JP7176283B2 - multilayer electronic components - Google Patents

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Description

本発明の一側面は、積層電子部品に関する。 One aspect of the present invention relates to laminated electronic components.

特許文献1には、複数の絶縁体層が積層されて構成されている素体と、素体の底面上に設けられている底面電極と、を備える電子部品が開示されている。この電子部品では、素体の上面近傍に反り防止用導体が設けられている。これにより、素体の上面の収縮率が底面の収縮率に近づくので、素体の反りが抑制される。 Patent Literature 1 discloses an electronic component including an element body configured by laminating a plurality of insulating layers, and a bottom electrode provided on the bottom surface of the element body. In this electronic component, a warp prevention conductor is provided in the vicinity of the upper surface of the element. As a result, the shrinkage rate of the top surface of the element approaches the shrinkage rate of the bottom surface, so warping of the element is suppressed.

特開2012-49694号公報JP 2012-49694 A

上述の電子部品が基板に実装されて使用される場合、電子部品及び基板の熱膨張率の違いから、環境温度の変化等に応じた応力が底面電極に作用する。これにより、素体において、底面電極近傍にクラックが発生するおそれがある。 When the electronic component described above is mounted on a substrate and used, a stress corresponding to a change in environmental temperature or the like acts on the bottom electrode due to the difference in coefficient of thermal expansion between the electronic component and the substrate. As a result, cracks may occur in the vicinity of the bottom electrode in the element.

本発明の一側面は、素体におけるクラックの発生を抑制可能な積層電子部品を提供する。 One aspect of the present invention provides a laminated electronic component capable of suppressing the occurrence of cracks in a base body.

本発明の一側面に係る積層電子部品は、実装面とされる第1主面と、第1主面と対向している第2主面と、第1主面及び第2主面の対向方向に延び、第1主面及び第2主面と隣り合う側面と、を有している素体と、側面から離間するように第1主面に設けられた第1電極と、素体内に設けられた第2電極と、素体内に設けられ、第1電極と第2電極とに接続された接続導体と、互いに連続している第1樹脂部及び第2樹脂部を有する導電性樹脂層と、を備え、第1樹脂部は、第1主面に設けられ、第1電極を覆っており、第2樹脂部は、側面に設けられている。 A multilayer electronic component according to one aspect of the present invention includes: a first main surface serving as a mounting surface; a second main surface facing the first main surface; a base body having a first main surface and side surfaces adjacent to the second main surface; a first electrode provided on the first main surface so as to be spaced apart from the side surfaces; a second electrode provided in the base body, a connection conductor connected to the first electrode and the second electrode, and a conductive resin layer having a first resin portion and a second resin portion that are continuous with each other; , the first resin portion is provided on the first main surface and covers the first electrode, and the second resin portion is provided on the side surface.

この積層電子部品では、実装面とされる第1主面に設けられた第1電極が導電性樹脂層に覆われている。これにより、第1電極に作用する応力が緩和される。導電性樹脂層は、第1主面に設けられた第1樹脂部だけでなく、側面に設けられ、第1樹脂部と連続する第2樹脂部を有している。このため、第1電極に作用する応力が更に緩和される。この結果、素体におけるクラックの発生を抑制することができる。 In this multilayer electronic component, the first electrode provided on the first main surface serving as the mounting surface is covered with the conductive resin layer. This relieves the stress acting on the first electrode. The conductive resin layer has not only the first resin portion provided on the first main surface, but also the second resin portion provided on the side surface and continuous with the first resin portion. Therefore, the stress acting on the first electrode is further relaxed. As a result, it is possible to suppress the occurrence of cracks in the element.

第2樹脂部は、第2主面から離間していてもよい。この場合、側面のうち、第1電極が設けられた第1主面に近い領域に第2樹脂部を配置することができる。よって、効果的に第1電極に作用する応力を緩和することができる。 The second resin portion may be spaced apart from the second main surface. In this case, the second resin portion can be arranged in a region of the side surface that is close to the first main surface on which the first electrode is provided. Therefore, it is possible to effectively relax the stress acting on the first electrode.

第2樹脂部は、側面に設けられた凹部に配置されていてもよい。この場合、積層電子部品の外形寸法が増大することを抑制可能となる。 The second resin portion may be arranged in a recess provided on the side surface. In this case, it is possible to suppress an increase in the outer dimensions of the multilayer electronic component.

本発明の一側面に係る積層電子部品は、第1電極と導電性樹脂層との間に設けられ、第1電極と導電性樹脂層とに接している導電性密着層を更に備えてもよい。この場合、第1電極と導電性樹脂層との間の密着性を高めることができる。 The multilayer electronic component according to one aspect of the present invention may further include a conductive adhesion layer provided between the first electrode and the conductive resin layer and in contact with the first electrode and the conductive resin layer. . In this case, the adhesion between the first electrode and the conductive resin layer can be enhanced.

本発明の一側面によれば、素体におけるクラックの発生を抑制可能な積層電子部品を提供する。 According to one aspect of the present invention, there is provided a multilayer electronic component capable of suppressing the occurrence of cracks in a base body.

実施形態に係る方向性結合器の回路構成を示す回路図である。1 is a circuit diagram showing a circuit configuration of a directional coupler according to an embodiment; FIG. 図1に示す方向性結合器の斜視図である。2 is a perspective view of the directional coupler shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す方向性結合器の一部断面図である。2 is a partial cross-sectional view of the directional coupler shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す方向性結合器の内部構成を示す斜視図である。2 is a perspective view showing an internal configuration of the directional coupler shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す方向性結合器の内部構成を示す斜視図である。2 is a perspective view showing an internal configuration of the directional coupler shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す方向性結合器の素体における1層目ないし4層目の誘電体層の一面を示す説明図である。2 is an explanatory view showing one surface of first to fourth dielectric layers in the element body of the directional coupler shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す方向性結合器の素体における5層目ないし8層目の誘電体層の一面を示す説明図である。2 is an explanatory view showing one surface of fifth to eighth dielectric layers in the element body of the directional coupler shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す方向性結合器の素体における9層目ないし12層目の誘電体層の一面を示す説明図である。2 is an explanatory view showing one surface of a ninth to twelfth dielectric layer in the element body of the directional coupler shown in FIG. 1; FIG. 図1に示す方向性結合器の素体における13層目ないし16層目の誘電体層の一面を示す説明図である。3 is an explanatory view showing one surface of a 13th to 16th dielectric layer in the element body of the directional coupler shown in FIG. 1; FIG. 変形例に係る方向性結合器の一部断面図である。It is a partial cross-sectional view of a directional coupler according to a modification.

以下、添付図面を参照して、実施形態について詳細に説明する。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。 Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and overlapping descriptions are omitted.

図1は、実施形態に係る方向性結合器の回路構成を示す回路図である。図1に示すように、実施形態に係る方向性結合器1は、第1ポート11と、第2ポート12と、第3ポート13と、第4ポート14とを備えている。本実施形態では、特に、第1ポート11は入力ポートであり、第2ポート12は出力ポートであり、第3ポート13は結合ポートであり、第4ポート14は終端ポートである。第4ポート14は、例えば50Ωの抵抗値を有する終端抵抗を介して接地される。 FIG. 1 is a circuit diagram showing the circuit configuration of a directional coupler according to an embodiment. As shown in FIG. 1, the directional coupler 1 according to the embodiment includes a first port 11, a second port 12, a third port 13, and a fourth port . In this embodiment, among others, the first port 11 is an input port, the second port 12 is an output port, the third port 13 is a coupling port, and the fourth port 14 is a termination port. The fourth port 14 is grounded via a terminating resistor having a resistance of 50Ω, for example.

方向性結合器1は、主線路10と、第1副線路部20Aと、第2副線路部20Bと、移相器30とを更に備えている。主線路10は、第1ポート11と第2ポート12とを接続している。第1副線路部20A及び第2副線路部20Bは、それぞれ主線路10に対して電磁界結合する線路からなっている。第1副線路部20A、移相器30、及びと第2副線路部20Bは、回路構成上、第3ポート13と第4ポート14との間に、この順に直列に設けられている。 The directional coupler 1 further includes a main line 10 , a first sub-line section 20A, a second sub-line section 20B, and a phase shifter 30 . The main line 10 connects the first port 11 and the second port 12 . The first sub-line portion 20A and the second sub-line portion 20B are composed of lines that are electromagnetically coupled to the main line 10, respectively. The first sub line section 20A, the phase shifter 30, and the second sub line section 20B are provided in series between the third port 13 and the fourth port 14 in this order in terms of circuit configuration.

第1副線路部20Aは、互いに反対側に位置する第1端部20A1及び第2端部20A2を有している。第2副線路部20Bは、互いに反対側に位置する第1端部20B1及び第2端部20B2を有している。第1副線路部20Aの第1端部20A1は、第3ポート13に接続されている。第2副線路部20Bの第1端部20B1は、第4ポート14に接続されている。 The first sub-line portion 20A has a first end portion 20A1 and a second end portion 20A2 located opposite to each other. The second sub-line portion 20B has a first end portion 20B1 and a second end portion 20B2 positioned opposite to each other. A first end portion 20A1 of the first sub line portion 20A is connected to the third port 13 . A first end portion 20B1 of the second sub line portion 20B is connected to the fourth port 14 .

移相器30は、第1経路31と、第2経路32とを含んでいる。第1経路31は、第1副線路部20Aと第2副線路部20Bとを接続している。第1経路31は、第1インダクタンス要素L1と、第2インダクタンス要素L2とを含んでいる。第1インダクタンス要素L1及び第2インダクタンス要素L2は、それぞれインダクタンスを有し、互いに誘導結合している。第1インダクタンス要素L1は、それぞれ互いに反対側に位置する第1端部L1a及び第2端部L1bを有している。第2インダクタンス要素L2は、それぞれ互いに反対側に位置する第1端部L2a及び第2端部L2bを有している。 Phase shifter 30 includes a first path 31 and a second path 32 . The first path 31 connects the first sub-line portion 20A and the second sub-line portion 20B. The first path 31 includes a first inductance element L1 and a second inductance element L2. The first inductance element L1 and the second inductance element L2 each have an inductance and are inductively coupled to each other. The first inductance element L1 has a first end L1a and a second end L1b located opposite to each other. The second inductance element L2 has a first end L2a and a second end L2b located opposite to each other.

第1インダクタンス要素L1の第1端部L1aは、第1副線路部20Aの第2端部20A2に接続されている。第2インダクタンス要素L2の第1端部L2aは、第2副線路部20Bの第2端部20B2に接続されている。第1インダクタンス要素L1の第2端部L1bと第2インダクタンス要素L2の第2端部L2bとは、互いに接続され、かつ、第2経路32を介してグラウンドに接続されている。第2経路32は、第1キャパシタC1を含んでいる。 A first end portion L1a of the first inductance element L1 is connected to a second end portion 20A2 of the first sub-line portion 20A. A first end portion L2a of the second inductance element L2 is connected to a second end portion 20B2 of the second sub-line portion 20B. The second end L1b of the first inductance element L1 and the second end L2b of the second inductance element L2 are connected to each other and to the ground via the second path 32 . A second path 32 includes a first capacitor C1.

本実施形態では、第1インダクタンス要素L1及び第2インダクタンス要素L2は、それぞれ線路であるが、集中定数素子であるインダクタであってもよい。第1インダクタンス要素L1を第1線路とし、第2インダクタンス要素L2を第2線路とする。第1線路と第2線路は、少なくとも誘導結合する。第1線路と第2線路は、更に、分布定数回路のように、第1線路と第2線路の間のキャパシタンスが第1及び第2線路に沿って連続的に分布するように容量結合してもよい。 In this embodiment, the first inductance element L1 and the second inductance element L2 are each lines, but they may be inductors that are lumped constant elements. The first inductance element L1 is the first line, and the second inductance element L2 is the second line. The first line and the second line are at least inductively coupled. The first line and the second line are further capacitively coupled such that the capacitance between the first line and the second line is continuously distributed along the first and second lines, like a distributed constant circuit. good too.

第1線路は、第1線路部分を含んでいてもよく、第2線路は、第1線路部分に対向する第2線路部分を含んでいてもよい。第1線路部分は、回路構成上、第1副線路部20Aに最も近い第1端縁と、その反対側の第2端縁とを有している。第2線路部分は、回路構成上、第2副線路部20Bに最も近い第1端縁と、その反対側の第2端縁とを有している。第2線路部分の第1端縁は、物理的に、第1線路部分のうち、第1線路部分の第2端縁に最も近い。第2線路部分の第2端縁は、物理的に、第1線路部分のうち、第1線路部分の第1端縁に最も近い。第1線路部分及び第2線路部分については、後で更に詳しく説明する。 The first line may include a first line portion and the second line may include a second line portion facing the first line portion. The first line portion has a first edge closest to the first sub-line portion 20A and a second edge on the opposite side in terms of circuit configuration. The second line portion has a first edge closest to the second sub-line portion 20B and a second edge on the opposite side in terms of circuit configuration. The first edge of the second line section is physically closest to the second edge of the first line section of the first line section. The second edge of the second line section is physically closest to the first edge of the first line section of the first line section. The first line portion and the second line portion will be described in more detail later.

主線路10は、第1副線路部20Aと電磁界結合する第1部分10Aと、第2副線路部20Bと電磁界結合する第2部分10Bとを有している。ここで、第1部分10Aと第1副線路部20Aとを合わせて第1結合部40Aと言う。また、第2部分10Bと第2副線路部20Bとを合わせて第2結合部40Bと言う。 The main line 10 has a first portion 10A electromagnetically coupled with the first sub-line portion 20A and a second portion 10B electromagnetically coupled with the second sub-line portion 20B. Here, the first portion 10A and the first sub-line portion 20A are collectively referred to as a first coupling portion 40A. Also, the second portion 10B and the second sub-line portion 20B are collectively referred to as a second coupling portion 40B.

次に、方向性結合器1の作用について説明する。第1ポート11には高周波信号が入力され、この高周波信号は第2ポート12から出力される。第3ポート13からは、第1ポート11に入力された高周波信号の電力に応じた電力を有する結合信号が出力される。 Next, the action of the directional coupler 1 will be described. A high-frequency signal is input to the first port 11 and output from the second port 12 . A combined signal having power corresponding to the power of the high-frequency signal input to the first port 11 is output from the third port 13 .

第1ポート11と第3ポート13との間には、第1結合部40Aを経由する第1信号経路と、第2結合部40B及び移相器30を経由する第2信号経路とが形成される。第1ポート11に高周波信号が入力されたとき、第3ポート13から出力される結合信号は、それぞれ第1及び第2信号経路を通過した信号が合成されて得られる信号である。方向性結合器1の結合度は、第1結合部40A及び第2結合部40Bのそれぞれ単独の結合度と、それぞれ第1信号経路及び第2信号経路を通過した信号の位相の関係とに依存する。 Between the first port 11 and the third port 13, a first signal path via the first coupling section 40A and a second signal path via the second coupling section 40B and the phase shifter 30 are formed. be. When a high-frequency signal is input to the first port 11, the combined signal output from the third port 13 is a signal obtained by synthesizing the signals that have passed through the first and second signal paths. The degree of coupling of the directional coupler 1 depends on the degrees of individual coupling of the first coupling section 40A and the second coupling section 40B and the phase relationship of the signals that have passed through the first signal path and the second signal path, respectively. do.

第2ポート12と第3ポート13との間には、第1結合部40Aを経由する第3信号経路と、第2結合部40B及び移相器30を経由する第4信号経路とが形成される。方向性結合器1のアイソレーションは、第1結合部40A及び第2結合部40Bの各々の単独の結合度と、それぞれ第3及び第4信号経路を通過した信号の位相の関係とに依存する。 Between the second port 12 and the third port 13, a third signal path via the first coupling section 40A and a fourth signal path via the second coupling section 40B and the phase shifter 30 are formed. be. The isolation of the directional coupler 1 depends on the degree of coupling of each of the first coupling section 40A and the second coupling section 40B and the phase relationship of the signals that have passed through the third and fourth signal paths, respectively. .

移相器30は、入力信号に対して位相が遅延した信号を出力する。移相器30の入力信号に対する移相器30の出力信号の位相遅延量は、入力信号の周波数が高くなるほど大きくなる。位相遅延量が90度となるときの入力信号の周波数の2倍の周波数は、位相遅延量が180度となるときの入力信号の周波数よりも低い。この移相器30の特性については、後で更に詳しく説明する。 The phase shifter 30 outputs a signal whose phase is delayed with respect to the input signal. The phase delay amount of the output signal of phase shifter 30 with respect to the input signal of phase shifter 30 increases as the frequency of the input signal increases. The frequency twice the frequency of the input signal when the phase delay amount is 90 degrees is lower than the frequency of the input signal when the phase delay amount is 180 degrees. The characteristics of this phase shifter 30 will be described in more detail later.

次に、方向性結合器1の構造について説明する。図2は、図1に示す方向性結合器の斜視図である。図3は、図1に示す方向性結合器の一部断面図である。図2及び図3に示すように、方向性結合器1は、素体50と、底面電極111~116と、複数の被覆電極120と、を備えている。 Next, the structure of the directional coupler 1 will be explained. 2 is a perspective view of the directional coupler shown in FIG. 1. FIG. 3 is a partial cross-sectional view of the directional coupler shown in FIG. 1. FIG. As shown in FIGS. 2 and 3, the directional coupler 1 includes a base body 50, bottom electrodes 111 to 116, and a plurality of covering electrodes 120. As shown in FIGS.

素体50は、後述するように、複数の誘電体層が積層されてなる。素体50は、直方体形状を呈している。直方体形状には、角部及び稜線部が面取りされている直方体の形状、及び、角部及び稜線部が丸められている直方体の形状が含まれる。素体50は、その外表面として、上面50Aと、実装面とされる底面50Bと、4つの側面50C,50D,50E,50Fとを有している。上面50A及び底面50Bは互いに対向している。側面50C,50Dは、互いに対向している。側面50E,50Fは、互いに対向している。側面50C~50Fは、上面50A及び底面50Bの対向方向Tに延び、上面50A及び底面50Bと隣り合っている。素体50において、上面50A及び底面50Bは、対向方向Tの両端に位置する。 The element body 50 is formed by laminating a plurality of dielectric layers, as will be described later. The element body 50 has a rectangular parallelepiped shape. The rectangular parallelepiped shape includes a rectangular parallelepiped shape with chamfered corners and edges, and a rectangular parallelepiped shape with rounded corners and edges. The element body 50 has, as its outer surfaces, a top surface 50A, a bottom surface 50B serving as a mounting surface, and four side surfaces 50C, 50D, 50E, and 50F. The top surface 50A and the bottom surface 50B face each other. Sides 50C and 50D face each other. Sides 50E and 50F face each other. The side surfaces 50C to 50F extend in the facing direction T of the top surface 50A and the bottom surface 50B and are adjacent to the top surface 50A and the bottom surface 50B. In the element body 50, the top surface 50A and the bottom surface 50B are located at both ends in the facing direction T. As shown in FIG.

側面50C,50D,50E,50Fの底面50B側の縁部には、凹部70が設けられている。凹部70は、側面50C,50D,50E,50Fの底面50B側の縁部に設けられた段差部である。底面50B側から見て、凹部70は、底面50Bの周縁50Gに沿って溝状に延在し、底面50Bを取り囲んでいる。周縁50Gは、底面50Bと側面50C~50Fとの間における稜線部の湾曲の頂部である。底面50B側から見て、側面50C,50D,50E,50Fで規定される方向性結合器1の周縁は、周縁50Gに沿って、周縁50Gの外側に位置している。 Recesses 70 are provided in the edges of the side surfaces 50C, 50D, 50E, and 50F on the side of the bottom surface 50B. The recessed portion 70 is a stepped portion provided at the edges of the side surfaces 50C, 50D, 50E, and 50F on the side of the bottom surface 50B. When viewed from the bottom surface 50B side, the recess 70 extends like a groove along the peripheral edge 50G of the bottom surface 50B and surrounds the bottom surface 50B. The perimeter 50G is the top of the curvature of the ridge between the bottom surface 50B and the side surfaces 50C-50F. When viewed from the bottom surface 50B side, the peripheral edge of the directional coupler 1 defined by the side surfaces 50C, 50D, 50E, and 50F is located outside the peripheral edge 50G along the peripheral edge 50G.

凹部70の幅(凹部70の対向方向Tの長さ)は、例えば80μm以上150μm以下である。凹部70の深さ(各側面50C~50Fに垂直方向における凹部70の長さ)は、例えば20μm以上80μm以下である。凹部70の底面70Aは、底面50Bと隣り合っている。底面70A及び底面50Bは、互いに連続している。凹部70の形成方法として、例えば、方向性結合器1を積層体基板からダイシングにより得る際に、ブレード幅の広いダイシングブレードで積層体基板をハーフカットした後、ブレード幅の狭いダイシングブレートで積層体基板をフルカットする方法が挙げられる。 The width of the concave portion 70 (the length of the concave portion 70 in the opposing direction T) is, for example, 80 μm or more and 150 μm or less. The depth of the recess 70 (the length of the recess 70 in the direction perpendicular to the side surfaces 50C to 50F) is, for example, 20 μm or more and 80 μm or less. The bottom surface 70A of the recess 70 is adjacent to the bottom surface 50B. The bottom surface 70A and the bottom surface 50B are continuous with each other. As a method for forming the concave portion 70, for example, when obtaining the directional coupler 1 from the laminate substrate by dicing, after half-cutting the laminate substrate with a dicing blade having a wide blade width, the laminate is cut with a dicing blade having a narrow blade width. A method of fully cutting the substrate can be mentioned.

底面電極111~116は、側面50C~50Fから離間するように底面50Bに設けられている。底面電極111~116は、対向方向Tから見て、矩形状を呈している。底面電極111~116は、互いに同形状を呈している。本実施形態では、底面電極111~116の表面は、底面50Bと面一であるが、底面電極111~116の表面は、底面50Bよりも外方に突出していてもよいし、底面50Bよりも内方に窪んでいてもよい。 The bottom electrodes 111-116 are provided on the bottom surface 50B so as to be separated from the side surfaces 50C-50F. The bottom electrodes 111 to 116 have a rectangular shape when viewed from the facing direction T. As shown in FIG. The bottom electrodes 111 to 116 have the same shape. In this embodiment, the surfaces of the bottom electrodes 111 to 116 are flush with the bottom surface 50B, but the surfaces of the bottom electrodes 111 to 116 may protrude outward from the bottom surface 50B, or may protrude further than the bottom surface 50B. It may be recessed inward.

底面電極111は、第1ポート11(図1参照)に対応している。底面電極112は、第2ポート12(図1参照)に対応している。底面電極113は、第3ポート13(図1参照)に対応している。底面電極114は、第4ポート14(図1参照)に対応している。底面電極115,116は、グラウンドに接続されるグランウンド端子である。 The bottom electrode 111 corresponds to the first port 11 (see FIG. 1). The bottom electrode 112 corresponds to the second port 12 (see FIG. 1). The bottom electrode 113 corresponds to the third port 13 (see FIG. 1). The bottom electrode 114 corresponds to the fourth port 14 (see FIG. 1). Bottom electrodes 115 and 116 are ground terminals connected to the ground.

各被覆電極120は、互いに離間している。各被覆電極120は、底面50Bの一部と、側面50C又は側面50Dの一部と、に連続して設けられ、底面電極111~116のいずれかの全体を覆っている。各被覆電極120は、上面50A、側面50E、及び側面50Fから離間している。上面50A、側面50E、及び側面50Fは、各被覆電極120から露出している。図3では、底面電極111を覆う被覆電極120の断面図が示されているが、各被覆電極120は、互いに同じ構成を有している。 Each covered electrode 120 is spaced apart from each other. Each covering electrode 120 is continuously provided on a portion of the bottom surface 50B and a portion of the side surface 50C or the side surface 50D, and covers any one of the bottom surface electrodes 111-116. Each covering electrode 120 is spaced from top surface 50A, side surface 50E, and side surface 50F. The top surface 50A, the side surface 50E, and the side surface 50F are exposed from each covered electrode 120. As shown in FIG. Although FIG. 3 shows a cross-sectional view of the covering electrode 120 covering the bottom electrode 111, each covering electrode 120 has the same configuration.

各被覆電極120は、導電性樹脂層140と、第1めっき層(不図示)と、第2めっき層(不図示)と、を有している。導電性樹脂層140は、素体50上に設けられている。導電性樹脂層140は、底面50Bの一部と、側面50C又は側面50Dの一部と、に連続して設けられ、底面電極111~116のいずれかを覆っている。 Each covered electrode 120 has a conductive resin layer 140, a first plating layer (not shown), and a second plating layer (not shown). The conductive resin layer 140 is provided on the element body 50 . The conductive resin layer 140 is continuously provided on a portion of the bottom surface 50B and a portion of the side surface 50C or the side surface 50D, and covers any one of the bottom electrodes 111-116.

導電性樹脂層140は、素体50上に付与された導電性樹脂を硬化させることにより形成される。導電性樹脂は、樹脂(例えば、熱硬化性樹脂)、導電性材料(例えば、金属粉末)、及び有機溶媒を含んでいる。導電性材料としては、例えば、Agが用いられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、又はポリイミド樹脂が用いられる。導電性樹脂は、例えば、スクリーン印刷により付与される。スクリーン印刷は、例えば、底面50Bに対して行われる。導電性樹脂が底面50Bから側面50C及び側面50Dに回り込むので、側面50C及び側面50Dにも導電性樹脂が付与される。 The conductive resin layer 140 is formed by curing the conductive resin applied on the element body 50 . The conductive resin includes resin (eg, thermosetting resin), conductive material (eg, metal powder), and organic solvent. Ag, for example, is used as the conductive material. As the thermosetting resin, for example, phenol resin, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, or polyimide resin is used. The conductive resin is applied, for example, by screen printing. Screen printing is performed on the bottom surface 50B, for example. Since the conductive resin flows from the bottom surface 50B to the side surfaces 50C and 50D, the conductive resin is also applied to the side surfaces 50C and 50D.

導電性樹脂層140は、互いに連続している第1樹脂部141及び第2樹脂部142を有している。第1樹脂部141は、底面50Bに設けられ、底面電極111~116のいずれかを覆っている。第1樹脂部141は、底面50Bに沿って略一定の厚さで設けられている。第1樹脂部141の厚さは、第1樹脂部141の第1めっき層側の表面に垂直な方向における第1樹脂部141の長さで規定される。第1樹脂部141の厚さは、例えば、20μm以上40μm以下である。 The conductive resin layer 140 has a first resin portion 141 and a second resin portion 142 that are continuous with each other. The first resin portion 141 is provided on the bottom surface 50B and covers any one of the bottom electrodes 111-116. The first resin portion 141 is provided with a substantially constant thickness along the bottom surface 50B. The thickness of the first resin portion 141 is defined by the length of the first resin portion 141 in the direction perpendicular to the surface of the first resin portion 141 on the first plating layer side. The thickness of the first resin portion 141 is, for example, 20 μm or more and 40 μm or less.

第2樹脂部142は、側面50C又は側面50Dに設けられている。第2樹脂部142は、側面50C又は側面50Dに設けられた凹部70に配置されている。第2樹脂部142の厚さは、第1樹脂部141の厚さよりも厚い。第2樹脂部142の厚さは、第2樹脂部142の第1めっき層側の表面に垂直な方向における第2樹脂部142の長さで規定される。第2樹脂部142の厚さの最大値は、例えば、20μm以上80μm以下である。 The second resin portion 142 is provided on the side surface 50C or the side surface 50D. The second resin portion 142 is arranged in a recess 70 provided on the side surface 50C or the side surface 50D. The thickness of the second resin portion 142 is thicker than the thickness of the first resin portion 141 . The thickness of the second resin portion 142 is defined by the length of the second resin portion 142 in the direction perpendicular to the surface of the second resin portion 142 on the side of the first plating layer. The maximum thickness of the second resin portion 142 is, for example, 20 μm or more and 80 μm or less.

第1めっき層は、導電性樹脂層140の全体を覆うように、導電性樹脂層140上に設けられている。第1めっき層は、導電性樹脂層140に沿って略一定の厚さで設けられている。第1めっき層は、例えばNiめっきにより形成されたNiめっき層である。第1めっき層は、Snめっき層、Cuめっき層、又はAuめっき層であってもよい。 The first plating layer is provided on the conductive resin layer 140 so as to cover the entire conductive resin layer 140 . The first plating layer is provided with a substantially constant thickness along the conductive resin layer 140 . The first plated layer is, for example, a Ni plated layer formed by Ni plating. The first plating layer may be a Sn plating layer, a Cu plating layer, or an Au plating layer.

第2めっき層は、第1めっき層の全体を覆うように、第1めっき層上に設けられている。第2めっき層は、第1めっき層に沿って略一定の厚さで設けられている。第2めっき層は、例えばSnめっきにより形成されたSnめっき層である。第2めっき層は、Cuめっき層又はAuめっき層であってもよい。 The second plating layer is provided on the first plating layer so as to cover the entire first plating layer. The second plating layer is provided with a substantially constant thickness along the first plating layer. The second plating layer is a Sn plating layer formed by Sn plating, for example. The second plating layer may be a Cu plating layer or an Au plating layer.

次に、方向性結合器の内部構成を説明する。素体50は、積層された16層の誘電体層を有している。以下、この16層の誘電体層を、下から順に1層目ないし16層目の誘電体層と呼ぶ。1層目の誘電体層51は、底面50Bを含んでいる。16層目の誘電体層51は、上面50Aを含んでいる。 Next, the internal configuration of the directional coupler will be described. The element body 50 has 16 laminated dielectric layers. Hereinafter, these 16 dielectric layers are referred to as first to sixteenth dielectric layers in order from the bottom. The first dielectric layer 51 includes a bottom surface 50B. The sixteenth dielectric layer 51 includes an upper surface 50A.

図4及び図5は、図1に示す方向性結合器の内部構成を示す斜視図である。図4及び図5に示すように、方向性結合器1は、素体50内に設けられた内部電極521,522,524,525,541,551,552,571,591,601,611,621,631,641,651と、接続導体51T1,51T2,51T3,51T4,51T5,51T6,52T1,52T2,52T3,52T4,52T5,52T6,53T1,53T2,53T3,53T4,53T5,53T6,54T1,54T2,54T3,54T4,54T5,54T6,55T3,55T4,55T5,55T6,56T3,56T4,56T5,56T6,57T3,57T4,57T5,57T6,58T3,58T4,58T5,58T6,59T3,59T4,59T5,59T6,60T3,60T4,60T5,60T6,60T7,61T3,61T4,61T7,62T3,62T4,62T7,62T8,63T3,63T4,63T7,63T8,64T4,64T8と、を更に備えている。 4 and 5 are perspective views showing the internal configuration of the directional coupler shown in FIG. 1. FIG. As shown in FIGS. 4 and 5, the directional coupler 1 includes internal electrodes 521, 522, 524, 525, 541, 551, 552, 571, 591, 601, 611, 621 provided in the element body 50. , 631, 641, 651 and connection conductors 51T1, 51T2, 51T3, 51T4, 51T5, 51T6, 52T1, 52T2, 52T3, 52T4, 52T5, 52T6, 53T1, 53T2, 53T3, 53T4, 53T5, 53T6, 54T1, 54T2, 54T3, 54T4, 54T5, 54T6, 55T3, 55T4, 55T5, 55T6, 56T3, 56T4, 56T5, 56T6, 57T3, 57T4, 57T5, 57T6, 58T3, 58T4, 58T5, 58T6, 59T3, 59T4, 59T5, 59T6, 60T3, 60T4, 60T5, 60T6, 60T7, 61T3, 61T4, 61T7, 62T3, 62T4, 62T7, 62T8, 63T3, 63T4, 63T7, 63T8, 64T4, 64T8.

各内部電極は、誘電体層のパターン形成面(底面50B側の主面)に形成された導体層である。各内部電極は、対向方向Tと交差すると共に、上面50A及び底面50Bと略平行をなしている。各接続導体は、誘電体層を対向方向Tに貫通するスルーホール内に形成され、対向方向Tに沿って延在している。図示を省略するが、対向方向Tで隣り合い、互いに接続される一対の接続導体の間には、接続性を高めるための導体層が配置されている。 Each internal electrode is a conductor layer formed on the pattern formation surface (main surface on the bottom surface 50B side) of the dielectric layer. Each internal electrode crosses the opposing direction T and is substantially parallel to the top surface 50A and the bottom surface 50B. Each connection conductor is formed in a through hole penetrating the dielectric layer in the facing direction T and extends along the facing direction T. As shown in FIG. Although illustration is omitted, a conductor layer for enhancing connectivity is disposed between a pair of connection conductors that are adjacent in the opposing direction T and connected to each other.

図6において(a)~(d)は、それぞれ、1層目ないし4層目の誘電体層のパターン形成面を示している。図7において(a)~(d)は、それぞれ、5層目ないし8層目の誘電体層のパターン形成面を示している。図8において(a)~(d)は、それぞれ、9層目ないし12層目の誘電体層のパターン形成面を示している。図9において(a)~(d)は、それぞれ、13層目ないし16層目の誘電体層のパターン形成面を示している。 In FIG. 6, (a) to (d) respectively show the pattern formation surfaces of the first to fourth dielectric layers. In FIG. 7, (a) to (d) show pattern formation surfaces of the fifth to eighth dielectric layers, respectively. In FIG. 8, (a) to (d) show pattern formation surfaces of the 9th to 12th dielectric layers, respectively. In FIG. 9, (a) to (d) show the pattern formation surfaces of the 13th to 16th dielectric layers, respectively.

図6(a)に示したように、1層目の誘電体層51のパターン形成面(すなわち、底面50B)には、底面電極111~116が形成されている。また、誘電体層51には、それぞれ底面電極111~116に接続された接続導体51T1,51T2,51T3,51T4,51T5,51T6が形成されている。 As shown in FIG. 6A, bottom electrodes 111 to 116 are formed on the pattern formation surface (that is, the bottom surface 50B) of the dielectric layer 51 of the first layer. The dielectric layer 51 also has connection conductors 51T1, 51T2, 51T3, 51T4, 51T5 and 51T6 connected to the bottom electrodes 111 to 116, respectively.

図6(b)に示したように、2層目の誘電体層52のパターン形成面には、内部電極521,522,524と、グラウンド用の内部電極525とが形成されている。また、誘電体層52には、接続導体52T1,52T2,52T3,52T4,52T5,52T6が形成されている。接続導体52T1と、図6(a)に示した接続導体51T1は、内部電極521に接続されている。接続導体52T2と、図6(a)に示した接続導体51T2は、内部電極522に接続されている。接続導体52T3には、図6(a)に示した接続導体51T3が接続されている。接続導体52T4と、図6(a)に示した接続導体51T4は、内部電極524に接続されている。接続導体52T5,52T6と、図6(a)に示した接続導体51T5,52T6は、内部電極525に接続されている。 As shown in FIG. 6B, internal electrodes 521, 522, 524 and an internal electrode 525 for ground are formed on the pattern formation surface of the dielectric layer 52 of the second layer. Connection conductors 52T1, 52T2, 52T3, 52T4, 52T5, and 52T6 are formed on the dielectric layer 52 . The connection conductor 52T1 and the connection conductor 51T1 shown in FIG. The connection conductor 52T2 and the connection conductor 51T2 shown in FIG. The connection conductor 51T3 shown in FIG. 6A is connected to the connection conductor 52T3. The connection conductor 52T4 and the connection conductor 51T4 shown in FIG. The connection conductors 52T5 and 52T6 and the connection conductors 51T5 and 52T6 shown in FIG.

図6(c)に示したように、3層目の誘電体層53には、接続導体53T1,53T2,53T3,53T4,53T5,53T6が形成されている。接続導体53T1~53T6には、それぞれ図6(b)に示した接続導体52T1~52T6が接続されている。 As shown in FIG. 6(c), connection conductors 53T1, 53T2, 53T3, 53T4, 53T5 and 53T6 are formed on the third dielectric layer 53. As shown in FIG. The connection conductors 52T1 to 52T6 shown in FIG. 6B are connected to the connection conductors 53T1 to 53T6, respectively.

図6(d)に示したように、4層目の誘電体層54のパターン形成面には、内部電極541が形成されている。また、誘電体層54には、接続導体54T1,54T2,54T3,54T4,54T5,54T6が形成されている。接続導体54T1,54T3~54T6には、それぞれ図6(c)に示した接続導体53T1,53T3~53T6が接続されている。接続導体54T2は、内部電極541と、図6(c)に示した接続導体53T2に接続されている。 As shown in FIG. 6D, internal electrodes 541 are formed on the pattern formation surface of the fourth dielectric layer 54 . In addition, connection conductors 54T1, 54T2, 54T3, 54T4, 54T5, and 54T6 are formed on the dielectric layer . The connection conductors 53T1, 53T3 to 53T6 shown in FIG. 6C are connected to the connection conductors 54T1, 54T3 to 54T6, respectively. The connection conductor 54T2 is connected to the internal electrode 541 and the connection conductor 53T2 shown in FIG. 6(c).

