JP7228556B2 - Tig溶接方法 - Google Patents
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Description
〔1〕 被溶接物との間でアークを発生させる非消耗電極と、
前記非消耗電極を内側に挿入した状態で支持するコレットと、
前記非消耗電極を先端側から突出させた状態で前記コレットを内側に保持すると共に、アークによって生じた被溶接物の溶融池に向かって第1のシールドガスを放出するセンターノズルと、冷却液が循環される流路とが設けられたコレットボディと、
前記コレットボディが取り付けられるトーチボディと、
前記非消耗電極の周囲を囲んだ状態で前記トーチボディに取り付けられると共に、アークによって生じた被溶接物の溶融池に向かって第2のシールドガスを放出するトーチノズルと、
前記コレットボディと熱的に接続された状態で取り付けられると共に、前記コレットの先端側と接触した状態で、その先端から前記非消耗電極を突出させる中心孔が設けられた冷却チップとを備えたTIG溶接用トーチを用いて、非キーホール溶接を行う際に、
前記第1のシールドガスとして、ヘリウムを用い、
前記第1のシールドガスの流量を1~5L/minとすることを特徴とするTIG溶接方法。
〔2〕 前記第1のシールドガスの流量を2.5~3.5L/min、溶接電圧を19~35V、溶接電流を250A以上とすることを特徴とする前記〔1〕に記載のTIG溶接方法。
〔3〕 前記第1のシールドガス中におけるヘリウムの割合が100%であることを特徴とする前記〔1〕又は〔2〕に記載のTIG溶接方法。
〔4〕 前記被溶接物の裏側からバックシールドガスの放出を行わずに溶接を行うことを特徴とする前記〔1〕~〔3〕の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
〔5〕 前記被溶接物に対して両面溶接を行うことを特徴とする前記〔1〕~〔4〕の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
なお、以下の説明で用いる図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがあり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らないものとする。
先ず、本発明の一実施形態に係るTIG溶接方法において好適に用いられるTIG溶接用トーチ50について、図1及び図2を参照しながら説明する。
なお、図1は、TIG溶接用トーチ50の構成を示す断面斜視図である。図2は、図1に示すTIG溶接用トーチ50の要部を拡大した断面斜視図である。
次に、本発明の一実施形態に係るTIG溶接方法について、図3(A),(B)を参照しながら説明する。
なお、図3は、被溶接物Sに対する溶接部の状態を示し、(A)はその斜視図、(B)はその断面斜視図である。
第1の実施例では、実際に本発明のTIG溶接方法を用いて、実施例1~3の溶接条件により被溶接物に対して溶接を行った際の溶接部の状態について検査を行った。
実施例1では、実際に本実施形態のTIG溶接方法を用いて、以下の溶接条件により被溶接物に対して両面溶接を行った。また、溶接を行った後の溶接部の断面の写真を図4に示す。
・被溶接物:材質:SUS304、厚み10mm
・突合せ部:I開先
(両面同じ溶接条件)
・センターガス(第1のシールドガス):Heガス(組成:He100%、流量:3L/min)
・アウターガス(第2のシールドガス):Arガス(組成:Ar100%、流量20L/min)
・非消耗電極径:φ6.4mm、酸化ランタン
・溶接電流:470A
・溶接速度:25cm/min
実施例2では、実際に本実施形態のTIG溶接方法を用いて、以下の溶接条件により被溶接物に対して両面溶接を行った。また、溶接を行った後の溶接部の断面の写真を図5に示す。
・被溶接物:材質:SUS304、厚み9mm
・突合せ部:V開先(深さ5mm、開き角90°、ルート面4mm)
(表面の溶接条件)
・シールドーガス:ArとH2の混合ガス(組成:H27%、残部Ar、流量20L/min)
・非消耗電極径:φ3.2mm、酸化ランタン
・溶接電流:350A
・溶接速度:25cm/min
・溶接ワイヤー:Y308φ1.2(送給速度6.5cm/min)
(裏面の溶接条件)
・センターガス(第1のシールドガス):Heガス(組成:He100%、流量:3L/min)
・アウターガス(第2のシールドガス):Arガス(組成:Ar100%、流量20L/min)
・非消耗電極径:φ6.4mm、酸化ランタン
・溶接電流:430A
・溶接速度:20cm/min
・溶接ワイヤー:Y308φ1.2(送給速度0.5cm/min)
実施例3では、実際に本実施形態のTIG溶接方法を用いて、以下の溶接条件により被溶接物に対して両面溶接を行った。また、溶接後の被溶接物の断面写真を図6に示す。
・被溶接物:材質:SUS304、厚み6mm
・突合せ部:V開先(深さ4mm、開き角90°、ルート面2mm)
(表面の溶接条件)
・シールドーガス:ArとH2の混合ガス(組成:H27%、残部Ar、流量20L/min)
・非消耗電極径:φ3.2mm、酸化ランタン
・溶接電流:350A
・溶接速度:25cm/min
・溶接ワイヤー:Y308φ1.2(送給速度6.5cm/min)
(裏面の溶接条件)
・センターガス(第1のシールドガス):Heガス(組成:He100%、流量:3L/min)
・アウターガス(第2のシールドガス):Arガス(組成:Ar100%、流量20L/min)
・非消耗電極径:φ4.8mm、酸化ランタン
・溶接電流:320A
・溶接速度:30cm/min
・溶接ワイヤー:Y308φ1.2(送給速度0.5cm/min)
第2の実施例では、実施例4及び比較例1,2について、溶接電流を300~500Aの範囲で50A毎に変更しながら被溶接物に対して溶接を行った際の溶接電圧の変化について測定を行った。
実施例4では、上記実施例1と同じ溶接条件により、溶接電流を変更しながら被溶接物の表面に対して溶接を行った際の溶接電圧をそれぞれ測定した。その測定結果を下記表1に示す。
比較例1では、センターガス(第1のシールドガス)にArガス(組成:Ar100%、流量:1L/min)、アウターガス(第2のシールドガス):Arガス(組成:Ar100%、流量20L/min)を用いた以外は、実施例4と同じ溶接条件により、溶接電流を変更しながら被溶接物の表面に対して溶接を行った際の溶接電圧をそれぞれ測定した。その測定結果を下記表1に示す。
比較例2では、センターガス(第1のシールドガス)にArとH2との混合ガス(組成:H27%、残部Ar、流量:1L/min)、アウターガス(第2のシールドガス):Arガス(組成:Ar100%、流量20L/min)を用いた以外は、実施例4と同じ溶接条件により、溶接電流を変更しながら被溶接物の表面に対して溶接を行った際の溶接電圧をそれぞれ測定した。
Claims (5)
- 被溶接物との間でアークを発生させる非消耗電極と、
前記非消耗電極を内側に挿入した状態で支持するコレットと、
前記非消耗電極を先端側から突出させた状態で前記コレットを内側に保持すると共に、アークによって生じた被溶接物の溶融池に向かって第1のシールドガスを放出するセンターノズルと、冷却液が循環される流路とが設けられたコレットボディと、
前記コレットボディが取り付けられるトーチボディと、
前記非消耗電極の周囲を囲んだ状態で前記トーチボディに取り付けられると共に、アークによって生じた被溶接物の溶融池に向かって第2のシールドガスを放出するトーチノズルと、
前記コレットボディと熱的に接続された状態で取り付けられると共に、前記コレットの先端側と接触した状態で、その先端から前記非消耗電極を突出させる中心孔が設けられた冷却チップとを備えたTIG溶接用トーチを用いて、非キーホール溶接を行う際に、
前記第1のシールドガスとして、ヘリウムを用い、
前記第1のシールドガスの流量を1~5L/minとすることを特徴とするTIG溶接方法。 - 前記第1のシールドガスの流量を2.5~3.5L/min、溶接電圧を19~35V、溶接電流を250A以上とすることを特徴とする請求項1に記載のTIG溶接方法。
- 前記第1のシールドガス中におけるヘリウムの割合が100%であることを特徴とする請求項1又は2に記載のTIG溶接方法。
- 前記被溶接物の裏側からバックシールドガスの放出を行わずに溶接を行うことを特徴とする請求項1~3の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
- 前記被溶接物に対して両面溶接を行うことを特徴とする請求項1~4の何れか一項に記載のTIG溶接方法。
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