KR20230164723A - 평가 방법, 평가 장치 및 컴퓨터 프로그램 - Google Patents
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Abstract
도막의 블리스터를 정량적으로 평가한다. 물체 상에 형성된 도막의 블리스터를 평가하는 평가 방법이, (a) 동축 조명 장치에서 광 조사된 도막의 표면의 화상 데이터를 촬영 장치에 의해 취득하고, (b) 화상 데이터에 적어도 2치화 처리를 실시하여, 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 영역을 검출하고, 및 (c) 화상 데이터의 평가 대상의 영역에 있어서 블리스터의 영역이 차지하는 면적률을 구하는 것을 포함한다.
Description
본 개시는, 도막의 블리스터를 평가하는 평가 방법, 평가 장치 및 컴퓨터 프로그램에 관한 것이다.
도막의 표면(이하, 본 명세서에 있어서 간단히 「도장면」이라고도 함)의 상태를 평가하는 방법으로서, 도장면의 흠이나 요철 등의 상태를 사용하는 경우가 있다. 도장면의 흠이나 요철의 검출은, 광의 조사 방법에 따라서도 다르기 때문에, 예를 들어 특허문헌 1에서는, 도장면으로의 조사광의 각도를 조정하여, 50㎛ 정도의 작은 흠이라도 검출하는 것이 기재된다.
그런데, 현재, 물체(피도물) 상에 형성된 도막의 열화의 평가 방법의 하나로서, JIS K5600-8-2에 규정되어 있는 바와 같이, 도막의 부풀음(「블리스터」)을 평가하는 방법이 알려져 있다. JIS K5600-8-2에 규정되어 있는 평가 방법에서는, 도막의 표면 상태를, 복수의 기준 도판에 의한 등급 견본과 비교하여, 어느 등급 견본에 가까운지를 눈으로 보아 판단함으로써, 블리스터의 정도(밀도 및 크기)를 등급 매김하고 있다.
상술한 바와 같은 눈으로 보는 것에 의한 평가 방법에서는, 도막의 블리스터를 정량적으로 평가할 수 없다.
따라서, 본 개시는, 도막의 블리스터를 정량적으로 평가 가능한 방법 및 장치 그리고 컴퓨터 프로그램을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 개시의 평가 방법은, 물체 상에 형성된 도막의 블리스터를 평가하는 평가 방법이며, (a) 동축 조명 장치에서 광 조사된 상기 도막의 표면의 화상 데이터를 촬영 장치에 의해 취득하고, (b) 상기 화상 데이터에 적어도 2치화 처리를 실시하여, 상기 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 영역을 검출하고, 및 (c) 상기 화상 데이터의 평가 대상의 영역에 있어서 상기 블리스터의 영역이 차지하는 면적률을 구하는 것을 포함한다.
상기 평가 방법은, 상기 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 사이즈, 상기 도막의 표면의 조도, 및 상기 도막의 광택도로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개에 기초하여, 상기 (a)에 있어서의 상기 화상 데이터를 취득하는 제1 조건, 및 상기 (b)에 있어서의 상기 블리스터의 영역을 검출하는 제2 조건이 선택될 수 있다.
상기 평가 방법은, 상기 제1 조건이, 상기 동축 조명 장치의 하프 미러와 상기 도막의 표면의 유효 시야까지의 사이의 최단 거리를 포함하고, 상기 제2 조건이, 상기 2치화 처리에 있어서의 역치의 설정 방법을 포함할 수 있다.
상기 평가 방법은, 상기 (b)가, (i) 상기 화상 데이터를 트리밍하여, 상기 평가 대상의 영역에 대응하는 트리밍된 화상 데이터를 얻고, (ii) 상기 트리밍된 화상 데이터에, 평활화 처리를 실시한 후, 또는 평활화 처리를 실시하지 않고, 상기 2치화 처리를 실시하는 것을 포함할 수 있다.
상기 평가 방법은, 상기 제2 조건이, 상기 평활화 처리의 평활화 필터에 사용하는 커널값을 포함할 수 있다.
상기 평가 방법은, 상기 (a) 전에, 상기 도막을 갖는 상기 물체를 내식성 시험에 부치는 것을 더 포함할 수 있다.
상기 평가 장치는, 물체 상에 형성된 도막의 블리스터를 평가하는 평가 장치이며, 동축 조명 장치에서 광 조사되어, 촬영 장치에서 촬영된 상기 도막의 표면의 화상 데이터를 취득하는 취득부와, 상기 화상 데이터에 적어도 2치화 처리를 실시하여, 상기 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 영역을 검출하는 검출부와, 상기 화상 데이터의 평가 대상의 영역에 있어서 상기 블리스터의 영역이 차지하는 면적률을 구하는 산출부를 포함한다.
컴퓨터 프로그램은, 상기 평가 방법을 컴퓨터에 실행시킨다.
이들의 개괄적 또한 특정의 양태는, 시스템, 방법, 및 컴퓨터 프로그램, 그리고, 그것들의 조합에 의해, 실현되어도 된다.
본 개시의 평가 방법, 평가 장치 및 컴퓨터 프로그램에 의하면, 도막의 블리스터를 정량적으로 평가할 수 있다.
도 1은 평가 장치의 구성을 도시하는 블록도이다.
도 2는 동축 조명을 설명하는 개념도이며, 동축 조명 장치 및 촬영 장치를 아울러 도시한다.
도 3a는 조사광과 반사광의 관계의 일 예를 도시하는 개념도이다.
도 3b는 조사광과 반사광의 관계의 다른 예를 도시하는 개념도이다.
도 4는 블리스터가 있는 도막(워크)의 표면과 조사광 및 반사광의 관계를 도시하는 개념도이다.
도 5는 블리스터 사이즈, 광택도 및 표면 조도로부터, 평가 방법을 선택하는 판단을 나타내는 분기도이다.
도 6a는 도막의 표면이 촬영된 화상 데이터의 일 예이다.
도 6b는 도 6a의 화상 데이터를 평활화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 6c는 도 6b의 화상 데이터를 2치화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 7a는 도막의 표면이 촬영된 화상 데이터의 다른 예이다.
도 7b는 도 7a의 화상 데이터를 평활화한 후에 2치화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 8은 도막의 표면에 있어서의 조명 범위의 일 예를 도시하는 도면이다.
도 9a는 도막의 표면이 촬영된 화상 데이터의 다른 예이다.
도 9b는 도 9a의 화상 데이터를 평활화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 9c는 도 9b의 화상 데이터를 2치화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 10은 평가 방법의 처리를 설명하는 흐름도이다.
도 2는 동축 조명을 설명하는 개념도이며, 동축 조명 장치 및 촬영 장치를 아울러 도시한다.
도 3a는 조사광과 반사광의 관계의 일 예를 도시하는 개념도이다.
도 3b는 조사광과 반사광의 관계의 다른 예를 도시하는 개념도이다.
도 4는 블리스터가 있는 도막(워크)의 표면과 조사광 및 반사광의 관계를 도시하는 개념도이다.
도 5는 블리스터 사이즈, 광택도 및 표면 조도로부터, 평가 방법을 선택하는 판단을 나타내는 분기도이다.
도 6a는 도막의 표면이 촬영된 화상 데이터의 일 예이다.
도 6b는 도 6a의 화상 데이터를 평활화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 6c는 도 6b의 화상 데이터를 2치화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 7a는 도막의 표면이 촬영된 화상 데이터의 다른 예이다.
도 7b는 도 7a의 화상 데이터를 평활화한 후에 2치화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 8은 도막의 표면에 있어서의 조명 범위의 일 예를 도시하는 도면이다.
도 9a는 도막의 표면이 촬영된 화상 데이터의 다른 예이다.
도 9b는 도 9a의 화상 데이터를 평활화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 9c는 도 9b의 화상 데이터를 2치화한 화상 데이터의 일 예이다.
도 10은 평가 방법의 처리를 설명하는 흐름도이다.
이하에, 도면을 참조하여 실시 형태에 관한 평가 방법, 평가 장치 및 컴퓨터 프로그램에 대하여 설명한다. 본 개시의 평가 방법, 평가 장치 및 컴퓨터 프로그램은, 도막의 블리스터를 평가하는 것이다. 또한, 이하의 설명에서는, 동일한 구성에 대하여, 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략한다.
본 개시에 있어서, 「도막」이란, 물체(피도물) 상에 형성된 막이며, 도료에서 유래되는 막을 말한다.
「도료」란, 피도물인 물체의 표면을, 보호, 장식, 그 밖의 다양한 목적으로 피복하기 위해 사용되는 재료를 말한다.
도료 및 이것에서 유래되어 형성되는 도막의 각 재료, 도막의 형성 방법, 도막의 두께, 도막이 형성되는 물체(적어도 그 표면)를 구성하는 재료 및 형상 등은, 특별히 한정되지는 않는다.
「물체」로서는, 예를 들어 평판, 원통, 막대 등의 형상의 것을 들 수 있다.
「물체」의 재질로서는, 예를 들어 금속, 수지, 고무, 세라믹 등을 들 수 있다. 금속으로서는 알루미늄, 스테인리스, 철을 포함하는 단체 금속, 합금을 들 수 있다.
도막의 성분으로서는, 불소 함유 폴리머를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 불소 함유 폴리머는, 불소 수지여도 되고, 불소 고무여도 되고, 불소 수지인 것이 바람직하다.
상기 불소 수지로서는, 폴리테트라플루오로에틸렌〔PTFE〕, 테트라플루오로에틸렌〔TFE〕/헥사플루오로프로필렌〔HFP〕 공중합체〔FEP〕, TFE/퍼플루오로(알킬비닐에테르)〔PAVE〕 공중합체〔PFA〕, TFE/HFP/PAVE 공중합체〔EPA〕, 폴리클로로트리플루오로에틸렌〔PCTFE〕, TFE/클로로트리플루오로에틸렌〔CTFE〕 공중합체, TFE/에틸렌〔Et〕 공중합체〔ETFE〕, TFE/CTFE/Et 공중합체〔ECTFE〕, 폴리비닐리덴플루오라이드〔PVDF〕 등을 들 수 있다.
상기 불소 고무로서는, 비닐리덴플루오라이드[VdF]계 불소 고무, 테트라플루오로에틸렌[TFE]/프로필렌[Pr]계 불소 고무, TFE/Pr/VdF계 불소 고무, 에틸렌[Et]/헥사플루오로프로필렌[HFP]계 불소 고무, Et/HFP/VdF계 불소 고무, Et/HFP/TFE계 불소 고무, 플루오로실리콘계 불소 고무, 플루오로포스파젠계 불소 고무 등을 들 수 있다.
도료 성분으로서, 상기 불소 함유 폴리머 이외의 성분으로서는, 예를 들어 액상 매체를 들 수 있다. 상기 액상 매체로서는, 물, 유기 용매, 물과 유기 용매의 혼합 용매 등을 들 수 있다.
상기 불소 함유 폴리머 이외의 성분으로서는, 또한, 바인더 수지도 들 수 있다. 상기 바인더 수지는, 내열성 수지(단, 불소 함유 폴리머를 제외함)인 것이 바람직하다. 「내열성」이란, 150℃ 이상의 온도에 있어서의 연속 사용이 가능한 성질을 의미한다. 상기 내열성 수지로서는, 폴리아미드이미드 수지(PAI), 폴리이미드 수지(PI), 폴리에테르술폰 수지(PES), 폴리에테르이미드 수지, 방향족 폴리에테르케톤 수지, 방향족 폴리에스테르 수지, 폴리알릴렌술파이드 수지 등을 들 수 있다.
상기 불소 함유 폴리머 이외의 성분으로서는, 또한, 계면 활성제, 분산제, 점도 조정제, 제막 보조제, 조막제, 소포제, 건조 지연제, 틱소제, pH 조정제, 안료, 도전제, 대전 방지제, 레벨링제, 크레이터링 방지제, 소광제, 블로킹 방지제, 열 안정제, 산화 방지제, 내마모제, 충전제, 방청제, 경화제, 수산제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 방미제, 항균제 등의 첨가제도 들 수 있다.
도막의 형성 방법으로서는, 예를 들어 스프레이 도장, 딥 도장, 롤 코트, 커튼 플로 코트, 스크린 인쇄, 디스펜서 도장, 전착 도장, 정전 도장, 유동 침지, 로토라이닝, 로트몰드 등을 들 수 있다.
도막의 두께로서는, 1 내지 5000㎛가 바람직하다.
「블리스터」란, 도막의 부풀음이다. 블리스터는, 다양한 원인에 의해 발생 할 수 있고, 도막의 열화에 의한 경우에는, 도막과 피도물 사이에서, 가스가 발생(예를 들어 도막 중의 성분이나 외부로부터 침입한 액체 성분이 기화)함으로써 발생할 수 있다. 블리스터는, 예를 들어 도막의 자연스러운 열화에 의해 발생할 수 있고, 또한, 도막의 내식성을 평가할 목적으로 도막을 내식성 시험에 부침으로써 발생할 수 있다.
「도장면의 블리스터의 평가」는, 현재의 도막의 표면 상태의 평가(도막 형성 후의 사용을 거친 경우에는, 열화 평가와 동의), 및 (도막 형성 후이며, 또한 사용을 거치지 않은) 도막의 내식성의 평가를 포함한다.
「(도막의 표면의) 조도」(또는 「도막 조도」)란, 도막의 표면의 요철을 측정한 조도이며, 예를 들어 산술 평균 조도 Ra이다.
「도막의 표면을 나타내는 값」이란, 블리스터의 사이즈, 도막의 표면의 조도, 도막의 광택도 등, 평가 대상의 도막의 표면에 관련하여 얻어진 값을 말한다.
《동축 조명》
먼저, 평가 장치에서 사용하는 화상 데이터의 취득 시의 조명에 대하여 설명한다. 도 1을 사용하여 후술하는 평가 장치(1)는, 촬영 장치(2)에 의해 촬영된 도막의 표면(도장면)의 화상 데이터를 사용한다. 여기서, 촬영 장치(2)는, 도장면의 촬영에 동축 조명을 이용한다. 동축 조명은, 촬영 장치의 촬영축(카메라축)과 동축 상에 광을 조사하는 조명 방법이며, 도 2에 일 예를 나타내는 바와 같이, 촬영 장치(2)의 렌즈(21)의 광로 내에 광원(31)으로부터의 조사광이 조성된 조명 방법일 수 있다. 구체적으로는, 동축 조명은, 도 2에 도시한 바와 같이, 광원(31)으로부터의 광을, 하프 미러(32)에 의해 반사시켜 워크(즉, 평가 대상, 본 개시에서는 도막이 형성된 물체이며, 워크의 표면이 도막의 표면에 대응함) W에 조사시키는 조명 방법이다. 이때, 하프 미러(32)로부터 워크 W의 유효 시야까지의 최단 거리를 거리 LWD(㎜)로 한다. 여기에서는, 이 동축 조명에 사용하는 광원(31)과, 하프 미러(32)를 포함하는 구성을 동축 조명 장치(3)로 한다.
도 3a에 일 예를 나타내는 바와 같이, 만약, 표면이 평탄한 워크 W와 촬영 장치(2)의 렌즈(21)가 대면하고 있고, 광원(31)에 의해, 워크 W에 대하여 경사 방향으로부터 조사광 L1을 조사한 것으로 한다. 이 경우, 조사광 L1의 반사로 얻어지는 반사광 L2는, 렌즈(21)와는 다른 방향으로 진행한다. 따라서, 도 3a에 도시한 바와 같이, 촬영 장치(2)의 렌즈(21)가 반사광 L2의 광로와 다른 방향으로 배치되는 경우, 촬영 장치(2)에 있어서 촬영되는 워크 W의 화상은, 확산 반사광을 포착한 것이 된다.
이에 반해, 도 3b에 도시한 바와 같이, 도 3a와 동일한 워크 W, 및, 렌즈(21)를 사용하는 예에서, 만약, 워크 W에 대하여 렌즈(21)의 광축과 동일한 방향으로부터 조사광 L1을 조사한 것으로 한다. 이 경우, 반사광 L2는, 촬영 장치(2)의 렌즈(21)의 방향으로 진행한다. 따라서, 도 3b에 도시한 바와 같이, 촬영 장치(2)의 렌즈(21)가 반사광 L2의 광로와 동일한 방향으로 배치되는 경우, 촬영 장치(2)는, 정반사광을 포착한 화상을 얻을 수 있다.
도 4에 도시한 바와 같이, 도막의 표면에 블리스터 B가 발생한 워크 W를 동축 조명에 의해 촬영하는 것으로 한다. 도 4의 예에서도, 워크 W와 촬영 장치(2)가 대면하고 있다. 또한, 도 4에서는 워크 W의 표면에 형성되는 도막의 도시는 생략한다. 도 4의 경우, 블리스터 B가 발생하지 않은 워크 W 상의 도막의 표면 부분 P1에 조사광 L1을 조사하면, 그 반사광 L2는, 촬영 장치(2)의 렌즈(21)를 향한다. 따라서, 화상 데이터 상에서 도막의 표면 부분 P1은, 밝게 찍힌다. 또한, 블리스터 B의 정점 부분 P2에 조사된 조사광 L1에 의해 얻어지는 반사광 L2는, 렌즈(21)를 향한다. 따라서, 화상 데이터 상에서 블리스터 B의 정점 부분 P2는, 밝게 찍힌다. 한편, 블리스터 B의 다른 부분(예를 들어, P3)에 조사된 조사광 L1에 의해 얻어지는 반사광 L2는, 조사광 L1이 조사된 부분(예를 들어, P3)의 경사에 따른 방향을 향한다. 따라서, 화상 데이터 상에서, 도막이 형성되는 워크 W에 대하여 경사가 발생한 블리스터 B 등의 부분은, 어둡게 찍힌다.
이와 같이, 동축 조명을 사용하여 촬영함으로써, 도막 부분인 평탄한 부분이 밝고, 볼록 부분인 블리스터 B 등의 경사가 발생한 부분이 어두운 화상 데이터를 얻을 수 있다. 즉, 화상 데이터에 있어서, 흰 부분을 도막의 표면으로 하고, 검은 부분을 블리스터 B가 발생한 부분으로 하여, 전체에 있어서의 블리스터의 영역을 추출할 수 있다. 그러나, 실제로는, 도막의 성질이나 블리스터의 상태 등의 평가 대상의 도막의 표면을 나타내는 값에 의해, 동일한 방법으로 간단하게 블리스터 B의 영역을 추출할 수는 없다. 따라서, 후술하는 바와 같이, 도막의 표면을 나타내는 값에 따라서 선택된 평가 방법을 사용하여 화상 데이터를 취득하고, 취득된 화상 데이터를 처리하여 블리스터 B의 영역을 추출한다.
<평가 장치>
계속해서, 도 1을 참조하여, 실시 형태에 관한 평가 장치(1)에 대하여 설명한다. 평가 장치(1)는, 물체 상에 형성된 도막의 블리스터를 평가하는 평가 장치이며,
동축 조명 장치(3)에서 광 조사되어, 촬영 장치(2)에서 촬영된 도막의 표면의 화상 데이터를 취득하는 취득부(112)와,
화상 데이터에 적어도 2치화 처리를 실시하여, 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 영역을 검출하는 검출부(113)와,
화상 데이터의 평가 대상의 영역에 있어서 블리스터의 영역이 차지하는 면적률을 구하는 산출부(114)
를 포함한다.
평가 장치(1)는, 제어부(11)와, 기억부(12)와, 통신부(13)를 구비하는 정보 처리 장치이다. 제어부(11)는, 평가 장치(1) 전체의 제어를 담당하는 컨트롤러이다. 예를 들어, 제어부(11)는, 기억부(12)에 기억되는 평가 프로그램 P를 읽어내어 실행함으로써, 선택부(111), 취득부(112), 검출부(113), 산출부(114), 및, 결과 처리부(115)로서의 처리를 실현한다. 또한, 제어부(11)는, 하드웨어와 소프트웨어의 협동에 의해 소정의 기능을 실현하는 것에 한정되지는 않고, 소정의 기능을 실현하는 전용으로 설계된 하드웨어 회로여도 된다. 즉, 제어부(11)는, CPU, MPU, GPU, FPGA, DSP, ASIC 등, 다양한 프로세서로 실현할 수 있다.
기억부(12)는 다양한 정보를 기록하는 기록 매체이다. 기억부(12)는, 예를 들어 RAM, ROM, 플래시 메모리, SSD(Solid State Drive), 하드 디스크, 그 밖의 기억 디바이스 또는 그것들을 적절히 조합하여 실현된다. 기억부(12)에는, 제어부(11)가 실행하는 평가 프로그램 P 외에, 다양한 데이터 등이 저장된다. 예를 들어, 기억부(12)는, 화상 데이터(121), 결과 데이터(122), 및, 평가 프로그램 P를 기억한다.
통신부(13)는, 네트워크(4)를 통해 외부의 장치와의 데이터 통신을 가능하게 하기 위한 인터페이스 회로(모듈)이다. 예를 들어, 통신부(13)는, 화상 데이터를 촬영하는 촬영 장치(2)와 데이터 통신을 실행해도 된다. 또한, 통신부(13)는, 외부의 다른 장치와 데이터 통신을 실행해도 된다.
평가 장치(1)는, 입력부(14), 및, 출력부(15)를 구비할 수 있다. 입력부(14)는, 조작 신호나 데이터의 입력에 이용되는 조작 버튼, 마우스, 키보드 등의 입력 수단이다. 출력부(15)는, 처리 결과나 데이터의 출력 등에 이용되는 디스플레이 등의 출력 수단이다.
여기서, 평가 장치(1)는, 1대의 컴퓨터에 의해 실현되어도 되고, 네트워크를 통해 접속되는 복수대의 컴퓨터의 조합에 의해 실현되어도 된다. 또한, 도시를 생략하지만, 예를 들어 기억부(12)에 기억되는 데이터의 전부 또는 일부가, 네트워크를 통해 접속되는 외부의 기록 매체에 기억되고, 평가 장치(1)는, 외부의 기록 매체에 기억되는 데이터를 사용하도록 구성되어 있어도 된다.
선택부(111)는, 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 사이즈, 도막의 표면의 조도, 및 도막의 광택도로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개에 기초하여, 후술하는 취득부(112)에서 화상 데이터를 취득하는 제1 조건, 및 후술하는 검출부(113)에서 블리스터의 영역을 검출하는 제2 조건을 선택한다. 구체적으로는, 선택부(111)는, 평가 대상으로 하는 도막의 표면을 나타내는 값으로서 『블리스터 사이즈』, 『광택도』, 및, 『표면 조도』 중 적어도 어느 것을 접수한다. 또한, 선택부(111)는, 접수한 도막의 표면을 나타내는 값에 따라서 화상 데이터의 취득에 관한 제1 조건, 및, 화상 처리에 관한 제2 조건을 규정하는 『평가 방법』을 선택한다.
블리스터 사이즈는, 예를 들어 오퍼레이터가 정규를 사용하여 눈으로 보아 계측한 값을 이용할 수 있다. 이때, 평가 대상 부분의 블리스터 사이즈의 평균값을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 블리스터의 사이즈의 계측 시에는, 도막의 평가 대상 부분으로부터 랜덤하게 5개의 블리스터를 계측하고, 그 평균값을 사용해도 된다. 이에 의해, 1개의 블리스터의 사이즈에만 따른 편향된 평가 방법이 선택되는 것을 방지할 수 있다.
도막의 광택도는, 예를 들어 광택계를 사용하여 계측한 값을 이용할 수 있다.
도막의 표면 조도는, 예를 들어 표면 조도 측정기를 사용하여 계측한 값을 이용할 수 있다.
예를 들어, 오퍼레이터가, 상술한 바와 같이 계측한 이들 블리스터 사이즈, 광택도, 및, 표면 조도의 각 값을, 입력부(14)를 통해 평가 장치(1)에 입력함으로써, 선택부(111)가 평가 방법을 선택한다. 예를 들어, 선택부(111)는, 블리스터 사이즈, 광택도, 및, 표면 조도를 취득한 경우, 표 1에 나타내는 바와 같은 기준으로 평가 방법을 선택한다. 또한, 표 1에 나타내는 평가 방법의 선택의 각 값의 판단의 분기를, 도 5에 도시한다. 표 1 및 도 5의 예에서는, 블리스터 사이즈 S가 0.5㎜ 이상, 60°에서 계측된 광택도 G가 55 이상, 또한, 표면 조도 Ra가 0.2㎛ 이상인 경우, 선택부(111)는, 평가 방법 a를 선택한다. 또한, 블리스터 사이즈 S가 0.5㎜ 미만인 경우, 선택부(111)는, 평가 방법 h를 선택한다.
평가 장치(1)에서는, 선택부(111)에서 선택된 평가 방법마다, 후술하는 화상 취득에서 이용하는 제1 조건인 파라미터, 및, 화상 처리에서 이용하는 제2 조건인 파라미터가 설정된다. 제1 조건은, 동축 조명 장치(3)의 하프 미러(32)와 도막의 표면의 유효 시야까지의 사이의 최단 거리 LWD를 특정하는 파라미터이다. 제2 조건은, 촬영된 화상 데이터로부터 평가 대상의 영역을 트리밍할 때의 화상 사이즈를 파라미터로서 포함한다. 또한, 제2 조건은, 2치화 처리에 있어서의 역치의 설정에 사용하는 파라미터를 포함한다. 또한, 제2 조건은, 평활화 처리의 중앙값 필터에 사용하는 커널값을 파라미터로서 포함한다.
이하에, 도막의 표면을 나타내는 각 값에 따라서 선택되는 평가 방법마다의 파라미터에 대하여 설명한다. 또한, 이하에서는, 설명을 간략화하기 위해, 도막의 표면을 나타내는 값마다 각 파라미터를 결정하는 일 예를 각각 들지만, 이하의 예에 한정되지는 않는다. 구체적으로는, 선택부(111)는, 복수종의 도막의 표면을 나타내는 값을 종합하여 평가 방법을 선택한다. 또한, 평가 장치(1)에서는, 선택부(111)가 선택한 평가 방법마다, 미리 정해지는 각 파라미터를 사용하여, 화상 데이터의 취득 처리 및 화상 처리를 실행한다.
《블리스터 사이즈로 따른 조정》
도 6a는 도막의 표면을 촬영한 화상 데이터의 일 예이다. 또한, 도 6b는 도 6a의 화상 데이터를 평활화 처리하여 얻어진 화상 데이터이다. 또한, 도 6c는 도 6b의 화상 데이터를 2치화 처리하여 얻어진 화상 데이터이다. 평활화 처리, 및, 2치화 처리는, 블리스터의 영역을 고정밀도로 검출하는 것을 목적으로 하는 화상 처리이며, 후술하는 검출부(113)에서 실행된다. 예를 들어, 블리스터의 사이즈가 비교적 큰 경우, 도 6c에 도시한 바와 같이, 블리스터의 중앙 부근에 있어서 강한 반사광을 반사하는 부분이 넓어져, 화상 데이터에 있어서 하얗게 되는 경우가 있다(예를 들어, 도 6c 중의 A1의 부분). 이와 같이 블리스터의 일부에 대하여 하얗게 된 경우, 하얗게 된 부분에 대해서는 블리스터의 영역이 아닌 것으로 되어, 정확하게 평가할 수 없다. 따라서, 이와 같이 블리스터의 사이즈가 소정의 값보다도 큰 경우, 예를 들어 평활화 필터에 있어서, 블리스터의 사이즈가 소정의 값보다도 작은 경우와 비교하여, 각 화소에 대하여 넓은 영역의 화소를 사용하여 평활화 처리를 실시함으로써, 블리스터 B 부분을 추출하기 쉬워진다. 평가 장치(1)에서는, 블리스터 B의 사이즈에 따라서, 파라미터인 평활화 필터에서 사용하는 커널값을 조정하여, 블리스터 B의 추출 정밀도를 향상시킨다.
한편, 블리스터 B의 사이즈가 작은 경우, 예를 들어 동축 조명의 하프 미러(32)와 도막의 표면의 유효 시야 사이의 최단 거리인 거리 LWD를 짧게 함으로써, 블리스터 B 부분을 추출하기 쉬워진다. 즉, 블리스터 B의 사이즈가 작은 경우, 화상 데이터에 있어서의 도막의 표면과 블리스터 B 부분의 콘트라스트가 작아지는 경향이 있어, 블리스터 B의 영역을 검출하기 어려워진다. 그 때문에, 블리스터가 작은 경우, 블리스터 B의 검출이 곤란해진다. 따라서, 예를 들어 블리스터의 사이즈가 소정의 사이즈보다도 작은 경우, 파라미터인 거리 LWD를 짧게 함으로써 블리스터 B 부분을 추출하기 쉬워진다. 평가 장치(1)에서는, 블리스터 B의 사이즈에 따라서, 파라미터인 거리 LWD를 조정하여, 블리스터 B의 추출 정밀도를 향상시킨다.
《표면 조도에 따른 조정》
예를 들어, 표면 조도가 크고, 도막의 표면에 블리스터 이외의 볼록부가 존재하는 도막의 표면을 평가하는 경우, 2치화함으로써, 블리스터 이외의 부분도 검게 되는 경우가 있다(예를 들어, 도 6c 중의 A2의 부분). 이와 같은 경우, 블리스터 이외의 부분이 블리스터로서 검출될 우려가 있다. 이와 같이 도막의 표면에 존재하는 블리스터 이외의 볼록부가 잘못하여 블리스터로서 검출되면, 정확하게 평가할 수 없게 된다. 따라서, 이와 같이 표면 조도가 소정의 값보다도 큰 경우, 예를 들어 평활화 필터에 있어서, 각 화소에 대하여 넓은 주위 영역의 화소를 사용하여 흐리게 함으로써, 블리스터 B 이외의 볼록부를 제거하기 쉬워진다. 이것은, 이와 같은 블리스터 B 이외의 볼록부는, 통상, 블리스터 B 자체보다도 작기 때문이다. 이와 같이, 평가 장치(1)에서는, 표면 조도에 따라서, 파라미터인 평활화 필터에서 사용하는 커널값을 조정하여, 블리스터 B의 추출 정밀도를 향상시킨다.
《도막의 광택도에 따른 조정》
도 7a는 광택도가 높은 도막의 표면을 촬영한 화상 데이터의 일 예이다. 예를 들어, 도막의 광택도가 높은 경우, 표면 상의 흠에 있어서 반사광이 산란되거나 함으로써, 반사광 L2가 약해지는 경우가 있다. 그것에 의해, 평활화 또한 2치화함으로써, 도 7b에 도시한 바와 같이, 화상 데이터에 있어서 이와 같은 흠 등의 부분(도 7b 중의 A3의 부분)이 어둡게 되는 경우가 있다. 이 경우, 통상과 마찬가지의 2치화 처리에 의해, 블리스터 B의 영역을 추출하는 방법에서는, 블리스터 B 이외의 흠의 부분에 대해서도 검게 됨으로써, 블리스터 B로서 검출될 우려가 있다. 따라서, 이와 같이 2치화된 화상 데이터에서 흠이 나타나기 쉬운 광택도가 높은 도막의 경우, 역치를 흑색측으로 설정하여 2치화 처리함으로써, 흠이 눈에 잘 띄지 않게 할 수 있다. 구체적으로는, 256계조에 있어서, 「0」이 흑색을 나타내는 값이며, 「255」가 백색을 나타내는 값이다. 그리고, 역치를 흑색측으로 시프트시키기 위해, 소정의 방법에서 설정된 역치에, 광택도의 정도에 따라서 설정되는 파라미터의 값을 마이너스하여, 새로운 역치로 함으로써, 흠이 눈에 잘 띄지 않게 할 수 있다.
취득부(112)는, 선택부(111)에서 선택된 평가 방법으로 정해지는 파라미터를 사용하여, 평가 대상 영역을 포함하는 화상 데이터(121)를 취득한다. 구체적으로는, 취득부(112)는, 평가 방법에서 정해지는 파라미터의 거리 LWD를 사용하여, 화상 데이터(121)를 취득한다. 또한, 취득부(112)는, 취득한 화상 데이터(121)를 기억부(12)에 기억시킨다. 예를 들어, 취득부(112)는, 촬영 장치(2)와 접속되어, 촬영 장치(2)에 촬영 조작 신호를 송신하고, 촬영 장치(2)에서 촬영된 화상 데이터(121)를 취득한다.
검출부(113)는, (i) 화상 데이터를 트리밍하여, 평가 대상의 영역에 대응하는 트리밍된 화상 데이터를 얻고, (ii) 트리밍된 화상 데이터에, 평활화 처리를 실시한 후, 또는 평활화 처리를 실시하지 않고, 2치화 처리를 실시하는 것을 포함할 수 있다. 구체적으로는, 검출부(113)는, 선택부(111)가 선택한 평가 방법에서 정해지는 각 파라미터를 사용하여, 취득부(112)에서 취득한 화상 데이터(121)를 화상 처리하고, 평가 대상 영역에 포함되는 블리스터 영역을 검출한다. 구체적으로는, 검출부(113)는, 화상 처리로서, 『그레이스케일화』, 『트리밍』, 『평활화』, 및, 『2치화』의 처리를 실행한다. 구체적으로는, 취득부(112)가 취득한 컬러 화상 데이터인 화상 데이터(121)를 제1 화상 데이터로 한다. 검출부(113)는, 제1 화상 데이터를 그레이스케일화 처리하고, 처리 후의 화상 데이터를 제2 화상 데이터로 한다. 또한, 검출부(113)는, 제2 화상 데이터로부터, 평가의 대상 영역을 추출(트리밍)한다. 계속해서, 검출부(113)는, 트리밍된 대상 영역의 제2 화상 데이터에 평활화 처리(흐림 처리)를 실시하고, 얻어진 평활화 화상 데이터를 제3 화상 데이터로 한다. 또한, 검출부(113)는, 제3 화상 데이터에 2치화 처리를 실시하고, 얻어진 2치화 화상 데이터를 제4 화상 데이터로 한다. 그 후, 검출부(113)는, 제4 화상 데이터로부터, 블리스터 영역을 검출한다. 또한, 만약, 촬영 장치(2)가 촬영하는 화상 데이터(121)가 컬러 화상 데이터가 아니라, 그레이스케일 화상 데이터인 경우, 그레이스케일화의 처리는 불필요하고, 검출부(113)는, 취득한 화상 데이터(121)를 트리밍 처리하면 된다. 또한, 그레이스케일화에 대해서는, 평가 방법마다 설정된 파라미터를 사용한 처리가 아니라, 일반적인 컬러 화상으로부터 그레이스케일 화상으로의 변환이다.
이하에, 평가 장치(1)에서 실행되는, 평가 방법마다 정해지는 각 파라미터를 사용한 트리밍, 평활화, 및, 2치화의 처리에 대하여 설명한다.
《트리밍》
트리밍은, 평가의 대상 영역의 추출이다. 검출부(113)는, 선택부(111)에 있어서, 도막의 표면을 나타내는 각 값 중 적어도 어느 것에 따라서, 선택된 평가 방법에서 정해지는 파라미터인 트리밍의 화상 사이즈로, 제2 화상 데이터로부터 화상 처리의 대상 영역을 트리밍한다. 이때, 촬영 장치(2)에서 촬영되는 화상 데이터(121)는, 예를 들어 도 8에 도시한 바와 같이, 광원(31)으로부터의 조사광이 닿는 일부의 영역만 밝고, 조사광이 닿지 않는 영역은 어둡게 된다. 따라서, 트리밍할 때는, 제2 화상 데이터 중, 밝은 영역 내에서 트리밍할 필요가 있다. 트리밍 후의 제2 화상 데이터는, 확대하면, 예를 들어 도 9a에 도시한 바와 같은 화상 데이터이다. 또한, 트리밍의 화상 사이즈는, 도막에 광을 조사하였을 때의 광의 퍼짐에 따라서, 화상 해석에 사용 가능한 범위를 추출함으로써 결정한다.
《평활화》
계속해서, 평활화의 일 예를 설명한다. 도 9b는 도 9a의 화상 데이터를 평활화 처리하여 얻어진 화상 데이터이다. 검출부(113)는, 평가 방법에 따라서 설정된 파라미터인 커널값을 사용한 평활화 필터에 의해, 트리밍된 제2 화상 데이터에 평활화 처리를 실행한다. 평활화 처리에 의해 얻어진 화상 데이터는, 제3 화상 데이터이다. 평활화 처리를 함으로써, 예를 들어 블리스터의 사이즈가 큰 경우에 블리스터의 영역을 추출하기 쉽게 하거나, 도막의 조도에 의한 영향을 경감할 수 있다.
검출부(113)는, 평활화 필터로서, 예를 들어 가우시안 필터를 사용할 수 있다. 가우시안 필터는, 가우스 분포를 이용하여 주목 화소의 중심 부분의 가중치를 크게 하는 필터이다. 이 경우, 선택부(111)에서 설정된 파라미터는, 가우시안 필터에서 사용하는 커널값이다. 검출부(113)는, 가우시안 필터 외에, 평활화 필터로서, 평활화 필터, 중앙값 필터(미디언 필터), 양방향 필터 등을 사용해도 된다.
《2치화》
다음으로, 2치화의 일 예를 설명한다. 도 9c는 도 9b의 화상 데이터를 2치화 처리하여 얻어진 화상 데이터이다. 도 9c의 화상 데이터는, 기재에 발생한 블리스터 영역을 검출한 예이다. 구체적으로는, 도 9c에 있어서의 흑색 부분이 블리스터 영역이다. 그러나, 화상 취득 및 화상 처리에 이용하는 파라미터에 따라서는, 도 9c에 도시한 바와 같이, 블리스터 영역을 검출할 수 있는 화상 데이터만이라고는 할 수 없다. 따라서, 검출부(113)는, 블리스터 영역을 정확하게 검출할 수 있도록, 선택부(111)에서 선택된 평가 방법에 따라서 설정된 파라미터의 값으로 조정한 역치에 의해, 평활화된 제3 화상 데이터에 2치화 처리를 실행한다. 2치화 처리에 의해 얻어진 화상 데이터는, 제4 화상 데이터이다. 2치화 처리함으로써, 예를 들어 도막의 표면 상태의 영향을 제거하여 블리스터 영역을 검출할 수 있다.
검출부(113)는, 2치화 처리에, 예를 들어 화상 중의 소영역마다 역치의 값을 계산하는 적응적 2치화 처리를 사용할 수 있다. 여기서, 선택부(111)에서 설정된 파라미터는, 2치화 처리에서 설정되는 역치의 조정에 사용하는 값이다. 상술한 바와 같이, 구체적으로는, 0 내지 255 사이에서 역치가 설정되지만, 파라미터는, 설정된 역치를 예를 들어, 백색측(「255」 근방)으로 시프트시키는 계조수를 나타내는 값이다. 이에 의해, 표면 상태에 의한 영향을 제거하여 블리스터의 영역을 구별 가능한 2치화 화상 데이터를 취득할 수 있다. 그 밖에, 검출부는, 2치화 처리에, 판별 분석법(오츠의 2치화), 반복 역치 선택, P 타일법 등의 다양한 방법을 이용해도 된다.
이와 같이, 평가 장치(1)에 있어서는, 상술한 바와 같이, 도막의 표면의 『블리스터의 사이즈』, 『조도』, 및, 『광택도』 중 적어도 어느 것의 값에 따라서, 평가 방법을 선택한다. 또한, 선택된 평가 방법에 정해지는 파라미터를 사용하여, 『트리밍』, 『평활화』, 및, 『2치화』의 처리를 실행하여, 정확하게 블리스터의 영역을 검출할 수 있다. 따라서, 평가 장치(1)에서는, 이 블리스터의 영역을 사용하여, 도막의 블리스터를 정량적으로 평가할 수 있다.
산출부(114)는, 검출부(113)에서 트리밍된 화상 사이즈의 대상 영역에 대하여, 검출된 블리스터 영역이 차지하는 면적률을 평가값으로서 산출한다. 구체적으로는, 산출부(114)에서 산출된 면적률이 작은 경우, 도막의 성능이 높다고 평가된다. 반대로, 산출부(114)에서 산출된 면적률이 큰 경우, 도막의 성능이 낮다고 평가된다. 이와 같이, 평가 장치(1)에서는, 산출부(114)에 있어서 구하는 평가값을, 내식성을 수치화한 값으로 함으로써, 평가자가 눈으로 보아 도막의 내식성을 평가하는 경우와 비교하여, 도막의 블리스터를 정량적으로 평가값하는 것이 가능해진다. 또한, 도 9c의 예에서는, 블리스터 영역의 면적률은 42.63％로 산출되었다.
결과 처리부(115)는, 산출부(114)에서 산출된 블리스터 영역의 면적률을 결과 데이터(122)로 하고, 화상 데이터(121)에 관련지어 기억부(12)에 기억시킨다. 또한, 결과 처리부(115)는, 평가값을 출력부(15)에 출력해도 된다. 결과 처리부(115)는, 구한 평가값을, 결과 데이터(122)로서 기억부(12)에 등록한다. 이때, 결과 처리부(115)는, 취득부(112)에서 얻어진 각종 화상 데이터나, 검출부(113)에서 얻어진 2치화 후의 각종 화상 데이터를 원래의 화상 데이터(121)와 관련지어 기억부(12)에 기억시켜도 된다. 또한, 결과 처리부(115)는, 화상 데이터(121)에 관련되는 각종 데이터를 화상 데이터(121)와 관련지어 기억부(12)에 기억시켜도 된다.
평가 장치(1)는, 상술한 바와 같이, 결정된 평가 방법마다의 파라미터를 사용하여 처리를 실행한다. 이에 의해, 화상 데이터에 포함되는 도료의 성능과는 관계가 없는 영향을 제거하는 것이 가능해져, 블리스터의 면적률의 수치 계산에 기초하여, 도막의 블리스터를 정량적으로 평가할 수 있다. 예를 들어, 도료에는, 다양한 수지나 안료를 사용하는 경우가 있지만, 상술한 처리를 이용함으로써, 도막의 블리스터를 정량적으로 평가할 수 있다.
<평가 방법>
실시 형태에 관한 평가 방법은, 물체 상에 형성된 도막의 블리스터를 평가하는 평가 방법이며,
(a) 동축 조명 장치에서 광 조사된 도막의 표면의 화상 데이터를 촬영 장치에 의해 취득하고,
(b) 화상 데이터에 적어도 2치화 처리를 실시하여, 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 영역을 검출하고, 및
(c) 화상 데이터의 평가 대상의 영역에 있어서 상기 블리스터의 영역이 차지하는 면적률을 구한다.
이하, 도 10에 도시한 흐름도를 참조하여 평가 장치(1)를 사용한 평가 방법에 대하여 설명한다.
먼저, 평가 장치(1)는, 평가 방법의 선택을 위한 데이터인 도막의 표면을 나타내는 값의 입력을 접수한다(S01). 예를 들어, 평가 장치(1)는, 유저에 의해 입력부(14)를 사용한 조작에 의해, 도막의 표면을 나타내는 값으로서, 블리스터 사이즈, 광택도, 및, 표면 조도의 값이 입력되면, 평가에 사용하는 평가 방법이 선택된다.
평가 장치(1)는, 스텝 S01에서 선택된 평가 방법의 제1 조건에서 설정되는 파라미터를 사용하여, 평가 대상의 워크 W 상의 도막의 표면의 화상 데이터를 취득한다(S02). 구체적으로는, 평가 장치(1)는, 선택된 평가 방법의 제1 조건에서 정해지는 파라미터를 사용하여 동축 조명 장치의 하프 미러(32)로부터 워크 W의 표면의 유효 시야까지의 최단 거리 LWD를 설정하여, 화상 데이터를 취득한다. 스텝 S02에서 취득된 화상 데이터는, 제1 화상 데이터이다. 또한, 평가 장치(1)는, 취득한 제1 화상 데이터를 기억부(12)에 기억시킨다.
평가 장치(1)는, 스텝 S02에서 취득한 제1 화상 데이터를 그레이스케일화한다(S03). 스텝 S03에서 그레이스케일화된 화상 데이터는, 제2 화상 데이터이다. 또한, 평가 장치(1)는, 그레이스케일화한 제2 화상 데이터를 기억부(12)에 기억시킨다.
평가 장치(1)는, 스텝 S03에서 그레이스케일화된 제2 화상 데이터로부터, 스텝 S01에서 선택된 평가 방법의 제2 조건에서 설정되는 파라미터에 따른 화상 사이즈로 평가 대상이 되는 영역을 추출(트리밍)한다(S04). 구체적으로는, 평가 장치(1)는, 스텝 S02에 있어서의 취득 시의 워크 W로의 광의 조사 위치에 따라서, 대상 영역의 위치를 설정한다.
평가 장치(1)는, 스텝 S04에서 추출된 대상 영역의 제2 화상 데이터에, 평활화 처리를 실시한다(S05). 이때, 평가 장치(1)는, 스텝 S01에서 선택된 평가 방법의 제2 조건에서 설정되는 파라미터에 따른 커널값을 이용하는 평활화 필터를 사용하여, 대상 영역의 제2 화상 데이터에 평활화 처리를 실시한다.
평가 장치(1)는, 스텝 S05의 평활화 처리에서 얻어진 제3 화상 데이터에, 2치화 처리를 실시한다(S06). 이때, 평가 장치(1)는, 스텝 S01에서 선택된 평가 방법의 제2 조건에서 설정되는 파라미터를 이용하여 2치화에 이용하는 역치를 조정하고, 제3 화상 데이터의 각 화소의 휘도값이 조정된 역치 이상인 경우에 백색, 역치 미만인 경우에 흑색으로서 2치화 처리를 실시한다.
평가 장치(1)는, 스텝 S06의 2치화 처리에서 얻어진 제4 화상 데이터로부터, 블리스터 영역을 검출한다(S07). 상술한 바와 같이, 화상 데이터에 있어서, 평탄한 부분은 밝게 되고, 볼록 부분은 어둡게 된다. 따라서, 2치화 화상 데이터에서는, 본래의 워크 W 부분이 평탄하기 때문에 하얗게 되고, 볼록 부분인 블리스터 B 부분이 검게 된다. 그 때문에, 2치화 화상 데이터로부터, 검은 영역을 블리스터 영역으로서 검출한다.
평가 장치(1)는, 스텝 S07에서 검출된 블리스터 영역을 사용하여, 평가 대상인 대상 영역에 대한 블리스터 영역의 면적률을 산출한다(S08). 구체적으로는, 평가 장치(1)는, 트리밍된 대상 영역의 2치화 화상 데이터의 화소수에 대한, 블리스터 영역의 화소수를 산출한다. 또한, 평가 장치(1)는, 산출한 면적률을, 평가 결과로서 기억부(12)에 기억시킨다.
평가 장치(1)는, 스텝 S08에서 얻어진 결과를, 출력부(15)에 출력한다(S09).
예를 들어, 평가 장치(1)에 있어서 평가하는 도막은, 내식성을 평가할 목적으로, 내식성 시험에 부친 후에, 도막의 블리스터를 평가할 수 있다. 따라서, 내식성 시험에 부친 도막을 평가하는 경우, 상술한 평가 장치(1)에 있어서의 평가의 처리가 개시되기 전에, 내식성 시험이 실시된다. 또한, 도막의 내식성 시험의 조건은, 도막이나 평가의 목적 등에 따라서 적절히 선택될 수 있다.
예를 들어 도막의 내식성 시험에는 수지 라이닝의 내식성 시험에서 일반적으로 사용되고 있는 라이닝 테스터(상품명: 야마자키식 라이닝 테스터 LA-15, 가부시키가이샤 야마자키 세이키 겐큐쇼제)를 들 수 있다. 라이닝 테스터에서는 시험편의 내외면에 온도 구배를 부여하여, 가속 시험을 행할 수 있다. 구체적으로는, 도 9a에 도시한 도막은, SUS304 기재 상에, 제막 후의 막 두께가 300㎛가 되도록 불소 수지 도료를 도장하고, 시험편의 내측에 환경액으로서 100℃의 물을 사용하고, 외측에 30℃의 물을 흐르게 하여, 24시간 시험을 행한 후의 액상 부분을 촬영한 것이다.
이와 같이, 도막의 표면을 나타내는 각 값에 따라서 선택된 평가 방법마다의 파라미터를 사용하여 화상 취득 및 화상 처리를 실행한다. 이에 의해, 블리스터의 면적률을 정확하게 산출하여, 도막의 블리스터를 정량적으로 평가할 수 있다.
<효과 및 보충>
이상과 같이, 본 출원에 있어서 개시하는 기술의 예시로서, 상기 실시 형태를 설명하였다. 그러나, 본 개시에 있어서의 기술은, 이것에 한정되지는 않고, 적절히, 변경, 치환, 부가, 생략 등을 행한 실시 형태에도 적용 가능하다.
본 개시의 전체 청구항에 기재된 평가 방법, 평가 장치 및 컴퓨터 프로그램은, 하드웨어 자원, 예를 들어 프로세서, 메모리 및 프로그램과의 협동 등에 의해, 실현된다.
본 개시의 평가 방법, 평가 장치 및 컴퓨터 프로그램은, 도막의 표면의 상태의 정량적인 평가에 유용하다.
본원은, 2021년 6월 4일자로 일본에서 출원된 특허 출원 제2021-094610호에 기초하는 우선권을 주장하고, 그 기재 내용 모두가, 참조함으로써 본 명세서에 원용된다.
1: 평가 장치
11: 제어부
111: 선택부
112: 취득부
113: 검출부
114: 산출부
115: 결과 처리부
12: 기억부
121: 화상 데이터
122: 결과 데이터
P: 평가 프로그램
13: 통신부
14: 입력부
15: 출력부
2: 촬영 장치
3: 동축 조명 장치
W: 워크(도막이 형성된 물체)
11: 제어부
111: 선택부
112: 취득부
113: 검출부
114: 산출부
115: 결과 처리부
12: 기억부
121: 화상 데이터
122: 결과 데이터
P: 평가 프로그램
13: 통신부
14: 입력부
15: 출력부
2: 촬영 장치
3: 동축 조명 장치
W: 워크(도막이 형성된 물체)
Claims (8)
- 물체 상에 형성된 도막의 블리스터를 평가하는 평가 방법이며,
(a) 동축 조명 장치에서 광 조사된 상기 도막의 표면의 화상 데이터를 촬영 장치에 의해 취득하고,
(b) 상기 화상 데이터에 적어도 2치화 처리를 실시하여, 상기 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 영역을 검출하고, 및
(c) 상기 화상 데이터의 평가 대상의 영역에 있어서 상기 블리스터의 영역이 차지하는 면적률을 구하는
것을 포함하는, 평가 방법. - 제1항에 있어서,
상기 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 사이즈, 상기 도막의 광택도, 및 상기 도막의 표면의 조도로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개에 기초하여, 상기 (a)에 있어서의 상기 화상 데이터를 취득하는 제1 조건, 및 상기 (b)에 있어서의 상기 블리스터의 영역을 검출하는 제2 조건이 선택되는, 평가 방법. - 제2항에 있어서,
상기 제1 조건이, 상기 동축 조명 장치의 하프 미러와 상기 도막의 표면의 유효 시야까지의 사이의 최단 거리를 포함하고, 상기 제2 조건이, 상기 2치화 처리에 있어서의 역치의 설정 방법을 포함하는, 평가 방법. - 제2항 또는 제3항에 있어서,
상기 (b)가,
(i) 상기 화상 데이터를 트리밍하여, 상기 평가 대상의 영역에 대응하는 트리밍된 화상 데이터를 얻고,
(ii) 상기 트리밍된 화상 데이터에, 평활화 처리를 실시한 후, 또는 평활화 처리를 실시하지 않고, 상기 2치화 처리를 실시하는
것을 포함하는, 평가 방법. - 제4항에 있어서,
상기 제2 조건이, 상기 평활화 처리의 평활화 필터에 사용하는 커널값을 포함하는, 평가 방법. - 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 (a) 전에,
상기 도막을 갖는 상기 물체를 내식성 시험에 부치는 것을 더 포함하는, 평가 방법. - 물체 상에 형성된 도막의 블리스터를 평가하는 평가 장치이며,
동축 조명 장치에서 광 조사되어, 촬영 장치에서 촬영된 상기 도막의 표면의 화상 데이터를 취득하는 취득부와,
상기 화상 데이터에 적어도 2치화 처리를 실시하여, 상기 도막의 표면에 존재하는 블리스터의 영역을 검출하는 검출부와,
상기 화상 데이터의 평가 대상의 영역에 있어서 상기 블리스터의 영역이 차지하는 면적률을 구하는 산출부를
포함하는 평가 장치. - 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 평가 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 컴퓨터 프로그램.
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- 2022-05-31 TW TW111120311A patent/TW202305349A/zh unknown
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006105672A (ja) | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Toyota Motor Corp | 塗装面検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JP7157355B1 (ja) | 2022-10-20 |
| WO2022255239A1 (ja) | 2022-12-08 |
| CN117480382A (zh) | 2024-01-30 |
| TW202305349A (zh) | 2023-02-01 |
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