図7(a)に示したように、5層目の誘電体層55のパターン形成面には、主線路10を構成するために用いられる内部電極551と、第2副線路部20Bを構成するために用いられる内部電極552とが形成されている。内部電極551,552の各々は、第1端と第2端を有している。また、誘電体層55には、接続導体55T3,55T4,55T5,55T6が形成されている。接続導体55T3,55T5,55T6には、それぞれ図6(d)に示した接続導体54T3,54T5,54T6が接続されている。接続導体55T4は、内部電極552における第1端の近傍部分に接続されている。図6(d)に示した接続導体54T1は、内部電極551における第1端の近傍部分に接続されている。図6(d)に示した接続導体54T2は、内部電極551における第2端の近傍部分に接続されている。図6(d)に示した接続導体54T4は、内部電極552における第2端の近傍部分に接続されている。 As shown in FIG. 7A, on the pattern formation surface of the fifth dielectric layer 55, the internal electrode 551 used for forming the main line 10 and the second sub-line portion 20B are formed. An internal electrode 552 used for this purpose is formed. Each of the internal electrodes 551, 552 has a first end and a second end. Further, connection conductors 55T3, 55T4, 55T5, and 55T6 are formed on the dielectric layer 55. As shown in FIG. The connection conductors 54T3, 54T5 and 54T6 shown in FIG. 6D are connected to the connection conductors 55T3, 55T5 and 55T6, respectively. The connection conductor 55T4 is connected to a portion of the internal electrode 552 near the first end. The connection conductor 54T1 shown in FIG. 6D is connected to a portion of the internal electrode 551 near the first end. The connection conductor 54T2 shown in FIG. 6D is connected to a portion of the internal electrode 551 near the second end. The connection conductor 54T4 shown in FIG. 6D is connected to a portion of the internal electrode 552 near the second end.

図7(b)に示したように、6層目の誘電体層56には、接続導体56T3,56T4,56T5,56T6が形成されている。接続導体56T3~56T6には、それぞれ図7(a)に示した接続導体55T3~55T6が接続されている。 As shown in FIG. 7B, connection conductors 56T3, 56T4, 56T5, and 56T6 are formed on the sixth dielectric layer 56 . The connection conductors 55T3 to 55T6 shown in FIG. 7A are connected to the connection conductors 56T3 to 56T6, respectively.

図7(c)に示したように、7層目の誘電体層57のパターン形成面には、第1副線路部20Aを構成するために用いられる内部電極571が形成されている。内部電極571は、第1端と第2端を有している。また、誘電体層57には、接続導体57T3,57T4,57T5,57T6が形成されている。接続導体57T3は、内部電極571における第1端の近傍部分に接続されている。接続導体57T4,57T5,57T6には、それぞれ図7(b)に示した接続導体56T4,56T5,56T6が接続されている。図7(b)に示した接続導体56T3は、内部電極571における第2端の近傍部分に接続されている。 As shown in FIG. 7C, internal electrodes 571 used to form the first sub-line portion 20A are formed on the pattern formation surface of the seventh dielectric layer 57. As shown in FIG. The internal electrode 571 has a first end and a second end. Further, connection conductors 57T3, 57T4, 57T5, and 57T6 are formed on the dielectric layer 57. As shown in FIG. The connection conductor 57T3 is connected to a portion of the internal electrode 571 near the first end. The connection conductors 56T4, 56T5 and 56T6 shown in FIG. 7B are connected to the connection conductors 57T4, 57T5 and 57T6, respectively. The connection conductor 56T3 shown in FIG. 7B is connected to a portion of the internal electrode 571 near the second end.

図7(d)に示したように、8層目の誘電体層58には、接続導体58T3,58T4,58T5,58T6が形成されている。接続導体58T3~58T6には、それぞれ図7(c)に示した接続導体57T3~57T6が接続されている。 As shown in FIG. 7D, connection conductors 58T3, 58T4, 58T5, and 58T6 are formed on the eighth dielectric layer 58 . The connection conductors 57T3 to 57T6 shown in FIG. 7C are connected to the connection conductors 58T3 to 58T6, respectively.

図8(a)に示したように、9層目の誘電体層59のパターン形成面には、グラウンド用の内部電極591が形成されている。また、誘電体層59には、接続導体59T3,59T4,59T5,59T6が形成されている。接続導体59T3,59T4には、それぞれ図7(d)に示した接続導体58T3,58T4が接続されている。接続導体59T5,59T6と、図7(d)に示した接続導体58T5,58T6は、内部電極591に接続されている。 As shown in FIG. 8A, an internal electrode 591 for grounding is formed on the pattern formation surface of the ninth dielectric layer 59 . Further, connection conductors 59T3, 59T4, 59T5 and 59T6 are formed on the dielectric layer 59. As shown in FIG. The connection conductors 59T3 and 59T4 are connected to the connection conductors 58T3 and 58T4 shown in FIG. 7(d), respectively. The connection conductors 59T5 and 59T6 and the connection conductors 58T5 and 58T6 shown in FIG.

図8(b)に示したように、10層目の誘電体層60のパターン形成面には、第1キャパシタC1を構成するために用いられる内部電極601が形成されている。また、誘電体層60には、接続導体60T3,60T4,60T5,60T6,60T7が形成されている。接続導体60T3~60T6には、それぞれ図8(a)に示した接続導体59T3~59T6が接続されている。接続導体60T7は、内部電極601に接続されている。 As shown in FIG. 8(b), an internal electrode 601 used to form the first capacitor C1 is formed on the pattern formation surface of the tenth dielectric layer 60. As shown in FIG. Connection conductors 60T3, 60T4, 60T5, 60T6, and 60T7 are formed on the dielectric layer 60. As shown in FIG. The connection conductors 59T3 to 59T6 shown in FIG. 8A are connected to the connection conductors 60T3 to 60T6, respectively. The connection conductor 60T7 is connected to the internal electrode 601 .

図8(c)に示したように、11層目の誘電体層61のパターン形成面には、グラウンド用の内部電極611が形成されている。また、誘電体層61には、接続導体61T3,61T4,61T7が形成されている。接続導体61T3,61T4,61T7には、それぞれ図8(b)に示した接続導体60T3,60T4,60T7が接続されている。図8(b)に示した接続導体60T5,60T6は、内部電極611に接続されている。 As shown in FIG. 8C, an internal electrode 611 for grounding is formed on the pattern formation surface of the eleventh dielectric layer 61 . In addition, connection conductors 61T3, 61T4, and 61T7 are formed on the dielectric layer 61. As shown in FIG. The connection conductors 60T3, 60T4 and 60T7 shown in FIG. 8B are connected to the connection conductors 61T3, 61T4 and 61T7, respectively. The connection conductors 60T5 and 60T6 shown in FIG. 8B are connected to the internal electrodes 611. As shown in FIG.

図8(d)に示したように、12層目の誘電体層62のパターン形成面には、内部電極621が形成されている。また、誘電体層62には、接続導体62T3,62T4,62T7,62T8が形成されている。接続導体62T3,62T4には、それぞれ図8(c)に示した接続導体61T3,61T4が接続されている。接続導体62T7,62T8と、図8(c)に示した接続導体61T7は、内部電極621に接続されている。 As shown in FIG. 8D, internal electrodes 621 are formed on the pattern formation surface of the 12th dielectric layer 62 . Connection conductors 62T3, 62T4, 62T7 and 62T8 are formed on the dielectric layer 62. As shown in FIG. The connection conductors 61T3 and 61T4 shown in FIG. 8C are connected to the connection conductors 62T3 and 62T4, respectively. The connection conductors 62T7 and 62T8 and the connection conductor 61T7 shown in FIG.

図9(a)に示したように、13層目の誘電体層63のパターン形成面には、内部電極631が形成されている。また、誘電体層63には、接続導体63T3,63T4,63T7,63T8が形成されている。接続導体63T3,63T7,63T8には、それぞれ図8(d)に示した接続導体62T3,62T7,62T8が接続されている。接続導体63T4と、図8(d)に示した接続導体62T4は、内部電極631に接続されている。 As shown in FIG. 9A, an internal electrode 631 is formed on the pattern formation surface of the 13th dielectric layer 63 . Connection conductors 63T3, 63T4, 63T7 and 63T8 are formed on the dielectric layer 63. As shown in FIG. The connection conductors 62T3, 62T7 and 62T8 shown in FIG. 8D are connected to the connection conductors 63T3, 63T7 and 63T8, respectively. A connection conductor 63T4 and a connection conductor 62T4 shown in FIG.

図9(b)に示したように、14層目の誘電体層64のパターン形成面には、第1インダクタンス要素L1を構成するために用いられる内部電極641が形成されている。内部電極641は、第1端と第2端を有している。また、誘電体層64には、接続導体64T4,64T8が形成されている。接続導体64T4,64T8には、それぞれ図9(a)に示した接続導体63T4,63T8が接続されている。図9(a)に示した接続導体63T3は、内部電極641における第1端の近傍部分に接続されている。図9(a)に示した接続導体63T7は、内部電極641における第2端の近傍部分に接続されている。 As shown in FIG. 9B, internal electrodes 641 used to form the first inductance element L1 are formed on the pattern formation surface of the fourteenth dielectric layer 64 . The internal electrode 641 has a first end and a second end. Further, connection conductors 64T4 and 64T8 are formed on the dielectric layer 64. As shown in FIG. The connection conductors 63T4 and 63T8 shown in FIG. 9A are connected to the connection conductors 64T4 and 64T8, respectively. The connection conductor 63T3 shown in FIG. 9A is connected to a portion of the internal electrode 641 near the first end. The connection conductor 63T7 shown in FIG. 9A is connected to a portion of the internal electrode 641 near the second end.

図9(c)に示したように、15層目の誘電体層65のパターン形成面には、第2インダクタンス要素L2を構成するために用いられる内部電極651が形成されている。内部電極651は、第1端と第2端を有している。図9(b)に示した接続導体64T4は、内部電極651における第1端の近傍部分に接続されている。図9(b)に示した接続導体64T8は、内部電極651における第2端の近傍部分に接続されている。 As shown in FIG. 9(c), the internal electrode 651 used to form the second inductance element L2 is formed on the pattern formation surface of the fifteenth dielectric layer 65. As shown in FIG. The internal electrode 651 has a first end and a second end. The connection conductor 64T4 shown in FIG. 9B is connected to a portion of the internal electrode 651 near the first end. The connection conductor 64T8 shown in FIG. 9B is connected to a portion of the internal electrode 651 near the second end.

図9(d)に示したように、16層目の誘電体層66のパターン形成面には、マーク661が形成されている。 As shown in FIG. 9D, marks 661 are formed on the pattern formation surface of the sixteenth dielectric layer 66 .

図3に示した素体50は、1層目の誘電体層51のパターン形成面が素体50の底面50Bになるように、1層目ないし16層目の誘電体層51~66が積層されて構成される。 In the element body 50 shown in FIG. 3, the first to sixteenth dielectric layers 51 to 66 are laminated such that the pattern formation surface of the first dielectric layer 51 is the bottom surface 50B of the element body 50. configured.

図4は、側面50C側から見た素体50の内部を示している。図5は、側面50E側から見た素体50の内部を示している。 FIG. 4 shows the inside of the base body 50 viewed from the side 50C. FIG. 5 shows the inside of the base body 50 viewed from the side 50E side.

以下、図1に示した方向性結合器1の回路の構成要素と、図6ないし図9に示した素体50の内部の構成要素との対応関係について説明する。主線路10は、図7(a)に示した内部電極551によって構成されている。内部電極551における第1端の近傍部分は、接続導体51T1、内部電極521及び接続導体52T1,53T1,54T1を介して、底面電極111に接続されている。内部電極551における第2端の近傍部分は、接続導体51T2、内部電極522及び接続導体52T2,53T2,54T2を介して、底面電極112に接続されている。 The correspondence between the circuit components of the directional coupler 1 shown in FIG. 1 and the internal components of the element body 50 shown in FIGS. 6 to 9 will be described below. The main line 10 is composed of the internal electrodes 551 shown in FIG. 7(a). A portion of the internal electrode 551 near the first end is connected to the bottom electrode 111 via the connection conductor 51T1, the internal electrode 521, and the connection conductors 52T1, 53T1, and 54T1. A portion of the internal electrode 551 near the second end is connected to the bottom electrode 112 via the connection conductor 51T2, the internal electrode 522, and the connection conductors 52T2, 53T2, and 54T2.

図7(c)に示した内部電極571の一部は、誘電体層55,56を介して、内部電極551の一部に対向している。第1副線路部20Aは、上記の内部電極571の一部によって構成されている。内部電極571における第2端の近傍部分は、接続導体51T3、及び接続導体52T3,53T3,54T3,55T3,56T3を介して、底面電極113に接続されている。 A portion of the internal electrode 571 shown in FIG. 7C faces a portion of the internal electrode 551 via the dielectric layers 55 and 56 . The first sub-line portion 20A is configured by part of the internal electrode 571 described above. A portion of the internal electrode 571 near the second end is connected to the bottom electrode 113 via a connection conductor 51T3 and connection conductors 52T3, 53T3, 54T3, 55T3, and 56T3.

図7(a)に示した内部電極552の一部は、内部電極551の一部に対向している。第2副線路部20Bは、上記の内部電極552の一部によって構成されている。内部電極552における第2端の近傍部分は、接続導体51T4、内部電極524及び接続導体52T4,53T4,54T4を介して、底面電極114に接続されている。 A portion of the internal electrode 552 shown in FIG. 7A faces a portion of the internal electrode 551 . The second sub line portion 20B is configured by part of the internal electrode 552 described above. A portion of the internal electrode 552 near the second end is connected to the bottom electrode 114 via the connection conductor 51T4, the internal electrode 524, and the connection conductors 52T4, 53T4, and 54T4.

第1インダクタンス要素L1は、図9(b)に示した内部電極641によって構成されている。内部電極641における第1端の近傍部分は、接続導体57T3,58T3,59T3,60T3,61T3,62T3,63T3を介して、第1副線路部20Aを構成する内部電極571に接続されている。内部電極641と接続導体63T3との接続箇所は、第1インダクタンス要素L1の第1端部L1aに対応する。内部電極641と接続導体63T7との接続箇所は、第1インダクタンス要素L1の第2端部L1bに対応する。 The first inductance element L1 is composed of the internal electrode 641 shown in FIG. 9(b). A portion of the internal electrode 641 near the first end is connected to the internal electrode 571 forming the first sub-line portion 20A via connection conductors 57T3, 58T3, 59T3, 60T3, 61T3, 62T3, and 63T3. A connection point between the internal electrode 641 and the connection conductor 63T3 corresponds to the first end L1a of the first inductance element L1. A connection point between the internal electrode 641 and the connection conductor 63T7 corresponds to the second end L1b of the first inductance element L1.

第2インダクタンス要素L2は、図9(c)に示した内部電極651によって構成されている。内部電極651における第1端の近傍部分は、接続導体55T4,56T4,57T4,58T4,59T4,60T4,61T4,62T4、内部電極631及び接続導体63T4,64T4を介して、第2副線路部20Bを構成する内部電極552に接続されている。内部電極651と接続導体64T4との接続箇所は、第2インダクタンス要素L2の第1端部L2aに対応する。内部電極651と接続導体64T8との接続箇所は、第2インダクタンス要素L2の第2端部L2bに対応する。 The second inductance element L2 is composed of the internal electrode 651 shown in FIG. 9(c). A portion near the first end of the internal electrode 651 connects the second sub line portion 20B via the connection conductors 55T4, 56T4, 57T4, 58T4, 59T4, 60T4, 61T4 and 62T4, the internal electrode 631 and the connection conductors 63T4 and 64T4. It is connected to the constituent internal electrode 552 . A connection point between the internal electrode 651 and the connection conductor 64T4 corresponds to the first end L2a of the second inductance element L2. A connection point between the internal electrode 651 and the connection conductor 64T8 corresponds to the second end L2b of the second inductance element L2.

第1キャパシタC1は、図8(a)~(c)に示した内部電極591,601,611と、内部電極591,601の間の誘電体層59と、内部電極601,611の間の誘電体層60とによって構成されている。内部電極591,611は、接続導体51T5,51T6、内部電極525、接続導体52T5,52T6,53T5,53T6,54T5,54T6,55T5,55T6,56T5,56T6,57T5,57T6,58T5,58T6,59T5,59T6,60T5,60T6を介して、底面電極115,116に接続されている。内部電極601は、接続導体60T7,61T7を介して、図8(d)に示した内部電極621に接続されている。内部電極621は、接続導体62T7,63T7を介して、第1インダクタンス要素L1を構成する内部電極641に接続されている。また、内部電極621は、接続導体62T8,63T8,64T8を介して、第2インダクタンス要素L2を構成する内部電極651に接続されている。 The first capacitor C1 includes the internal electrodes 591, 601, 611 shown in FIGS. 8A to 8C, the dielectric layer 59 between the internal electrodes 591, 601, and the dielectric body layer 60 . The internal electrodes 591, 611 are connected conductors 51T5, 51T6, internal electrode 525, connection conductors 52T5, 52T6, 53T5, 53T6, 54T5, 54T6, 55T5, 55T6, 56T5, 56T6, 57T5, 57T6, 58T5, 58T6, 59T5, 59T6 , 60T5 and 60T6 to bottom electrodes 115 and 116, respectively. The internal electrode 601 is connected to the internal electrode 621 shown in FIG. 8(d) through connection conductors 60T7 and 61T7. The internal electrode 621 is connected to an internal electrode 641 that constitutes the first inductance element L1 via connection conductors 62T7 and 63T7. Also, the internal electrode 621 is connected to an internal electrode 651 that constitutes the second inductance element L2 via connection conductors 62T8, 63T8, and 64T8.

以下、素体50を備えた方向性結合器1の構造上の特徴について説明する。素体50において、第1インダクタンス要素L1を構成する内部電極641と、第2インダクタンス要素L2を構成する内部電極651と、第1キャパシタC1を構成する内部電極591,601,611及び誘電体層59,60は、主線路10を構成する内部電極551、第1副線路部20Aを構成する内部電極571及び第2副線路部20Bを構成する内部電極552に比べて、上面50Aにより近い位置にある。従って、移相器30は、主線路10ならびに第1副線路部20A及び第2副線路部20Bに比べて、上面50Aにより近い位置にある。 Structural features of the directional coupler 1 including the element body 50 will be described below. In the element body 50, the internal electrode 641 forming the first inductance element L1, the internal electrode 651 forming the second inductance element L2, the internal electrodes 591, 601, 611 forming the first capacitor C1, and the dielectric layer 59 , 60 are closer to the upper surface 50A than the internal electrode 551 forming the main line 10, the internal electrode 571 forming the first sub-line portion 20A, and the internal electrode 552 forming the second sub-line portion 20B. . Therefore, the phase shifter 30 is located closer to the upper surface 50A than the main line 10 and the first and second sub line portions 20A and 20B.

また、第1インダクタンス要素L1を構成する内部電極641と、第2インダクタンス要素L2を構成する内部電極651は、第1キャパシタC1を構成する内部電極591,601,611及び誘電体層59,60に比べて、上面50Aにより近い位置にある。 Further, the internal electrode 641 forming the first inductance element L1 and the internal electrode 651 forming the second inductance element L2 are connected to the internal electrodes 591, 601, 611 and the dielectric layers 59, 60 forming the first capacitor C1. In comparison, it is closer to the upper surface 50A.

内部電極641,651と、主線路10を構成する内部電極551の間には、グラウンド用の内部電極591が介在している。従って、第1インダクタンス要素L1と第2インダクタンス要素L2は、主線路10に対して電磁界結合しない。 An internal electrode 591 for grounding is interposed between the internal electrodes 641 and 651 and the internal electrode 551 forming the main line 10 . Therefore, the first inductance element L1 and the second inductance element L2 are not electromagnetically coupled with the main line 10 .

前述のように、方向性結合器1では、第1インダクタンス要素L1は第1線路であり、第2インダクタンス要素L2は第2線路である。第1線路は、図9(b)に示した内部電極641によって構成されている。第2線路は、図9(c)に示した内部電極651によって構成されている。 As described above, in the directional coupler 1, the first inductance element L1 is the first line and the second inductance element L2 is the second line. The first line is composed of the internal electrode 641 shown in FIG. 9(b). The second line is composed of the internal electrode 651 shown in FIG. 9(c).

第1線路は、第1線路部分31Aを含んでいる。図9(b)では、第1線路部分31Aを、ハッチングを付して表している。第1線路部分31Aは、回路構成上、第1副線路部20Aに最も近い第1端縁31Aaと、その反対側の第2端縁31Abとを有している。第1端縁31Aaは、第1インダクタンス要素L1の第1端部L1aの近傍に位置する。第2端縁31Abは、第1インダクタンス要素L1の第2端部L1bの近傍に位置する。 The first line includes a first line portion 31A. In FIG. 9B, the first line portion 31A is hatched. The first line portion 31A has a first edge 31Aa closest to the first sub-line portion 20A and a second edge 31Ab on the opposite side in terms of circuit configuration. The first edge 31Aa is positioned near the first end L1a of the first inductance element L1. The second edge 31Ab is positioned near the second end L1b of the first inductance element L1.

第2線路は、第1線路部分31Aに対向する第2線路部分31Bを含んでいる。図9(c)では、第2線路部分31Bを、ハッチングを付して表している。第2線路部分31Bは、回路構成上、第2副線路部20Bに最も近い第1端縁31Baと、その反対側の第2端縁31Bbとを有している。第1端縁31Baは、第2インダクタンス要素L2の第1端部L2aの近傍に位置する。第2端縁31Bbは、第2インダクタンス要素L2の第2端部L2bの近傍に位置する。 The second line includes a second line portion 31B facing the first line portion 31A. In FIG. 9(c), the second line portion 31B is hatched. The second line portion 31B has a first edge 31Ba closest to the second sub-line portion 20B and a second edge 31Bb on the opposite side in terms of circuit configuration. The first edge 31Ba is positioned near the first end L2a of the second inductance element L2. The second edge 31Bb is positioned near the second end L2b of the second inductance element L2.

図9(b),(c)に示したように、第2線路部分31Bの第1端縁31Baは、物理的に、第1線路部分31Aのうち、第2端縁31Abに最も近い。第2線路部分31Bの第2端縁31Bbは、物理的に、第1線路部分31Aのうち、第1端縁31Aaに最も近い。 As shown in FIGS. 9B and 9C, the first edge 31Ba of the second line portion 31B is physically closest to the second edge 31Ab of the first line portion 31A. The second edge 31Bb of the second line portion 31B is physically closest to the first edge 31Aa of the first line portion 31A.

以上説明したように、方向性結合器1では、実装面とされる底面50Bに設けられた底面電極111~116が導電性樹脂層140に覆われている。これにより、底面電極111~116に作用する応力が緩和される。導電性樹脂層140は、樹脂を含むことにより軟らかいので、応力を効果的に緩和することができる。導電性樹脂層140は、底面50Bに設けられた第1樹脂部141だけでなく、側面50C~50Fに設けられ、第1樹脂部141と連続する第2樹脂部142を有している。このため、底面電極111~116に作用する応力が更に緩和される。この結果、素体50におけるクラックの発生を抑制することができる。 As described above, in the directional coupler 1, the bottom electrodes 111 to 116 provided on the bottom surface 50B serving as the mounting surface are covered with the conductive resin layer 140. FIG. This relieves the stress acting on the bottom electrodes 111-116. Since the conductive resin layer 140 is soft due to the inclusion of the resin, the stress can be effectively relieved. The conductive resin layer 140 has not only a first resin portion 141 provided on the bottom surface 50B, but also second resin portions 142 provided on the side surfaces 50C to 50F and continuous with the first resin portion 141. FIG. Therefore, the stress acting on the bottom electrodes 111 to 116 is further relaxed. As a result, the occurrence of cracks in the element body 50 can be suppressed.

第2樹脂部142は、上面2Aから離間している。このため、側面50C及び側面50Dのうち、底面電極111~116が設けられた底面50Bに近い領域に第2樹脂部142を配置することができる。よって、効果的に底面電極111~116に作用する応力を緩和することができる。 The second resin portion 142 is separated from the upper surface 2A. Therefore, the second resin portion 142 can be arranged in a region near the bottom surface 50B on which the bottom electrodes 111 to 116 are provided, of the side surfaces 50C and 50D. Therefore, the stress acting on the bottom electrodes 111 to 116 can be effectively relaxed.

第2樹脂部142は、側面50C及び側面50Dに設けられた凹部70に配置されている。このため、第2樹脂部142が凹部70の外に配置されている場合に比べて、方向性結合器1の外形寸法が増大することを抑制可能となる。 The second resin portion 142 is arranged in recesses 70 provided on the side surfaces 50C and 50D. Therefore, compared to the case where the second resin portion 142 is arranged outside the recess 70 , it is possible to suppress an increase in the external dimensions of the directional coupler 1 .

底面電極111~116は、側面50C~50Fから離間するように底面50Bに設けられている。このため、例えば、方向性結合器1を積層体基板からダイシングにより得る際に、ダイシングブレードが底面電極111~116にかからず、切断し易い。 The bottom electrodes 111-116 are provided on the bottom surface 50B so as to be separated from the side surfaces 50C-50F. Therefore, for example, when obtaining the directional coupler 1 from the laminate substrate by dicing, the dicing blade does not cover the bottom electrodes 111 to 116, and the bottom electrodes 111 to 116 are easily cut.

本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。 The present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible without departing from the scope of the invention.

図10は、変形例に係る方向性結合器の一部断面図である。図10に示すように、変形例に係る方向性結合器1Aは、被覆電極120が導電性密着層130を更に備えている点で、図3に示す方向性結合器1と相違している。導電性密着層130は、底面電極111~116(図2参照)と導電性樹脂層140との間に設けられている。導電性密着層130は、底面電極111~116(図2参照)と導電性樹脂層140とに接している。導電性密着層130は、素体50上に設けられている。導電性密着層130は、底面50Bの一部と、側面50C又は側面50D(図2参照)の一部と、に連続して設けられ、底面電極111~116のいずれかを覆っている。導電性密着層130は、素体50の表面に沿って略一定の厚さで設けられている。 FIG. 10 is a partial cross-sectional view of a directional coupler according to a modification. As shown in FIG. 10, the directional coupler 1A according to the modification differs from the directional coupler 1 shown in FIG. The conductive adhesion layer 130 is provided between the bottom electrodes 111 to 116 (see FIG. 2) and the conductive resin layer 140 . The conductive adhesion layer 130 is in contact with the bottom electrodes 111 to 116 (see FIG. 2) and the conductive resin layer 140 . A conductive adhesion layer 130 is provided on the element body 50 . The conductive adhesion layer 130 is continuously provided on a portion of the bottom surface 50B and a portion of the side surface 50C or the side surface 50D (see FIG. 2), covering any one of the bottom electrodes 111-116. The conductive adhesion layer 130 is provided along the surface of the base body 50 with a substantially constant thickness.

導電性密着層130は、例えば、素体50の外表面に付与された導電性ペーストを焼き付けることにより形成されている。導電性密着層130は、導電性ペーストに含まれる金属成分(金属粉末)が焼結して形成された焼結金属層である。金属成分としては、例えば、Ag、Au、Cu,Ag/Pd合金が用いられる。導電性ペーストは、例えば、金属成分、ガラス成分、有機バインダ、及び有機溶媒を含んでいる。導電性密着層130は、素体50及び底面電極111~116への導電性樹脂層140の密着性を向上させるための金属層である。 The conductive adhesion layer 130 is formed, for example, by baking a conductive paste applied to the outer surface of the element body 50 . The conductive adhesion layer 130 is a sintered metal layer formed by sintering the metal component (metal powder) contained in the conductive paste. Ag, Au, Cu, Ag/Pd alloy, for example, is used as the metal component. A conductive paste contains, for example, a metal component, a glass component, an organic binder, and an organic solvent. The conductive adhesion layer 130 is a metal layer for improving the adhesion of the conductive resin layer 140 to the element body 50 and the bottom electrodes 111-116.

導電性ペーストは、例えば、スクリーン印刷により付与される。スクリーン印刷は、例えば、底面50Bに対して行われる。導電性ペーストが底面50Bから側面50C及び側面50Dに回り込むので、側面50C及び側面50Dにも導電性ペーストが付与される。方向性結合器1Aでは、導電性樹脂層140は、導電性密着層130の全体を覆うように、導電性密着層130上に設けられている。方向性結合器1Aでは、導電性樹脂層140の電気伝導率は、導電性密着層130の電気伝導率よりも低い。導電性樹脂層140は、導電性密着層130よりも軟らかい。 The conductive paste is applied, for example, by screen printing. Screen printing is performed on the bottom surface 50B, for example. Since the conductive paste flows from the bottom surface 50B to the side surfaces 50C and 50D, the conductive paste is also applied to the side surfaces 50C and 50D. In the directional coupler 1A, the conductive resin layer 140 is provided on the conductive adhesion layer 130 so as to cover the conductive adhesion layer 130 entirely. In the directional coupler 1</b>A, the electrical conductivity of the conductive resin layer 140 is lower than the electrical conductivity of the conductive adhesion layer 130 . The conductive resin layer 140 is softer than the conductive adhesion layer 130 .

方向性結合器1Aでは、このような導電性密着層130を更に備えることにより、底面電極111~116と導電性樹脂層140との間の密着性を高めることができる。よって、被覆電極120の剥離を抑制可能となる。導電性密着層130を設けることにより、被覆電極120の体積が増すので、底面電極111~116に作用する応力の抑制効果が向上する。 In the directional coupler 1A, the adhesion between the bottom electrodes 111 to 116 and the conductive resin layer 140 can be enhanced by further including such a conductive adhesion layer 130. FIG. Therefore, peeling of the covered electrode 120 can be suppressed. By providing the conductive adhesion layer 130, the volume of the cover electrode 120 is increased, so that the effect of suppressing the stress acting on the bottom electrodes 111 to 116 is improved.

上記実施形態では、積層電子部品として、方向性結合器1を例に説明したが、本発明はこれに限られることなく、ダイプレクサ、コンデンサ、インダクタ、バリスタ、又はサーミスタ等の積層電子部品に適用されてもよい。 In the above embodiments, the directional coupler 1 was described as an example of a multilayer electronic component, but the present invention is not limited to this, and can be applied to multilayer electronic components such as diplexers, capacitors, inductors, varistors, or thermistors. may

上記実施形態では、各被覆電極120が、底面50Bの一部と、側面50C又は側面50Dの一部と、に連続して設けられる形態を例に説明したが、各被覆電極120の形状(配置形態)はこれに限定されない。例えば、各被覆電極120が、底面50Bの一部と、側面50E又は側面50Dの一部と、に連続して設けられていてもよい。導電性樹脂層140の第2樹脂部142は、側面50E又は側面50Dの一部に設けられていてもよい。 In the above-described embodiment, each covered electrode 120 is provided continuously with a part of the bottom surface 50B and a part of the side surface 50C or the side surface 50D. morphology) is not limited to this. For example, each covered electrode 120 may be continuously provided on a portion of the bottom surface 50B and a portion of the side surface 50E or the side surface 50D. The second resin portion 142 of the conductive resin layer 140 may be provided on part of the side surface 50E or the side surface 50D.

上記実施形態では、各被覆電極120は、上面50Aから離間している形態を例に説明したが、各被覆電極120は、上面50Aから離間していなくてもよい。導電性樹脂層140の第2樹脂部142は、例えば、側面50C~50Fの上面50A側の縁まで設けられ、上面50Aと接していてもよいし、上面50Aまで連続して設けられていてもよい。この場合、導電性樹脂層140の体積が増すので、底面電極111~116に作用する応力の抑制効果が向上する。 In the above-described embodiment, each covered electrode 120 is separated from the upper surface 50A, but each covered electrode 120 may not be separated from the upper surface 50A. The second resin portion 142 of the conductive resin layer 140 may, for example, be provided up to the edges of the side surfaces 50C to 50F on the side of the upper surface 50A and be in contact with the upper surface 50A, or may be provided continuously to the upper surface 50A. good. In this case, since the volume of the conductive resin layer 140 is increased, the effect of suppressing the stress acting on the bottom electrodes 111 to 116 is improved.

上記実施形態では、凹部70は、底面50Bの周縁50Gに沿って延在し、底面50Bを取り囲んでいるが、凹部70は、側面50C~50Fのうち、第2樹脂部142が配置される部分にのみ設けられていてもよい。 In the above-described embodiment, the recess 70 extends along the peripheral edge 50G of the bottom surface 50B and surrounds the bottom surface 50B. may be provided only in

1,1A…方向性結合器、50…素体、50A…上面(第2主面)、50B…底面(第1主面)、50C,50D,50E,50F…側面、70…凹部、111,112,113,114,115,116…底面電極(第1電極)、130…導電性密着層、140…導電性樹脂層、141…第1樹脂部、142…第2樹脂部、521,522,524,525,541,551,552,571,591,601,611,621,631,641,651…内部電極(第2電極)、51T1,51T2,51T3,51T4,51T5,51T6,52T1,52T2,52T3,52T4,52T5,52T6,53T1,53T2,53T3,53T4,53T5,53T6,54T1,54T2,54T3,54T4,54T5,54T6,55T3,55T4,55T5,55T6,56T3,56T4,56T5,56T6,57T3,57T4,57T5,57T6,58T3,58T4,58T5,58T6,59T3,59T4,59T5,59T6,60T3,60T4,60T5,60T6,60T7,61T3,61T4,61T7,62T3,62T4,62T7,62T8,63T3,63T4,63T7,63T8,64T4,64T8…接続導体、T…対向方向。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A... Directional coupler, 50... Base body, 50A... Top surface (second main surface), 50B... Bottom surface (first main surface), 50C, 50D, 50E, 50F... Side surface, 70... Concave part, 111, 112, 113, 114, 115, 116... bottom electrode (first electrode), 130... conductive adhesion layer, 140... conductive resin layer, 141... first resin portion, 142... second resin portion, 521, 522, 524, 525, 541, 551, 552, 571, 591, 601, 611, 621, 631, 641, 651... Internal electrodes (second electrodes), 51T1, 51T2, 51T3, 51T4, 51T5, 51T6, 52T1, 52T2, 52T3, 52T4, 52T5, 52T6, 53T1, 53T2, 53T3, 53T4, 53T5, 53T6, 54T1, 54T2, 54T3, 54T4, 54T5, 54T6, 55T3, 55T4, 55T5, 55T6, 56T3, 56T4, 56T5, 56T6, 57T3, 57T4, 57T5, 57T6, 58T3, 58T4, 58T5, 58T6, 59T3, 59T4, 59T5, 59T6, 60T3, 60T4, 60T5, 60T6, 60T7, 61T3, 61T4, 61T7, 62T3, 62T4, 62T7, 62T8, 63T3, 63T4, 63T7, 63T8, 64T4, 64T8... connection conductors, T... opposite direction.

Claims (3)

実装面とされる第1主面と、前記第1主面と対向している第2主面と、前記第1主面及び前記第2主面の対向方向に延び、前記第1主面及び前記第2主面と隣り合う側面と、を有している素体と、
前記側面から離間するように前記第1主面に設けられた第1電極と、
前記素体内に設けられた第2電極と、
前記素体内に設けられ、前記第1電極と前記第2電極とに接続された接続導体と、
互いに連続している第1樹脂部及び第2樹脂部を有する導電性樹脂層と、を備え、
前記第1樹脂部は、前記第1主面に設けられ、前記第1電極を覆っており、
前記第2樹脂部は、前記側面に設けられた凹部に配置されている、積層電子部品。
a first main surface serving as a mounting surface; a second main surface facing the first main surface; a body having a side surface adjacent to the second main surface;
a first electrode provided on the first main surface so as to be spaced apart from the side surface;
a second electrode provided in the element body;
a connection conductor provided in the element body and connected to the first electrode and the second electrode;
a conductive resin layer having a first resin portion and a second resin portion that are continuous with each other;
The first resin portion is provided on the first main surface and covers the first electrode,
The laminated electronic component, wherein the second resin portion is arranged in a concave portion provided on the side surface.
前記第2樹脂部は、前記第2主面から離間している、請求項1に記載の積層電子部品。 2. The multilayer electronic component according to claim 1, wherein said second resin portion is separated from said second main surface. 前記第1電極と前記導電性樹脂層との間に設けられ、前記第1電極と前記導電性樹脂層とに接している導電性密着層を更に備える、請求項1又は2に記載の積層電子部品。 3. The multilayer electronic device according to claim 1 , further comprising a conductive adhesive layer provided between said first electrode and said conductive resin layer and in contact with said first electrode and said conductive resin layer. parts.
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