JP7210111B2 - グラビア製版ロールの製造方法 - Google Patents
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Description
エッチング法は、感光液であるレジスト塗工液と塗工してなるレジスト層をグラビア製版ロール版材の表面に、塗工し光で非画線パターンを形成し、アルカリ現像し、未露光部分である画線部のみをエッチングし、その後、残っているレジスト層を剥離する方法である。
近年、アルカリ現像する工程を省略すべく、レーザアブレーション法で、画像部を焼き飛ばして、非画線パターンを形成する方法が提案されている。(特許文献1)
高精細で微小な凹部(セル)を形成するには、レジスト層の膜厚を薄くし、且つ均一性を良くする必要がある。前記レジスト層は、円筒状のシリンダーにレジスト塗工液をスプレーコート法で塗布する方法が知られているが、前記高精細な回路パターや偽造防止用パターンを形成する用途には不十分だった。(特許文献2~4)
本発明は、薄膜で膜厚均一性の良いレーザアブレーション法によるレジスト層を形成し、エッチングとレジスト層剥離の工程を経て、微小で高精細な凹部(セル)を形成したグラビア製版ロールの製造方法を提供することを目的とする。
工程(a):感光性材料と、アルキレングリコールモノアルキルエーテルとを含むレジスト塗工液を用意する工程。
工程(b):前記レジスト塗工液をリングコート法で円筒状グラビアシリンダーに塗工し、円筒状グラビアシリンダー上に、レジスト層を形成する工程。
工程(c):前記レジスト層が形成されたグラビアシリンダーにレーザアブレーション法でセルを形成する工程。
本発明において、溶剤として、アルキレングリコールモノアルキルエーテルを選定し、リングコート法で前記レジスト塗工液を塗布することで、数μmの薄膜で膜厚均一性の良いレジスト塗膜を形成できることを見出した。アルキレングリコールモノアルキルエーテルとしては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ブチレングリコールモノメチルエーテルなどが挙げられる。
アルキレングリコールモノアルキルエーテルは、前記レジスト塗工液中に20重量%~60重量%を含有することが好ましく、20重量%より少ないと膜厚均一性が低下、60重量%より多いと塗工液の安定性が悪くなることがある。
非画線部パターンが形成されたグラビア製版ロール版材は、公知のエッチング液によりエッチングされる。画線部は、エッチングされ凹部(セル)となり、非画線部は、レジスト層が存在するためエッチングされずに残る。
エッチング後に、非画線部に残留した、レジスト層を、公知のレジスト剥離液で剥離することで、グラビア製版ロールが製造される。なお、前記製版ロールの印刷耐性を維持させるために、セルを形成したグラビア製版ロールの表面にクロムメッキを施しても良い。
ニトロセルロース(稲畑産業社製 JIS規格H1/4同等品)43部(固形分70%)と酢酸エチル57部を混合し、加熱溶解させて固形分30%のニトロセルロースワニスaを得た。
攪拌機、温度計、脱水トラップ付還流冷却器および窒素ガス導入装置の付いた四ツ口フラスコに無水フタル酸250部、エチレングリコール100部、ペンタエリスリトール50部、ひまし油600部、トルエン50gを仕込み、窒素雰囲気下で180℃に加熱し、酸価が15mgKOH/g以下になるまで反応させた。反応終了後、40℃まで冷却し、酢酸エチル1000部を加えて、固形分50%のポリエステル樹脂ワニスbを得た。
エステルガム(軟化点:80℃以上、酸価:7mgKOH/g以下)60部およびトルエン40部を混合し、40℃で1時間加熱溶解して固形分60%のテルペン系天然樹脂ワニスcを得た。
ニトロセルロースワニスa:40部、カーボンブラック(コロンビアンケミカル社製ラーベン780ウルトラパウダー):10部、溶剤として酢酸エチル:5部をディスパーで混合した後、アイガーミルで混練しミルベースを作成した。これに、ポリエステル樹脂ワニスb:6部、テルペン系天然樹脂ワニスc:5部、可塑剤としてヒマシ油:4部、希釈溶剤として酢酸エチル/トルエン/イソプロピルアルコール(混合割合(重量比):40/40/20):30部を加えレジスト塗工液1を得た。
さらに、塗工適性を付与するために、前記レジスト塗工液1:100部にプロピレングリコールモノエチルエーテル:70部を加え、離合社製のザーンカップNo.3で17秒のレジスト塗工液1を得た。
銅メッキを付けたグラビア製版ロール版材を準備し、酸および水、溶剤で表面洗浄した後、リングコーターで1.3mm/秒の移動速度でレジスト塗工液1を前記ロールに塗布し、常温乾燥後の膜厚が2.5μmとなるようレジスト層を全面に形成した。
前記レジスト層を形成したグラビア製版ロール版材にレーザ光(波長535nm)を照射してレジスト層のアブレーションを行ない、線数500線/inchの格子パターンを形成した。
形成したレジスト層の膜厚を非接触式のレーザ顕微鏡で測定し、膜厚の均一性を評価した。結果を表2に示す。
◎:端部と中央のバラツキが、±5%未満
○:端部と中央のバラツキが、±5~8%
×:端部と中央のバラツキが、±8%以上
前記製版ロール版材に残った非アブレーション部のレジスト層を、前記レジスト塗工液の作成で使用した希釈溶剤を使用して剥離し、全表面が銅となったグラビア製版ロールを得た。
さらに、銅表面の耐薬品性や耐摩耗性を付与する目的で、前記製版ロールにクロムメッキを施して、グラビア製版ロールを製造した。
表2に示すレジスト塗工液2~4を使用し、実施例1と同様な製造方法でグラビア製版ロールを製造し、評価した結果を表2に示す。
ただし、比較例2のスプレーコート法では、2.5μmの膜厚は形成できず、5.0μmで評価した。
Claims (2)
- 下記工程(a)~工程(c)を含むグラビア製版ロールの製造方法。
工程(a):感光性材料と、アルキレングリコールモノアルキルエーテルとを含むレジスト塗工液を用意する工程。
工程(b):前記レジスト塗工液をリングコート法で円筒状グラビアシリンダーに塗工し、円筒状グラビアシリンダー上に、レジスト層を形成する工程。
工程(c):前記レジスト層が形成されたグラビアシリンダーにレーザアブレーション法でセルを形成する工程。 - レジスト塗工液が、アルキレングリコールモノアルキルエーテルをレジスト塗工液全体の20重量%~60重量%含有することを特徴とする請求項1に記載のグラビア製版ロールの製造方法。
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