JP7168109B1 - 両面研磨装置 - Google Patents
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Abstract
Description
前記上定盤には回転中心と周縁との間に複数の定盤貫通孔が設けられており、前記上定盤の前記下定盤に対向する研磨面には研磨布が設けられており、
前記研磨布には、前記複数の定盤貫通孔に対応する位置に、前記定盤貫通孔の径以上の大きさの径を有する穴が設けられており、
前記上定盤の前記定盤貫通孔の各々には、上面に窓材が設けられ且つプラグ貫通孔を有する樹脂製の中空プラグが挿入されており、
前記プラグ貫通孔を通して、前記ウェーハの厚さを研磨中にリアルタイムで光学的に測定可能なウェーハ厚さ測定機構を、前記上定盤の上部に更に備えたものであることを特徴とする両面研磨装置を提供する。
前記上定盤には回転中心と周縁との間に複数の定盤貫通孔が設けられており、前記上定盤の前記下定盤に対向する研磨面には研磨布が設けられており、
前記研磨布には、前記複数の定盤貫通孔に対応する位置に、前記定盤貫通孔の径以上の大きさの径を有する穴が設けられており、
前記上定盤の前記定盤貫通孔の各々には、上面に窓材が設けられ且つプラグ貫通孔を有する樹脂製の中空プラグが挿入されており、
前記プラグ貫通孔を通して、前記ウェーハの厚さを研磨中にリアルタイムで光学的に測定可能なウェーハ厚さ測定機構を、前記上定盤の上部に更に備えたものであることを特徴とする両面研磨装置である。
実施例では、以下の条件で構成した図1及び図2に示す両面研磨装置1を用いて、以下の条件でウェーハWの両面研磨を行った。
比較例では、以下の条件で構成した図8及び図9に示す両面研磨装置10を用いて、以下の条件でウェーハWの両面研磨を行った。
・ウェーハWとしては、直径300mmの通常抵抗10ΩのP型シリコン単結晶ウェーハを用いた。
・両面研磨装置の上定盤2としては、回転中心22を支点とする円周上に、直径15mmの定盤貫通孔21を10個有するものを用いた。
・上定盤2及び下定盤3にそれぞれ設ける研磨布4A及び4Bとしては、ともにウレタン発泡体のものを用いた。研磨スラリーとしては、コロイダルシリカ砥粒を含み、pHを10.0~11.0の範囲内で調整したものを用いた。
・厚さ測定機構7としては、レーザー径3mm、波長1300nm、出力10mW以上の波長可変型赤外レーザーを備えたものを用いた。
・窓材6としては、上定盤2の定盤貫通孔21の径より15mm大きい径となるように、東レ製PETフィルム(厚さ200μm)を直径30mmの円盤状に切り取ったものを用いた。接着層61としての両面テープ(住友スリーエム442JS3、厚さ110μm)をPETフィルムの窓材6の外周に沿って貼り付けたものを、中空プラグ5の上面52(図2;実施例)又は上定盤2の研磨面2A(図9;比較例)に貼り付けた。
・ポリオキシメチレン(POM)樹脂製の中空プラグ5(プラグ貫通孔51の径5mm、窓材6の貼付面である上面52の径30mm、定盤挿入部である軸部54の外径14.8mm)を上定盤2の定盤貫通孔21に挿入し、合成ゴム製のO-リング55及び56を用いて固定した。
・中空プラグ5の上面52の貼り付け部の外周に沿って上記窓材6を貼り付けた。
・上定盤2に貼り付ける研磨布4Aには上定盤2の定盤貫通孔21と同じ位置に、同じ大きさの径15mmで穴41を開けた。
・上定盤2に貼り付ける研磨布4Aには、上定盤2の定盤貫通孔21と同じ位置に、定盤貫通孔21より15mm大きい直径30mmの穴41を開けた。
・図9に示すように、研磨布4Aの上記穴41の位置に、上記窓材6を貼り付けた。
・1バッチ当たり5枚加工中のウェーハWの研磨開始から終了までの厚さ測定推移を比較した。結果を図4及び図5にそれぞれ示す。
・モニタリングしているウェーハ厚さから研磨レートを算出し、指定した仕上がり厚さになったとしたところで研磨を終了した。この研磨レートはウェーハ厚さが測定される度に更新した。すなわち厚さ測定回数が多いほどより真に近い研磨レートとなるため、測定回数の多い方が加工後ウェーハ厚さの精度向上が見込まれる。
・図4及び図5に示すように、1バッチ中の厚さ測定数を比較すると、比較例では169点に対し、実施例では535点であった。これは、比較例では、上定盤2の研磨面2A側の窓材6に、ワークであるウェーハWとの接触による傷や破損変形やスラリー及び水滴の付着、汚れの堆積の影響があったのに対し、実施例では、上定盤2の研磨面2A側の窓材6が無いため、ワークであるウェーハWとの接触による傷や破損変形が無くなり、上定盤2の研磨面2Aと反対側の窓材6にはスラリー及び水滴の付着、汚れの堆積の影響が無いからである。すなわち、実施例では、比較例に対して測定点数の向上が確認された。
・図4及び図5に示した結果は、1バッチ中のウェーハ厚さ推移であったが、別の評価として、連続加工150バッチでの加工後ウェーハ厚さ(1バッチ5枚平均値)、狙い厚さ、狙い厚さに対する加工後ウェーハ厚さの差分の推移を比較した。その結果を、図6及び図7に示す。
・加工後ウェーハ厚さ測定には、KLA社製平坦度測定器WaferSight2を用いた。
・狙い厚さに対する加工後ウェーハ厚さの差分が小さいほど、厚さ測定精度が良好と言える。目安として差分が0.2μm以下となったバッチ数の割合を比較すると、比較例では76.0%に対し、実施例では98.0%と改善が見られた。
Claims (6)
- 上定盤及び下定盤を有するウェーハの両面研磨装置であって、
前記上定盤には回転中心と周縁との間に複数の定盤貫通孔が設けられており、前記上定盤の前記下定盤に対向する研磨面には研磨布が設けられており、
前記研磨布には、前記複数の定盤貫通孔に対応する位置に、前記定盤貫通孔の径以上の大きさの径を有する穴が設けられており、
前記上定盤の前記定盤貫通孔の各々には、上面に窓材が設けられると共に前記研磨面側である下面には窓材がなく且つプラグ貫通孔を有する樹脂製の中空プラグが挿入されており、
前記プラグ貫通孔を通して、前記ウェーハの厚さを研磨中にリアルタイムで光学的に測定可能なウェーハ厚さ測定機構を、前記上定盤の上部に更に備えたものであることを特徴とする両面研磨装置。 - 前記ウェーハ厚さ測定機構は、前記ウェーハに対して光学的に透過する波長のレーザー光を出射することが可能な波長可変赤外レーザー装置を具備するものであることを特徴とする請求項1に記載の両面研磨装置。
- 前記窓材は、前記レーザー光を透過させるものであることを特徴とする請求項2に記載の両面研磨装置。
- 前記中空プラグの前記プラグ貫通孔は、前記レーザー光の径よりも1.5mm以上大きい径を有するものであることを特徴とする請求項2又は3に記載の両面研磨装置。
- 前記中空プラグは、前記窓材が貼付けられるフランジ部を有し、前記フランジ部の外径は、前記上定盤の前記定盤貫通孔の径よりも大きい径のものであることを特徴とする請求項1~4の何れか1項に記載の両面研磨装置。
- 前記中空プラグは、合成ゴム製のO-リングによって前記上定盤の前記定盤貫通孔に固定されたものであることを特徴とする請求項1~5の何れか1項に記載の両面研磨装置。
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