JP7165464B2 - 有機膜の成膜方法 - Google Patents
有機膜の成膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7165464B2 JP7165464B2 JP2018242165A JP2018242165A JP7165464B2 JP 7165464 B2 JP7165464 B2 JP 7165464B2 JP 2018242165 A JP2018242165 A JP 2018242165A JP 2018242165 A JP2018242165 A JP 2018242165A JP 7165464 B2 JP7165464 B2 JP 7165464B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- solvent
- organic
- substrate
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4486—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by producing an aerosol and subsequent evaporation of the droplets or particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D147/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/228—Gas flow assisted PVD deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
- C03C2218/1525—Deposition methods from the vapour phase by cvd by atmospheric CVD
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
また、本発明者らは、上記知見を得た後、さらに検討を重ねて、本発明を完成させるに至った。
[1] 有機化合物と溶媒とを少なくとも含む原料溶液を霧化または液滴化し、得られたミストまたは液滴を用いて基体上に有機膜を成膜する方法であって、前記溶媒の沸点が150℃以上であり、前記成膜を、前記溶媒の沸点以上の温度で前記ミストまたは前記液滴を前記基体上で熱反応させることにより行うことを特徴とする成膜方法。
[2] 前記溶媒が、環式化合物である前記[1]記載の成膜方法。
[3] 前記溶媒が、複素環式化合物である前記[1]または[2]に記載の成膜方法。
[4] 前記溶媒の沸点が、200℃以上である前記[1]~[3]のいずれかに記載の成膜方法。
[5] 前記有機化合物が、高分子化合物である前記[1]~[4]のいずれかに記載の成膜方法。
[6] 前記有機化合物が、共役系高分子化合物である前記[1]~[5]のいずれかに記載の成膜方法。
[7] 前記熱反応を、240℃以上の温度で行う前記[1]~[6]のいずれかに記載の成膜方法。
[8] 前記霧化または液滴化を、超音波振動を用いて行う前記[1]~[7]のいずれかに記載の成膜方法。
[9] 前記熱反応を大気圧下で行う前記[1]~[8]のいずれかに記載の成膜方法。
前記基体は、成膜する膜を支持できるものであれば特に限定されない。前記基体の材料も、本発明の目的を阻害しない限り特に限定されず、公知の基体であってよく、有機化合物であってもよいし、無機化合物であってもよい。多孔質構造体であってもよい。
霧化・液滴化工程は、原料溶液を霧化または液滴化する。霧化手段または液滴化手段は、原料溶液を霧化または液滴化できさえすれば特に限定されず、公知の手段であってよいが、本発明においては、超音波振動を用いる霧化手段または液滴化手段が好ましい。超音波振動を用いて得られたミストまたは液滴は、初速度がゼロであり、空中に浮遊するので好ましく、例えば、スプレーのように吹き付けるのではなく、空間に浮遊してガスとして搬送することが可能なミストであるので衝突エネルギーによる損傷がないため、非常に好適である。液滴サイズは、特に限定されず、数mm程度の液滴であってもよいが、好ましくは50μm以下であり、より好ましくは100nm~10μmである。
原料溶液は、有機化合物と溶媒とを少なくとも含んでおり、霧化または液滴化が可能であれば特に限定されない。前記原料溶液は、本発明の目的を阻害しない限り、さらに、無機材料を含んでいてもよいし、有機材料を含んでいてもよい。また、前記原料溶液は、無機材料および有機材料の両方の材料をさらに含んでいてもよい。
成膜工程では、基体上で前記ミストまたは前記液滴を前記溶媒の沸点以上の温度で熱反応させることによって、基体上に成膜する。熱反応は、熱でもって前記ミストまたは液滴が反応すればそれでよく、反応条件等も本発明の目的を阻害しない限り特に限定されない。前記熱反応の温度は、前記溶媒の沸点以上の温度であれば、特に限定されないが、210℃以上であるのが、前記有機膜の熱的安定性をより優れたものとすることができるため、好ましく、240℃以上であるのがより好ましい。また、本発明においては、前記熱反応の温度が、前記溶媒の沸点よりも8℃以上高い温度であるのが、より良好に成膜することができるため、好ましく、30℃以上高い温度であるのがより好ましい。また、前記熱反応の温度の上限も特に限定されないが、350℃以下であるのが好ましく、300℃以下であるのがより好ましい。また、前記熱反応は、本発明の目的を阻害しない限り、真空下、非酸素雰囲気下、還元ガス雰囲気下および酸素雰囲気下のいずれの雰囲気下で行われてもよいが、非酸素雰囲気下または酸素雰囲気下で行われるのが好ましい。また、大気圧下、加圧下および減圧下のいずれの条件下で行われてもよいが、本発明においては、大気圧下で行われるのが好ましい。なお、膜厚は、成膜時間を調整することにより、設定することができる。また、例えば、リニアソース式の成膜装置を用いる場合には、成膜のスキャン往復回数等を調整することにより、膜厚を適宜設定することができる。また、例えば、ロール・トゥ・ロール式の成膜装置を用いる場合には、ノズルの本数等を調整することにより、膜厚を適宜設定することができる。
1.成膜装置
図1を用いて、本実施例で用いた成膜装置1を説明する。成膜装置1は、キャリアガスを供給するキャリアガス源2aと、キャリアガス源2aから送り出されるキャリアガスの流量を調節するための流量調節弁3aと、キャリアガス(希釈)を供給するキャリアガス(希釈)供給源2bと、キャリアガス(希釈)供給手段2bから送り出されるキャリアガス(希釈)の流量を調節するための流量調節弁3bと、原料溶液4aが収容されるミスト発生源4と、水5aが入れられる容器5と、容器5の 底面に取り付けられた超音波振動子6と、ホットプレート8と、ホットプレート8上に載置された基体10と、ミスト発生源4から基体10近傍までをつなぐ供給管9およびノズル7と、を備えている。
2-メトキシ,5-(2’-エチルヘキソキシ)-パラ-フェニレンビニレン(MEH-PPV)をN-メチル-2-ピロリドン(沸点:202℃)に混合し、これを原料溶液とした。
上記2.で得られた原料溶液4aを、ミスト発生源4内に収容した。次に、基体10として、ガラス/ITO基板をホットプレート8上に設置し、ホットプレート8を作動させて基体10の温度を240℃にまで昇温させた。次に、流量調節弁3aおよび3bを開いて、キャリアガス供給源2aから供給されるキャリアガスの流量を4.0L/分に、キャリアガス(希釈)2bから供給されるキャリアガス(希釈)の流量を4.0L/分に調節した。なお、キャリアガスとし窒素を用いた。
次に、超音波振動子6を2.4MHzで振動させ、その振動を、水5aを通じて原料溶液4aに伝播させることによって、原料溶液4aを霧化させてミスト4bを生成させた。このミスト4bに対して、キャリアガスが供給され、該キャリアガスによって、ミスト4bが供給管9内を通って、基体10へと搬送され、大気圧下、240℃にて、基体10近傍でミストが熱反応して、基体10上に有機膜が形成された。
上記4.にて得られた有機膜につき、蛍光スペクトル測定を行った。その結果を図2に示す。図2から分かるように、得られた有機膜は、波長350~400nmの間に発光ピークを有しており、発光特性に優れた膜であった。
上記4.で得られた有機膜につき、熱安定性の評価を行った。具体的には、得られた有機膜を、240℃の温度で加熱し、加熱後の膜の状態を、蛍光スペクトル測定を行うことにより評価した。加熱を4時間実施した後に蛍光スペクトル測定を行った結果を、図2に示す。図2から明らかなように、蛍光スペクトルのピーク位置およびピーク強度は加熱処理の前後で概ね同様であった。また、加熱処理の時間を8時間とした場合にも、加熱処理の時間が4時間の場合と同様の結果が得られた。このことから、得られた膜は、熱によって経時劣化を起こすことなく膜の特性が維持されており、熱的安定性に優れていることがわかる。
成膜温度を210℃としたこと以外は、実施例1と同様にして、有機膜を得た。得られた膜につき、実施例1と同様にして、蛍光スペクトル測定を行った。その結果、得られた膜は、実施例1で得られた膜と同様に、波長350~400nmの間に発光ピークを有しており、発光特性に優れた膜であった。また、得られた膜につき、実施例1と同様にして、熱安定性評価を行ったところ、得られた膜は、熱によって経時劣化を起こすことなく膜の特性が維持されており、熱的安定性に優れていた。
溶媒として、N-メチル-2-ピロリドンに代えてトルエン(沸点110.6℃)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、有機膜を得た。また、得られた膜につき、実施例1と同様にして蛍光スペクトル測定を行ったところ、膜の蛍光スペクトルのピーク強度が実施例1で得られた膜の1/5以下であった。
成膜温度を180℃としたこと以外は、実施例1と同様にして、有機膜を得た。得られた膜につき、実施例1と同様にして、蛍光スペクトル測定を行った。その結果を図3に示す。図3から分かるように、得られた膜は、波長350~400nmの間に発光ピークを有していた。また、得られた膜につき、実施例1と同様にして、熱安定性評価を行った。加熱処理を4時間および8時間実施した後に蛍光スペクトル測定を行った結果を図3に示す。図3からわかるように、4時間の加熱処理によって膜の蛍光スペクトルのピーク強度が約1/3に低下し、8時間の加熱処理後には蛍光スペクトルのピークを観察することができなかった。
2a キャリアガス源
2b キャリアガス(希釈)源
3a 流量調節弁
3b 流量調節弁
4 ミスト発生源
4a 原料溶液
4b ミスト
5 容器
5a 水
6 超音波振動子
7 ノズル
8 ホットプレート
9 供給管
10 基体
Claims (9)
- 有機化合物と溶媒とを少なくとも含む原料溶液を霧化または液滴化し、得られたミストまたは液滴を用いて基体上に有機膜を成膜する方法であって、前記溶媒の沸点が150℃以上であり、前記成膜を、前記溶媒の沸点以上の温度で前記ミストまたは前記液滴を前記基体上で熱反応させることにより行うことを特徴とする成膜方法。
- 前記溶媒が、環式化合物である請求項1記載の成膜方法。
- 前記溶媒が、複素環式化合物である請求項1または2に記載の成膜方法。
- 前記溶媒の沸点が、200℃以上である請求項1~3のいずれかに記載の成膜方法。
- 前記有機化合物が、高分子化合物である請求項1~4のいずれかに記載の成膜方法。
- 前記有機化合物が、共役系高分子化合物である請求項1~5のいずれかに記載の成膜方法。
- 前記熱反応を、240℃以上の温度で行う請求項1~6のいずれかに記載の成膜方法。
- 前記霧化または液滴化を、超音波振動を用いて行う請求項1~7のいずれかに記載の成膜方法。
- 前記熱反応を大気圧下で行う請求項1~8のいずれかに記載の成膜方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017255171 | 2017-12-29 | ||
JP2017255171 | 2017-12-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019118910A JP2019118910A (ja) | 2019-07-22 |
JP7165464B2 true JP7165464B2 (ja) | 2022-11-04 |
Family
ID=67059391
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018242165A Active JP7165464B2 (ja) | 2017-12-29 | 2018-12-26 | 有機膜の成膜方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190203352A1 (ja) |
