JP7169994B2 - 反射面の曲率を測定する方法及び関連する光学デバイス - Google Patents
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Description
ステップ1:2つの光スポットの画像間の少なくとも1つの距離を測定することと、
ステップ2:この測定距離と少なくとも1つの基準距離との間の比率を計算することと、
ステップ3:この比率から、定義された方向の拡大を計算することと、
ステップ4:当該定義された方向の反射面の変形を計算することと、
を含む、ことを特徴とする。
画像分析デバイスが、
-2つの光スポットの画像間の少なくとも1つの距離を測定するための手段と、
-この測定距離と少なくとも1つの基準距離との間の比率を計算するための第1の計算手段と、
-この比率から、定義された方向の拡大を計算するための第2の計算手段と、
-当該定義された方向の反射面の変形を計算するための第3の計算手段と、
を備える、ことを特徴とする。
d.d’/(d+d’)=R/2
を順守する必要がある。
Claims (21)
- 測定デバイスを使用して物体の少なくとも1つの反射面(10)の変形を測定するための測定方法であって、前記測定デバイスは、光スポット(22)を含む少なくとも1つの照明パターン(21)、カメラ(30、31)、及び画像分析デバイス(40)を備え、前記表面の前記変形の前記測定位置において、前記照明パターンの仮想画像又は実画像(23)が前記表面を介して前記カメラの検出器に視認可能なように、前記照明パターン及び前記カメラが配置されており、前記画像は、前記照明パターンによって照らされた前記表面の前記領域(11)の前記変形を表わしており、
測定を実行するための前記測定方法が、
1.2つの光スポットの前記画像間の少なくとも1つの距離を測定することと、
2.この測定距離と少なくとも1つの基準距離との間の比率を計算することと、
3.この比率から、定義された方向の前記拡大を計算することと、
4.前記定義された方向の前記反射面の前記変形を計算することと、
を含む、ことを特徴とする、測定方法。 - 複数の所与の方向の前記拡大を測定し、前記反射面の前記変形の異方性を計算するために、光スポットの複数の画像に対してステップ1~4が実行される第5のステップを含む、ことを特徴とする、請求項1に記載の測定方法。
- 前記照明パターンは、マトリックスアレイに分布した個別の光スポットのセットを含む、ことを特徴とする、請求項1又は2に記載の測定方法。
- 前記照明パターンは、光の少なくとも1つの円又は1つの楕円を含み、前記測定は、光のこの円又はこの楕円に属するスポットの前記画像上で実行される、ことを特徴とする、請求項1又は2に記載の測定方法。
- 前記方法は、少なくとも1つの第2の測定を実行するステップを含み、前記第2の測定は、第2の照明パターンを放射することを含み、第1の測定に関連付けられた第1の照明パターンが、前記第2の測定に関連付けられた前記第2の照明パターンにより照らされた前記表面の第2の領域とは異なる前記表面の第1の領域を照らすように、前記2つの測定を実行するための手段が配置されており、前記カメラは、前記2つの測定の間、静止したままである、ことを特徴とする、請求項1~4のいずれか一項に記載の測定方法。
- 物体の少なくとも1つの反射面(10)の変形を測定する測定デバイスであって、前記測定デバイスは、光スポット(22)を含む少なくとも1つの照明パターン(21)、カメラ(30、31)、及び画像分析デバイス(40)を備え、前記表面の前記変形の前記測定位置において、前記照明パターンの仮想画像又は実画像(23)が前記表面を介して前記カメラの検出器に視認可能なように、前記照明パターン及び前記カメラが配置されており、前記画像は、前記照明パターンによって照らされた前記表面の前記領域(11)の前記変形を表わしており、
前記画像分析デバイスが、
-2つの光スポットの前記画像間の少なくとも1つの距離を測定するための手段と、
