JP7129166B2 - 基板処理装置及び制御方法 - Google Patents
基板処理装置及び制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7129166B2 JP7129166B2 JP2018002272A JP2018002272A JP7129166B2 JP 7129166 B2 JP7129166 B2 JP 7129166B2 JP 2018002272 A JP2018002272 A JP 2018002272A JP 2018002272 A JP2018002272 A JP 2018002272A JP 7129166 B2 JP7129166 B2 JP 7129166B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tape
- processing
- motor
- torque
- processing tape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
- B24B21/004—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor using abrasive rolled strips
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67132—Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
- B24B21/002—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding edges or bevels
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
- B24B21/006—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for special purposes, e.g. for television tubes, car bumpers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
- B24B21/18—Accessories
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
- B24B21/18—Accessories
- B24B21/20—Accessories for controlling or adjusting the tracking or the tension of the grinding belt
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B49/00—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
- B24B49/006—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation taking regard of the speed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B49/00—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation
- B24B49/16—Measuring or gauging equipment for controlling the feed movement of the grinding tool or work; Arrangements of indicating or measuring equipment, e.g. for indicating the start of the grinding operation taking regard of the load
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B9/00—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor
- B24B9/02—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground
- B24B9/06—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
- B24B9/065—Machines or devices designed for grinding edges or bevels on work or for removing burrs; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of materials specific to articles to be ground of non-metallic inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain of thin, brittle parts, e.g. semiconductors, wafers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/79—Apparatus for Tape Automated Bonding [TAB]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/86—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using tape automated bonding [TAB]
Description
下の空間を下室16としている。上室15に基板保持ステージユニット20、ノッチ研磨
部40が収容配置され、下室16に基板保持ステージ移動手段60が収容配置されている。
より駆動されるシャッター13により開閉される。基板Wは、この開口部12を通じて、
ハウジング11の内外に搬入、搬出される。基板Wの搬入、搬出は、搬送ロボットハンド
(後に詳述)のような既知の基板搬送手段により行われる。なお、シャッター13により
ハウジング11の開口部12を閉じることで、ハウジング11の内部が外部から完全に遮
断され、研磨中、ハウジング11内のクリーン度及び気密性が維持され、これにより、ハ
ウジング11の外部からの基板Wの汚染や、研磨中にハウジング11の内部からの研磨液
やパーティクル等の飛散によるハウジング11外部の汚染を防止できる。
ッド44を基板Wの表面に垂直な方向に往復動させるための垂直方向往復移動手段を備え
ている。この垂直方向往復移動手段は、図示しないが、基板保持ステージ23の表面に垂
直な方向に長いリニアガイド、研磨ヘッド44をモータ駆動によって往復移動させるため
のクランク・シャフト機構から構成されている。
43をノッチ部に押し付けた状態で、研磨ヘッド44を、ノッチ部に関して旋回往復移動
させる研磨ヘッドチルト機構を有している。この研磨ヘッドチルト機構は、図示しないが、研磨テープ43の走行方向と垂直な方向に伸びるシャフト、及びこのシャフトを回転させるモータから構成される。このシャフトは研磨テープ43に基板Wのノッチ部が押し付けられる位置に配置される。そして、このシャフト(このシャフトが研磨ヘッド44の旋回軸となる)は、研磨ヘッド44に連結されている。モータを駆動してこのシャフトを回転させると、研磨テープは押し付けられた状態でシャフトを旋回軸として旋回し、基板Wのノッチ部の表面側と裏面側を研磨できる。
せたスラリー状の研磨液や、冷却水を供給するためのノズル48を更に備えている。
本実施形態の係る制御方法をより良く理解するために、比較例に係る制御方法について説明する。比較例では、テープを供給するテープ供給リール46を回転させる供給用モータMaのトルクをテープの張力が一定になるように制御するとともに、テープ送りモータMcによって一定速度でテープを送る。更にテープを回収するテープ回収リール47を回転させる回収用モータMbにかかるトルクが一定になるように制御する。
その問題を解決した本実施形態に係る制御方法について、以下説明する。
まず、制御部100は、テープ供給リール46に巻かれた研磨テープの外径に応じて、研磨テープにかかる張力が一定になるように供給用モータMaに与えるトルクを制御する。この構成により、テープ供給リール46から排出される際の研磨テープの張力を一定にすることができる。
続いて、本実施形態に係る制御方法を実現するための制御部100の構成について以下、図7を用いて説明する。図7は、制御部100の概略構成を示すブロック図である。図7に示すように、制御部100は、回収用モータMbに接続され、回収用モータMbのトルクを制御する。回収用モータMbは、トルクモータである。
コントローラ101は、設定トルク指令値Tをトルク可変モジュール102へ出力する。
トルク可変モジュール102は、コントローラ101から入力された設定トルク指令値Tを変更し、変更後のトルク指令値T’をドライバ103へ出力する。
ドライバ103は、トルク可変モジュール102から出力されたトルク指令値のトルクが回収用モータMbにかかるように、回収用モータMbを駆動する。
以下、本実施形態に係る制御方法の流れについて、図11のフローチャートを用いて説明する。図11は、本実施形態に係る制御方法の流れの一例を示すフローチャートである。図11において、設定トルク指令値Tは、予め記憶装置110に記憶されているものとする。
本実施形態に係る基板処理装置10によれば、テープ回収リール47による研磨テープの巻き始めから巻き終わりまで、研磨テープにかかる張力を常に一定の張力Fにすることができる。これにより、テープ回収リール47は、研磨テープの巻き始めから巻き終わりまで、一定の速度で研磨テープを回収ことができるようになり、研磨テープを無駄なく使うことができる。
本実施形態に係る回収用モータのトルクの制御を、供給用モータのトルクの制御に適用してもよい。具体的には制御部100は、テープ送りモータMcによって送り出されたテープ送り長さと、当該研磨テープの厚みとを用いて、当該研磨テープにかかる張力が一定になるように、テープ供給リール46における研磨テープの巻体の外径の変化に合わせて供給用モータMaのトルクを制御してもよい。すなわち、テープ送り開始時のテープ供給リール46における研磨テープの巻体の側面の面積を求めておき、ある時点におけるテープ送り長さと当該研磨テープ厚みの積を減算してその時点におけるテープ供給リール46における研磨テープの巻体の側面の面積を算出することにより、その時点におけるテープ供給リール46における研磨テープの巻体の半径を求めることができる。よって、回収用モータと同様の考え方でテープの張力が一定になるように供給用モータのトルクを制御することが可能になる。
100 制御部
101 コントローラ
102 トルク可変モジュール
1021 D/Aコンバータ
103 ドライバ
11 ハウジング
110 記憶装置
12 開口部
13 シャッター
14 仕切板
15 上室
16 下室
17 開口部
20 基板保持ステージユニット
21 ユニット本体
22 支持体
23 基板保持ステージ
24 パッド
26b 溝
27 シャフト
28 パイプ
29 軸台
30 プーリー
31 ベルト
33 モータ
40 ノッチ研磨部
43 研磨テープ
44 研磨ヘッド
46 テープ供給リール
47 テープ回収リール
47a コア
50 ベベル研磨部
54 研磨ヘッド
55 研磨テープ供給・回収機構
56 テープ供給リール
57 テープ回収リール
58 ノズル
60 基板保持ステージ移動手段
61 シャフト
62 支持板
63 可動板
63a 開口部
64 リニアガイド
65 リニアガイド
67 プーリー
68 ベルト
69 モータ
70 ボールネジ
71 モータ
72 ボールネジ
73 モータ
80 基板チャック機構
Claims (10)
- 処理テープを処理対象物に当接し、該処理テープと処理対象物の相対的運動により該処理対象物を処理する基板処理装置であって、
処理テープを供給するためのテープ供給リールと、
前記処理テープを回収するためのテープ回収リールと、
前記テープ回収リールにトルクを与える回収用モータと、
前記テープ供給リールと前記テープ回収リールとの間で、前記処理テープを送り出すテープ送りモータと、
前記テープ送りモータを制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記テープ送りモータによって送り出されたテープ送り長さと、当該処理テープの厚みとを用いて、当該処理テープにかかる張力が一定になるように、前記テープ回収リールによって巻き取られた処理テープの巻体の外径の変化に合わせて前記回収用モータのトルクを制御し、
前記制御部は、前記処理テープの巻体の未使用時の外径と同じ外形に設定された治具の外面に計測用処理テープの一端が固定され、当該計測用処理テープの他端がテンションメータに接続された状態で、前記処理テープに一定にかける張力と同じ設定張力で当該計測用処理テープを引っ張ったときの前記回収用モータのトルク指令値である設定トルク値を基準にして、前記処理テープの巻体の外径の変化に合わせて前記回収用モータのトルクを変更する
基板処理装置。 - 前記制御部は、前記テープ送りモータによって送り出されたテープ送り長さと、当該処理テープの厚みとに基づいて、前記テープ回収リールによって回収された処理テープの巻体の外径を決定し、当該巻体の外径に応じて、前記回収用モータのトルクを制御する
請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記回収用モータは、トルクモータであり、
前記処理テープの巻体の外径が最大となるときに、当該処理テープに一定にかける張力である設定張力で当該処理テープを引っ張ったときにコントローラが出力するトルク指令値を設定トルク指令値として記憶装置に記憶されており、
前記制御部は、
前記設定トルク指令値を出力するコントローラと、
前記決定された処理テープの巻体の直径または半径に応じて、当該処理テープの張力が一定になるトルクを決定し、決定したトルクを前記設定トルク指令値で割った係数を決定し、当該係数を前記トルク指令値に乗じ、乗じた後のトルク指令値を出力するトルク可変モジュールと、
前記トルク可変モジュールから出力されたトルク指令値のトルクが前記回収用モータにかかるように、前記回収用モータを駆動するドライバと、
を有する請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記トルク可変モジュールは、D/Aコンバータを有し、
前記D/Aコンバータは、前記トルク指令値を出力する際に、当該トルク指令値をデジタル信号からアナログ信号に変換して出力する
請求項3に記載の基板処理装置。 - 前記テープ送りモータは、サーボモータであり、
前記制御部は、前記処理テープを送り始めてからその時点までの前記サーボモータの回転回数と予め設定された1回転当たりのテープ送り長さに基づいて、前記テープ送りモータによって送り出されたテープ送り長さを決定する
請求項1から4のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記テープ送りモータによって送り出されたテープ送り長さを用いて、前記処理テープの交換タイミングを決定する
請求項1から5のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記テープ供給リールにトルクを与える供給用モータを更に備え、
前記供給用モータは、サーボモータであり、
前記制御部は、前記テープ供給リールに巻かれた処理テープの外径に応じて、前記処理テープにかかる張力が一定になるように前記供給用モータに与えるトルクを制御する
請求項1から6のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 処理テープを処理対象物に当接し、該処理テープと処理対象物の相対的運動により該処理対象物を処理する基板処理装置であって、
処理テープを供給するためのテープ供給リールと、
前記テープ供給リールにトルクを与える供給用モータと、
前記処理テープを回収するためのテープ回収リールと、
前記テープ供給リールと前記テープ回収リールとの間で、前記処理テープを送り出すテープ送りモータと、
前記テープ送りモータを制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記テープ送りモータによって送り出されたテープ送り長さと、当該処理テープの厚みとを用いて、当該処理テープにかかる張力が一定になるように、前記テープ供給リールにおける処理テープの巻体の外径の変化に合わせて前記供給用モータのトルクを制御し、
前記制御部は、前記処理テープの巻体の未使用時の外径と同じ外形に設定された治具の外面に計測用処理テープの一端が固定され、当該計測用処理テープの他端がテンションメータに接続された状態で、前記処理テープに一定にかける張力と同じ設定張力で当該計測用処理テープを引っ張ったときの前記供給用モータのトルク指令値である設定トルク値を基準にして、前記処理テープの巻体の外径の変化に合わせて前記供給用モータのトルクを変更する
基板処理装置。 - 処理テープを供給するためのテープ供給リールと、
前記処理テープを回収するためのテープ回収リールと、
前記テープ回収リールにトルクを与える回収用モータと、
前記テープ供給リールと前記テープ回収リールとの間で、前記処理テープを送り出すテープ送りモータと、前記テープ送りモータを制御する制御部と、を備え、処理テープを処理対象物に当接し、該処理テープと処理対象物の相対的運動により該処理対象物を処理する基板処理装置が実行する制御方法であって、
前記制御部は、前記テープ送りモータによって送り出されたテープ送り長さと、当該処理テープの厚みとを用いて、当該処理テープにかかる張力が一定になるように、前記テープ回収リールによって巻き取られた処理テープの巻体の外径の変化に合わせて前記回収用モータのトルクを制御する制御ステップ
を有し、
前記制御ステップにおいて、前記制御部は、前記処理テープの巻体の未使用時の外径と同じ外形に設定された治具の外面に計測用処理テープの一端が固定され、当該計測用処理テープの他端がテンションメータに接続された状態で、前記処理テープに一定にかける張力と同じ設定張力で当該計測用処理テープを引っ張ったときの前記回収用モータのトルク指令値である設定トルク値を基準にして、前記処理テープの巻体の外径の変化に合わせて前記回収用モータのトルクを変更する制御方法。 - 処理テープを供給するためのテープ供給リールと、前記テープ供給リールにトルクを与える供給用モータと、前記処理テープを回収するためのテープ回収リールと、前記テープ供給リールと前記テープ回収リールとの間で、前記処理テープを送り出すテープ送りモータと、前記テープ送りモータを制御する制御部と、を備え、処理テープを処理対象物に当接し、該処理テープと処理対象物の相対的運動により該処理対象物を処理する基板処理装置が実行する制御方法であって、
前記制御部は、前記テープ送りモータによって送り出されたテープ送り長さと、当該処理テープの厚みとを用いて、当該処理テープにかかる張力が一定になるように、前記テープ供給リールにおける処理テープの巻体の外径の変化に合わせて前記供給用モータのトルクを制御する制御ステップ
を有し、
前記制御ステップにおいて、前記制御部は、前記処理テープの巻体の未使用時の外径と同じ外形に設定された治具の外面に計測用処理テープの一端が固定され、当該計測用処理テープの他端がテンションメータに接続された状態で、前記処理テープに一定にかける張力と同じ設定張力で当該計測用処理テープを引っ張ったときの前記供給用モータのトルク指令値である設定トルク値を基準にして、前記処理テープの巻体の外径の変化に合わせて前記供給用モータのトルクを変更する制御方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018002272A JP7129166B2 (ja) | 2018-01-11 | 2018-01-11 | 基板処理装置及び制御方法 |
TW108100126A TWI820076B (zh) | 2018-01-11 | 2019-01-03 | 基板處理裝置以及控制方法 |
KR1020190002131A KR102631614B1 (ko) | 2018-01-11 | 2019-01-08 | 기판 처리 장치 및 제어 방법 |
SG10201900213WA SG10201900213WA (en) | 2018-01-11 | 2019-01-10 | Substrate processing apparatus and control method |
CN201910028583.1A CN110026869B (zh) | 2018-01-11 | 2019-01-11 | 基板处理装置以及控制方法 |
US16/245,989 US11260493B2 (en) | 2018-01-11 | 2019-01-11 | Substrate processing apparatus and control method |
EP19151417.3A EP3511124B1 (en) | 2018-01-11 | 2019-01-11 | Substrate processing apparatus and control method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018002272A JP7129166B2 (ja) | 2018-01-11 | 2018-01-11 | 基板処理装置及び制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019119029A JP2019119029A (ja) | 2019-07-22 |
JP7129166B2 true JP7129166B2 (ja) | 2022-09-01 |
Family
ID=65576099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018002272A Active JP7129166B2 (ja) | 2018-01-11 | 2018-01-11 | 基板処理装置及び制御方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11260493B2 (ja) |
EP (1) | EP3511124B1 (ja) |
JP (1) | JP7129166B2 (ja) |
KR (1) | KR102631614B1 (ja) |
CN (1) | CN110026869B (ja) |
SG (1) | SG10201900213WA (ja) |
TW (1) | TWI820076B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111331478A (zh) * | 2020-03-11 | 2020-06-26 | 珞石(北京)科技有限公司 | 一种用于去毛刺的自动进给机构 |
JP2022063417A (ja) * | 2020-10-12 | 2022-04-22 | 株式会社荏原製作所 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
JP2023087740A (ja) * | 2021-12-14 | 2023-06-26 | 株式会社荏原製作所 | 基板研磨方法、基板研磨装置、およびプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002114420A (ja) | 2000-10-05 | 2002-04-16 | Nichicon Corp | テープ巻き取り装置およびテープ巻き取り方法 |
JP2004223658A (ja) | 2003-01-23 | 2004-08-12 | V Technology Co Ltd | 異物除去装置および異物除去方法 |
JP2007066458A (ja) | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Sony Corp | テ−プ装置 |
JP2008087136A (ja) | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Ebara Corp | 研磨装置、研磨方法、処理装置 |
JP2008177391A (ja) | 2007-01-19 | 2008-07-31 | I M T Kk | 研磨装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2201210A (en) * | 1936-08-28 | 1940-05-21 | Stringfellow | Strip mill |
JP2687023B2 (ja) | 1989-10-11 | 1997-12-08 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 研摩テープを使用した平面研摩装置における研摩テープの巻出・巻取装置 |
US5669804A (en) | 1994-10-25 | 1997-09-23 | Sony Corporation | Magnetic tape surface treatment method and apparatus |
JPH09102152A (ja) | 1995-10-02 | 1997-04-15 | Mitsubishi Electric Corp | テープ駆動装置 |
JPH09323851A (ja) * | 1996-06-05 | 1997-12-16 | Sony Corp | 巻取装置 |
JPH1035969A (ja) * | 1996-07-17 | 1998-02-10 | Toshiba Mach Co Ltd | 巻取機の巻取制御装置 |
CN1287057A (zh) | 1999-09-06 | 2001-03-14 | 财团法人工业技术研究院 | 热写式打印机与其色带张力控制方法 |
US6503131B1 (en) | 2001-08-16 | 2003-01-07 | Applied Materials, Inc. | Integrated platen assembly for a chemical mechanical planarization system |
JP4090247B2 (ja) * | 2002-02-12 | 2008-05-28 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
JP4125148B2 (ja) * | 2003-02-03 | 2008-07-30 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置 |
JP5196709B2 (ja) * | 2005-04-19 | 2013-05-15 | 株式会社荏原製作所 | 半導体ウエハ周縁研磨装置及び方法 |
US7976361B2 (en) * | 2007-06-29 | 2011-07-12 | Ebara Corporation | Polishing apparatus and polishing method |
JP2011138041A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Hitachi High-Technologies Corp | Acf貼付装置 |
GB2482167B (en) | 2010-07-22 | 2016-06-08 | Markem-Imaje Ind Ltd | Tape drive and method of operation of a tape drive |
JP5416755B2 (ja) | 2011-12-08 | 2014-02-12 | 住友ゴム工業株式会社 | 研磨装置、及びそれにより研磨された画像形成装置用の導電性ローラ |
-
2018
- 2018-01-11 JP JP2018002272A patent/JP7129166B2/ja active Active
-
2019
- 2019-01-03 TW TW108100126A patent/TWI820076B/zh active
- 2019-01-08 KR KR1020190002131A patent/KR102631614B1/ko active IP Right Grant
- 2019-01-10 SG SG10201900213WA patent/SG10201900213WA/en unknown
- 2019-01-11 EP EP19151417.3A patent/EP3511124B1/en active Active
- 2019-01-11 CN CN201910028583.1A patent/CN110026869B/zh active Active
- 2019-01-11 US US16/245,989 patent/US11260493B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002114420A (ja) | 2000-10-05 | 2002-04-16 | Nichicon Corp | テープ巻き取り装置およびテープ巻き取り方法 |
JP2004223658A (ja) | 2003-01-23 | 2004-08-12 | V Technology Co Ltd | 異物除去装置および異物除去方法 |
JP2007066458A (ja) | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Sony Corp | テ−プ装置 |
JP2008087136A (ja) | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Ebara Corp | 研磨装置、研磨方法、処理装置 |
JP2008177391A (ja) | 2007-01-19 | 2008-07-31 | I M T Kk | 研磨装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3511124B1 (en) | 2020-08-19 |
KR102631614B1 (ko) | 2024-02-01 |
TWI820076B (zh) | 2023-11-01 |
EP3511124A1 (en) | 2019-07-17 |
CN110026869A (zh) | 2019-07-19 |
JP2019119029A (ja) | 2019-07-22 |
US11260493B2 (en) | 2022-03-01 |
KR20190085860A (ko) | 2019-07-19 |
SG10201900213WA (en) | 2019-08-27 |
TW201931461A (zh) | 2019-08-01 |
CN110026869B (zh) | 2022-07-26 |
US20190217438A1 (en) | 2019-07-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7129166B2 (ja) | 基板処理装置及び制御方法 | |
US8047896B2 (en) | Polishing apparatus, polishing method, and processing apparatus | |
JP5525590B2 (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
US9561573B2 (en) | Polishing apparatus | |
US8506362B2 (en) | Polishing apparatus and polishing method | |
JP2008288599A (ja) | 研磨パッドを使用して基板のノッチを研磨する方法及び装置 | |
US20180001438A1 (en) | Head height adjustment device and substrate processing apparatus provided with head height adjustment device | |
KR102613677B1 (ko) | 연마 헤드 및 연마 장치 | |
US20230055770A1 (en) | Polishing head and polishing apparatus | |
KR20000077147A (ko) | 화학기계적 평탄화 방법 | |
US20020182985A1 (en) | Polishing method for removing corner material from a semi-conductor wafer | |
JP7296864B2 (ja) | 研磨装置および研磨方法 | |
JP3741305B2 (ja) | ワイヤソーおよびそのワイヤ張力制御方法 | |
JP2022103550A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2004268163A (ja) | 表面加工方法 | |
JP2006026784A (ja) | テクスチャ加工装置 | |
JPH11300594A (ja) | ワイヤソー装置のワイヤ走行装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201015 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211019 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211020 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220419 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220526 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220621 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220801 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220816 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220822 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7129166 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |