JP7157355B1 - 評価方法、評価装置及びコンピュータプログラム - Google Patents
評価方法、評価装置及びコンピュータプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7157355B1 JP7157355B1 JP2021094610A JP2021094610A JP7157355B1 JP 7157355 B1 JP7157355 B1 JP 7157355B1 JP 2021094610 A JP2021094610 A JP 2021094610A JP 2021094610 A JP2021094610 A JP 2021094610A JP 7157355 B1 JP7157355 B1 JP 7157355B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating film
- image data
- blister
- evaluation
- evaluation method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 title claims abstract description 138
- 238000004590 computer program Methods 0.000 title claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 134
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 134
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 52
- 238000009499 grossing Methods 0.000 claims description 39
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 33
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 27
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims description 15
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 14
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 13
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 13
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 13
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 8
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 10
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 8
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 5
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 241001270131 Agaricus moelleri Species 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000006258 conductive agent Substances 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012854 evaluation process Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- GRPIQKZLNSCFTB-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)-fluoroimino-$l^{5}-phosphanyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)P(=NF)(N(C)C)N(C)C GRPIQKZLNSCFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000001175 rotational moulding Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T3/00—Geometric image transformations in the plane of the image
- G06T3/40—Scaling of whole images or parts thereof, e.g. expanding or contracting
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
- G06T7/0004—Industrial image inspection
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T7/00—Image analysis
- G06T7/10—Segmentation; Edge detection
- G06T7/11—Region-based segmentation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
- G01N2021/8427—Coatings
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8854—Grading and classifying of flaws
- G01N2021/8861—Determining coordinates of flaws
- G01N2021/8864—Mapping zones of defects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
- G01N2021/8887—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges based on image processing techniques
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Pathology (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Quality & Reliability (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
Description
上記耐熱性樹脂としては、ポリアミドイミド樹脂(PAI)、ポリイミド樹脂(PI)、ポリエーテルスルホン樹脂(PES)、ポリエーテルイミド樹脂、芳香族ポリエーテルケトン樹脂、芳香族ポリエステル樹脂、ポリアリレンサルファイド樹脂等が挙げられる。
始めに、評価装置で用いる画像データの取得の際の照明について説明する。図1を用いて後述する評価装置1は、撮影装置2によって撮影された塗膜の表面(塗装面)の画像データを用いる。ここで、撮影装置2は、塗装面の撮影に同軸照明を利用する。同軸照明は、撮影装置の撮影軸(カメラ軸)と同軸上に光を照射する照明方法であり、図2に一例を示すように、撮影装置2のレンズ21の光路内に光源31からの照射光が組み込まれた照明方法であり得る。具体的には、同軸照明は、図2に示すように、光源31からの光を、ハーフミラー32によって反射させてワーク(即ち、評価対象、本開示では塗膜が形成された物体であり、ワークの表面が塗膜の表面に対応する)Wに照射させる照明方法である。このとき、ハーフミラー32からワークWの有効視野までの最短距離を距離LWD(mm)とする。ここでは、この同軸照明に用いる光源31と、ハーフミラー32とを含む構成を同軸照明装置3とする。
続いて、図1を参照して、実施形態に係る評価装置1について説明する。評価装置1は、物体上に形成された塗膜のブリスターを評価する評価装置であって、
同軸照明装置3で光照射され、撮影装置2で撮影された塗膜の表面の画像データを取得する取得部112と、
画像データに少なくとも二値化処理を施して、塗膜の表面に存在するブリスターの領域を検出する検出部113と、
画像データの評価対象の領域においてブリスターの領域が占める面積率を求める算出部114と、
を含む。
図6Aは、塗膜の表面を撮影した画像データの一例である。また、図6Bは、図6Aの画像データを平滑化処理して得られた画像データである。さらに、図6Cは、図6Bの画像データを二値化処理して得られた画像データである。平滑化処理、および、二値化処理は、ブリスターの領域を精度良く検出することを目的とする画像処理であり、後述する検出部113で実行される。例えば、ブリスターのサイズが比較的大きい場合、図6Cに示すように、ブリスターの中央付近において強い反射光を反射する部分が広くなり、画像データにおいて白くなることがある(例えば、図6C中のA1の部分)。このようにブリスターの一部について白くなった場合、白くなった部分についてはブリスターの領域ではないとされ、正確に評価することができない。したがって、このようにブリスターのサイズが所定の値よりも大きい場合、例えば、平滑化フィルタにおいて、ブリスターのサイズが所定の値よりも小さい場合と比較して、各画素に対して広い領域の画素を用いて平滑化処理を施すことにより、ブリスターB部分を抽出しやすくなる。評価装置1では、ブリスターBのサイズに応じて、パラメータである平滑化フィルタで用いるカーネル値を調整し、ブリスターBの抽出精度を向上させる。
例えば、表面粗度が大きく、塗膜の表面にブリスター以外の凸部が存在する塗膜の表面を評価する場合、二値化することにより、ブリスター以外の部分も黒くなることがある(例えば、図6C中のA2の部分)。このような場合、ブリスター以外の部分がブリスターとして検出される恐れがある。このように塗膜の表面に存在するブリスター以外の凸部が誤ってブリスターとして検出されると、正確に評価することができなくなる。したがって、このように表面粗度が所定の値よりも大きい場合、例えば、平滑化フィルタにおいて、各画素に対して広い周囲領域の画素を用いてぼかすことにより、ブリスターB以外の凸部を除去しやすくなる。これは、このようなブリスターB以外の凸部は、通常、ブリスターB自体よりも小さいためである。このように、評価装置1では、表面粗度に応じて、パラメータである平滑化フィルタで用いるカーネル値を調整し、ブリスターBの抽出精度を向上させる。
図7Aは、光沢度が高い塗膜の表面を撮影した画像データの一例である。例えば、塗膜の光沢度が高い場合、表面上の傷において反射光が散乱する等により、反射光L2が弱くなることがある。それにより、平滑化かつ二値化することにより、図7Bに示すように、画像データにおいてこのような傷等の部分(図7B中のA3の部分)が暗くなることがある。この場合、通常と同様の二値化処理によって、ブリスターBの領域を抽出する方法では、ブリスターB以外の傷の部分についても黒くなることにより、ブリスターBとして検出されるおそれがある。したがって、このように二値化された画像データで傷が表れやすい光沢度の高い塗膜の場合、閾値を黒側に設定して二値化処理することで、傷を目立ちにくくすることができる。具体的には、256階調において、「0」が黒を示す値であり、「255」が白を示す値である。そして、閾値を黒側にシフトさせるため、所定の方法で設定された閾値に、光沢度の程度に応じて設定されるパラメータの値をマイナスして、新たな閾値とすることで、傷を目立ちにくくすることができる。
トリミングは、評価の対象領域の抽出である。検出部113は、選択部111において、塗膜の表面を示す各値の少なくともいずれかに応じて、選択された評価手法で定められるパラメータであるトリミングの画像サイズで、第2画像データから画像処理の対象の領域をトリミングする。このとき、撮影装置2で撮影される画像データ121は、例えば、図8に示すように、光源31からの照射光が当たる一部の領域のみ明るく、照射光の当たらない領域は暗くなる。したがって、トリミングする際には、第2画像データのうち、明るい領域内でトリミングする必要がある。トリミング後の第2画像データは、拡大すると、例えば、図9Aに示すような画像データである。なお、トリミングの画像サイズは、塗膜に光を照射した際の光の広がりに応じて、画像解析に使用可能な範囲を抽出することにより決定する。
続いて、平滑化の一例を説明する。図9Bは、図9Aの画像データを平滑化処理して得られた画像データである。検出部113は、評価手法に応じて設定されたパラメータであるカーネル値を用いた平滑化フィルタによって、トリミングされた第2画像データに平滑化処理を実行する。平滑化処理により得られた画像データは、第3画像データである。平滑化処理をすることで、例えば、ブリスターのサイズが大きい場合にブリスターの領域を抽出しやすくしたり、塗膜の粗度による影響を軽減することができる。
次に、二値化の一例を説明する。図9Cは、図9Bの画像データを二値化処理して得られた画像データである。図9Cの画像データは、基材に発生したブリスター領域が検出できた例である。具体的には、図9Cにおける黒色部分がブリスター領域である。しかしながら、画像取得および画像処理に利用するパラメータによっては、図9Cに示すように、ブリスター領域が検出できる画像データばかりであるとは限らない。したがって、検出部113は、ブリスター領域を正確に検出できるように、選択部111で選択された評価手法に応じて設定されたパラメータの値で調整した閾値により、平滑化された第3画像データに二値化処理を実行する。二値化処理により得られた画像データは、第4画像データである。二値化処理することで、例えば、塗膜の表面状態の影響を除去してブリスター領域を検出することができる。
実施形態に係る評価方法は、物体上に形成された塗膜のブリスターを評価する評価方法であって、
(a)同軸照明装置で光照射された塗膜の表面の画像データを撮影装置によって取得し、
(b)画像データに少なくとも二値化処理を施して、塗膜の表面に存在するブリスターの領域を検出し、および
(c)画像データの評価対象の領域において前記ブリスターの領域が占める面積率を求める。
以下、図10に示すフローチャートを参照して評価装置1を用いた評価方法について説明する。
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、上記実施形態を説明した。しかしながら、本開示における技術は、これに限定されず、適宜、変更、置き換え、付加、省略などを行った実施形態にも適用可能である。
11 制御部
111 選択部
112 取得部
113 検出部
114 算出部
115 結果処理部
12 記憶部
121 画像データ
122 結果データ
P 評価プログラム
13 通信部
14 入力部
15 出力部
2 撮影装置
3 同軸照明装置
W ワーク(塗膜が形成された物体)
Claims (7)
- 物体上に形成された塗膜のブリスターを評価する評価方法であって、
(a)同軸照明装置で光照射された前記塗膜の表面の画像データを撮影装置によって取得し、
(b)前記画像データに少なくとも二値化処理を施して、前記塗膜の表面に存在するブリスターの領域を検出し、および
(c)前記画像データの評価対象の領域において前記ブリスターの領域が占める面積率を求める
ことを含み
前記塗膜の表面に存在するブリスターのサイズ、前記塗膜の光沢度、および前記塗膜の表面の粗度からなる群より選択される少なくとも1つの値を受け付け、
受け付けた前記値に基づいて、前記(a)における前記画像データを取得する第1条件、および前記(b)における前記ブリスターの領域を検出する第2条件が選択される、
評価方法。 - 前記第1条件が、前記同軸照明装置のハーフミラーと前記塗膜の表面の有効視野までの間の最短距離を含み、前記第2条件が、前記二値化処理における閾値の設定方法を含む、請求項1に記載の評価方法。
- 前記(b)が、
(i)前記画像データをトリミングして、前記評価対象の領域に対応するトリミングされた画像データを得、
(ii)前記トリミングされた画像データに、平滑化処理を施した後、または平滑化処理を施さずに、前記二値化処理を施す、
ことを含む、請求項1又は2のいずれかに記載の評価方法。 - 前記第2条件が、前記平滑化処理の平滑化フィルタに用いるブリスターのサイズ又は表面粗度に応じて設定されるカーネル値を含む、請求項3に記載の評価方法。
- 前記(a)の前に、
前記塗膜を有する前記物体を耐蝕性試験に付す
ことを更に含む、請求項1~4のいずれかに記載の評価方法。 - 物体上に形成された塗膜のブリスターを評価する評価装置であって、
同軸照明装置で光照射され、撮影装置で撮影された前記塗膜の表面の画像データを取得する取得部と、
前記塗膜の表面に存在するブリスターのサイズ、前記塗膜の光沢度、および前記塗膜の表面の粗度からなる群より選択される少なくとも1つの値を受け付け、受け付けた前記値に基づいて、前記(a)における前記画像データを取得する第1条件、および前記(b)における前記ブリスターの領域を検出する第2条件を選択する選択部と、
前記画像データに少なくとも二値化処理を施して、前記塗膜の表面に存在するブリスターの領域を検出する検出部と、
前記画像データの評価対象の領域において前記ブリスターの領域が占める面積率を求める算出部と、
を含む評価装置。 - 請求項1~4のいずれかに記載の評価方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラム。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021094610A JP7157355B1 (ja) | 2021-06-04 | 2021-06-04 | 評価方法、評価装置及びコンピュータプログラム |
CN202280039595.4A CN117480382A (zh) | 2021-06-04 | 2022-05-27 | 评价方法、评价装置和计算机程序 |
KR1020237037772A KR20230164723A (ko) | 2021-06-04 | 2022-05-27 | 평가 방법, 평가 장치 및 컴퓨터 프로그램 |
PCT/JP2022/021696 WO2022255239A1 (ja) | 2021-06-04 | 2022-05-27 | 評価方法、評価装置及びコンピュータプログラム |
TW111120311A TW202305349A (zh) | 2021-06-04 | 2022-05-31 | 評估方法、評估裝置及電腦程式 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2021094610A JP7157355B1 (ja) | 2021-06-04 | 2021-06-04 | 評価方法、評価装置及びコンピュータプログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP7157355B1 true JP7157355B1 (ja) | 2022-10-20 |
JP2022186406A JP2022186406A (ja) | 2022-12-15 |
Family
ID=83691003
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021094610A Active JP7157355B1 (ja) | 2021-06-04 | 2021-06-04 | 評価方法、評価装置及びコンピュータプログラム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7157355B1 (ja) |
KR (1) | KR20230164723A (ja) |
CN (1) | CN117480382A (ja) |
TW (1) | TW202305349A (ja) |
WO (1) | WO2022255239A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116152247B (zh) * | 2023-04-20 | 2023-08-25 | 江苏三纳科技材料有限公司 | 一种聚氨酯涂膜的质量评估方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005075961A1 (ja) | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Kansai Paint Co., Ltd. | 光輝感評価方法および光輝感評価装置 |
JP2006105672A (ja) | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Toyota Motor Corp | 塗装面検出装置 |
JP2006343185A (ja) | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Daihatsu Motor Co Ltd | 表面欠陥検査装置 |
WO2008123604A1 (ja) | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | 表面検査装置 |
JP2010538258A (ja) | 2007-09-03 | 2010-12-09 | コリア エクスプレスウェイ コーポレイション | 映像処理方法を用いた鋼橋の塗膜検査システム及びその処理方法 |
JP2014032058A (ja) | 2012-08-02 | 2014-02-20 | Jfe Steel Corp | 表面欠陥検査方法 |
JP2022013285A (ja) | 2020-07-03 | 2022-01-18 | トヨタ自動車株式会社 | 機械学習方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2982474B2 (ja) * | 1992-03-11 | 1999-11-22 | 日産自動車株式会社 | 塗装面性状検査装置 |
JP3006321B2 (ja) * | 1992-11-17 | 2000-02-07 | 日産自動車株式会社 | ウェット鮮映性測定装置 |
JP3127758B2 (ja) * | 1994-09-19 | 2001-01-29 | 日産自動車株式会社 | 被検査面の欠陥検査方法およびその装置 |
-
2021
- 2021-06-04 JP JP2021094610A patent/JP7157355B1/ja active Active
-
2022
- 2022-05-27 KR KR1020237037772A patent/KR20230164723A/ko unknown
- 2022-05-27 CN CN202280039595.4A patent/CN117480382A/zh active Pending
- 2022-05-27 WO PCT/JP2022/021696 patent/WO2022255239A1/ja active Application Filing
- 2022-05-31 TW TW111120311A patent/TW202305349A/zh unknown
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005075961A1 (ja) | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Kansai Paint Co., Ltd. | 光輝感評価方法および光輝感評価装置 |
JP2006105672A (ja) | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Toyota Motor Corp | 塗装面検出装置 |
JP2006343185A (ja) | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Daihatsu Motor Co Ltd | 表面欠陥検査装置 |
WO2008123604A1 (ja) | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | 表面検査装置 |
JP2010538258A (ja) | 2007-09-03 | 2010-12-09 | コリア エクスプレスウェイ コーポレイション | 映像処理方法を用いた鋼橋の塗膜検査システム及びその処理方法 |
JP2014032058A (ja) | 2012-08-02 | 2014-02-20 | Jfe Steel Corp | 表面欠陥検査方法 |
JP2022013285A (ja) | 2020-07-03 | 2022-01-18 | トヨタ自動車株式会社 | 機械学習方法 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
自動車の自動外観検査システム,第20回画像センシングシンポジウム講演論文集,日本,画像センシング技術研究会,2014年06月,pp. 1-6,IS1-35 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202305349A (zh) | 2023-02-01 |
JP2022186406A (ja) | 2022-12-15 |
CN117480382A (zh) | 2024-01-30 |
KR20230164723A (ko) | 2023-12-04 |
WO2022255239A1 (ja) | 2022-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Malarvel et al. | An improved version of Otsu's method for segmentation of weld defects on X-radiography images | |
JP5727629B2 (ja) | 顕微鏡撮像における高速自動焦点合わせ | |
CN106030653A (zh) | 用于生成高动态范围图像的图像处理系统和图像处理方法 | |
JP6264132B2 (ja) | 車体塗装面の検査装置および検査方法 | |
JP6598850B2 (ja) | 画像処理装置、画像処理方法および画像処理プログラム | |
WO2022255239A1 (ja) | 評価方法、評価装置及びコンピュータプログラム | |
Wu et al. | Automated visual inspection of surface mounted chip components | |
WO2021153633A1 (ja) | 金属組織の相の分類方法、金属組織の相の分類装置、金属組織の相の学習方法、金属組織の相の学習装置、金属材料の材料特性予測方法および金属材料の材料特性予測装置 | |
KR102012318B1 (ko) | 영상센서를 이용한 용접 품질 전수 검사 장치 및 그 방법 | |
JP2020169994A5 (ja) | ||
CN116612112B (zh) | 一种水桶表面缺陷视觉检测方法 | |
CN115272256A (zh) | 亚像素级传感光纤路径高斯提取方法及系统 | |
TW201600223A (zh) | 工具檢查方法及工具檢查裝置 | |
JP2007303830A (ja) | 塗装面品質評価方法 | |
CN111968143A (zh) | 基于关联成像的边缘图像提取方法及系统 | |
Jalilian et al. | Deep learning based automated Vickers hardness measurement | |
KR101509992B1 (ko) | 고휘도 영역 선택 기반의 광원 보정 장치 및 방법 | |
JP5949690B2 (ja) | 評価方法及び評価装置 | |
Qi et al. | Quantitative detection of minor defects in metal materials based on variation coefficient of CT image | |
KR101024598B1 (ko) | 표면 밝기 분포의 분산 산출 알고리즘을 이용한 대상물 표면의 영상 검사방법 | |
JP2019533140A (ja) | 偏析分析装置及び方法 | |
CN110470219A (zh) | 基于边缘频谱保留的散焦图像测距方法及装置 | |
JP2018115937A (ja) | 検査システム | |
CN111213372B (zh) | 成像设备的动态范围的评估 | |
JPH06160300A (ja) | ウェット鮮映性測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220628 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220825 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220906 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220919 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7157355 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |