実現することができる。

さらに本発明の塗布装置、塗布方法は上記のすぐれたノズルを使用しているので、いかなる粘度の塗布液や塗布条件であっても、所望の小さな幅と厚さでストライプ塗布膜を形成することができる。

または本発明のディスプレイ用部材の製造方法は上記のすぐれた塗布方法を用いているので、低コストで高品質のディスプレイ用部材を容易に製造することができる。

本発明に係る塗布装置１の一実施態様を示す斜視図である。 本発明に係るノズル３０を各構成部材に分解した概略斜視図である。 ノズル３０の流出スペーサ１００での基材への塗布状況を示す正面断面図である。 流出スペーサ１００での基材への塗布状況を詳細に示す部分拡大正面断面図である。 本発明に係る別のノズル２００の流出スペーサ２１０での基材への塗布状況を詳細に示す部分拡大正面断面図である。 公知の従来ノズル３００の流出スペーサ３１０での基材への塗布状況を詳細に示す部分拡大正面断面図である。

以下、本発明の実施形態の一例を図面に基づいて説明する。

まず図１を参照すると、塗布液を基材上にストライプ状に塗布してストライプ塗布膜を形成できる塗布装置１が示されている。この塗布装置１は、基材である基板Ａに塗布液を塗布するノズル３０と、ノズル３０と基板Ａが取りつけられてこれらを自在に移動させるＸＹＺステージ１０と、ノズル３０に定量の塗布液を供給する塗布液供給手段である塗布液供給装置５０と、ＸＹＺステージ１０と塗布液供給装置５０の動作を統括的に制御する制御装置８０と、より構成されている。

ＸＹＺステージ１０の吸着盤１４には基板Ａが載置され、Ｚ軸リニア駆動装置１２にはノズル３０が固定保持されている。吸着盤１４の上面には図示されていない吸着孔が多数配置されており、図示されていない真空源からの真空圧によって基板Ａを吸着保持することができる。すなわち吸着盤１４は、基板Ａを保持する基材載置台となっている。この吸着盤１４はその中央部で図示しない回転軸を介してＸ－ψ駆動装置１６に取り付けられている。Ｘ－ψ駆動装置１６は、ベース２６上に固定されており、吸着盤１４のＸ－Ｙ平面内での回転とＸ方向（基板Ａの長手に平行な方向）の往復動を自在に行なうことができる。以上よりＸ－ψ駆動装置１６は、Ｘ方向にノズル３０と吸着盤１４を相対的に移動させる移動装置となる。なおＸ、Ｙ、Ｚの方向については、図１に示される通りで、ＸＹＺステージ１０の左下隅にＸ、Ｙ、Ｚ各軸の原点Ｏが設けられているとともに、原点Ｏでの矢印の方向が正方向である。またＸ－Ｙ平面内での回転方向がψ方向となっている。

ノズル３０を保持するＺ軸リニア駆動装置１２は、ノズル３０をＺ方向すなわち上下方向に自在に昇降することができるもので、ブラケット１８に固定されている。ブラケット１８はさらにＹ軸リニア駆動装置２０に保持されている。Ｙ軸リニア駆動装置２０は、ベース２６上の一端に配置されている門型ベース２８上に固定されており、ブラケット１８をＹ方向に自在に往復動させることができる。その結果ブラケット１８に固定されているノズル３０をＹ方向にも自在に往復動させることができる。以上より、Ｙ軸リニア駆動装置２０は、Ｙ方向にノズル３０と吸着盤１４を相対的に移動させる移動装置となる。

さらに吸着盤１４の上方のブラケット１８には、ＣＣＤカメラ２２と高さセンサー２４も装着されている。ＣＣＤカメラ２２は制御装置８０に電気的に連結されており、基板Ａのアライメントマークの位置を検知して、それを制御装置８０に伝える。そして制御装置８０がＸ－ψ駆動装置１６やＹ軸リニア駆動装置２０を駆動することによって、ノズル３０の吐出口１１０に対する基板Ａの位置合わせや、ψ方向の相対回転角度設定を行うことができる。以上より、ＣＣＤカメラ２２、Ｘ－ψ駆動装置１６、Ｙ軸リニア駆動装置２０、制御装置８０が、ノズル３０の吐出口１１０を基板Ａ上の任意の場所に位置合わせをする位置合わせ装置を構成している。一方高さセンサー２４は、基板Ａの上面の位置を検知、すなわち基板Ａの厚さを検知し、それを電気的に接続されている制御装置８０に伝える。その信号に基づいて制御装置８０がＺ軸リニア駆動装置１２を駆動することによって、ノズル３０の最下面と基板Ａ上面とのすきま、すなわちクリアランスを所定値に設定することができる。以上よりＺ軸リニア駆動装置１２が、基材である基板Ａに近接させる近接装置となる。

再びノズル３０を見ると、塗布液供給装置５０に連なる供給ホース６８とノズル３０が常時接続されており、これによりノズル３０へは塗布液供給装置５０から塗布液を供給することができる。ノズル３０へ供給された塗布液は、ノズル３０の内部通路を経て基板Ａに向かってノズル３０より吐出される。

なお、塗布液供給装置５０は、供給ホース６８の上流側に、フィルター５６、供給バルブ５２、シリンジポンプ６０、吸引ホース７０、吸引バルブ５４、タンク７２を備えている。ここで供給ホース６８はノズル３０～シリンジポンプ６０までを連通し、吸引ホース７０はシリンジポンプ６０～タンク７２までを連通している。供給ホース６８は、ノズル３０が移動するのにあわせて追従できるように樹脂製としており、耐薬品性等も考慮して、テフロン（登録商標）等を使用するのが好ましい。最も上流にあるタンク７２には塗布液７４が蓄えられており、圧空源７６に連結されて任意の大きさの背圧を塗布液７４に付加することができる。タンク７２内の塗布液７４は、吸引ホース７０を通じてシリンジポンプ６０に供給される。シリンジポンプ６０では、シリンジ６２、ピストン６４が本体６６に取り付けられている。ここでピストン６４は図示しない駆動源によって上下方向に自在に往復動できる。シリンジポンプ６０は、一定の内径を有するシリンジ６２内に塗布液７４を充填し、それをピストン６４により押し出して、ノズル３０に一定容量の塗布液を供給できる間欠型定容量ポンプである。シリンジ６２内に塗布液７４を充填するときは、シリンジポンプ６０の上流側の開閉バルブである吸引バルブ５４を開、下流側の開閉バルブである供給バルブ５２を閉として、ピストン６４を下方に移動させる。またシリンジ６２内に充填された塗布液をノズル３０に向かって供給するときは、吸引バルブ５４を閉、供給バルブ５２を開とし、ピストン６４を上方に移動させることで、ピストン６４でシリンジ６２内部の塗布液７４を押し上げ排出する。

次に、以上の塗布液供給装置５０から塗布液７４が供給されるノズル３０の詳細について、図２、図３を用いて説明する。

まず、ノズル３０は、図２に示すように、ノズル３０の長手方向である塗布幅方向（Ｘ方向）に延在する第１リップ３１、第２リップ４１と、それらに挟まれる第１スペーサ１２０、流出スペーサ１００、第２スペーサ１４０と、リップ締結用の複数の組立ボルト４２と、で構成されている。第１リップ３１と第２リップ４１は、それぞれの内面３４と内面４４が対向する状態で配置され、その間に、３種のスペーサを挟み込んで、複数の組立ボルト４２で締結固定することで、ノズル３０として一体化されている。

また第１リップ３１の内面３４には、供給される塗布液を塗布幅方向に拡幅するためのマニホールド３２が、塗布幅方向に延在して形成されている。そして、マニホールド３２の塗布幅方向の中央には、塗布液が外部から供給される流入流路３３が第１リップ３１の外部にある塗布液供給口（図示されていない）と連通するように設けられている。すなわち、塗布液供給口から流入流路３３を介して内部に流入する塗布液が、マニホールド３２に供給される。なお塗布液が供給される塗布液供給口は、流入流路３３が上流側にある第１リップ３１の外側面で開口したものとなる。ここで、流入流路３３は、塗布液供給口から供給される塗布液をマニホールド３２の塗布幅方向に一様に拡幅するために、マニホールド３２の塗布幅方向の中央部に設けることが好ましいが、中央部以外に設けてもよい。

次に、ノズル３０の内部に含まれる３種のスペーサはいずれも薄板であり、厚さ方向であるＹ方向に、第１スペーサ１２０、流出スペーサ１００、第２スペーサ１４０の順に重ねられて構成されている。これら３種のスペーサが重ねられることで、図３に示すように、マニホールド３２に連通する流出流路（第１流出流路１０１および第２流出流路１０２）、さらには吐出口１１０が形成される。またこれら３種のスペーサは、吐出口１１０を含む吐出口先端面１１１とそれらの外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂとで、ノズルの下流側外側に突き出る突出部を形成する。なお、ここでいう吐出口先端面１１１とは、細かい破線で位置が示されているように、重ねられた流出スペーサ１００、第１スペーサ１２０、第２スペーサ１４０それぞれの流出流路最下流側端部によって形成される、吐出口１１０を含む面であり、塗布幅方向においてはエッジ１０５Ａ、１０５Ｂの間の領域である。

図２に示すように、第１スペーサ１２０の外周部または外形となる外形輪郭１２２と第２スペーサ１４０の外周部または外形となる外形輪郭１４２は、重ね方向であるＹ方向に見て同一であることが好ましい。これにより、第１スペーサ１２０と第２スペーサ１４０は、Ｙ方向に重ねた状態で外形輪郭１２２と外形輪郭１４２を同時加工によって形成することができる。また、第１リップ３１、第１スペーサ１２０、流出スペーサ１００、第２スペーサ１４０、第２リップ４１には、同じ位置で貫通している組立ボルト４２の挿入用穴４５が複数個設けられているが、この挿入用穴４５も、第１リップ３１、３種のスペーサ、第２リップ４１をＹ方向に重ねた状態で同時加工によって形成することが好ましい。なお第１スペーサ１２０と第２スペーサ１４０の相違は、第１スペーサ１２０の内部に第１リップ３１のマニホールド３２からの塗布液が通過する開口部１２４が設けられていることだけである。また、Ｙ方向に見て、開口部１２４とマニホールド３２は、形状が略一致していることが好ましい。

つづいて、第１スペーサ１２０と第２スペーサ１４０の間に位置する流出スペーサ１００については、図３を用いて詳細に説明する。図３はノズル３０による基材への塗布状況を示す拡大正面断面図であるが、断面は流出スペーサ１００をＹ方向に、第２リップ４１側から見たもので表している。図中、パターン模様をつけている部分は塗布液７４を示し、破線は、塗布液７４や流出スペーサ１００越しに見える開口部１２４、流入流路３３を示している。

図３を見ると、流出スペーサ１００の内部には、第１流出流路１０１とそれに連通する第２流出流路１０２が、Ｘ方向にピッチＰで６個配置されている。ノズル３０の塗布液供給口に供給された塗布液は、第１リップ３１の流入流路３３、マニホールド３２、第１スペーサ１２０の開口部１２４を経て、第１流出流路１０１の一部に流れ込み、そこから第２流出流路１０２と流れ、第２流出流路１０２が下流側端部で開口して形成される吐出口１１０からノズル３０外部に向かって吐出され、基板Ａに塗布される。このことから、第１流出流路１０１と第２流出流路１０２は、マニホールド３２に連通して塗布液が下流に向かって流れる流出流路となる。また吐出口１１０は、第２流出流路１０２の下流側端部で開口して塗布液が外部に吐出される部分となる。なお吐出口１１０の塗布幅方向両端には、塗布方向に線状に延びるエッジ１０５Ａ、１０５Ｂが形成されている。

つづいて流出スペーサ１００における第１流出流路１０１以降での塗布状況をより詳細に、図４を用いて説明する。図４は、流出スペーサ１００での基材への塗布状況を詳細に示す部分拡大正面断面図である。ここで第１流出流路１０１はＸ方向に幅ＷＡ、Ｚ方向に長さＬＢの矩形状となっている。一方第２流出流路１０２については、第１流出流路１０１との接続点を起点として下流側の吐出口１１０までの全長ＬＤのうち、前半の長さＬＥの区間で、第１両端流出面１０３Ａ、１０３ＢがＸ方向に幅ＷＢのスリットを形成している。そして後半の吐出口１１０まで及ぶ長さＬＦの区間では、下流側に向かうに従って互いに離れる第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂによって、スリットの幅ＷＢが吐出口１１０のＸ方向に幅ＷＣまで拡大している。すなわち第２流出流路１０２は、吐出口１１０近くで、塗布幅方向であるＸ方向に拡大して吐出口１１０に至っている。このため第２流出流路１０２の塗布幅方向両端に形成されている第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂが、一点鎖線で示されている吐出口１１０を含む平面となす角度αＡ、αＢは、９０度より小さくなる。

ここで、第１両端流出面１０３Ａ、１０３Ｂと第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂは、ともに第２流出流路１０２の塗布幅方向両端に形成されるものである。そして第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂは、吐出口１１０のＸ方向両端でそれぞれ外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂと接続し、その結果、吐出口１１０の塗布幅方向両端にエッジ１０５Ａ、１０５Ｂが形成される。このエッジ１０５Ａ、１０５Ｂは、紙面に垂直な方向、すなわち塗布方向（Ｙ方向）に線状に延びている。以上より、第２流出流路１０２の塗布幅方向両端に形成されて下流の吐出口１１０に至る第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂと、外部に形成されて、吐出口１１０の塗布幅方向両端から上流側に延びていく外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂとによって、塗布方向に線状のエッジ１０５Ａ、１０５Ｂが形成される。なお上記したように、各スペーサの流出流路最下流側端部によって形成され、かつ、塗布幅方向においてはエッジ１０５Ａ、１０５Ｂで挟まれる領域が、吐出口１１０を含む吐出口先端面１１１となる。したがって以上の構成により、吐出口１１０を含む吐出口先端面１１１と、吐出口１１０の塗布幅方向両端で上流側に向けて連なる外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂとで、下流側に突き出る突出部１０９Ａ、１０９Ｂを外部に形成する。

ここで、第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂと外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂとがなす角度θＡ、θＢは、６０度以上９０度以下、好ましくは７０度以上９０度以下とする。すなわち、第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂと外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂとで形成される角度６０度以上９０度以下の角が、エッジ１０５Ａ、１０５Ｂとなる。なお角度θＡ、θＢが６０度未満であると、エッジ１０５Ａ、１０５Ｂが塗布方向（Ｙ方向）に一直線状とならず、波打ち形状となり好ましくない。

さらにノズル３０の外部に配置されている外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂは、図４中一点鎖線で示す、吐出口１１０を含む平面（吐出口先端面１１１の延長面）に対して、それぞれ角度φＡ、φＢをなしている。すなわち角度φＡ、φＢは、一点鎖線で示す吐出口１１０を含む平面と上流側に延びていく外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂとがなす角度である。これによって、外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂは、吐出口１１０を基準として、吐出口１１０の塗布幅方向両端にあるエッジ１０５Ａ、１０５Ｂから上流側に延びている。この結果、本発明においては、吐出口１１０の塗布幅方向両側に吐出口と平行な平面は形成されない。

なお、外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂは、エッジ１０５Ａ、１０５Ｂから上流側に向かって立上ってから、吐出口１１０と平行な平面である底面１０７と接続している。そして吐出口１１０に塗布幅方向（Ｘ方向）に隣接する外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂ、底面１０７で囲まれる部分は、凹型形状の切欠き１０８を形成している。すなわち、吐出口１１０の塗布幅方向両端部に隣接して切欠き１０８が設けられる。また、底面１０７、外側斜面１０６Ａ、吐出口先端面１１１、外側斜面１０６Ｂと、流出スペーサ１００のその他の外形輪郭１１２は、第１スペーサ１２０の外形輪郭１２２、第２スペーサ１４０の外形輪郭１４２と全く一致させている。

さらに、第１流出流路１０１の幅ＷＡは、第２流出流路１０２の上流側の幅ＷＢよりも大きくしているが、これは塗布液の粘度が高く、第１流出流路１０１での圧力損失を小さくしたい場合に有効である。塗布液の粘度が低い場合は、幅ＷＡと幅ＷＢを略同一にしてもよいし、第１流出流路１０１そのものを省略してもよい。

つづいて図３と図４を用いて、ストライプ塗布膜の塗布形成状況について説明する。

塗布液供給装置５０からノズル３０に供給される塗布液７４は、第１リップ３１にある塗布液供給口から流入流路３３、マニホールド３２、第１スペーサの開口部１２４を経て、流出スペーサ１００に複数（例えば図３の場合は６個）ある第１流出流路１０１に分配された後、それぞれの第２流出流路１０２の第１両端流出面１０３Ａ、１０３Ｂおよび第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂに沿って下流側に向かって流れ、最終的に吐出口１１０から下向きに、クリアランスＣだけ離れている基板Ａに向かって吐出される。吐出口１１０に至る第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂに沿って下流側に流れる塗布液７４は、吐出口１１０ではその塗布幅方向両端にあるエッジ１０５Ａ、１０５Ｂによって位置規制されて幅ＷＣよりも広がることなく落下し、移動速度ＶでＹ方向（紙面に垂直な方向）に走行する基板Ａ上に幅ＷＤで着地してビードＢＤを形成し、それによって基板Ａに幅ＷＤのストライプ塗布膜が形成される。このように、本発明においては塗布液７４が吐出口１１０の塗布幅方向両端にあるエッジ１０５Ａ、１０５Ｂで幅ＷＣに位置規制されるが、これは、塗布液が下流側に沿って流れる第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂが、エッジ１０５Ａ、１０５Ｂの位置で反転して上流側に向かって延びる外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂとなるために、沿って流れる面の急激な変化に塗布液７４が追従できない結果である。

塗布液が沿って流れる面をエッジ１０５Ａ、１０５Ｂの位置で反転するために、角度αＡ、αＢを好ましくは１５度以上９０度以下、より好ましくは３０度以上８５度以下にする。また、同様の理由から、角度φＡ、φＢを好ましくは、５度以上８５度以下、より好ましくは１５度以上７５度以下にする。なお図４では、実際に角度θＡ、θＢ＝７５度、角度φＡ、φＢ＝４５度、角度αＡ、αＢ＝６０度で記載している。

本発明において、角度θＡと角度θＢは、６０度以上９０度以下の範囲にあるならば、同じでもよいし、異なっていてもよい。角度φＡと角度φＢ、角度αＡと角度αＢについても同様である。

また上記のストライプ塗布膜の幅ＷＤは基板Ａの移動速度Ｖに依存し、移動速度Ｖが小さいと幅ＷＤ≧幅ＷＣとなり、移動速度Ｖが大きいと塗布液７４が吐出口１１０を起点に引っ張られることになるので、幅ＷＤ＜幅ＷＣとなる。ただし、移動速度Ｖが大きくなるとビードＢＤが小さくなって塗布膜が切れやすくなる。したがって塗布液の物性や塗布条件によっては、幅ＷＤ＜幅ＷＣとなる前の移動速度で膜切れが生じて、幅ＷＤ＜幅ＷＣが実現できないこともある。

さらにストライプ膜の厚さについて、本発明においては、吐出口１１０から吐出される塗布液がエッジ１０５Ａ、１０５Ｂを乗り越えて外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂをはい上がることなく、吐出される全量が基板Ａに塗布されるので、吐出口からの単位時間当たりの吐出量を幅ＷＤと移動速度Ｖで除算すれば、厚さが算出される。

次に本発明のノズル３０と、従来ノズルとの形状と作用の相違点について、図４と図６を参照して詳細に説明する。図６は公知となる従来ノズル３００の流出スペーサ３１０での基材への塗布状況を詳細に示す部分拡大正面断面図である。例えば本発明の一実施形態に係る図４に示すノズル３０では、吐出口１１０の塗布幅方向両端であるエッジ１０５Ａ、１０５Ｂにおいて、角度φＡ、φＢで上流側に向かう外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂが第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂに接続している。これによって吐出口１１０を含む平面と外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂとがなす角度φＡ、φＢは上記したように４５度で、上記した好ましい範囲にある。一方図６に示す従来ノズル３００の流出スペーサ３１０では、吐出口３２０の塗布幅方向両端である内側エッジ３１５Ａ、３１５Ｂで、第２流出流路３１２の塗布幅方向両端に存在する両端流出面３１３Ａ、３１３Ｂに、吐出口３２０と平行な吐出口先端延在面３１９Ａ、３１９Ｂが接続している。そして、吐出口先端延在面３１９Ａ、３１９Ｂは、その外側にある外側エッジ３２１Ａ、３２１Ｂまでは水平に延在し、外側エッジ３２１Ａ、３２１Ｂで上流側に延びる外側斜面３１６Ａ、３１６Ｂに接続している。このような構成のため、吐出口先端延在面３１９Ａ、３１９Ｂは、吐出口３２０の塗布幅方向両端で上流側に向けて連なる外側斜面とはなっていない。すなわち吐出口先端延在面３１９Ａ、３１９Ｂは、下流側に向う両端流出面３１３Ａ、３１３Ｂに反転して上流側に向けて連なる平面になっていない。それゆえ吐出口３２０を含む平面と吐出口先端延在面３１９Ａ、３１９Ｂとがなす角度である角度φＡ、φＢも０度となり、本発明の好ましい範囲外の角度となる。

以上より本発明のノズル３０と従来ノズル３００との形状での本質的な相違点は、流出流路の下流側の吐出口に向かう両端流出面が、吐出口の塗布幅方向両端で反転して上流側に延びる（向かう）平面と接続されているか、いないかである。

すなわち、従来ノズル３００では、第２流出流路３１２の両端流出面３１３Ａ、３１３Ｂに内側エッジ３１５Ａ、３１５Ｂで接続される吐出口先端延在面３１９Ａ、３１９Ｂが、反転して上流側に向かうのでなく吐出口３２０と平行な方向に延びており、その結果、第２流出流路３１２の両端流出面３１３Ａ、３１３Ｂに沿って下流側の吐出口３２０に向かう塗布液は、壁面効果により内側エッジ３１５Ａ、３１５Ｂで容易に９０度曲がって吐出口先端延在面３１９Ａ、３１９Ｂの方に伝わって行く。一旦吐出口先端延在面３１９Ａ、３１９Ｂを伝わって流れ出した塗布液は、その後も伝わって行く方向が反転する曲がりがない限り、その先の幅ＷＥの位置にある外側エッジ３２１Ａ、３２１Ｂを乗り越えて、外側斜面３１６Ａ、３１６Ｂにも伝わって流れ、この外側斜面３１６Ａ、３１６Ｂ上で塗布液が落下してビードＢＤを形成する。そのため従来ノズル３００では、幅ＷＥや幅ＷＣよりかなり大きな幅ＷＤで基板Ａ上にストライプ塗布膜を形成することになる。すなわち、従来ノズル３００では、小さな幅のストライプ塗布膜を形成するのは困難である。

一方、本発明にかかるノズル３０では、上記したように、下流側に塗布液を案内する第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂが、吐出口１１０の塗布幅方向両端となるエッジ１０５Ａ、１０５Ｂで、反転して上流側に向かう外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂに接続されている。これによって第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂに沿って下流側に向かって流れる塗布液は、エッジ１０５Ａ、１０５Ｂで上流側に急激に反転する外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂに沿って流れることができないので、エッジ１０５Ａ、１０５Ｂを乗り越えることができず、その位置で幅ＷＣにて落下して、ビードＢＤを形成する。以降は塗布条件にてビードＢＤの大きさが定まって、幅ＷＣに近い幅ＷＤで基板Ａ上にストライプ状の塗布膜を形成することができる。すなわち、本発明のノズル３０では、小さな幅のストライプ塗布膜を容易に形成できる。

次に本発明に係る別の実施態様例であるノズル２００について、図５を用いて説明する。ここで図５はノズル２００の流出スペーサ２１０での基材への塗布状況を詳細に示す部分拡大正面断面図である。

図５と図４の比較から、ノズル２００はノズル３０と以下の点で異なっている他は全く同じである。（１）流出スペーサ２１０では、流出流路の塗布幅方向両端に存在する両端流出面間が一定の幅となるように、流出スペーサ１００の第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂに相当する部分を有しておらず、また、底面１０７に相当する部分も有していない。（２）流出スペーサ２１０で角度αＡ、αＢが９０度（ノズル３０は６０度）、角度φＡ、φＢが１５度（ノズル３０は４５度）である。なお角度θＡ、θＢについては７５度と同じである。（３）流出スペーサ２１０の外形輪郭に対応した第１スペーサと第２スペーサ（いずれも図示せず）を用いている。

このようにノズル２００は、以上の相違点や流出スペーサの見た目上の形状の相違があるものの、吐出口２２０に向かって塗布液を下流側に案内する第２流出流路２１２の両端流出面２１３Ａ、２１３Ｂが、吐出口２２０の塗布幅方向両端となるエッジ２１５Ａ、２１５Ｂで、反転して上流側に延びる外側斜面２１６Ａ、２１６Ｂに接続されているという本質的な点で、ノズル３０と相違はない。すなわち、ノズル２００においては、吐出口２２０を含む吐出口先端面と、吐出口２２０の塗布幅方向両端で上流側に向けて連なる外側斜面２１６Ａ、２１６Ｂとで突出部２１７Ａ、２１７Ｂが形成されるとともに、流出流路の塗布幅方向両端に存在する両端流出面２１３Ａ、２１３Ｂと外側斜面２１６Ａ、２１６Ｂとで塗布方向に延びる線状のエッジ２１５Ａ、２１５Ｂが形成され、かつ、そのエッジの角度が６０度以上９０度以下である。そして、このようなノズル２００において、両端流出面２１３Ａ、２１３Ｂに沿って下流側の吐出口２２０に向かって流れる塗布液は、エッジ２１５Ａ、２１５Ｂで上流側に急激に反転する外側斜面２１６Ａ、２１６Ｂに沿って流れることができないので、エッジ２１５Ａ、２１５Ｂを乗り越えることができず、その位置で幅ＷＣにて落下して、ビードＢＤを形成する。以降は塗布条件にてビードＢＤの大きさが定まって、幅ＷＣに近い幅ＷＤで基板Ａ上にストライプ状の塗布膜を形成することができる。なお、ノズル２００においても、角度θＡ、θＢ、角度φＡ、φＢ、角度αＡ、αＢは、上記した好ましい範囲が適用されている。

次に、ノズル３０と塗布装置１を用いた塗布液７４の基板Ａへのストライプ塗布膜の塗布方法について図１を用いて説明する。

まず準備作業として、図１のタンク７２～ノズル３０までを塗布液７４で充満して残留空気を排出する作業は既に終了しているものとする。そして塗布液供給装置５０の状態は、シリンジ６２に塗布液７４が充填、吸引バルブ５４は閉、供給バルブ５２は開、そしてピストン６４は最下端の位置にあり、いつでも塗布液７４をノズル３０に供給できるようになっている。また吸着盤１４、ノズル３０もそれぞれ初期位置で待機している。すなわち吸着盤１４はＸ方向には原点位置、Ｘ－Ｙ平面内の回転方向（ψ方向）には吸着盤１４の短手側両端部がＸ方向と平行になるように配置されている。ノズル３０はＹ方向には原点位置、Ｚ方向には一番高い位置にある原点位置に配置されている。

つづいて塗布装置１の動作開始信号が操作盤８２から制御装置８０に伝えられると、吸着盤１４の表面に図示しないリフトピンが上昇し、図示しない移載装置から基板Ａがリフトピン上部に載置される。そしてリフトピンを下降させて基板Ａを吸着盤１４上に載置し、同時に吸着保持する。次いで高さセンサー２４によって基板Ａの高さを検知するとともに、ＣＣＤカメラ２２で２ヶ所設けられているアライメントマークを検知して、アライメントマークで定められる塗布方向とＹ方向が一致するように吸着盤１４を回転させる。次いで予め定めた基板Ａの塗布開始位置直上にノズル３０の吐出口１１０が位置するように、Ｘ－ψ駆動装置１６を駆動して吸着盤１４をＸ方向に移動させるとともに、Ｙ軸リニア装置２０を駆動してノズル３０をＹ方向に移動させる。ノズル３０が基板Ａ上の塗布開始位置直上に来たら停止させるとともに、測定した基板Ａの高さに応じて、基板Ａとノズル３０の吐出口１１０の両側にあるエッジ１０５Ａ、１０５Ｂとの間のすきまが所定のクリアランスＣの値になるように、Ｚ軸リニア駆動装置１２を駆動してノズル３０をＺ方向に下降停止させる。

基板Ａとノズル３０の間のすきまがクリアランスＣで静止している状態で、塗布液供給装置５０のシリンジポンプ６０を駆動して一定供給速度で塗布液７４を供給し、ノズル３０から基板Ａ上に塗布液を吐出する。この吐出開始を基点に一定時間ｔｓ後に、Ｙ軸リニア駆動装置２０を駆動してノズル３０の一定速度での移動を開始して塗布を開始する。この時のノズル３０の移動の一定速度は塗布速度より与えられ、シリンジポンプ６０の一定供給速度は、塗布するウェット膜厚と塗布速度より与えられる。以上の動作によって、ノズル３０の吐出口１１０と基板Ａの間にビードＢＤが形成され、基板Ａ上に幅ＷＤのストライプ状の塗布膜が形成される。なお一定時間ｔｓは好ましくは０～１秒、より好ましくは０～０．５秒とする。

基板Ａの塗布終了位置がノズル３０の吐出口１１０の位置にきたらシリンジポンプ６０の一定供給速度での塗布液７４の供給を停止し、つづいてＺ軸リニア駆動装置１２を駆動して、ノズル３０を上昇させる。これによって基板Ａとノズル３０間に形成されたビードＢＤが断ち切られ、ストライプ状の塗布が終了する。ノズル３０は上昇により原点位置（初期位置）に復帰する。塗布終了後もＹ軸リニア駆動装置２０は動きつづけ、終点位置にきたらノズル３０は一旦停止する。続いて初期位置である原点位置に向かって逆方向にＹ軸リニア駆動装置２０を駆動してノズル３０を移動開始するとともに、Ｘ－ψ駆動装置１６を駆動して吸着盤１４も初期位置に向かってＸ方向に移動開始させる。そしてノズル３０がＹ方向の原点位置、吸着盤１４がＸ方向の初期位置である原点位置に達して静止したら、吸着盤１４の基板Ａの吸着を解除し、リフトピンを上昇させて基板Ａを持ち上げる。この時図示されない移載装置によって基板Ａの下面が保持され、次の工程に基板Ａを搬送する。そして供給バルブ５２を閉、吸引バルブ５４は開としてから、シリンジポンプ６０を逆方向に駆動して一定速度でタンク７２の塗布液７４をシリンジ６２に充填開始する。充填完了後、シリンジポンプ６０を停止させ、吸引バルブ５４を閉として、次の基板Ａが来るのを待ち、同じ動作をくりかえす。

以上の塗布方法で、塗布終了時に塗布液７４がシリンジ６２内に十分残っているなら、塗布液７４の充填は省略してもよい。またノズル３０で塗布できる範囲が、基板ＡのＸ方向寸法より小さく、ノズル３０の塗布位置を変えて所定回数塗布する場合は、１回の塗布終了ごとに、Ｘ－ψ駆動装置１６を駆動して基板ＡをＸ方向に所定量移動させた後、１回目の塗布と同じ塗布動作を繰り返す。

また以上の塗布方法を実行することにより、本発明のノズル３０を、所望する定められた場所で基材である基板Ａに近接させ、塗布液供給装置５０からノズル３０に塗布液を供給してノズル３０の吐出口１１０から塗布液を吐出するとともに、基板Ａのノズル３０に対する相対移動を行って、基板Ａ上にストライプ塗布膜を形成することを実現する。

以下実施例により本発明の具体的態様の例を説明する。

図１～４に示すノズル３０および塗布装置１を用いて、ディスプレイ用途の波長変換フィルターを作成する。

まず２６５×３００ｍｍで厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板に、厚さ２０μｍ、幅４０μｍ、基板長手方向（Ｙ方向）の長さ２５０ｍｍのポリイミド膜がバンクとして基板短手方向（Ｘ方向）にピッチ３００μｍで７５１本配置されている波長変換フィルターのパターン基板を用意した。なおポリイミド膜は基板中央にあり、基板長手方向の両側２５ｍｍ、基板短手方向の両側２０ｍｍがストライプ状のポリイミド膜のない非製品領域であった。

次にバンク間にＲ、Ｇの発光材をストライプ状に塗布すべく、ＲとＧの発光材を準備した。Ｒ発光材は固形分濃度５０％で粘度が２００ｍＰａｓ、Ｇ発光材は固形分濃度５０％で粘度が２５０ｍＰａｓ、であった。図１に示すストライプ塗布装置１でストライプ状の塗布を行うべく、専用のノズル３０を準備した。

このノズル３０における流出スペーサ１００（厚さ０．５ｍｍ）は、図４に示すものであり、各部形状は次の通りである。第１流出流路１０１の幅ＷＡ＝０．５ｍｍ、長さＬＢ＝１０ｍｍ、第２流出流路１０２の幅ＷＢ＝０．１ｍｍ、長さＬＥ＝１．９ｍｍ、幅ＷＣ＝０．２２ｍｍ、長さＬＦ＝０．１ｍｍ、吐出口１１０を含む平面と第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂがなす角度αＡ、αＢ＝６０度、長さＬＤ＝２ｍｍ、長さＬＡ＝１２ｍｍ、エッジ１０５Ａ、１０５Ｂを形成する第２両端流出面１０４Ａ、１０４Ｂと外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂがなす角度θＡ、θＢ＝７５度、吐出口１１０を含む平面と外側斜面１０６Ａ、１０６Ｂがなす角度φＡ、φＢ＝４５度、ピッチＰ＝０．９ｍｍ、である。以上によって、幅ＷＣ＝０．２２ｍｍで塗布方向長さ０．５ｍｍの矩形状の吐出口１１０が、ピッチＰ＝０．９ｍｍで２５０個配置されている。

このノズル３０を塗布装置１にとりつけ、上記のＲ発光材をタンク７２～ノズル３０まで充填した。上記のポリイミド膜がバンクとしてストライプ状に形成された基板を吸着盤１４に吸着後、基板上のアライメントマークをＣＣＤカメラ２２で検知して、ノズル３０を基板の塗布開始位置の直上に配置した。

なお塗布開始位置は、塗布幅方向であるＸ方向には、原点に一番近いバンク間の溝が、ノズル３０の一番原点に近い吐出口と一致する位置、塗布方向であるＹ方向には、基板端部から２０ｍｍの位置であり、ポリイミド膜のバンクの５ｍｍ手前であった。また塗布方向（Ｙ方向）と、ポリイミド膜がストライプとなって伸びる方向とが平行となるように、基板ＡのＸ－Ｙ平面内の回転角度ψをＸ－ψ駆動装置１６により調整をした。高さセンサー２４で測定した基板高さに基づいて、吐出口１１０の両側にあるエッジ１０５Ａ、１０５Ｂと基板Ａ間のすきまであるクリアランスＣが１００μｍとなるように、ノズル３０を下降させた。

そして供給バルブ５２が開、吸引バルブ５４が閉であることを確認してから、供給速度６５μｌ／ｓでシリンジポンプ６０を駆動してノズル３０よりＲ発光材を吐出開始するともに、この吐出開始より０．２秒後にＹ軸リニア駆動装置を駆動開始して、ノズル３０をＹ方向に５０ｍｍ／ｓで移動開始した。そして基板長手方向の塗布開始位置から２５５ｍｍの位置でシリンジポンプ６０を停止させるとともに、Ｚ軸リニア駆動装置を駆動して、塗布開始位置から２６０ｍｍの位置でノズル３０を上昇させた。これらの動作によって基板端部から２０ｍｍの塗布開始位置から２６０μｍ幅でＷｅｔ厚さ２０μｍの２６０ｍｍ長のストライプ状塗布膜が２５０本形成され、ポリイミド膜のバンク間にもＲ発光材が充填された。これによって必要な２５０箇所となるポリイミド膜のバンク間にすべてＲ発光材を充填した。この時、バンク上に乗り上げるＲ発光材はなく、Ｒ発光材が充填されていない部分もなかった。

以上のＲ発光材の塗布が完了した基板を取り出し、ホットプレートで１２０℃、１０分の乾燥を行った。乾燥後に膜厚を測定したところ、塗布開始から５ｍｍで１０μｍとなっており、塗布開始と終了部から５ｍｍずつ除いた２５０ｍｍの範囲、すなわちポリイミド膜のバンクが形成されている範囲で、膜厚むらは±５％以下となって非常に良好であった。

引き続いてＧ発光材についても同様のストライプ状塗布を行った。Ｇ発光材についてはＲ発光材のすぐ隣のバンク間に塗布できるように位置決めをし、すべてＲ発光材と同じ条件にて塗布と乾燥を行った。以上の塗布と乾燥を行った結果、Ｇ発光材についても、基板端部から２０ｍｍの位置から、厚さ１０μｍ、２６０μｍ幅で２６０ｍｍ長のストライプ状塗布膜が２５０本形成され、Ｇ発光材用のポリイミド膜のバンク間がＧ発光材で規則正しく充填され、塗布欠陥もなかった。なお、Ｇ発光材の膜厚むらは、塗布両端から５ｍｍを除外した２５０ｍｍ長の製品領域で、±５％以下で、非常に良好であった。

本発明は、有機ＥＬ、プラズマディスプレイ、カラーフィルター、波長変換フィルター等の基板上の面に、ストライプ状の塗布膜を形成する各種ディスプレイ用部材の製造に利用可能である。

１ 塗布装置
１０ ＸＹＺステージ
１２ Ｚ軸リニア駆動装置
１４ 吸着盤
１６ Ｘ－ψ駆動装置
１８ ブラケット
２０ Ｙ軸リニア駆動装置
２２ ＣＣＤカメラ
２４ 高さセンサー
２６ ベース
２８ 門型ベース
３０ ノズル
３１ 第１リップ
３２ マニホールド
３３ 流入流路
３４ 内面
４１ 第２リップ
４２ 組立ボルト
４４ 内面
４５ 挿入用孔
５０ 塗布液供給装置
５２ 供給バルブ
５４ 吸引バルブ
５６ フィルター
６０ シリンジポンプ
６２ シリンジ
６４ ピストン
６６ 本体
６８ 供給ホース
７０ 吸引ホース
７２ タンク
７４ 塗布液
７６ 圧空源
８０ 制御装置
８２ 操作盤
１００ 流出スペーサ
１０１ 第１流出流路
１０２ 第２流出流路
１０３Ａ、１０３Ｂ 第１両端流出面
１０４Ａ、１０４Ｂ 第２両端流出面
１０５Ａ、１０５Ｂ エッジ
１０６Ａ、１０６Ｂ 外側斜面
１０７ 底面
１０８ 切欠き
１０９Ａ、１０９Ｂ 突出部
１１０ 吐出口
１１１ 吐出口先端面
１１２ 外形輪郭
１２０ 第１スペーサ
１２２ 外形輪郭
１２４ 開口部
１４０ 第２スペーサ
１４２ 外形輪郭
２００ ノズル
２１０ 流出スペーサ
２１１ 第１流出流路
２１２ 第２流出流路
２１３Ａ、２１３Ｂ 両端流出面
２１５Ａ、２１５Ｂ エッジ
２１６Ａ、２１６Ｂ 外側斜面
２１７Ａ、２１７Ｂ 突出部
２２０ 吐出口
３００ 従来ノズル
３１０ 流出スペーサ
３１２ 第２流出流路
３１３Ａ、３１３Ｂ 両端流出面
３１５Ａ、３１５Ｂ 内側エッジ
３１６Ａ、３１６Ｂ 外側斜面
３１９Ａ、３１９Ｂ 吐出口先端延在面
３２０ 吐出口
３２１Ａ、３２１Ｂ 外側エッジ
Ａ 基板
ＢＤ ビード
Ｃ クリアランス
ＬＡ、ＬＢ、ＬＤ、ＬＥ、ＬＦ 長さ
Ｐ ピッチ
ＷＡ、ＷＢ、ＷＣ、ＷＤ、ＷＥ 幅
αＡ、αＢ 吐出口を含む平面と両端流出面がなす角度
θＡ、θＢ エッジで接続する両端流出面と外側斜面がなす角度
φＡ、φＢ 吐出口を含む平面と外側斜面がなす角度

Claims (5)

1. 塗布液が供給される塗布液供給口と、塗布液供給口から内部に流入する塗布液を塗布幅方向に拡幅するマニホールドと、該マニホールドに連通して塗布液が下流に向かって流れる複数の流出流路と、該複数の流出流路それぞれの下流側端部で開口して塗布液が外部に吐出される複数の吐出口と、を有するノズルであって、前記吐出口を含む吐出口先端面と、前記吐出口の塗布幅方向両端で上流側に向けて連なる外側斜面とで、下流側に突き出る突出部を外部に形成するとともに、前記流出流路の塗布幅方向両端に存在する両端流出面と前記外側斜面とで、塗布方向に延びる線状のエッジを形成し、前記両端流出面と前記外側斜面とがなす角度は６０度以上９０度以下であり、かつ、前記吐出口を含む平面と前記外側斜面とがなす角度は５度以上８５度以下であることを特徴とするノズル。
2. 前記吐出口を含む平面と前記両端流出面とがなす角度は１５度以上８５度以下であることを特徴とする請求項１に記載のノズル。
3. 請求項１または２に記載のノズルと、該ノズルに定量の塗布液を供給する塗布液供給装置と、基材を保持する基材載置台と、前記ノズルおよび前記基材載置台のうちの少なくとも一方を相対的に移動させる移動装置と、前記ノズルを基材に近接させる近接装置と、前記ノズルの吐出口を前記基材上の任意の場所に位置合わせをする位置合わせ装置と、を備えている塗布装置。
4. 請求項１または２に記載のノズルを所望する場所で基材に近接させ、前記ノズルに塗布液を供給して前記ノズルの吐出口から塗布液を吐出するとともに、前記基材の前記ノズルに対する相対移動を行って、前記基材上にストライプ塗布膜を形成することを特徴とする塗布方法。
5. 請求項４に記載の塗布方法を用いて、ディスプレイ用部材を製造することを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。

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