JP7197266B2 - 低膨張ガラスの粉体層付加製造 - Google Patents

Description

本開示は、光学素子及び付加製造に関し、より詳しくは、例えば低膨張ガラスからの光学素子の付加製造に関する。

従来の軽量ガラス反射鏡基材は、大きいガラスブール由来の材料を、除去加工、ミル加工、研削、研磨、またはエッチングすることで作り出される。これらの方法によって、精密に加工された光学面を有する堅くて軽いガラス構造を形成することができ、これは熱的及び機械的な負荷の下で安定なままである。しかし、ガラスは割れやすいため、これらの従来の方法を用いて多くの小さい複雑な特徴を製造することは困難であり、そのような複雑な特徴は軽量光学素子の製造に重要な場合がある。

従来の技術は、これらの意図された目的に満足できるものであるとみなされてきた。しかし、反射鏡基材などのガラス製光学素子の改良された製造は常に必要とされている。本開示は、この課題のための解決手段を提供する。

光学素子の形成方法は、フェイスシートにガラス粉末材料を融着させてフェイスシート上に第１のコア材料層を形成することを含む。方法は、複数の追加的なコア材料層の中にガラス粉末材料を逐次的に融着させてフェイスシート上にコア材料構造を構築することも含む。

方法は、フェイスシートにガラス粉末材料を融着させる前に、マンドレル上にフェイスシートを配置することを含み得る。フェイスシートへのガラス粉末材料の融着は、フェイスシートの研磨可能な表面と反対側のフェイスシートの面にガラス粉末材料を融着させることを含み得る。

ガラス粉末を融着させて第１のコア材料層を形成することと、複数の追加的なコア材料層の中にガラス粉末材料を逐次的に融着させることのうちの少なくとも１つは、
フェイスシート、第１のコア材料層、及び／または追加的なコア材料層の１つ、のうちの少なくとも１つの上に粉末を堆積させること；並びに
粉末の一部分のみを選択的に融着させること；
を含み得る。

粉末の堆積は、フェイスシートと引き続いてこれに融着されるガラスの任意の以降の層との全体の集合体の上に粉末を堆積させることを含み得る。ガラス粉末材料の融着は、低膨張ガラス粉末を低膨張ガラスの中に融着させることを含み得る。ガラス粉末材料の融着は、低膨張チタニア－シリカガラス粉末を低膨張チタニア－シリカガラスの中に融着させることを含み得る。フェイスシートにガラス粉末材料を融着させることは、光学的性質によって外形に密接しているフェイスシートにガラス粉末材料を融着させることを含み得る。

ガラス粉末材料の逐次的な融着は、反射鏡基材を形成することを含み得る。反射鏡基材の形成は、所定の必要最小限の要件を超える水準の剛性及び安定性が得られる一方で反射鏡基材の質量を最小限にする、最適な三次元の反射鏡の形態を形成することを含み得る。ガラス粉末材料の逐次的な融着は、以降の層の中での材料の特性を変化させる及び／または以降の層の中での位置に基づいて材料の特性を変化させることを含み得る。

光学素子は、ガラス製フェイスシートを含む。低膨張ガラスの第１の層は、ガラス製フェイスシートに融着される。複数の逐次的に融着された層は、フェイスシートと第１の層とを含む集合体の上にコア材料構造を形成する。

フェイスシートには光学特性のための輪郭が形成され得る。フェイスシートの前面は、研磨可能な表面を含み得る。第１の層は、フェイスシートの研磨可能な表面と反対側のフェイスシートの面に融着され得る。第１の層及び複数の逐次的に融着された層は、例えば低膨張チタニア－シリカガラス粉末などの、融着された低膨張ガラス粉末材料を含み得る。フェイスシート、第１の層、及び逐次的に融着された層は、反射鏡基材を形成し得る。反射鏡基材は、所定の必要最小限の要件を超える水準の剛性及び安定性が得られる一方で反射鏡基材の質量を最小限にする、最適な三次元の反射鏡の形態を含み得る。複数の逐次的に融着された層は、逐次的な層の中で異なる及びまたはコア材料構造の中での位置に基づいて異なる材料の特性を有するガラス材料を含み得る。

主題の開示の系及び方法のこれら及び他の特徴は、図面と組み合わせて解釈される以降の好ましい実施形態の詳細な説明から当業者に更に容易に理解されるであろう。

主題の開示に属する当業者が過度な実験を行うことなく主題の開示の装置及び方法の製造方法及び使用方法を容易に理解できるように、その好ましい実施形態を特定の図面の参照しつつ本明細書で以下詳細に説明する。

本開示により構成された反射鏡基材の例示的な実施形態の概略的な側面図であり、マンドレルと、フェイスシート上に堆積された付加製造されたコア材料構造の逐次的な層を有するフェイスシートとを示している。 図１の反射鏡基材の概略的な平面図であり、レーザー光線が粉末材料の一部を選択的に融着することを示している。

ここで図面を参照するが、この中で、類似した参照番号は主題の開示と類似した構造的特徴または態様を示す。限定のためではなく説明及び例示の目的で、本開示による光学素子の典型的な実施形態の部分図が図１に示されており、これは通常参照符号１００で示されている。本開示またはその態様による光学素子の別の実施形態は、後に説明するように図２に示されている。本明細書に記載の系及び方法は、低熱膨張ガラスからの軽量（ｌｉｇｈｔ－ｗｅｉｄｔｈ）反射鏡基材の付加製造のために使用することができる。

図１は、マンドレル１０２上の、例えば反射鏡基材などの光学素子１００を示している。光学要素１００の形成方法は、マンドレル１０２上に予め成形されたガラス製フェイスシート１０４を配置することを含む。フェイスシート１０４は、チタニア－シリカガラス製であってもよく、比較的薄くてもよく、また例えば望ましいあるいは所定の反射鏡の輪郭を得る目的で、光学特性のために輪郭が形成される。ガラス粉末材料は、フェイスシート１０４の研磨可能な表面１１４に融着されて、フェイスシート１０４上に第１のコア材料層１０６を形成する。その後、ガラス粉末材料は複数の追加的なコア材料層１０８の中に逐次的に融着されてフェイスシート１０４上にコア材料構造１１０を構築する。最終層１１２は、第１の層１０６からのフェイスシート１０４と反対側のコア材料構造１１０の表面で融着される。フェイスシート１０４は完成品の光学素子１００の一部になる。

次に図２を参照すると、付加製造時、各逐次的な層１０８のための粉末は、図１における向きのとおりの上面全体、つまり、フェイスシート１０４、第１のコア材料層１０６、及び／または１層以上の追加的なコア材料層１０８を含む集合体１１５のレーザー融着が行われる表面、に堆積させることができる。この粉末は、任意の他の適切な技術によって薄膜状に堆積されてもよく、選択的に堆積される必要はない。ガラス粉末材料は、粉末が融着されると低膨張ガラス材料を形成するように構成されてもよく、例えば低膨張チタニア－シリカガラス粉末は、低膨張チタニア－シリカガラス粉末の中に融着されてもよい。

粉末のそれぞれのそのような層は、その全体が融着されるか、あるいは選択的にしか融着されずに結果として粉末の一部のみが集合体１１５に実際に融着されてコア材料構造１１０の中に望ましい形状の断面を形成してもよい。融着は、例えばＣＯ_２レーザーなどのレーザー光線を使用することによって行うことができるものの、任意の適切な種類のレーザーを使用してもよい。図２においては、レーザー光線１１６が集合体１１５を被覆する堆積された粉末の一部１１８を融着し、示されている三角形状にのみに融着したガラスの層を形成することが概略的に示されている。三角形のパターンの周りをレーザー光線１１６が動く方向は図２中の大きな矢印で示されている。レーザー光線１１６でこれから融着されるところである粉末の部分１２０が図２に概略的に示されている。この技術によって、所定の必要最小限の要件を超える水準の剛性及び安定性が得られる一方で反射鏡基材の質量を最小限にする、最適な三次元形態を有する反射鏡基材または他の光学素子を形成することができる。本明細書に記載のとおりに行われる層の逐次的な融着は、以降の層の中での材料の特性を変化させる及び／または所定の層の中での位置に基づいて材料の特性を変化させるためにガラス粉末材料を融着させることを含み得る。例えば、図２中の三角形の部分１１８は第１のセットの材料特性を有するガラスで形成することができ、集合体１１５の表面の残りの部分１２２は第２のセットの材料特性を有するガラスで形成することができ、その結果、所定の層１０８は、層１０８の中の位置に応じて異なるセットの材料特性をそれ自身の中に有する。

ビルドプレート上に部品が印刷され、その後そこから取り外される従来の付加製造とは異なり、フェイスシート１０４はビルドプレートとして機能すると共に完成品の一部にもなる。仕上げ工程として、図１に示されているフェイスシート１０４の前面、すなわち層１０８と反対側のフェイスシート１０４の表面は、研磨及び被覆することができる。

上で説明し、図面に示した本開示の方法及び系は、非常に複雑な特徴、最適な三次元形状の形態（所定の用途及び負荷のために必要とされる剛性及び安定性が得られる一方で例えば反射鏡基材などの質量を最小限にするための、従来の技術よりも小さく複雑な特徴のアモルファスの形態など）、を含み得る優れた特性を有する光学素子を提供する。本明細書に開示の技術を使用することで従来技術と比較してより迅速な低膨張ガラスの製造を提供することも可能であり、また従来の技術よりにおいてよりも大きいガラス製反射鏡基材を作ることが可能である。ビルドプレートを使用する従来の技術においてよりもより大きいガラス製反射鏡基材を製造できることに関しては、これは、従来の技術では、付加製造の高い温度が製造時に部品を歪ませる熱応力を生じ得る場合があり、またビルドプレートから剥がれさせ得るという事実に起因する。この剥離プロセスは従来の技術においてどのくらい大きな素子を製造できるかの制限となるが、本明細書に開示の技術の制約とはならない。

好ましい実施形態を参照しつつ主題の開示の装置及び方法を示して説明してきたが、当業者であれば主題の開示の範囲から逸脱することなしにこれに対して変更及び／または修正を行い得ることを容易に理解するであろう。

１００ 光学素子
１０２ マンドレル
１０４ フェイスシート
１０６ 第１のコア材料層
１０８ コア材料層
１１０ コア材料構造
１１２ 最終層
１１４ 研磨可能な表面
１１５ 集合体
１１６ レーザー光線

Claims (11)

1. フェイスシートにガラス粉末材料を融着させて前記フェイスシート上に第１のコア材料層を形成すること；及び
   複数の追加的なコア材料層の中にガラス粉末材料を逐次的に融着させて前記フェイスシート上にコア材料構造を構築すること；
   を含み、
   前記コア材料層の少なくとも１つの層が、第１のガラス材料と、前記第１のガラス材料とは異なる第２のガラス材料と、を備え、それにより、前記少なくとも１つの層の材料特性が、その層内の位置に応じて変化し、
   前記コア材料層の少なくとも１つの層が、
   （ｉ）前記少なくとも１つの層内に第１のパターンで前記第１のガラス材料を形成させるように、第１のガラス粉末材料を堆積、融着させ、
   （ｉｉ）次いで、前記少なくとも１つの層内に第２のパターンで前記第２のガラス材料を形成させるように、第２のガラス粉末材料を堆積、融着させる、
   ことによって形成されることを特徴とする、光学素子の形成方法。
2. ガラス粉末を融着させて前記第１のコア材料層を形成することと、複数の追加的なコア材料層の中にガラス粉末材料を逐次的に融着させることのうちの少なくとも１つが、
   前記フェイスシート、前記第１のコア材料層、及び／または前記追加的なコア材料層の１つ、のうちの少なくとも１つの上に粉末を堆積させること；並びに
   前記粉末の一部分のみを選択的に融着させること；
   を含む、請求項１に記載の方法。
3. 粉末の堆積が、前記フェイスシートと引き続いてこれに融着されるガラスの任意の以降の層との全体の集合体の上に粉末を堆積させることを含む、請求項１に記載の方法。
4. ガラス粉末材料の融着が、低膨張ガラス粉末を低膨張ガラスの中に融着させることを含む、請求項１に記載の方法。
5. ガラス粉末材料の融着が、低膨張チタニア－シリカガラス粉末を低膨張チタニア－シリカガラスの中に融着させることを含む、請求項４に記載の方法。
6. フェイスシートへのガラス粉末材料の融着が、光学特性のために輪郭が形成されたフェイスシートにガラス粉末材料を融着させることを含む、請求項１に記載の方法。
7. 前記フェイスシートにガラス粉末材料を融着させる前に、マンドレル上に前記フェイスシートを配置することを更に含む、請求項１に記載の方法。
8. 前記フェイスシートへのガラス粉末材料の融着が、前記フェイスシートの研磨可能な表面と反対側の前記フェイスシートの面に前記ガラス粉末材料を融着させることを含む、請求項１に記載の方法。
9. ガラス粉末材料の逐次的な融着が反射鏡基材を形成することを含む、請求項１に記載の方法。
10. 反射鏡基材の形成が、三次元の反射鏡の形態を形成することを含む、請求項９に記載の方法。
11. ガラス粉末材料の逐次的な融着が、以降の層の中での材料の特性を変化させることを含む、請求項１に記載の方法。

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