JP7138897B2 - 光学フィルム - Google Patents

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Description

本出願は２０１８年１月３日に大韓民国特許庁に提出された特許出願第１０－２０１８－００００７８６号の出願日の利益を主張し、そのすべての内容は本出願に含まれる。
本発明は光学フィルムおよびその用途に関する。
光学フィルムは多様な分野に使われ得る。光学フィルムは例えば、有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）に使われ得る。有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、ＯＬＥＤ）は、電流が流れると自ら発光する有機物質を適用した素子である。有機発光ダイオードは、例えば、基板、前記基板上に積層された有機発光層と前記有機発光層の両面に存在する電極を含む。前記電極から供給される正孔および電子は前記有機発光層内で結合しながら、外部に放出される光を生成する。
有機発光層で生成した光のうち、有機発光ダイオードを構成する各要素が形成する界面を通過した光のみが外部で認知され得る。ところが、前記要素は互いに異なる屈折率を有するため、有機発光層で生成した光の一部は導波したり、あるいは要素の間で全反射して外部に放出できなくなる問題がある。すなわち、通常の積層構造を有するＯＬＥＤ素子は、発光層で生成した光の光量のうち２０％程度のみがＯＬＥＤ素子の外部に放出されて視覚的に認知され得る。したがって、一定水準以上の輝度（ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ）を確保するためには、印加電圧の上昇が要求されざるを得ない。ところが、ＯＬＥＤに印加される電圧が上昇する場合、電力消耗が激しくならざるを得ない。また、ＯＬＥＤに印加される電圧が上昇すると、有機発光層が持続的に高電圧に供されるため、有機発光層内の有機物の劣化が進行し、これに伴い、素子の寿命が短縮されたりもする。前記問題点を解決するために、有機発光層で生成する光を効果的に抽出できる技術が要求されている。
有機発光層で発生した光を外部に抽出する効率を増加させるために適用される技術を、光抽出技術と通称することができる。光抽出技術は通常的に、内部光抽出技術と外部光抽出技術に分類され得る。有機発光層で生成した光のうち一部は、電極と基板の間の屈折率差のために基板の表面から有機発光層に向かって全反射したり、電極の内部に導波して消滅することになる。このように消滅する光を抽出するために、基板の電極に向かう面の表面に不規則な凹凸構造を形成したり、ヘイズ（ｈａｚｅ）を付与する方法があり、これを内部光抽出と称する。そして、内部光抽出方式で電極を透過して基板に入射した光は、基板と大気の屈折率差のために電極に向かう方向に全反射したり、基板内で導波して消滅することになる。このように消滅する光を基板の外部に抽出するために、基板の空気層に向かう面に凹凸構造を形成したりヘイズを付与することになり、これを外部光抽出と称する。
最近では前述した凹凸構造と類似する方式で光抽出を遂行するために、マイクロレンズアレイ（Ｍｉｃｒｏ Ｌｅｎｓ Ａｒｒａｙ、ＭＬＡ）フィルムを適用した方式も適用されている。ところが、前述した凹凸構造あるいはＭＬＡフィルムなどは、基板の表面に微細な凹凸構造または物理的な屈曲などが存在するため、摩耗が激しい環境には不向きである。また、ＯＬＥＤ製造過程で高圧が必要な場合、例えば電極と基板の間に前述した凹凸構造あるいはＭＬＡ構造を形成し、前記構造に高圧を印加して電極と基板を合着する過程において、前述した凹凸構造あるいはＭＬＡ構造などが損傷したりもする。そして、前述した凹凸構造あるいはＭＬＡ構造の光抽出または光指向の程度はこれに形成された物理的なパターンにより変わる。前記パターンは非常に小さい大きさを有するため、その形状を微細に制御するには工程上困難がある。
本発明は光学フィルムおよびその用途に関する。
本発明で屈折率などの光学的物性の基準波長は、特に異なって規定しない限り、本発明の光学フィルムを使って抽出または指向しようとする光の波長により決定され得る。例えば、前記基準波長は前記光学フィルムを使って抽出しようとする光の波長であり得る。例えば、前記光学フィルムを使って可視光領域波長の光を抽出しようとする場合には、前記屈折率などの基準波長は、４００ｎｍ～７００ｎｍの範囲内のいずれか一つの波長、例えば約５５０ｎｍの波長または約５３２ｎｍの波長の光を基準とした数値であり得る。他の例示において、前記光学フィルムを使って赤外線領域の光を抽出しようとする場合には前記屈折率などは７００ｎｍ～１０００ｎｍの範囲内のいずれか一つの波長、例えば約８５０ｎｍ波長の光を基準とした数値であり得る。さらに他の例示において、前記光学フィルムを使って紫外線領域の光を抽出しようとする場合には、前記屈折率などは１００ｎｍ～４００ｎｍの範囲内のいずれか一つの波長、例えば約３００ｎｍ波長の光を基準とした数値であり得る。
本発明で、面方向は光学フィルムで最大面積を有する面と平行な方向、例えば、光学フィルムの最短軸を除いた残りの２軸が形成する面と平行な方向を意味し得る。具体的には、光学フィルムが形成する３軸をｘ軸、ｙ軸およびｚ軸で表示する時、光学フィルムの「ｘ軸方向の長さ＞ｙ軸方向の長さ＞ｚ軸方向の長さ」の関係または「ｙ軸方向の長さ＞ｘ軸方向の長さ＞ｚ軸方向の長さ」が成立する場合、前記面方向は前記光学フィルムのｘ軸とｙ軸が形成する面と平行な方向を意味し得る。
本発明で厚さ方向は光学フィルムの最大面積を有する面の法線方向（ｎｏｒｍａｌ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）を意味し得る。すなわち、光学フィルムの厚さ方向は面方向法線の方向を意味し得、前記例示ではｚ軸方向を意味し得る。
本発明は光学フィルムに関する。本発明の光学フィルムは光抽出用光学フィルムまたは光指向用光学フィルムであり得る。具体的には、本発明の光学フィルムは電子装置、例えば有機発光素子などの内部で失われる光を外部に抽出して、前記素子のすべての視野角または特定の視野角での輝度を向上させる機能をする光学フィルムを意味し得る。
本発明の光学フィルムは屈折率変化単位領域を含むことができる。前記において、屈折率変化単位領域は屈折率が繰り返し変わる領域を指し示す。また、本発明では後述する図面を通じて前記屈折率の変化パターンを視角化することもできる。前記屈折率変化単位領域では屈折率が面方向に沿って変わり得る。前述した屈折率変化単位領域での屈折率の変化の態様は特に制限されはしない。例えば、光学フィルムの屈折率は面方向に沿って増加、減少、あるいは一定の周期を有して繰り返されるなどの多様な様態で異なってもよい。
前記屈折率変化単位領域は、少なくとも一つの高屈折単位領域と少なくとも一つの低屈折単位領域を含むことができる。前記において、当該光学フィルムの平均屈折率を基準として、それより高い屈折率を有する領域が高屈折単位領域であり得、それより低い屈折率を有する領域が低屈折単位領域であり得る。また、前記高屈折単位領域と低屈折単位領域は互いに同じ中心点を共有することができる。すなわち、前記高屈折単位領域が形成する図形と低屈折単位領域が形成する図形は同心図形（ｃｏｎｃｅｎｔｒｉｃ ｆｉｇｕｒｅ）であり得る。
前記において、光学フィルムの平均屈折率は前記高屈折単位領域での最大屈折率と前記低屈折単位領域での最小屈折率の平均であり得る。また、前記光学フィルムの平均屈折率は、当該光学フィルムに屈折率変化単位領域を形成する前の光学フィルムの平均屈折率でもよく、前記値は屈折率変化単位領域が形成された後の平均屈折率と同じであり得る。
前記で屈折率は、特定の波長、例えば約５３２ｎｍの波長に対する屈折率を意味し得る。前記において、屈折率はプリズムカプラを使って測定した値でもよい。また、屈折率は複数のレーザー光源（６３２ｎｍおよび５３２ｎｍの波長）とフォトダイオードディテクタ（ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅ ｄｅｔｅｃｔｏｒ）を使って測定された回折効率を通じて計算された値を意味することもある。
前記屈折率変化単位領域内で、高屈折単位領域および／または低屈折単位領域が形成する図形の形態は特に制限されない。前記図形の形態は、例えば、円または楕円などの曲線図形；または三角形、四角形、五角形または六角形などの多角形などであり得る。前記において、当該図形の形態が楕円である場合、その中心点は当該楕円の長軸と短軸の交点であり得る。また、前記図形が多角形である場合には、当該多角形のすべての辺と接しつつ、図形の内部に位置する一つの仮想円の中心が当該屈折率変化単位領域の中心であり得る。前記において、円、楕円または多角形は数学的に厳密な円、楕円または多角形のみを意味するものではなく、概略的に当該図形と認識され得る形状も意味し得る。
前記屈折率変化単位領域に存在する高屈折単位領域と低屈折単位領域は、前記屈折率変化単位領域の中心から面方向に沿って遠ざかる方向に沿って交互に存在し得る。具体的には、前記高屈折単位領域と低屈折単位領域は交互に繰り返されて存在してもよい。すなわち、本発明の光学フィルムの屈折率は、面方向に沿って高屈折領域と低屈折領域が交互に繰り返される形態に異なることもある。
図１は、本発明の光学フィルム１００を厚さ方向、すなわち前記光学フィルムの法線方向に図示した図面と、前記屈折率変化単位領域１１０に該当する部分の拡大図および前記光学フィルムの面方向位置による屈折率を図示したグラフである。
本発明の図面では、屈折率変化単位領域は例示的に円形に表示する。前記において、光学フィルム１００を厚さ方向で観察すると、複数の屈折率変化単位領域１１０が観察されることもある。前記屈折率変化単位領域１１０は少なくとも一つの高屈折単位領域１１２および少なくとも一つの低屈折単位領域１１３を含むことができ、前記高屈折単位領域と低屈折単位領域は、前記屈折率変化単位領域内で交互に繰り返されて存在し得る。図１において、屈折率変化単位領域の高屈折単位領域と低屈折単位領域を区分する線１１１は、前記高屈折単位領域の最大屈折率と低屈折単位領域の最小屈折率の平均屈折率を有する領域を意味してもよい。また、当該線１１１は前記高屈折単位領域と前記低屈折単位領域の界面でもよい。図１に図示したように、屈折率変化単位領域１１０にはその中心部に高屈折単位領域が存在し、当該中心から遠ざかる方向に沿って低屈折単位領域と高屈折単位領域が交互に繰り返されて存在してもよい。すなわち、いずれか一つの屈折率変化単位領域１１０内の図形のうち、いずれか一つの図形は高屈折単位領域１１２によって形成され、前記図形と隣接する他の図形は低屈折単位領域１１３によって形成され得る。この場合、いずれか一つの図形とこれと隣接する他の一つの図形の境界１１１は、前記高屈折単位領域と低屈折単位領域の境界、すなわち前記光学フィルムの平均屈折率に該当する領域を意味し得る。
屈折率が前述した形態にしたがって変化する光学フィルムを有機発光素子に適用する場合、当該素子の有機発光層で生成した光を素子の外部により効果的に放出させるようにすることができる。例えば、前述した光学フィルムが有機発光素子に適用される場合、前記光学フィルムはすべての視野角に対して前記素子の輝度が向上する光抽出フィルム、または特定の視野角に対して前記素子の輝度が向上する光指向フィルムとして機能することができる。
一つの例示において、屈折率変化単位領域で、屈折率は連続的に変化することができる。具体的には、屈折率変化単位領域での屈折率の変化は、光学フィルムの面方向に沿って連続的であり得る。屈折率の変化が連続的であるという点を図４を参照してより具体的に説明する。図４は、本発明の光学フィルムを面方向で観察した時に表れる屈折率の変化を図式化したものである。具体的には、図４の（ａ）は屈折率の変化が不連続である場合を、図４の（ｂ）は屈折率の変化が連続的な場合を簡略に図示したものである。図４は本発明の屈折率の変化の様相が連続的であることを説明するために連続的に図示したものに過ぎず、本発明の屈折率の変化の様相は必ずしも図４に図示されたものと一致するものではない。
一例示において、光学フィルムの屈折率変化単位領域の屈折率は、前記光学フィルムを適用しようとする有機電子装置の仕様を考慮して決定することができる。例えば、前記高屈折単位領域の最大屈折率は、例えば、１．３～１．７の範囲内であり得る。前記最大屈折率は１．３１以上、１．３２以上、１．３３以上、１．３４以上、１．３５以上、１．３６以上、１．３７以上、１．３８以上、１．３９以上または１．４０以上であり得、１．７以下、１．６９以下、１．６８以下、１．６７以下、１．６６以下、１．６５以下、１．６４以下、１．６３以下、１．６２以下、１．６１以下または１．６０以下であり得る。また、前記低屈折単位領域の最小屈折率は、例えば、１．２～１．６の範囲内であり得る。前記最小屈折率は１．２以上、１．２１以上、１．２２以上、１．２３以上、１．２４以上、１．２５以上、１．２６以上、１．２７以上、１．２８以上、１．２９以上または１．３０以上であり得、１．６以下、１．５９以下、１．５８以下、１．５７以下、１．５６以下、１．５５以下、１．５４以下、１．５３以下、１．５２以下、１．５１以下、１．５０以下または１．４８以下であり得る。高屈折単位領域での最大屈折率と、低屈折単位領域での最小屈折率は、例えば、前記光学フィルムを製造する時に照射されるレーザーの出力および／または前記レーザーが照射される時間などに応じて調節され得る。例えば、前記光学フィルムを製造する時に使われるレーザーが照射される領域が屈折率変化単位領域の中心となり得、当該レーザーの出力の増加につれて前記高屈折単位領域での最大屈折率は増加し、前記低屈折単位領域での最小屈折率は減少し得る。また、当該レーザーの照射時間の増加につれて前記高屈折単位領域での最大屈折率は増加してから所定時間が経過した後には減少し得、前記低屈折単位領域での最小屈折率は減少してから所定時間が経過した後には増加し得る。
一つの例示において、前記光学フィルムの平均屈折率も、前記フィルムの厚さおよび／または前記光学フィルムを適用しようとする有機電子装置の仕様を考慮して決定され得る。前記平均屈折率は例えば、１．３～１．８の範囲内であり得る。他の例示において、前記屈折率は１．３５以上、１．４以上、１．４５以上または１．５以上であり得、１．７５以下、１．７以下、１．６５以下、１．６以下または１．５５以下であり得る。
一つの例示において、前記屈折率変化単位領域は複数の高屈折単位領域と複数の低屈折単位領域を含むことができる。この時、いずれか一つの高屈折単位領域の最大屈折率と、他の高屈折単位領域の最大屈折率は互いに同じでもよく、異なってもよい。具体的には、屈折率変化単位領域で高屈折単位領域と低屈折単位領域が交互に存在する場合、いずれか一つの高屈折単位領域での最大屈折率と、当該高屈折領域に隣接する他の一つの高屈折単位領域での最大屈折率は互いに同じでもよく、異なってもよい。
他の例示において、前記いずれか一つの低屈折単位領域の最小屈折率と、他の低屈折単位領域の最小屈折率は互いに同じでもよく、異なってもよい。具体的には、屈折率変化単位領域で高屈折単位領域と低屈折単位領域が交互に存在する場合には、いずれか一つの低屈折単位領域での最小屈折率と、当該低屈折単位領域に隣接する他の一つの低屈折単位領域での最小屈折率は互いに同じでもよく、異なってもよい。
本発明の光学フィルムでの屈折率の変化の様相を図５に例示した。
図５の（ａ）のように、屈折率変化単位領域でいずれか一つの高屈折単位領域ｈの最大屈折率ｈｍａｘと当該高屈折単位領域に隣接する高屈折単位領域ｈ’の最大屈折率ｈｍａｘ’は同じであり得、同時にいずれか一つの低屈折単位領域ｌの最小屈折率ｌｍｉｎと当該低屈折単位領域に隣接する低屈折単位領域ｌ’の最小屈折率ｌｍｉｎ’は同じであり得る。
他の例示において、図５の（ｂ）のように、屈折率変化単位領域でいずれか一つの高屈折単位領域ｈの最大屈折率ｈｍａｘと当該高屈折単位領域に隣接する高屈折単位領域ｈ’の最大屈折率ｈ’ｍａｘは同じであるものの、低屈折単位領域ｌ、ｌ’の最小屈折率ｌｍｉｎ、ｌ’ｍｉｎは屈折率変化単位領域の中心から面方向に沿って遠ざかる方向に増加してもよい。
他の例示において、図５の（ｃ）のように、屈折率変化単位領域でいずれか一つの低屈折単位領域ｌの最小屈折率ｌｍｉｎと当該低屈折単位領域に隣接する低屈折単位領域ｌ’の最小屈折率ｌ’ｍｉｎは同じであるものの、高屈折単位領域ｈ、ｈ’の最大屈折率ｈｍａｘ、ｈ’ｍａｘは屈折率変化単位領域の中心から面方向に沿って遠ざかる方向に減少してもよい。
他の例示において、図５の（ｄ）のように、屈折率変化単位領域で高屈折単位領域ｈ、ｈ’の最大屈折率ｈｍａｘ、ｈ’ｍａｘは屈折率変化単位領域の中心から面方向に沿って遠ざかる方向に減少し、低屈折単位領域ｌ、ｌ’の最小屈折率ｌｍｉｎ、ｌ’ｍｉｎは屈折率変化単位領域の中心から面方向に沿って遠ざかる方向に増加してもよい。
一つの例示において、当該屈折率変化単位領域内の高屈折単位領域と低屈折単位領域のそれぞれが形成する図形の直径は互いに異なり得る。この時、前記図形の直径は、前記図形が円である場合には当該円の直径を意味し得、前記図形が楕円である場合には当該楕円の長軸の長さを意味し得、前記図形が多角形である場合には前述した当該多角形の中心が形成する円の直径を意味し得る。この時、互いに隣接する図形間の半径の差は、屈折率変化単位領域の中心から遠ざかる方向に沿って減少してもよい。そして、互いに隣接する図形間の半径の差が屈折率変化単位領域の中心から遠ざかる方向に沿って減少する時、前記光学フィルムには屈折率変化単位領域が複数個存在し得る。
図６は、本発明の光学フィルムを厚さ方向で観察した時に表れる屈折率変化単位領域の模式図と面方向で観察した時に表れる屈折率変化単位領域内の屈折率の変化を図示したものである。図６の（ａ）で、陰影処理された部分は高屈折単位領域を示し、陰影が処理されていない部分は低屈折単位領域を示す。図６の（ｂ）で、実線矢印の上部領域は高屈折単位領域ｈを意味し、下部領域は低屈折単位領域ｌを意味し、実線矢印の部分は該当光学フィルムの平均屈折率を有する領域を意味する。図６に図示されたように、屈折率変化単位領域内で面方向に沿って高屈折単位領域と低屈折単位領域が交互に存在し、当該高屈折単位領域または低屈折単位領域が同心図形を形成する時、当該屈折率変化単位領域の中心から、当該高屈折単位領域と低屈折単位領域の界面までの距離が当該同心図形の半径を意味し得る。図６を参照すると、屈折率変化単位領域には当該同心図形が、互いに隣接する同心図形間の半径の差（Ｒ２－Ｒ１、Ｒ３－Ｒ２、Ｒ４－Ｒ３等）が屈折率変化単位領域の中心から遠ざかる方向に沿って減少するように形成されていてもよい。前記において、屈折率変化単位領域内で、当該同心図形間の距離は、本発明の光学フィルムを製造する時に照射されるレーザーの波長、当該レーザーが分割されて形成された記録光および参照光が当該光学フィルムの法線となす角度および／または当該過程で適用されたマスクと感光性材料の間の間隔によって変わり得る。
例えば、当該レーザーの波長が増加するほど当該同心図形間の距離は増加し得る。また、前記記録光および参照光が当該光学フィルムの法線となす角度が大きくなるほど当該同心図形間の距離は減少し得る。そして、前記マスクと感光性材料の間の間隔が増加するほど、当該同心図形間の距離は増加することになる。
前記のように、屈折率変化単位領域の中心から遠ざかる方向に沿って互いに隣接する同心図形間の半径の差が減少するように屈折率変化単位領域を設計することによって、本発明の光学フィルムの光抽出効率をさらに改善することができる。
前述したように、屈折率変化単位領域の中心から遠ざかる方向に沿って互いに隣接する同心図形間の半径の長さが減少する場合には、前記光学フィルムには複数個の屈折率変化単位領域が存在し得る。この時、いずれか一つの屈折率変化単位領域内に複数の同心図形が存在し、互いに隣接する同心図形間の半径の差が同心図形単位の中心から遠ざかる方向に沿って減少してから、再び当該方向に沿って増加し始める時、前記同心図形間の半径差が増加し始める地点が、いずれか一つの屈折率変化単位領域と異なる一つの屈折率変化単位領域を区別する境界となり得る。
他の例示において、前記屈折率変化単位領域の半径は、例えば、０．２ｍｍ～６ｍｍの範囲内であり得る。前記半径は、前記光学フィルムに複数の屈折率変化単位領域が存在する時、前記屈折率変化単位領域の中心から前述した屈折率変化単位領域を区別する境界までの距離を意味し得る。前記半径は前記光学フィルムを製造する時に使われるマスク内の打孔の大きさなどに応じて決定され得る。例えば、前記半径は前記光学フィルムを製造するときに使われるマスク内の打孔の大きさによって決定され得る。前記半径は他の例示において、０．２５ｍｍ以上、０．３ｍｍ以上、０．３５ｍｍ以上、０．４ｍｍ以上、０．４５ｍｍ以上、０．５ｍｍ以上または０．５５ｍｍ以上であり得、５ｍｍ以下、４ｍｍ以下、３ｍｍ以下、２ｍｍ以下、１ｍｍ以下、０．９ｍｍ以下、０．８ｍｍ以下、０．７ｍｍ以下、または０．６５ｍｍ以下であり得る。
また、複数の屈折率変化単位領域の間隔（ピッチ、ｐｉｔｃｈ）は例えば、０．２ｍｍ～１２ｍｍの範囲内であり得る。前記間隔は、例えば、いずれか一つの屈折率変化単位領域の中心から前記領域に隣接する他の屈折率変化単位領域の中心までの直線距離を意味し得る。前記間隔も、光学フィルム自らの厚さ、光学素子から抽出しようとする光の波長、および／または前記光学フィルムを製造する時に使われるマスク内の打孔間の間隔などによって決定され得る。例えば、前記同心図形の間隔は前記光学フィルムを製造する時に使われるマスク内の打孔間の間隔により決定され得る。前記間隔は、他の例示において約０．４０ｍｍ以上または約０．８０ｍｍ以上であり得、約１２ｍｍ以下、約１１．８ｍｍ以下、約１１．６ｍｍ以下、約１１．４ｍｍ以下、約１１．２ｍｍ以下または約１１．０ｍｍ以下であり得るが、これに制限されるものではない。
本発明の光学フィルムで、屈折率変化単位領域の配列の様相は、当該光学フィルムが適用される用途または当該光学フィルムが有機発光素子に適用された時に前記素子で抽出される光が指向する角度などによって変わり得る。一例示において、前述した複数の屈折率変化単位領域は互いに規則的に配列されていてもよい。前記において、屈折率変化単位領域が規則的に配列されているとは、いずれか一つの屈折率変化単位領域の中心点で他の一つの領域の中心点を連結した時に一定の長さの線分が形成されるなど、複数の屈折率変化単位領域が所定の規則にしたがって配列されていることを意味し得る。
例えば、前記光学フィルムに３個以上の屈折率変化単位領域が存在し、当該領域が規則的に配列されているのであれば、いずれか一つの屈折率変化単位領域に隣接する屈折率変化単位領域のそれぞれの中心点を連結した時に多角形が形成されてもよい。図２は、いずれか一つの屈折率変化単位領域に隣接した屈折率変化単位領域の中心を連結した時、その形状が四角形である形態を図示した図面である。また、図３はいずれか一つの屈折率変化単位領域に隣接した屈折率変化単位領域の中心を連結した時、その形状が六角形である形態を図示したものである。前述した形態に配置される屈折率変化単位領域を含むことによって、本発明の光学フィルムは有機発光素子などに適用された時、前記素子の発光層で発生する光をより効果的に外部に抽出することができる。
一つの例示において、本発明の光学フィルムが適用される素子内に孔隙（ｐｏｒｅ）が存在しないようにしたり、高圧処理等を通じて素子を製造する時に当該光学フィルムが損傷しないようにするために、前記光学フィルムが扁平な構造を有するように設計され得る。例えば、本発明の光学フィルムには、内部および／または外部に物理的な凹凸が存在することもある。前記において、光学フィルムが内部に物理的凹凸が存在するとは、光学フィルムの内部に陥入した構造（内部光抽出構造）が存在するということを意味し得る。また、光学フィルムが外部に物理的凹凸が存在するとは、光学フィルムの外部に突出した構造（外部光抽出構造、例えば、マイクロレンズアレイ（ＭＬＡ：ｍｉｃｒｏ ｌｅｎｓ ａｒｒａｙ）等）が存在するということを意味し得る。本発明の光学フィルムを、内部および／または外部に物理的な凹凸が存在しないように設計することによって、前記光学フィルムが外部光抽出構造に比べて強い耐摩耗性を示すようにすることができ、前記光学フィルムを内部光抽出構造を適用し難い高圧工程などにも適用されるようにすることができる。
前記のように内部および／または外部に物理的な凹凸が実質的に存在しない場合、本発明の光学フィルムの表面粗度（表面粗さ、ｓｕｒｆａｃｅ ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）は約１μｍ未満であり得、他の例示では約０．１μｍ未満、０．０９μｍ未満または０．０８μｍ未満でもよい。また、前記で表面粗度は、公知の平均表面粗さ測定方式によって測定された値であって、例えばＢｒｕｋｅｒ社のＭｕｌｔｉｍｏｄｅ ＡＦＭ機器、またはＫｅｙｅｎｃｅ社のＶＫ－Ｘ２００形状分析装置を使って測定された値であり得る。
前記光学フィルムの厚さは特に制限されず、光学フィルムが適用される有機発光素子の仕様を考慮して決定することができる。光学フィルムの厚さは、例えば、３μｍ～３００μｍの範囲内であり得る。前記光学フィルムの厚さは３μｍ以上、６μｍ以上、１０μｍ以上または２０μｍ以上であり得、３００μｍ以下、１５０μｍ以下、９０μｍ以下または４５μｍ以下でもよい。前記光学フィルムの厚さはＫｏｂｅｌｃｏ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ、Ｉｎｃ．社のＢｏｗ／Ｗａｒｐ測定装備であるＳＢＷ－３３１ＭＬ／ｄで測定することができる。
一つの例示において、本発明の光学フィルムは屈折率の変化パターンが記録されたホログラフィック光学素子であり得る。前記でホログラフィとは、ホログラムと指称される３次元の相を再生するために感光性材料に干渉パターンを形成する技術の通称である。また、ホログラフィック光学素子（Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ ｏｐｔｉｃａｌ ｅｌｅｍｅｎｔ、ＨＯＥ）とは、前記のように干渉パターンが形成された感光性材料で形成された光学素子を意味し得る。具体的には、ホログラフィック素子は感光性（ｐｈｏｔｏｓｅｎｓｉｔｉｖｅ）物質を含むフィルムに記録光を照射することによって、前記フィルムに干渉パターンを記録した素子を意味し得る。前記において、干渉パターンはホログラフィック素子に照射された再生光を回折させる回折格子の役割をすることができ、当該干渉パターンは周期的に繰り返される形態を示し得る。
ホログラフィック素子は、記録媒質であって、感光性材料を含むことができる。感光性材料は、物体光の照射により、当該材料内の成分のうち高屈折率の成分は当該成分同士で凝集し、低屈折率の成分は当該成分同士で凝集することによって、屈折率差による干渉パターンが記録され得る材料でさえあれば、その種類は特に制限されない。前記感光性材料としては、例えば、フォトポリマー（ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ）、フォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）、シルバーハライドエマルジョン（ｓｉｌｖｅｒ ｈａｌｉｄｅ ｅｍｕｌｓｉｏｎ）、重クロム酸ゼラチン（ｄｉｃｈｒｏｍａｔｅｄ ｇｅｌａｔｉｎ）、フォトグラフィックエマルジョン（ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ ｅｍｕｌｓｉｏｎ）、フォトサーモプラスチック（ｐｈｏｔｏｔｈｅｒｍｏｐｌａｓｔｉｃ）または光回折（ｐｈｏｔｏｒｅｆｒａｃｔｉｖｅ）材料などの材料を使うことができる。
前記ホログラフィック光学素子は、例えば、感光性材料（例えば、フォトポリマー）でのみ形成されたフィルム形態でもよく、または基材とフォトポリマーを積層した形態などの重層構造のフィルム形態でもよい。
前記ホログラフィック光学素子は、マイクロレンズアレイ（ＭＬＡ：ｍｉｃｒｏ ｌｅｎｓ ａｒｒａｙ）フィルムや、凹凸構造で具現し難い構造の配列形態および／またはピッチを有し得る。また、前記ホログラフィック光学素子はマイクロレンズアレイ（ＭＬＡ：ｍｉｃｒｏ ｌｅｎｓ ａｒｒａｙ）または凹凸構造を有する光抽出素子などに比べて、構造、形態、光指向方向などが制限されず、特に、波長や入射角および／または出射角などの光の特性を自由に調節することができる。前記ホログラフィック光学素子を適用することによって、優秀な効率の光抽出が可能であるとともに、目的とする光の特性により抽出される光の特性の自由な調節が可能となり得る。
本発明の光学フィルムとして、前述したような屈折率の変化パターンが存在し、表面に屈曲および微細凹凸構造が形成されていない、比較的扁平なホログラフィック光学素子は、耐摩耗性などが要求される装置に適用され得る。また、前記ホログラフィック光学素子を使う場合には、有機発光素子などの製作過程で高圧が加えられると破壊される通常の光抽出フィルムとは異なり、高圧工程で破壊されず、同時に、光抽出特性が低下しないことができる。
本発明の光学フィルムを製造する方法は、前述した屈折率変化単位領域を形成できる方式であれば、特に制限されはしない。例えば、前記光学フィルムは前述した感光性材料に光を照射する方式を使うものの、当該光の角度を制御する方式で製造され得る。また、前記光学フィルムは前述した感光性材料上に屈折率変化単位領域を形成できるマスクを位置させた後、光を照射する方式によっても製造され得る。前記光の角度を制御する方式の例示として、複数の光の角度を連続的に変化させる方式を使うこともできる。また、前記マスクを利用する方式の例示として、複数の打孔が形成されたマスクを位置させた後、照射光の回折および干渉を起こしながら屈折率変化単位領域を形成する方式が使われ得る。
前記ホログラフィック光学素子の形態は特に制限されはせず、当該有機発光素子に光抽出または光指向機能を付与できるホログラフィック光学素子が使われ得る。例えば、前記ホログラフィック光学素子は、透過型ホログラフィック光学素子であり得る。前記において、透過型ホログラフィック光学素子とは，所定の入射角で入射した光を透過させる光学素子を意味し得る。本発明の光学フィルムとして、透過型ホログラフィック光学素子が有機発光素子に適用される場合には、有機発光層で生成する光の出射角度などを調節することによって、当該光が透明電極と基板の界面または基板と空気層の界面で全反射しないように機能することができる。
前記において、あるホログラフィック光学素子が透過型ホログラフィック光学素子であるかどうかは、同じ組成を有する感光性材料にレーザーを露光してホログラフィック光学素子を製造する時、当該レーザーの照射方式によって決定され得る。具体的には、ある感光性材料にレーザーを露光して干渉パターンを形成してホログラフィック光学素子を製造する過程で、物体光と参照光が入射する方向に沿って当該素子が透過型であるかどうかが決定され得る。例えば、ホログラフィック光学素子の製造時に照射される物体光と参照光がすべて感光性材料の同じ面に照射されると、透過型ホログラフィック素子が製造され得る。ここで、物体光はホログラフィック光学素子を製造する時、被写体の表面で乱反射して感光性材料に到達する記録光を意味し、参照光は被写体を経ずに直接感光性材料に到達する記録光を意味する。
本発明の光学フィルムは基材層をさらに含むことができる。前記基材層は、例えば、ガラス、結晶性または非結晶性シリコンフィルム、石英またはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）フィルムなどの無機系フィルムやプラスチックフィルムを使うことができる。前記プラスチックフィルムとしては、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース、ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）；ノルボルネン誘導体などのＣＯＰ（シクロオレフィンコポリマー、ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）；ＰＭＭＡ（ポリ（メチルメタクリレート）、ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）；ＰＣ（ポリカーボネート、ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）；ＰＥ（ポリエチレン、ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）；ＰＰ（ポリプロピレン、ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）；ＰＶＡ（ポリビニルアルコール、ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）；ＤＡＣ（ジアセチルセルロース、ｄｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）；Ｐａｃ（ポリアクリレート、Ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ）；ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン、ｐｏｌｙ ｅｔｈｅｒ ｓｕｌｆｏｎｅ）；ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン、ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎ）；ＰＰＳ（ポリフェニルスルホン、ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｅ）、ＰＥＩ（ポリエーテルイミド、ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）；ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート、ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｎａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ）；ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート、ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）；ＰＩ（ポリイミド、ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）；ＰＳＦ（ポリスルホン、ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ）；ＰＡＲ（ポリアリーレート、ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）または非晶質フッ素樹脂などを含むフィルムを使用できるが、これらに制限されるものではない。
本発明はまた、前記光学フィルムの用途に関する。本発明は、例えば、前記光学フィルムを含む有機発光素子に関する。前記有機発光素子は前記光学フィルムと有機発光パネルを含むことができる。前記有機発光パネルは例えば、基板；および前記基板の一面上に順に提供される透明電極層；有機発光層；および反射電極層を含むことができる。また、前記有機発光素子で、前記光学フィルムは前記基板と透明電極層の間の面（基板と透明電極層の界面）および前記基板を基準として透明電極層の反対面のうち、少なくとも一面に位置することができる。すなわち、前記光学フィルムは前記基板と透明電極層の間の面または前記基板を基準として透明電極層の反対側面に位置することができ、前記面のすべてに位置することもできる。
基板としては、ガラス基板またはプラスチック基板を使うことができる。ガラス基板としては、例えば、ソーダ石灰ガラス、バリウム／ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、硼ケイ酸ガラス、バリウム硼ケイ酸ガラスまたは石英などを含む基板が使われ得る。プラスチック基板としては、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース、ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）；ノルボルネン誘導体などのＣＯＰ（シクロオレフィンコポリマー、ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）；ＰＭＭＡ（ポリ（メチルメタクリレート）、ｐｏｌｙ（ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）；ＰＣ（ポリカーボネート、ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ）；ＰＥ（ポリエチレン、ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）；ＰＰ（プリプロピレン、ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）；ＰＶＡ（ポリビニルアルコール、ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）；ＤＡＣ（ジアセチルセルロース、ｄｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）；Ｐａｃ（ポリアクリレート、Ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ）；ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン、ｐｏｌｙ ｅｔｈｅｒ ｓｕｌｆｏｎｅ）；ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン、ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎ）；ＰＰＳ（ポリフェニルスルホン、ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｅ）、ＰＥＩ（ポリエーテルイミド、ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ）；ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート、ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｎａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ）；ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート、ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ）；ＰＩ（ポリイミド、ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）；ＰＳＦ（ポリスルホン、ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ）；ＰＡＲ（ポリアリーレート、ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ）または非晶質フッ素樹脂などを含む基板が使われ得る。基板は、例えば、透明な基板であり得る。また、前記有機発光素子が上部発光型素子、すなわち有機発光層で生成した光が反射電極層側に抽出される素子である場合には、前記基板は不透明でもよい。
前記有機発光素子は下部発光型素子であり得る。例えば、前記有機発光素子は前記有機発光層で生成した光が前記反射電極層では反射し、前記透明電極層では透過することになって、前記透明電極層側から抽出される素子であり得る。
前記透明電極層はアノード（ａｎｏｄｅ）であり、前記反射電極層はカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）であり得る。アノードは正孔（ｈｏｌｅ）が注入される電極であって、仕事関数（ｗｏｒｋ ｆｕｎｃｔｉｏｎ）が高い導電性物質で製造することができる。カソードは電子（ｅｌｅｃｔｒｏｎ）が注入される電極であって、仕事関数が低い導電性物質で製造することができる。前記アノードは透明な金属酸化物、例えば、ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）、ＡＺＯ（ａｌｕｍｉｎｉｕｍ－ｄｏｐｅｄ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）、ＧＺＯ（ｇａｌｌｉｕｍ－ｄｏｐｅｄ ｚｉｎｃ ｏｘｉｄｅ）、ＡＴＯ（ａｎｔｉｍｏｎｙ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）またはＳｎＯ２等を含むことができる。前記カソードは金属、例えば、Ａｇ、Ａｕ、またはＡｌなどを含むことができる。
前記有機発光層は、前記透明電極層と反射電極層に電源が印加された時に光を生成できる有機物質を含むことができる。前記透明電極層と反射電極層で注入された電子と正孔が有機発光層で再結合（ｒｅｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎ）することによって、光が生成され得る。
前記有機発光層は赤色発光層、緑色発光層および青色発光層を含むことができる。前記発光層は赤色、緑色および青色の光をそれぞれ発光できる公知の有機物を含むことができる。前記有機発光素子は３原色の発光層がそれぞれ他の色を出しながら一つのピクセル（ｐｉｘｅｌ、点、画素）を構成する方式（ＲＧＢ方式）で駆動されてもよい。また、前記有機発光素子は前記３原色の発光層を積層して白色を発光するように構成して一つのピクセルを構成した後、前記白色発光層の前面にカラーフィルタ層を配置することによって、多様な色を具現する方式（Ｗｈｉｔｅ ＯＬＥＤ）でも駆動され得る。
前記有機発光パネルは、透明電極層と有機発光層間および／または反射電極層と有機発光層間に付帯層をさらに含むことができる。付帯層は、電子と正孔の均衡を調節するための正孔輸送層（ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）、正孔注入層（ｈｏｌｅ ｉｎｊｅｃｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｎｊｅｃｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）および電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）を含むこともできる。
電子注入層または電子輸送層は、例えば、電子吸引性有機化合物（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ａｃｃｅｐｔｉｎｇ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄ）を使って形成することができる。前記で電子吸引性有機化合物としては、特に制限なく公知とされている任意の化合物が使われ得る。このような有機化合物としては、ｐ－ターフェニル（ｐ－ｔｅｒｐｈｅｎｙｌ）またはクォーターフェニル（ｑｕａｔｅｒｐｈｅｎｙｌ）等のような多環化合物またはその誘導体、ナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）、テトラセン（ｔｅｔｒａｃｅｎｅ）、ピレン（ｐｙｒｅｎｅ）、コロネン（ｃｏｒｏｎｅｎｅ）、クリセン（ｃｈｒｙｓｅｎｅ）、アントラセン（ａｎｔｈｒａｃｅｎｅ）、ジフェニルアントラセン（ｄｉｐｈｅｎｙｌａｎｔｈｒａｃｅｎｅ）、ナフタセン（ｎａｐｈｔｈａｃｅｎｅ）またはフェナントレン（ｐｈｅｎａｎｔｈｒｅｎｅ）等のような多環炭化水素化合物またはその誘導体、フェナントロリン（ｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎｅ）、バソフェナントロリン（ｂａｔｈｏｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎｅ）、フェナントリジン（ｐｈｅｎａｎｔｈｒｉｄｉｎｅ）、アクリジン（ａｃｒｉｄｉｎｅ）、キノリン（ｑｕｉｎｏｌｉｎｅ）、キノキサリン（ｑｕｉｎｏｘａｌｉｎｅ）またはフェナジン（ｐｈｅｎａｚｉｎｅ）等の複素還化合物またはその誘導体などが例示され得る。また、フルオレセイン（ｆｌｕｏｒｏｃｅｉｎｅ）、ペリレン（ｐｅｒｙｌｅｎｅ）、フタロペリレン（ｐｈｔｈａｌｏｐｅｒｙｌｅｎｅ）、ナフタロペリレン（ｎａｐｈｔｈａｌｏｐｅｒｙｌｅｎｅ）、ペリノン（ｐｅｒｙｎｏｎｅ）、フタロペリノン、ナフタロペリノン、ジフェニルブタジエン（ｄｉｐｈｅｎｙｌｂｕｔａｄｉｅｎｅ）、テトラフェニルブタジエン（ｔｅｔｒａｐｈｅｎｙｌｂｕｔａｄｉｅｎｅ）、オキサジアゾール（ｏｘａｄｉａｚｏｌｅ）、アルダジン（ａｌｄａｚｉｎｅ）、ビスベンゾオキサゾリン（ｂｉｓｂｅｎｚｏｘａｚｏｌｉｎｅ）、ビススチリル（ｂｉｓｓｔｙｒｙｌ）、ピラジン（ｐｙｒａｚｉｎｅ）、シクロペンタジエン（ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｅ）、オキシン（ｏｘｉｎｅ）、アミノキノリン（ａｍｉｎｏｑｕｉｎｏｌｉｎｅ）、イミン（ｉｍｉｎｅ）、ジフェニルエチレン、ビニルアントラセン、ジアミノカルバゾール（ｄｉａｍｉｎｏｃａｒｂａｚｏｌｅ）、ピラン（ｐｙｒａｎｅ）、チオピラン（ｔｈｉｏｐｙｒａｎｅ）、ポリメチン（ｐｏｌｙｍｅｔｈｉｎｅ）、メロシアニン（ｍｅｒｏｃｙａｎｉｎｅ）、キナクリドン（ｑｕｉｎａｃｒｉｄｏｎｅ）またはルブレン（ｒｕｂｒｅｎｅ）等やその誘導体、金属キレート錯体化合物、例えば、金属キレート化オキサノイド化合物であるトリス（８－キノリノラト）アルミニウム［ｔｒｉｓ（８－ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｌａｔｏ）ａｌｕｍｉｎｉｕｍ］、ビス（８－キノリノラト）マグネシウム、ビス［ベンゾ（ｆ）－８－キノリノラト］亜鉛｛ｂｉｓ［ｂｅｎｚｏ（ｆ）－８－ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｌａｔｏ］ｚｉｎｃ｝、ビス（２－メチル－８－キノリノラト）アルミニウム、トリス（８－キノリノラト）インジウム［ｔｒｉｓ（８－ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｌａｔｏ）ｉｎｄｉｕｍ］、トリス（５－メチル－８－キノリノラト）アルミニウム、８－キノリノラトリチウム、トリス（５－クロロ－８－キノリノラト）ガリウム、ビス（５－クロロ－８－キノリノラト）カルシウムなどの８－キノリノラトまたはその誘導体を配立子として一つ以上有する金属錯体、オキサジアゾール（ｏｘａｄｉａｚｏｌｅ）化合物、トリアジン（ｔｒｉａｚｉｎｅ）化合物、スチルベン（ｓｔｉｌｂｅｎｅ）誘導体や、ジスチリルアリーレン（ｄｉｓｔｙｒｙｌａｒｙｌｅｎｅ）誘導体、スチリル誘導体、ジオレフィン誘導体；ベンゾオキサゾール（ｂｅｎｚｏｏｘａｚｏｌｅ）化合物、ベンゾチアゾール（ｂｅｎｚｏｔｈｉａｚｏｌｅ）化合物またはベンゾイミダゾール（ｂｅｎｚｏｉｍｉｄａｚｏｌｅ）化合物などの蛍光増白剤；１，４－ビス（２－メチルスチリル）ベンゼン、１，４－ビス（３－メチルスチリル）ベンゼン、１，４－ビス（４－メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４－ビス（２－エチルスチリル）ベンジル、１，４－ビス（３－エチルスチリル）ベンゼン、１，４－ビス（２－メチルスチリル）－２－メチルベンゼンまたは１，４－ビス（２－メチルスチリル）－２－エチルベンゼンなどのジスチリルベンゼン（ｄｉｓｔｙｒｙｌｂｅｎｚｅｎｅ）化合物；２，５－ビス（４－メチルスチリル）ピラジン、２，５－ビス（４－エチルスチリル）ピラジン、２，５－ビス［２－（１－ナフチル）ビニル］ピラジン、２，５－ビス（４－メトキシスチリル）ピラジン、２，５－ビス［２－（４－ビフェニル）ビニル］ピラジンまたは２，５－ビス［２－（１－ピレニル）ビニル］ピラジンなどのジスチリルピラジン（ｄｉｓｔｙｒｙｌｐｙｒａｚｉｎｅ）化合物、１，４－フェニレンジメチリジン、４，４’－フェニレンジメチリジン、２，５－キシレンジメチリジン、２，６－ナフチレンジメチリジン、１，４－ビフェニレンジメチリジン、１，４－パラ－テレフェニレンジメチリジン、９，１０－アントラセンジイルジメチリジン（９，１０－ａｎｔｈｒａｃｅｎｅｄｉｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｉｄｉｎｅ）または４，４’－（２，２－ジ－ティ－ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４－（２，２－ジフェニルビニル）ビフェニルなどのようなジメチリジン（ｄｉｍｅｔｈｙｌｉｄｉｎｅ）化合物またはその誘導体、シラナミン（ｓｉｌａｎａｍｉｎｅ）誘導体、多官能スチリル化合物、オキサジアゾール誘導体、アントラセン化合物、オキシネート（ｏｘｙｎａｔｅ）誘導体、テトラフェニルブタジエン化合物、有機３官能化合物、クマリン（ｃｏｕｍａｒｉｎ）誘導体、ペリレン（ｐｅｒｙｌｅｎｅ）誘導体、ナフタレン誘導体、フタロペリノン（ｐｈｔｈａｌｏｐｅｒｙｎｏｎｅ）誘導体またはスチリルアミン誘導体なども低屈折層に含まれる電子吸引性有機化合物として使われ得る。また、前記で電子注入層は、例えば、ＬｉＦまたはＣｓＦなどのような材料を使って形成することもできる。
正孔注入層または正孔輸送層は、例えば、電子供与性有機化合物（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｄｏｎａｔｉｎｇ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄ）を含むことができる。電子供与性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラフェニル－４，４’－ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ジ（３－メチルフェニル）－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２－ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）プロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラ－ｐ－トリル－４，４’－ジアミノビフェニル、ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）フェニルメタン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ジ（４－メトキシフェニル）－４，４’－ジアミノビフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラフェニル－４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ビス（ジフェニルアミノ）クアドリフェニル［４，４’－ｂｉｓ（ｄｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｑｕａｄｒｉｐｈｅｎｙｌ］、４－Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノ－（２－ジフェニルビニル）ベンゼン、３－メトキシ－４’－Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノスチルベンゼン、Ｎ－フェニルカルバゾール、１，１－ビス（４－ジ－ｐ－トリアミノフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ジ－ｐ－トリアミノフェニル）－４－フェニルシクロヘキサン、ビス（４－ジメチルアミノ－２－メチルフェニル）フェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリ（ｐ－トリル）アミン、４－（ジ－ｐ－トリルアミノ）－４’－［４－（ジ－ｐ－トリルアミノ）スチリル］スチルベン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラフェニル－４，４’－ジアミノビフェニルＮ－フェニルカルバゾール、４，４’－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニル－アミノ］ビフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ］ｐ－ターフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－（２－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－（３－アセナプテニル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル、１，５－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ］ナフタレン、４，４’－ビス［Ｎ－（９－アントリル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニルフェニルアミノ］ビフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－（１－アントリル）－Ｎ－フェニルアミノ］－ｐ－ターフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－（２－フェナントリル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－（８－フルオランテニル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－（２－ピレニル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－（２－ペリレニル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－（１－コロネニル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル（４，４’－ｂｉｓ［Ｎ－（１－ｃｏｒｏｎｅｎｙｌ）－Ｎ－ｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ］ｂｉｐｈｅｎｙｌ）、２，６－ビス（ジ－ｐ－トリルアミノ）ナフタレン、２，６－ビス［ジ－（１－ナフチル）アミノ］ナフタレン、２，６－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－（２－ナフチル）アミノ］ナフタレン、４，４’－ビス［Ｎ，Ｎ－ジ（２－ナフチル）アミノ］ターフェニル、４，４’－ビス｛Ｎ－フェニル－Ｎ－［４－（１－ナフチル）フェニル］アミノ｝ビフェニル、４，４’－ビス［Ｎ－フェニル－Ｎ－（２－ピレニル）アミノ］ビフェニル、２，６－ビス［Ｎ，Ｎ－ジ－（２－ナフチル）アミノ］フルオレンまたは４，４’－ビス（Ｎ，Ｎ－ジ－ｐ－トリルアミノ）ターフェニル、およびビス（Ｎ－１－ナフチル）（Ｎ－２－ナフチル）アミンなどのアリールアミン化合物が代表的に例示され得るが、これらに制限されるものではない。
正孔注入層や正孔輸送層は、有機化合物を高分子中に分散させたり、前記有機化合物から由来した高分子を使って形成することもできる。また、ポリパラフェニレンビニレンおよびその誘導体などのようにいわゆるπ－共役高分子（π－ｃｏｎｊｕｇａｔｅｄ ｐｏｌｙｍｅｒｓ）、ポリ（Ｎ－ビニルカルバゾール）等の正孔輸送性非共役高分子またはポリシランのπ－共役高分子なども使われ得る。
正孔注入層は、銅フタロシアニンのような金属フタロシアニンや非金属フタロシアニン、カーボン膜およびポリアニリンなどの電気的に伝導性である高分子を使って形成したり、前記アリールアミン化合物を酸化剤としてルイス酸（Ｌｅｗｉｓ ａｃｉｄ）と反応させて形成することもできる。
前記有機発光層は少なくとも１層の発光層を含むことができる。有機層は２層以上の複数の発光層を含むこともできる。２層以上の発光層を含む場合には、発光層は電荷発生特性を有する中間電極層や電荷発生層（ＣＧＬ；Ｃｈａｒｇｅ Ｇｅｎｅｒａｔｉｎｇ Ｌａｙｅｒ）等によって分割されている構造を有してもよい。
前記有機発光層は例えば、ランバーシアン形態の光を出射することができる。具体的には、前記有機発光層に含まれる発光層はランバーシアン（Ｌａｍｂｅｒｔｉａｎ）光源を含むことができる。ランバーシアン光源は下記の一般式１を満足する光源を意味する：
［一般式１］
Ｉθ＝Ｉ０ｃｏｓθ
前記一般式１で、Ｉθは光源から法線とθの角度で出射する光の光度であり、Ｉｏは光源から出射する光の光度である。本発明の有機発光素子は前記ランバーシアン光源から発散した光を抽出できる光学フィルムを含むことによって、優秀な光抽出効率を示すことができる。
発光層は、例えば、この分野で公知とされている多様な蛍光または燐光有機材料を使って形成することができる。発光層の材料としては、トリス（４－メチル－８－キノリノラト）アルミニウム（ＩＩＩ）（ｔｒｉｓ（４－ｍｅｔｈｙｌ－８－ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｌａｔｅ）ａｌｕｍｉｎｕｍ（ＩＩＩ））（Ａｌｇ３）、４－ＭＡｌｑ３またはＧａｑ３等のＡｌｑ系熱の材料、Ｃ－５４５Ｔ（Ｃ２６Ｈ２６Ｎ２Ｏ２Ｓ）、ＤＳＡ－アミン、ＴＢＳＡ、ＢＴＰ、ＰＡＰ－ＮＰＡ、スピロ－ＦＰＡ、Ｐｈ３Ｓｉ（ＰｈＴＤＡＯＸＤ）、ＰＰＣＰ（１，２，３，４，５－ペンタフェニル－１，３－シクロペンタジエン、１，２，３，４，５－ｐｅｎｔａｐｈｅｎｙｌ－１，３－ｃｙｃｌｏｐｅｎｔａｄｉｅｎｅ）等のシクロペナジエン（ｃｙｃｌｏｐｅｎａｄｉｅｎｅ）誘導体、ＤＰＶＢｉ（４，４’－ビス（２，２’－ジフェニルビニル）－１，１’－ビフェニル、４，４’－ｂｉｓ（２，２’－ｄｉｐｈｅｎｙｌｖｉｎｙｌ）－１，１’－ｂｉｐｈｅｎｙｌ）、ジスチリルベンゼンまたはその誘導体またはＤＣＪＴＢ（４－（ジシアノメチレン）－２－ｔｅｒｔ－ブチル－６－（１，１，７，７－テトラメチルジュロリジジル－９－エニル）－４Ｈ－ピラン、４－（Ｄｉｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌｅｎｅ）－２－ｔｅｒｔ－ｂｕｔｙｌ－６－（１，１，７，７－ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｊｕｌｏｌｉｄｙｌ－９－ｅｎｙｌ）－４Ｈ－ｐｙｒａｎ）、ＤＤＰ、ＡＡＡＰ、ＮＰＡＭＬＩ、；またはＦｉｒｐｉｃ、ｍ－Ｆｉｒｐｉｃ、Ｎ－Ｆｉｒｐｉｃ、ｂｏｎ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、（Ｃ６）２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ｂｔ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ｄｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ｂｚｑ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ｂｏ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、Ｆ２Ｉｒ（ｂｐｙ）、Ｆ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ｏｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ｐｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ｔｐｙ２Ｉｒ（ａｃａｃ）、ＦＩｒｐｐｙ（ｆａｃ－トリス［２－（４，５－ジフルオロフェニル）ピリジン－Ｃ’２、Ｎ］イリジウム（ＩＩＩ）、ｆａｃ－ｔｒｉｓ［２－（４、５－ｄｉｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｐｙｒｉｄｉｎｅ－Ｃ’２、Ｎ］ ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ））またはＢｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）（ビス（２－（２’－ベンゾ［４、５－ａ］チエニル）ピリジナト－Ｎ、Ｃ３’）イリジウム（アセチルアセトネート）、ｂｉｓ（２－（２’－ｂｅｎｚｏ［４、５－ａ］ｔｈｉｅｎｙｌ）ｐｙｒｉｄｉｎａｔｏ－Ｎ、Ｃ３’）ｉｒｉｄｉｕｍ（ａｃｅｔｙｌａｃｔｏｎａｔｅ））等の燐光材料などが例示され得る。発光層は、前記材料をホスト（ｈｏｓｔ）として含み、ペリレン（ｐｅｒｙｌｅｎｅ）、ジスチリルビフェニル（ｄｉｓｔｙｒｙｌｂｉｐｈｅｎｙｌ）、ＤＰＴ、キナクリドン（ｑｕｉｎａｃｒｉｄｏｎｅ）、ルブレン（ｒｕｂｒｅｎｅ）、ＢＴＸ、ＡＢＴＸまたはＤＣＪＴＢなどをドーパントとして含むホスト－ドーパントシステム（Ｈｏｓｔ－Ｄｏｐａｎｔ ｓｙｓｔｅｍ）でもよい。
発光層はまた、後述する電子吸引性有機化合物または電子供与性有機化合物のうち、発光特性を示す種類を適切に採用して形成することができる。
本発明の技術分野では正孔または電子注入電極層と有機発光層などを形成するための多様な素材およびその形成方法が公知とされており、前記有機発光素子の製造には前記のような方式がすべて適用され得る。
有機発光素子は、封止構造をさらに含むことができる。前記封止構造は、有機発光素子の有機発光層に水分や酸素などの外来物質が流入しないようにする保護構造であり得る。封止構造は、例えば、ガラス缶または金属缶などのような缶構造であるか、前記有機発光層の前面を覆っているフィルム構造であり得る。フィルム形態の封止構造は、例えば、エポキシ樹脂などのように熱または紫外線（ＵＶ）の照射などによって硬化する液状の材料を、塗布し硬化させて形成したり、あるいは前記エポキシ樹脂などを使ってあらかじめフィルム形態で製造された接着シートなどを使って基板と上部基板をラミネイトする方式で形成することができる。
図７～図１０は本発明の光学フィルム１００ａ、１００ｂ、１００ｃを含む有機発光素子を例示的に示す。例示的な有機発光素子は図７～１０に示したように、基板４０１、透明電極層４０２、有機発光層４０３および反射電極層４０４が順に積層された構造を含み、光学フィルム１００ａ、１００ｂ、１００ｃは基板４０１を基準として透明電極層４０２の反対面１００ａ、基板４０１と透明電極層４０２の界面１００ｂおよび／または反射電極層４０４の一面１００ｃに位置することによって、光抽出層としての機能を遂行することができる。
本発明は、光抽出効率が優秀であり、耐摩耗性および耐圧力性に優れている光学フィルムを提供し、前記光学フィルムは光抽出用として使われ得る。
屈折率の変化パターンを説明するための模式図。 屈折率の変化パターンを説明するための模式図。 屈折率の変化パターンを説明するための模式図。 屈折率の変化パターン内で屈折率が連続的であることを説明するための図面。 屈折率の変化パターンの様相を例示した図面。 本発明の例示的な同心図形単位を説明するための模式図。 例示的な有機電子装置を説明するための図面。 例示的な有機電子装置を説明するための図面。 例示的な有機電子装置を説明するための図面。 例示的な有機電子装置を説明するための図面。 実施例１の光学フィルム製造過程の模式図。 実施例１の光学フィルム製造過程の模式図。 実施例２の光学フィルム製造過程の模式図。 実施例１および２で製造した光学フィルム表面の光学顕微鏡写真。 実施例１で製造した光学フィルムの表面の形状分析結果を図示したグラフ。 実施例１で製造した光学フィルムの表面粗度の測定結果を図示した図面。 実施例２の光学素子の表面粗さ曲線を図示したグラフ。 実施例１の有機発光素子と比較例の有機発光素子の視野角による光度を示したグラフ。 実施例２の有機発光素子と比較例の有機発光素子の視野角による光度を示したグラフ。
以下、本発明の内容を実施例を通じて説明する。しかし、本発明の内容は下記の実施例に制限されるものではない。
実施例１
光学フィルム
実施例１の光学フィルムの製造過程を図１１を参照して説明する。厚さが約３００μｍであるガラス基板上にアルミニウムパターンを形成してマスク５を製作した。具体的には、前記アルミニウムパターンには、半径が約０．１ｍｍであり、その中心間の距離が約１．２ｍｍである複数の打孔が形成されていた（図１２参照）。前記マスクを、厚さが約３０μｍであり、大きさが４ｃｍ×４ｃｍ（横×縦）であり、５３２ｎｍ波長光に対する平均屈折率が約１．５であるフォトポリマーフィルム７（コメスト社、Ｂａｙｆｏｌ ＨＸ）上に、離隔距離が約５０ｃｍとなるように位置させた。前記フォトポリマーフィルム７にレーザーを約２５０秒間照射してホログラフィック光学素子を製造した。具体的には、光源１から照射された、波長が約５３２ｎｍであり、強度が約７００μＷであるレーザー光を、ビームスプリット２を利用して物体光３と参照光４に分割した。引き続き、前記物体光３は前記マスク５を媒介として前記フォトポリマーフィルム７に照射されるようにしつつ、前記フォトポリマーフィルム７の法線と平行な方向に照射されるようにした。そして、前記参照光４は鏡６を通じて前記フォトポリマーフィルムに直接照射されるようにしつつ、前記フォトポリマーフィルムの法線と約３度をなすように照射されるようにした。この時、物体光と参照光を前記フォトポリマーフィルムの同一面上に照射することによって、前記ホログラフィック光学素子が透過型ホログラフィック光学素子となるようにした。
前記ホログラフィック素子を厚さが約５０μｍであるトリアセチルセルロース（ＴＡＣ、ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）基材層上に付着して光学フィルムを製造した。
有機発光素子
前記光学フィルムを基板４０１、透明電極層４０２、有機発光層４０３および反射電極層４０４が順に積層された有機発光パネルの基板側に付着して有機発光素子を製造した。前記有機発光パネルとしては、市販中の製品（ＬＧディスプレイ社製造）を使った。
実施例２
ビームスプリットを通じて分割された物体光は、マスクを媒介として前記フォトポリマーフィルムに照射されるようにしつつ、前記フォトポリマーフィルムの法線と約３０度をなすようにし、参照光は鏡を通じてフォトポリマーフィルムに直接照射されるようにしつつ、前記フォトポリマーフィルムの法線と約３３度をなすように照射されるようにすることによって、透過型ホログラフィック光学素子を製造したことを除いては実施例１と同じ方法で光学フィルムおよび有機発光素子を製造した。実施例２の光学フィルムの製造過程を図１３に簡略に図示した。
比較例
光学フィルムを積層しない有機発光素子を準備した。
試験例．
実施例１および２で製造したホログラフィック素子に対して、複数の光源（６３２ｎｍおよび５３２ｎｍ波長）とフォトダイオードディテクタを利用して前記素子の回折効率を測定した。前述した回折効率を通じて計算された前記ホログラフィック素子の高屈折領域の最大屈折率は約１．５２であり、最小屈折率は約１．４８であった（実施例１および２のいずれも同じ）。また、ホログラフィック光学素子の製造時に適用されたマスク内の打孔の大きさが約１．２ｍｍであることから、前記素子内での屈折率の変化領域の直径および屈折率の変化領域の中心点の間の距離がすべて１．２ｍｍであることを類推することができた（実施例１および２のいずれも同じ）。
実施例１および２で製造したホログラフィック光学素子の表面の形状をＫｅｙｅｎｃｅ社のＶＫ－Ｘ２００装備を使って分析した。この時、前記ホログラフィック光学素子を横長約２８２．９μｍ、縦長約２００μｍである領域に対して前記分析を遂行した。
前記装置を利用して実施例で製造したホログラフィック光学素子の表面の光学顕微鏡写真を図１４（（ａ）は実施例１、（ｂ）は実施例２）に、そして当該素子の表面の形状の分析結果を図１５（（ａ）は実施例１および（ｂ）は実施例２）に示した。図１６は、前記装置を利用して測定した実施例１の光学素子の表面粗さ曲線を図示したものである。具体的には、図１６の（ａ）は当該光学素子の表面粗さ曲線の基準面（矢印で図示する）を示すものであり、図１６の（ｂ）は当該基準面に対して得た粗さ曲線を示すものである。前記粗さ曲線に対する分析結果、実施例１の光学素子の表面粗度は０．０７６μｍであった。
図１７は、前記装置を利用して測定した実施例２の光学素子の表面粗さ曲線を図示したものである。具体的には図１７の（ａ）は当該光学素子の表面粗さ曲線の基準線（白線で図示する）を示すものであり、図１７の（ｂ）は当該基準面に対して得た粗さ曲線を示すものである。前記粗さ曲線に対する分析結果、実施例２の光学素子の表面粗度は０．０７０μｍであった。
実施例１、２または比較例で製造した有機発光素子から放出される光の角度による強度をＲａｄｉａｎｔ Ｉｍａｇｉｎｇ社の測定装置ＩＳ－ＳＡ－１３－１－２２０Ｖを使って測定した。
１．光抽出率計算
光抽出率は下記の数式１によって計算した。
［数式１］
光抽出率（％）＝（光学フィルムの総光度－有機発光装置の総光度）×１００／有機発光装置の総光度
前記において、総光度は有機発光素子または光学フィルムの法線方向を基準として、－８２．５度～８２．５度範囲内の光度の総和である。
２．正面光度上昇率計算
正面光度上昇率は下記の数式２によって計算した。
［数式２］
正面光度上昇率＝（光学フィルムの正面光度－有機発光装置の正面光度）×１００／有機発光装置の正面光度
前記において、正面光度は有機発光素子または光学フィルムの法線方向を基準として、０度の角度での光度である。
前記実施例１および２、そして比較例の有機発光素子の視野角による光度を図１８および図１９に図示した。図１８および図１９に示したように、本発明の光学フィルムを適用した実施例１および２の有機発光素子は、－８２．５度～８２．５度の視野角範囲内で比較例に比べて優秀な光度を示すことを確認することができる。特に実施例１は正面光度上昇率が特に高く、実施例２は約３０度の視野角および約－３０度の視野角で光度上昇率が特に高いことが分かる。これを通じて、当該素子の法線を基準として、実施例１のホログラフィック光学素子での屈折率変化単位領域はこれに平行するように形成されており、実施例２のホログラフィック光学素子での屈折率変化単位領域は約３０度傾いた形態であることを類推することができた。
実施例１の光抽出率は比較例に比べて約１６．４％向上した結果を確認したし、正面光度上昇率は比較例に比べて約１４．１％向上した結果を確認した。実施例２の光抽出率は比較例に比べて約４％向上した結果を確認したし、正面光度上昇率は比較例に比べて約９％向上した結果を確認した。前記実施例および比較例を通じて本発明の光学フィルムが内外部に屈曲がないフィルムであるにもかかわらず、優秀な光抽出率および正面光度上昇率を有することを確認することができる。

Claims (13)

  1. 面方向に沿って屈折率が変わる屈折率変化単位領域を含み、
    屈折率の変化パターンが記録されたホログラフィック光学素子であり、
    前記屈折率変化単位領域は、複数の高屈折単位領域と複数の低屈折単位領域を含み、
    前記高屈折単位領域と前記低屈折単位領域とは、互いに同じ中心点を共有し、
    前記屈折率変化単位領域内で、前記高屈折単位領域と前記低屈折単位領域とは、前記屈折率変化単位領域の中心から面方向に沿って遠ざかる方向に交互に繰り返されて存在し、
    前記屈折率変化単位領域の内の複数の高屈折単位領域のそれぞれの最大屈折率が、前記屈折率変化単位領域の中心から面方向に沿って遠ざかる方向に減少するか、又は、前記屈折率変化単位領域の内の複数の低屈折単位領域のそれぞれの最小屈折率が、前記屈折率変化単位領域の中心から面方向に沿って遠ざかる方向に増加し、
    前記屈折率変化単位領域の内の互いに隣接する高屈折単位領域の半径と低屈折単位領域の半径の差が、前記屈折率変化単位領域の中心から面方向の軸に沿って遠ざかる方向に減少し、
    複数の前記屈折率変化単位領域を含む、有機発光素子の光抽出用又は光指向用光学フィルム。
  2. 前記屈折率変化単位領域で屈折率は連続的に変化する、請求項１に記載の光学フィルム。
  3. 前記高屈折単位領域の最大屈折率は１．３～１．７の範囲内である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
  4. 前記低屈折単位領域の最小屈折率は１．２～１．６の範囲内である、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
  5. 平均屈折率が１．３～１．８の範囲内である、請求項１～４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
  6. 少なくとも３個の屈折率変化単位領域を含み、互いに隣接する屈折率変化単位領域のそれぞれの中心点を連結した時に多角形が形成される、請求項１～５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
  7. 屈折率変化単位領域の半径は０．２ｍｍ～６ｍｍの範囲内である、請求項１～６のいずれか一項に記載の光学フィルム。
  8. 表面粗度が１μｍ未満である、請求項１～７のいずれか一項に記載の光学フィルム。
  9. 厚さが３μｍ～３００μｍの範囲内である、請求項１～８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
  10. 前記ホログラフィック光学素子は透過型ホログラフィック光学素子である、請求項１～９のいずれか一項に記載の光学フィルム。
  11. 請求項１～１０のいずれか一項に記載された光学フィルムおよび有機発光パネルを含む、有機発光素子。
  12. 有機発光パネルは、基板；および前記基板の一面上に順に提供される透明電極層；有機発光層；および反射電極層を含み、前記光学フィルムは前記基板と前記透明電極層の間の面および前記基板を基準として前記透明電極層の反対面のうち、少なくとも一面に位置する、請求項１１に記載の有機発光素子。
  13. 前記有機発光層はランバーシアン形態の光を出射する、請求項１２に記載の有機発光素子。
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