JP (1) | JP7165464B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20230101908A1 (en) * | 2021-09-24 | 2023-03-30 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Method for applying a primer coating to glass containers |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004160388A (ja) | 2002-11-14 | 2004-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜の作成方法と作成装置 |
JP2016145388A (ja) | 2015-02-06 | 2016-08-12 | 高知県公立大学法人 | 膜厚算出方法、成膜装置およびプログラム |
WO2017110953A1 (ja) | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 株式会社Flosfia | 成膜方法 |
-
2018
- 2018-12-26 JP JP2018242165A patent/JP7165464B2/ja active Active
- 2018-12-28 US US16/235,084 patent/US20190203352A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004160388A (ja) | 2002-11-14 | 2004-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜の作成方法と作成装置 |
JP2016145388A (ja) | 2015-02-06 | 2016-08-12 | 高知県公立大学法人 | 膜厚算出方法、成膜装置およびプログラム |
WO2017110953A1 (ja) | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 株式会社Flosfia | 成膜方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019118910A (ja) | 2019-07-22 |
US20190203352A1 (en) | 2019-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Kavadiya et al. | Electrospray‐Assisted Fabrication of Moisture‐Resistant and Highly Stable Perovskite Solar Cells at Ambient Conditions | |
US8673070B2 (en) | Process for producing silicon oxide thin film or silicon oxynitride compound thin film and thin film obtained by the process | |
Kim et al. | Organic TFT array on a paper substrate | |
Wu et al. | Organic–inorganic hybrid CH 3 NH 3 PbI 3 perovskite materials as channels in thin-film field-effect transistors | |
US8455373B2 (en) | Ink-jet print ink and organic thin film transistor using thereof | |
KR20070098807A (ko) | 박막 트랜지스터용 n-형 반도체 물질 | |
Khim et al. | Spray-printed organic field-effect transistors and complementary inverters | |
KR101069585B1 (ko) | 표면처리된 잉크젯 프린트용 기판 | |
JP2011519179A (ja) | エアゾールジェット印刷法を用いた有機太陽電池光活性層の製造方法 | |
JP7165464B2 (ja) | 有機膜の成膜方法 | |
CN105307977A (zh) | 包含氢化硅烷和氢化硅烷低聚物的配制品、其制备方法及其用途 | |
CN108417736A (zh) | 一种过渡金属氧化物作为空穴注入层的制备方法 | |
JP6613467B2 (ja) | シリコン酸化膜の成膜方法 | |
KR101172187B1 (ko) | 스프레이 방식을 이용한 박막트랜지스터 및 전자회로를 제조하는 방법 | |
KR20120135603A (ko) | 바코팅을 이용한 유기반도체 박막의 제조방법 | |
KR20090020516A (ko) | 습식공정이 가능한 다기능의 금속 산화물 용액, 이의제조방법 및 이를 이용하는 유기태양전지 | |
US20200332133A1 (en) | Solvent and method of forming organic film using solvent | |
JP2018181658A (ja) | 有機発光素子の製造方法 | |
Alvarado Rivera et al. | Organic semiconductors | |
WO2010082414A1 (ja) | 有機薄膜トランジスタ、その製造方法及びそれを備える装置 | |
JP6980182B2 (ja) | 超音波ミスト | |
JP2018110179A (ja) | 正孔輸送層形成用組成物 | |
KR20110011974A (ko) | 코팅 방법, 이를 이용하여 제조된 유기 전자 소자, 인버티드 유기 발광 다이오드, 인버티드 유기 태양전지 및 유기 박막 트랜지스터, 코팅 장치 | |
JP6950137B2 (ja) | 成膜方法 | |
JP7113425B2 (ja) | 蛍光波長の調整方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220916 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220927 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20221018 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7165464 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |