JP7177932B6 - 3d印刷のための低粘度uv硬化性調合物 - Google Patents

3d印刷のための低粘度uv硬化性調合物 Download PDF

Info

Publication number
JP7177932B6
JP7177932B6 JP2021526550A JP2021526550A JP7177932B6 JP 7177932 B6 JP7177932 B6 JP 7177932B6 JP 2021526550 A JP2021526550 A JP 2021526550A JP 2021526550 A JP2021526550 A JP 2021526550A JP 7177932 B6 JP7177932 B6 JP 7177932B6
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
monomer
liquid precursor
meth
acrylate
acrylamide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021526550A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2022507525A (ja
JP7177932B2 (ja
Inventor
シヴァパキア ガナパティアッパン,
アンキット ヴォラ,
ボイ フー,
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Applied Materials Inc
Original Assignee
Applied Materials Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Applied Materials Inc filed Critical Applied Materials Inc
Publication of JP2022507525A publication Critical patent/JP2022507525A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7177932B2 publication Critical patent/JP7177932B2/ja
Publication of JP7177932B6 publication Critical patent/JP7177932B6/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/52Amides or imides
    • C08F220/54Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F220/56Acrylamide; Methacrylamide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C08F265/06Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24DTOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
    • B24D3/00Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
    • B24D3/02Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
    • B24D3/20Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
    • B24D3/28Resins or natural or synthetic macromolecular compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/112Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using individual droplets, e.g. from jetting heads
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y10/00Processes of additive manufacturing
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y70/00Materials specially adapted for additive manufacturing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1811C10or C11-(Meth)acrylate, e.g. isodecyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate or 2-naphthyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/34Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F220/36Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/52Amides or imides
    • C08F220/54Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/1006Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/106Esters of polycondensation macromers
    • C08F222/1065Esters of polycondensation macromers of alcohol terminated (poly)urethanes, e.g. urethane(meth)acrylates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F226/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F226/02Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a single or double bond to nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F226/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F226/06Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F226/10N-Vinyl-pyrrolidone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/005Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/106Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D11/107Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds from unsaturated acids or derivatives thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/30Inkjet printing inks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/30Inkjet printing inks
    • C09D11/38Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29KINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2105/00Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped
    • B29K2105/0002Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped monomers or prepolymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2031/00Other particular articles
    • B29L2031/736Grinding or polishing equipment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y30/00Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33YADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y80/00Products made by additive manufacturing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/34Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F220/36Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate
    • C08F220/365Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate containing oxygen in addition to the carboxy oxygen, e.g. 2-N-morpholinoethyl (meth)acrylate or 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate containing further carboxylic moieties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00Specific properties of additives
    • C08K2201/012Additives improving oxygen scavenging properties

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Description

本発明は、付加製造、より具体的には、付加製造システムにおける吐出のための組成物に関する。
固体自由形状製造又は3D印刷としても知られる付加製造(AM)は、原材料(例えば、粉末、液体、懸濁液、又は融解固形物)を連続的に分注して2次元の層を形成することから3次元の対象物を作り上げる製造プロセスを意味する。対照的に、従来の機械加工技術は、物品がストック材料(例えば、木片、プラスチック、複合材料、又は金属)から切り出されるサブトラクティブプロセスを含む。
化学機械研磨用の研磨パッドは、典型的には、ポリウレタン材料を型成形又は鋳造することにより作製される。型成形の場合、研磨パッドは、例えば射出成形によって1つずつ作製され得る。鋳造の場合、液体前駆体が鋳造され、硬化されて固形物になり、その後この固形物が、個別のパッド片にスライスされる。これらのパッド片は次いで、最終的な厚さに機械加工され得る。溝が、研磨面に機械加工され得るか、又は、射出成形プロセスの一部として形成され得る。
研磨パッドは、3D印刷技法によっても製造され得る。液体前駆体材料は、支持体の上方を移動するノズルから分注され、硬化されて、研磨パッドの層が形成され得る。
一態様では、付加製造プロセスにおける分注のための液体前駆体材料は、メタ(アクリレート)官能性オリゴマー、反応性希釈剤、メタ(アクリルアミド)モノマー、及びN-ビニル含有モノマーを含む。
別の態様では、研磨パッドの研磨層を製造する方法は、3Dプリンタを用いて研磨層の複数の副層を連続的に堆積させることを含む。複数の副層の各副層は、液体前駆体材料をノズルから吐出することであって、前駆体材料が、メタ(アクリレート)官能性オリゴマー、反応性希釈剤、メタ(アクリルアミド)モノマー、及びN-ビニル含有モノマーを含む、液体前駆体材料をノズルから吐出すること、及び前駆体材料を硬化して、副層の凝固した研磨層を形成することにより堆積される。
潜在的な利点には、以下の一又は複数が含まれ得るが、それらに限定されない。
前駆体材料は、減少した粘度を有し得るが、迅速な硬化、高い弾性率、及び高い最大引張強さ(UTS)も有し得る。さらに、これらの特性は、最終的な硬化部品の吸水率を低く維持しながら達成され得る。さらに、高分子量(MW)オリゴマーのより高いローディングが加えられることにより、より頑丈な層(すなわち、UTSを維持しながらより高い破断伸びを有する層)が可能になり得る。調合物の組成を調整することにより、室温の水に4日間浸漬させた後に、アクリルアミド又はN-ビニル含有モノマーを含むUV硬化性調合物の吸水率を元の重量の<10%に減少させることが可能である。インクジェットに基づく3D印刷技法によって作製される部品にとって、これは特に望ましい。
一又は複数の実施態様の詳細が、添付図面及び以下の説明に明記される。他の特徴、目的、及び利点は、明細書及び図面、並びに特許請求の範囲から明らかになる。
例示的な付加製造システムを示す概略断面側面図である。 対照UV架橋性調合物を列挙した表である。 アクリルアミド及びN-ビニルモノマーを含む複数の調合物を列挙した表である。 3D印刷された複数の調合物を列挙した表である。 図4の調合物の3D印刷された試験片の機械的特性を列挙した表である。 例示の研磨パッドの概略断面側面図である。
様々な図面における類似の参照記号は、類似の要素を示している。
光に基づく硬化、例えばUV硬化を使用する多くの3D印刷技法には、低粘度の調合物が非常に望ましい。これは、最終的な調合物の粘度がジェット温度(60-90℃)で10-20cPである必要があるインクジェットに基づく3D印刷技法にとって重要であり得る。従来、このような低粘度を達成するために、調合物のほとんど(~70-80%)は低粘度の反応性希釈剤であり、調合物のわずか20-25%が、必要な機械的特性を最終的な層に提供する高粘度のオリゴマーである。よって、ほとんどの場合、逐次重合技法によって得ることができるより頑丈な材料とは対照的に、インクジェットに基づく3D技法によって得られる最終的なUV硬化層は非常に脆性で硬い。
UV硬化性層に使用されるほとんどの反応性希釈剤は、アクリレート及びメタクリレートモノマーと、モノ、ジ、トリ、又はテトラ官能性の反応性(メタ)アクリレート基との組み合わせである。このように通常使用されるアクリレートモノマーの一つは、~8cPのRT粘度と~90CのTgとを有するイソボルニルアクリレートである。シクロヘキシルメタクリレート及びメチルメタクリレートのような低粘度の他のメタクリレートモノマーも、反応性希釈剤として使用される。しかしながら、これらのモノマーに基づく調合物は、メタクリレート基の反応性が遅いため、硬化が非常に遅いか、又は硬化を完了するために非常に高線量の放射線を必要とする。このため、このようなモノマーを調合物に大量に使用することは実用的ではない。
しかしながら、アクリルアミドとN-ビニル含有モノマー、例えば、N,N ジメチルアクリルアミド、N,N ジエチルアクリルアミド及びN-ビニルピロリドンとを含む調合物は、これらの問題に対処することができる。
図1は、3D印刷プロセスを使用して部品、例えば研磨パッドを製造するための例示のシステム10の簡略図である。システム10は、上に部品が製造される支持体20と、液滴吐出プリントヘッド30とを含み、液滴吐出プリントヘッド30は一又は複数のノズル32を含む。液体前駆体材料の液滴34は、一又は複数のノズル32から吐出され得る。液滴吐出プリンタは、インクジェットプリンタに類似していることがあるが、インクではなく前駆体材料を使用する。プリントヘッド30及びノズル32は、(矢印Aで示すように)支持体20全体を平行移動する。例えば、プリントヘッド30は、線形トラック36上に支持され、線形アクチュエータ38、例えばスクリュードライブモータによってトラック36に沿って動かされる。あるいは、プリントヘッド30は静止状態であり得、支持体20はモータによって水平に移動され得る。
ある実装態様では、支持体20は垂直アクチュエータ22によって移動され得る。例えば、各層が堆積された後、支持体20は、堆積されたばかりの層の厚さに等しい距離だけ低下され得る。代替的に、又は追加的に、プリントヘッド30は、例えば、垂直変位の一部又はすべてを提供するために垂直に移動され得る。これは、ノズル32と、上に液滴34が堆積されている表面との間の均一な距離を確実にすることができ、これにより、製造の均一性を改善し、制御電子装置を簡潔にすることができる。
支持体20は堅い基部であってよい、又は例えばポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の層等の柔軟性のある膜であってよい。支持体20が膜である場合には、支持体20は、物品の一部を形成し得る。例えば、支持体20は、バッキング層を、又はバッキング層と研磨パッドの研磨層との間の層を形成し得る。あるいは、部品を支持体20から取り除くことができる。
図1は、単一のノズル32を示しているが、実際には、プリントヘッド30は、独立して制御可能なノズルの線形配列を含み得る。ノズルは、支持体表面に平行に、かつプリントヘッド30の運動方向に対して斜め又は垂直な方向に延在し得る。ノズル32の配列は、支持体20の構築エリアの幅に広がることができる。
システム10はまた、放射線42を放出して、液体前駆体材料34を凝固、例えば硬化させるためのエネルギー源40を含む。例えば、エネルギー源40は、一又は複数のUVランプを含み得る。例えば、エネルギー源40は、直線配列のLED、例えばUV発光ダイオードを含み得る。直線配列のLEDは、支持体20の構築エリアの幅に広がることができる。エネルギー源40はまた、支持体20全体を、例えばプリントヘッド30と同じ方向において平行移動し得る。例えば、プリントヘッド30及びエネルギー源40は、1ユニットとして移動される共通フレーム上に支持され得るか、又はプリント30及びエネルギー源40は、同じ又は異なるトラックに沿って独立して移動可能であり得る。
凝固は重合によって実現可能である。例えば、パッド前駆体材料の層50はモノマーであってよく、モノマーはUV硬化によってインシトゥで重合させることができる。パッド前駆体材料は、実質的に堆積の直後に硬化し得るが、パッド前駆体材料の全層50が堆積した後に、全層50を同時に硬化させることもできる。
製造プロセスでは、材料の薄層が徐々に堆積され、凝固する。例えば、前駆体材料の液滴34は、ノズル32から吐出されて、層50を形成する。堆積させた第1の層50aにおいて、ノズル34は支持体20上に噴出し得る。その次に堆積させた層50bにおいては、ノズル34はすでに凝固した材料56上に吐出し得る。各層50が凝固した後、完全な3次元部品、例えば研磨パッドが製造されるまで、新たな層が前の堆積層の上に堆積する。各層50は、部品の総厚の50%未満(例えば10%未満、例えば5%未満、例えば1%未満)である。
プリントヘッド30が支持体に対して移動する場合に、各層が、コンピュータ60上の非一時的なコンピュータ可読媒体、例えば、3D描画コンピュータプログラムにデータとして格納されたパターンで適用されるよう、コンピュータ60はさまざまなノズル34からの液滴の吐出を制御し得る。コンピュータ60は、例えばプリントヘッド30及び/又はエネルギー源40の平行移動速度を制御するために、さまざまなアクチュエータを制御することができ、例えば放射線42の強度を制御して、それによって硬化速度を制御するためにエネルギー源40を制御することができ、支持体20の垂直アクチュエータを制御することができる。
液滴34の液体前駆体材料は、アクリルアミドと、例えば、N,N ジメチルアクリルアミド、N,N ジエチルアクリルアミド及び/又はN-ビニルピロリドンなどのN-ビニル含有モノマーとを含む調合物であり得る。そのような調合物は、付加製造、例えばインクジェットに基づく3D印刷においてUV硬化性層を形成するのに適した低粘度を有し得る。しかしながら、調合物は、他の3D印刷技法、例えば、光造形法(SLA)又はデジタル光処理(DLP)にも使用され得る。さらに、調合物は、他の用途、例えば他の物品上のコーティング、例えば保護コーティングにも適用可能であり得る。これらの3D印刷部品の潜在的な用途には、機能及びプロトタイピングの用途、並びに半導体製造用の化学機械平坦化(CMP)用の研磨パッドの製造が含まれる。
アクリルアミド及びN-ビニルモノマーなどのUV硬化性モノマーは、これらのモノマーの水溶性が高いため、ヒドロゲルなどの高吸水システムの3D印刷以外のUV硬化性調合物に以前は使用された。驚くべきことに、そのような調合物は減少した粘度を有し得るが、迅速な硬化、高い弾性率、及び高い最大引張強さ(UTS)も有し得ることが発見された。さらに、これらの特性は、最終的な硬化部品の水分吸収を低く維持しながら達成され得る。さらに、高分子量(MW)オリゴマーのより高いローディングが加えられることにより、より頑丈な層(すなわち、UTSを維持しながらより高い破断伸びを有する層)が可能になり得る。調合物の組成を調整することにより、室温の水に4日間浸漬させた後に、アクリルアミド又はN-ビニル含有モノマーを含むUV硬化性調合物の水分吸収を元の重量の<10%に減少させることが可能である。インクジェットに基づく3D印刷技法によって作製される部品にとって、これは特に望ましい。
調合物には、メタ(アクリレート)官能性オリゴマー、反応性希釈剤、メタ(アクリルアミド)モノマー、及びN-ビニル含有モノマーが含まれる。反応性希釈剤は、脂肪族、脂環式、複素環式、芳香族、直鎖状、又は分岐状のメタ(アクリレート)モノマーであり得る。N-ビニル含有モノマーは、N,N ジメチルアクリルアミド、N,N ジエチルアクリルアミド及び/又はN-ビニルピロリドンを含み得る。調合物は、光開始剤、光増感剤、及び/又は酸素捕捉剤を含み、パフォーマンスを改善し得る。しかしながら、調合物の化学的に反応する部分は、メタ(アクリレート)官能性オリゴマー、反応性希釈剤、メタ(アクリルアミド)モノマー、N-ビニル含有モノマーのみを含み得る、例えばそれらからなる。
図2は、EB270オリゴマー(脂肪族ウレタンアクリレート)及びBR744BTオリゴマー(脂肪族ポリエステルウレタンアクリレート)を使用した対照UV架橋性調合物を列挙した表である。モノマー1はイソボルニルアクリレート(IBOA)である。モノマー3は、「SR 351 LV」の商品名でSartomer Americasから入手可能な低粘度のトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)である。光開始剤(PI)は、米国ノースカロライナ州Charlotteに本社があるIGM Resins USA社から入手可能なOmniradTM819である。オリゴマー、モノマー1、モノマー3、及び光開始剤の重量パーセント(%)が示されている。図2から5の表において、粘度は70℃でセンチポアズ(cP)で示される。最大引張強さ(UTS)はミリパスカル(MPa)で示される。% EIは、破断点伸びのパーセントである。貯蔵弾性率は、30℃(E30)、60℃(E60)、及び90℃(E90)で示される。
図2の表に示されているとおり、代表的なオリゴマーのうちの二つについては、2つのモデル調合物の粘度が高すぎ、ラピッドプロトタイピング又は3D印刷による機能部品の製造には機械的特性がまだ不十分である。
図3は、図2の表中の対照調合物よりも低い粘度及び良好な機械的特性を有する、アクリルアミド及びN-ビニルモノマーを含む複数の調合物を列挙した表である。モノマーDEAAは、N,N-ジエチルアクリルアミドである。モノマーDMAAは、N,N-ジメチルアクリルアミドである。モノマーNVPは、N-ビニルピロリドンである。オリゴマー、モノマー1、モノマー2、モノマー3、モノマー4、及び光開始剤(PI)の重量パーセント(%)が括弧中に示されている。
DLP、SLA、及びポリジェット技法のような3D印刷技法では、ラピッドプロトタイピング又は機能部品の製造を可能にする低粘度の調合物が非常に望ましい。低粘度の調合物は、より扱いやすく、印刷時により高い解像度を提供する。このような低粘度を達成するために、インク組成物は、ほとんどが、例えば、少なくとも約50%、例えば70-80%が、低粘度の液体、例えば、メタ(アクリレート)モノマー、メタ(アクリルアミド)モノマー、及びN-ビニル含有モノマーであり得る。組成物の約20-30%、例えば20-25%は、必要な機械的特性を最終的な硬化層に提供する高粘度のオリゴマーであり得る。
図4は、StratasysのConnex 500プリンタを使用して3D印刷され、タイプIV及びタイプVのドッグボーン及びDMAクーポン試料を形成する、複数の調合物(#10-14)を列挙した表である。印刷後、3D印刷された試料を90℃で1時間硬化し、この時点で試料を室温に冷却した。試料を室温で24時間置いた後、すべての試料の特性評価を行った。UTS、破断点伸び%、30℃及び90℃での貯蔵弾性率、並びに室温での浸漬試験の96時間後の吸水率について、試料を特性評価した。3D印刷した試料の好ましい値は、UTS、破断点伸び%、E30、E90、及び吸水率について、それぞれ25-35MPa、20-75%、~1GPa-1.5GPa、35-200MPa、及び>10%である。
表4の表では、オリゴマー、モノマー1、モノマー2、モノマー3、モノマー4、及び光開始剤(PI)の重量パーセント(%)が括弧中に示されている。モノマーSR 420は、Sartomer Americasの非常に低粘度の単官能性アクリルモノマーである。モノマーTMCHAは、3,3,5-トリメチルシクロヘキシルメタクリレートである。モノマー1.4 BDDAは、1,4-ブタンジオール ジアクリレートである。
図5は、図4の表の調合物#11-#14の3D印刷された試験片の機械的特性を列挙した表である。
低粘度でアクリルアミド及びN-ビニルモノマーを含む調合物は、付加製造に特に望ましい。ポリジェット3D印刷技法を使用する調合物のこのような用途の一つは、より高い伸び及びUTSを有する先進的な化学気化研磨(CMP)パッドを作製することである。ジェット温度での調合物の粘度範囲は、10cPから25cPの間、例えば12cpから20cPの間、例えば13cpから16cPの間であり得る。このような調合物のジェット温度は、50℃と100℃の間、例えば55℃と80℃の間、例えば60℃と70℃の間であり得る。
図6A及び6Bは、上記及び表3と4で検討された前駆体材料の調合物を使用する付加製造により製造され得る研磨パッド100を示している。図6Aに示すとおり、研磨パッド100は、上記の前駆体材料を使用する付加製造により製造された研磨層102からなる単層パッドであり得る。あるいは、図6Bに示す通り、研磨パッド100は、研磨層102及び少なくとも一つのバッキング層104を含むマルチレイヤパッドであり得る。
研磨層102は、研磨プロセスにおいて不活性材料であり得る。研磨層102は、ショアDスケールの約40~80、例えば50~65の硬度を有し得る。いくつかの実装態様では、研磨層102は、均質な組成物の層であり得る。いくつかの実装態様では、研磨層102は、ポア、例えば小さなボイドを含む。ポアは、50~100ミクロンの幅であってよい。
研磨層102は、80ミル以下、例えば50ミル以下、例えば25ミル以下の厚さD1を有し得る。調整プロセスによりカバー層がすり減りやすいため、研磨層102の厚さは、研磨パッド100に例えば3000回の研磨及び調整サイクルの有用な寿命が提供されるように選択され得る。
顕微鏡スケールでは、研磨層102の研磨面106は、例えば2~4ミクロンrmsの粗い質感の表面を有し得る。例えば、研磨層102に研削プロセス又は調整プロセスを施して、粗い表面性状を生成することができる。加えて、3D印刷により、例えば200ミクロンまでの小さく均一な特徴部が提供され得る。
研磨面106は顕微鏡スケールでは粗いことがあるが、研磨パッド自体の肉眼的スケールでは、研磨層106は良好な厚さ均一性を有し得る(この均一性は、研磨層の底面に対する研磨面106の高さの全体的な変動を指し、研磨層に意図的に形成されたいかなる肉眼的な溝又は貫通孔をも含むものではない)。例えば、厚さの非均一性は1ミル未満であり得る。
場合によっては、研磨面106の少なくとも一部は、スラリーを運ぶために研磨面に形成された複数の溝108を含み得る。溝108は、溝に対応する位置に前駆体材料を単に吐出しないことによって形成することができる。溝108は、例えば同心円、直線、斜交平行、螺旋等のほぼすべてのパターンのものであってもよい。溝108があると仮定すると、研磨面106、すなわち溝108間の平坦域は、研磨パッド100の水平表面積全体の約25~90%になってもよい。したがって、溝108は、研磨パッド18の水平表面積全体の10~75%を占めてもよい。溝26間の平坦域は、約0.1~2.5mmの横幅を有し得る。
いくつかの実装態様では、例えばバッキング層104がある場合、溝108は研磨層102を完全に貫通して延在し得る。一部の実装態様では、溝108は、研磨層102の厚さの約20~80%(例えば40%)を通って延在し得る。溝108の深さD2は0.25~1mmであってよい。例えば、50ミルの厚さの研磨層102を有する研磨パッド100では、溝108は約20ミルの深さD2であり得る。
バッキング層104は、研磨層102よりも柔軟で、より圧縮性であり得る。バッキング層104は、ショアAスケールで80以下の硬度、例えば約60ショアAの硬度を有し得る。バッキング層104は、研磨層102よりも厚い、又は薄い、又は同じ厚さであってよい。
例えば、バッキング層は、ボイドを有するポリウレタン又はポリシリコン等のオープンセル又はクローズセル発泡体であってよく、これにより加圧下でセルがつぶれ、バッキング層が圧縮される。適切なバッキング層の材料は、コネクチカット州ロジャースのロジャース社のPORON4701-30、又はRohm&Haas社のSUBA-IVである。バッキング層の硬度は、層材料と空隙率を選択することによって調節可能である。
一部の実装態様では、バッキング層104も、3D印刷プロセスによって製造され得る。例えば、バッキング層104と研磨層102とは、付加製造システム10によって、1つの連続工程で製造されることも可能である。バッキング層104には、異なる前駆体材料を使用することによって、及び/又は異なる硬化量、例えば、異なるUV放射強度を使用することによって、研磨層102とは異なる硬度が与えられ得る。
他の実装態様では、バッキング層104は、従来型のプロセスによって製造されてから、研磨層102に固定される。例えば、研磨層102は、感圧接着剤などである薄型接着層によって、バッキング層104に固定され得る。
数々の実施態様が説明されてきた。それでもなお、本発明の本質及び範囲から逸脱することなく様々な改変が行われ得ることが、理解されよう。
層の各層の厚さ、及び、ボクセルの各々のサイズは、実装態様ごとに変動し得る。一部の実装態様では、支持体20上に分注が行われる時に、各ボクセルは、例えば10μm~50μm(10μm~30μm、20μm~40μm、30μm~50μm、およそ20μm、およそ30μm、又はおよそ50μmなど)の幅を有し得る。各層は、所定の厚さを有し得る。この厚さは、例えば、0.10μm~125μm(例えば、0.1μm~1μm、1μm~10μm、10μm~20μm、10μm~40μm、40μm~80μm、80μm~125μm、およそ15μm、およそ25μm、およそ60μm、又はおよそ100μm)であり得る。
研磨パッドは、円形又は何か他の形状のパッドとすることができる。
エネルギー源は、異なる波長範囲を有する多数の光源を含み得る。例えば、エネルギー源は、2列のUV光源を含むことがあり、2列は異なる波長帯を有する。
研磨パッドの製造に関連して装置について説明してきたが、この装置は、付加製造によるその他の物品の製造にも適合し得る。
したがって、その他の実施態様も、以下の特許請求の範囲内に含まれる。

Claims (15)

  1. 付加製造プロセスにおける液体前駆体であって、
    メタ(アクリレート)官能性オリゴマーと、
    反応性希釈剤と、
    メタ(アクリルアミド)モノマーと、
    N,N ジエチルアクリルアミドモノマー又はN,N ジメチルアクリルアミドモノマーあるいはその双方と、
    を含
    反応性希釈剤と、メタ(アクリルアミド)モノマーと、N,N ジエチルアクリルアミドモノマー又はN,N ジメチルアクリルアミドモノマーあるいはその双方とが、液体前駆体の70-80%である、液体前駆体。
  2. 反応性希釈剤がメタ(アクリレート)モノマーを含む、請求項1に記載の液体前駆体。
  3. メタ(アクリレート)モノマーが、脂肪族、脂環式、複素環式、芳香族、直鎖状、及び/又は分岐状のメタ(アクリレート)モノマーを含む、請求項2に記載の液体前駆体。
  4. 液体前駆体、N-ビニルピロリドンを含まない、請求項1に記載の液体前駆体。
  5. 液体前駆体におけるオリゴマーが、メタ(アクリレート)官能性オリゴマーのみであり、メタ(アクリレート)官能性オリゴマーが、液体前駆体の20-30%を占める、請求項1に記載の液体前駆体。
  6. メタ(アクリレート)官能性オリゴマーが、液体前駆体の20-25%を占める、請求項5に記載の液体前駆体。
  7. 光開始剤、光増感剤、及び/又は酸素捕捉剤を含む、請求項1に記載の液体前駆体。
  8. 液体前駆体が、メタ(アクリレート)官能性オリゴマー、反応性希釈剤、メタ(アクリルアミド)モノマー、及びN-ビニル含有モノマーと、場合によっては、光開始剤、光増感剤、及び/又は酸素捕捉剤のうちの一又は複数とからなる、請求項1に記載の液体前駆体。
  9. 研磨パッドの研磨層を製造する方法であって、
    研磨層の複数の副層を3Dプリンタを用いて連続的に堆積させることであって、複数の副層の各副層が、
    液体前駆体材料をノズルから吐出することであって、液体前駆体材料が、メタ(アクリレート)官能性オリゴマー、反応性希釈剤、メタ(アクリルアミド)モノマーと、N,N ジエチルアクリルアミドモノマー又はN,N ジメチルアクリルアミドモノマーあるいはその双方とを含反応性希釈剤と、メタ(アクリルアミド)モノマーと、N,N ジエチルアクリルアミドモノマー又はN,N ジメチルアクリルアミドモノマーあるいはその双方とが、液体前駆体材料の70-80%である、液体前駆体材料をノズルから吐出すること、及び
    液体前駆体材料を硬化して、液体前駆体材料を凝固させて、副層の凝固した研磨層材料を形成することであって、凝固した研磨層材料の吸水率が、室温の水に4日間浸漬させた後、元の重量の10%未満である、副層の凝固した研磨層材料を形成することにより堆積される、
    研磨層の複数の副層を3Dプリンタを用いて連続的に堆積させることを含む、
    方法。
  10. 液体前駆体材料におけるオリゴマーが、メタ(アクリレート)官能性オリゴマーのみであり、複数の副層の各副層の厚さが、研磨層の総厚の50%未満である、請求項9に記載の方法。
  11. 反応性希釈剤が、メタ(アクリレート)モノマーであり、液体前駆体の化学的に反応する部分は、メタ(アクリレート)官能性オリゴマーと、メタ(アクリレート)モノマーと、メタ(アクリルアミド)モノマーと、N,N ジメチルアクリルアミドモノマー又はN,N ジエチルアクリルアミドモノマーあるいはその双方とのみを含み、複数の副層の各副層の厚さが、研磨層の総厚の1%未満である、請求項10に記載の方法。
  12. 反応性希釈剤がメタ(アクリレート)モノマーを含む、請求項9に記載の方法。
  13. 液体前駆体材料が、N-ビニルピロリドンを含まない、請求項9に記載の方法。
  14. メタ(アクリレート)官能性オリゴマーが、液体前駆体材料の20-30%を占める、請求項9に記載の方法。
  15. 液体前駆体材料が、メタ(アクリレート)官能性オリゴマー、反応性希釈剤、メタ(アクリルアミド)モノマー、及びN,N ジエチルアクリルアミドモノマー又はN,N ジメチルアクリルアミドモノマーあるいはその双方と、場合によっては、光開始剤、光増感剤、及び/又は酸素捕捉剤のうちの一又は複数とからなる、請求項に記載の方法。
JP2021526550A 2018-11-19 2019-11-13 3d印刷のための低粘度uv硬化性調合物 Active JP7177932B6 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201862769493P 2018-11-19 2018-11-19
US62/769,493 2018-11-19
PCT/US2019/061285 WO2020106526A1 (en) 2018-11-19 2019-11-13 Low viscosity uv-curable formulation for 3d printing

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2022507525A JP2022507525A (ja) 2022-01-18
JP7177932B2 JP7177932B2 (ja) 2022-11-24
JP7177932B6 true JP7177932B6 (ja) 2022-12-16

Family

ID=70726997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021526550A Active JP7177932B6 (ja) 2018-11-19 2019-11-13 3d印刷のための低粘度uv硬化性調合物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20200157265A1 (ja)
JP (1) JP7177932B6 (ja)
KR (1) KR102633514B1 (ja)
CN (1) CN113056496B (ja)
WO (1) WO2020106526A1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210069860A1 (en) * 2019-09-11 2021-03-11 Applied Materials, Inc. Compositions and Methods of Additive Manufacturing of Polishing Pads
EP4229104A1 (en) * 2020-10-19 2023-08-23 CMC Materials, Inc. Uv-curable resins used for chemical mechanical polishing pads
EP4108364A1 (en) * 2021-06-22 2022-12-28 Evonik Operations GmbH Material system for 3d printing
WO2023145933A1 (ja) * 2022-01-31 2023-08-03 株式会社クラレ 3dプリンタによる樹脂シートの製造方法、及びそれにより得られた研磨層を有する研磨パッド

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015517922A (ja) 2012-04-25 2015-06-25 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 印刷による化学機械研磨パッド
WO2017047615A1 (ja) 2015-09-16 2017-03-23 Kjケミカルズ株式会社 (メタ)アクリルアミド系ウレタンオリゴマー及びそれを含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
WO2017074773A1 (en) 2015-10-30 2017-05-04 Applied Materials, Inc. An apparatus and method of forming a polishing article that has a desired zeta potential

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102051088A (zh) * 2011-01-11 2011-05-11 珠海保税区天然宝杰数码科技材料有限公司 紫外光固化喷墨记录用白色油墨组合物及一种喷墨记录方法
US9322991B2 (en) * 2014-02-03 2016-04-26 Corning Incorporated Primary coating compositions with reinforcing polymer
CN106029727B (zh) * 2014-03-17 2018-11-13 科捷化成品公司 聚氨酯低聚物和含有它的活性能量射线固化性树脂组合物
TWI689406B (zh) * 2014-10-17 2020-04-01 美商應用材料股份有限公司 研磨墊及製造其之方法
JP6334000B2 (ja) * 2014-12-16 2018-05-30 富士フイルム株式会社 3d印刷用活性光線硬化型インクジェットインク組成物、3次元造形方法、及び、3d印刷用活性光線硬化型インクジェットインクセット
KR102340472B1 (ko) * 2015-02-06 2021-12-16 케이제이 케미칼즈 가부시키가이샤 입체 조형물의 제조 방법, 광 경화성 잉크, 서포트재 및 입체 조형물
KR102125596B1 (ko) * 2016-04-08 2020-06-22 주식회사 엘지화학 3d 프린팅 지지체용 잉크 조성물
US10239255B2 (en) * 2017-04-11 2019-03-26 Molecule Corp Fabrication of solid materials or films from a polymerizable liquid
CN112823171B (zh) * 2018-10-08 2023-06-30 汉高股份有限及两合公司 可光固化组合物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015517922A (ja) 2012-04-25 2015-06-25 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 印刷による化学機械研磨パッド
WO2017047615A1 (ja) 2015-09-16 2017-03-23 Kjケミカルズ株式会社 (メタ)アクリルアミド系ウレタンオリゴマー及びそれを含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
WO2017074773A1 (en) 2015-10-30 2017-05-04 Applied Materials, Inc. An apparatus and method of forming a polishing article that has a desired zeta potential
JP2018538152A (ja) 2015-10-30 2018-12-27 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 所望のゼータ電位を有する研磨用物品を形成するための装置及び方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN113056496B (zh) 2023-09-08
TW202028369A (zh) 2020-08-01
US20200157265A1 (en) 2020-05-21
KR102633514B1 (ko) 2024-02-02
WO2020106526A1 (en) 2020-05-28
JP2022507525A (ja) 2022-01-18
KR20210076204A (ko) 2021-06-23
JP7177932B2 (ja) 2022-11-24
CN113056496A (zh) 2021-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7177932B6 (ja) 3d印刷のための低粘度uv硬化性調合物
JP6673912B2 (ja) 付加製造プロセスにより製作される研磨パッド
JP7299970B2 (ja) 改良型研磨パッドのための配合物
US11826876B2 (en) Hydrophilic and zeta potential tunable chemical mechanical polishing pads
KR102344467B1 (ko) 프린팅된 화학적 기계적 폴리싱 패드
US20200325353A1 (en) Anionic polishing pads formed by printing processes
CN109075057A (zh) 垫结构及制造方法
TWI779796B (zh) 於輸送帶上之研磨墊的積層製造
JP2021534017A (ja) 層状の材料被着により3次元の成形物を製造する方法
KR20210021941A (ko) 이종 재료를 사용한 3 차원 조형 장치와 3 차원 조형 방법
US20230219190A1 (en) Additive manufacturing of polishing pads
CN114728400A (zh) 抛光垫的增材制造的组合物和方法
JP6685503B2 (ja) 立体造形用粉末材料、立体造形用キット、立体造形用グリーン体、立体造形物及び立体造形用グリーン体の製造方法、立体造形物及び立体造形用グリーン体の製造装置
US20230256560A1 (en) Additive manufacturing of polishing pads
TWI841626B (zh) 用於3d列印之低黏度uv固化配方
JP2017024259A (ja) 立体造形物の製造方法及びその製造装置
JP2017024260A (ja) 立体造形物の製造方法及びその製造装置
CN114630853A (zh) 抛光垫的增材制造

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210709

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220513

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220517

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20220803

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221012

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20221018

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221111

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7177932

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150