-この測定距離と少なくとも1つの基準距離との間の比率を計算するための第1の計算手段と、
-この比率から、定義された方向の拡大を計算するための第2の計算手段と、
-前記定義された方向の前記反射面の前記変形を計算するための第3の計算手段と、
を備えることを特徴とする、測定デバイス。 - 前記デバイスは、少なくとも2つの測定を実行するための手段を備え、各測定は、照明パターンを放射することを含み、第1の測定に関連付けられた第1の照明パターンが、前記第2の測定に関連付けられた前記第2の照明パターンにより照らされた前記表面の第2の領域とは異なる前記表面の第1の領域を照らすように、前記2つの測定を実行するための前記手段が配置されており、前記カメラは、前記2つの測定の間、静止したままである、ことを特徴とする、請求項6に記載の測定デバイス。
- 前記測定デバイスは、前記照明パターンを移動、変形、又は拡大するための手段を備える、ことを特徴とする、請求項6又は7に記載の測定デバイス。
- 前記測定を実行するための前記手段は、前記2つの測定間で定義された平面内で前記物体を移動させるための手段(50)と、前記移動を測定するための手段とを備える、ことを特徴とする、請求項6~8のいずれか一項に記載の測定デバイス。
- 前記平面内で前記物体を移動させる前記手段は、回転手段又は並進手段である、ことを特徴とする、請求項9に記載の測定デバイス。
- 前記測定デバイスは、ディスプレイ画面(20)と、前記ディスプレイ画面上に前記照明パターンを生成するためのグラフィカル手段とを備える、ことを特徴とする、請求項6~10のいずれか一項に記載の測定デバイス。
- 前記照明パターンは、個別の光スポットのマトリックスアレイである、ことを特徴とする、請求項11に記載の測定デバイス。
- 前記照明パターンは、光の円若しくは光の楕円、又は一連の光の円若しくは光の楕円である、ことを特徴とする、請求項11に記載の測定デバイス。
- 前記測定デバイスは、照明パターンを形成するように配置された開口部を含む不透明画面を照らす光源を備える、ことを特徴とする、請求項6~10のいずれか一項に記載の測定デバイス。
- 前記測定デバイスは、前記スポットのパターンの前記画像が、ビームスプリッタによる透過後、前記表面からの反射及び前記ビームスプリッタからの反射を前記カメラの前記検出器上に形成し、又は、前記ビームスプリッタからの反射後、前記表面からの反射及び前記ビームスプリッタによる透過を前記カメラの前記検出器上に形成する、ように配置された半透鏡の平面ビームスプリッタ(60)を備える、ことを特徴とする、請求項6~14のいずれか一項に記載の測定デバイス。
- 前記測定デバイスは、複数の測定を実行して、前記表面の前記変形の完全なマップを作成するための手段を備える、ことを特徴とする、請求項6~15のいずれか一項に記載の測定デバイス。
- 前記変形の局所的な、凹状又は凸状の、曲率半径は、数ミリメートル~数十キロメートルで変化する、ことを特徴とする、請求項6~15のいずれか一項に記載の測定デバイス。
- 前記物体は半導体ウェーハであり、前記反射面は前記ウェーハの側面の1つである、ことを特徴とする、請求項6~17のいずれか一項に記載の測定デバイス。
- 前記凹状の反射面によって反射された前記照明パターンの前記画像が前記カメラの前記レンズの近くに位置するように、前記照明パターン及び前記カメラが配置されている、ことを特徴とする、凹状の反射面を測定するための請求項6~18のいずれか一項に記載の測定デバイスの使用。
- 前記測定が、前記反射面への少なくとも1つの材料層の堆積中に実行される、ことを特徴とする、成長反応器内の物体の前記反射面の変形につながるプロセスを監視するための請求項6~18のいずれか一項に記載の測定デバイスの使用。
- 前記測定が、少なくとも2つの異なる物体上で連続的に実行される、ことを特徴とする、半導体ウェーハを検査するためのデバイスにおける請求項6~18のいずれか一項に記載の測定デバイスの使用。
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