JP7213905B2 - 波形観測装置及び違反サンプルのシンボル推移の表示方法 - Google Patents
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Description
前記PAM信号のアイパターンで囲まれる領域の形とほぼ相似な形状で、前記PAM信号のビットレートおよび振幅に対応した大きさのマスクを、前記PAM信号の品質評価用の基準マスクとして設定するマスク設定手段4bと、
前記マスク設定手段にて設定された基準マスクを前記PAM信号のアイパターンで囲まれる領域と重なりあう位置に表示するマスク表示手段4cと、
前記PAM信号の各サンプルを閾値との比較によりシンボル値に変換するシンボル解析手段4dと、
前記シンボル解析手段にて変換された前記PAM信号の各サンプルに対応するシンボル値を保存するシンボル解析メモリ4eと、
前記基準マスクの領域内のピクセルに対応するサンプルを違反サンプルとして選択したときに、前記シンボル解析メモリから読み出される前記違反サンプルに対応するシンボル値とその前後のシンボル値の推移を前記表示画面に表示するシンボル遷移表示手段4gと、
前記違反サンプルのシンボル値を含む全体のシンボル数を設定する操作部2と、を備えたことを特徴とする。
前記波形観測装置のマスク設定手段4bが、前記PAM信号のアイパターンで囲まれる領域の形とほぼ相似な形状で、前記PAM信号のビットレートおよび振幅に対応した大きさのマスクを、前記PAM信号の品質評価用の基準マスクとして設定するステップと、
前記波形観測装置のマスク表示手段4cが、前記マスク設定手段にて設定された基準マスクを前記PAM信号のアイパターンで囲まれる領域と重なりあう位置に表示するステップと、
前記波形観測装置のシンボル解析手段4dが、前記PAM信号の各サンプルを閾値との比較によりシンボル値に変換するステップと、
前記シンボル解析手段にて変換された前記PAM信号の各サンプルに対応するシンボル値を前記波形観測装置のシンボル解析メモリ4eに保存するステップと、
前記基準マスクの領域内のピクセルに対応するサンプルを違反サンプルとして選択したときに、前記波形観測装置のシンボル遷移表示手段4gが、前記シンボル解析メモリから読み出される前記違反サンプルに対応するシンボル値とその前後のシンボル値の推移を前記表示画面に表示するステップと、
前記違反サンプルのシンボル値を含む全体のシンボル数を設定するステップと、を含むことを特徴とする。
2 操作部
3 波形データ取得部
4 演算処理部
4a アイパターン表示手段
4b マスク設定手段
4c マスク表示手段
4d シンボル解析手段
4e シンボル解析メモリ
4f マスク品質評価手段
4g シンボル遷移表示手段
5 表示部
11 サンプリング部
11a サンプリングクロック発生器
11b A/D変換器
12 サンプリング制御部
13 波形データメモリ
M 基準マスク
HP 表示ポイント
Claims (2)
- マスクマージン試験の評価対象となるPAM信号をサンプリングして該PAM信号の波形データを取得し、この取得した波形データに基づいて前記PAM信号のアイパターンを表示画面に表示する波形観測装置(1)であって、
前記PAM信号のアイパターンで囲まれる領域の形とほぼ相似な形状で、前記PAM信号のビットレートおよび振幅に対応した大きさのマスクを、前記PAM信号の品質評価用の基準マスクとして設定するマスク設定手段(4b)と、
前記マスク設定手段にて設定された基準マスクを前記PAM信号のアイパターンで囲まれる領域と重なりあう位置に表示するマスク表示手段(4c)と、
前記PAM信号の各サンプルを閾値との比較によりシンボル値に変換するシンボル解析手段(4d)と、
前記シンボル解析手段にて変換された前記PAM信号の各サンプルに対応するシンボル値を保存するシンボル解析メモリ(4e)と、
前記基準マスクの領域内のピクセルに対応するサンプルを違反サンプルとして選択したときに、前記シンボル解析メモリから読み出される前記違反サンプルに対応するシンボル値とその前後のシンボル値の推移を前記表示画面に表示するシンボル遷移表示手段(4g)と、
前記違反サンプルのシンボル値を含む全体のシンボル数を設定する操作部(2)と、を備えたことを特徴とする波形観測装置。 - マスクマージン試験の評価対象となるPAM信号をサンプリングして該PAM信号の波形データを取得し、この取得した波形データに基づいて前記PAM信号のアイパターンを表示画面に表示する波形観測装置(1)の違反サンプルのシンボル推移の表示方法であって、
前記波形観測装置のマスク設定手段(4b)が、前記PAM信号のアイパターンで囲まれる領域の形とほぼ相似な形状で、前記PAM信号のビットレートおよび振幅に対応した大きさのマスクを、前記PAM信号の品質評価用の基準マスクとして設定するステップと、
前記波形観測装置のマスク表示手段(4c)が、前記マスク設定手段にて設定された基準マスクを前記PAM信号のアイパターンで囲まれる領域と重なりあう位置に表示するステップと、
前記波形観測装置のシンボル解析手段(4d)が、前記PAM信号の各サンプルを閾値との比較によりシンボル値に変換するステップと、
前記シンボル解析手段にて変換された前記PAM信号の各サンプルに対応するシンボル値を前記波形観測装置のシンボル解析メモリ(4e)に保存するステップと、
前記基準マスクの領域内のピクセルに対応するサンプルを違反サンプルとして選択したときに、前記波形観測装置のシンボル遷移表示手段(4g)が、前記シンボル解析メモリから読み出される前記違反サンプルに対応するシンボル値とその前後のシンボル値の推移を前記表示画面に表示するステップと、
前記違反サンプルのシンボル値を含む全体のシンボル数を設定するステップと、を含むことを特徴とする違反サンプルのシンボル推移の表示方法。
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