JP7128023B2 - 温度制御システム、製造装置および検査装置 - Google Patents
温度制御システム、製造装置および検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7128023B2 JP7128023B2 JP2018088144A JP2018088144A JP7128023B2 JP 7128023 B2 JP7128023 B2 JP 7128023B2 JP 2018088144 A JP2018088144 A JP 2018088144A JP 2018088144 A JP2018088144 A JP 2018088144A JP 7128023 B2 JP7128023 B2 JP 7128023B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- flow path
- medium
- circulation flow
- controlled
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Control Of Temperature (AREA)
Description
温度制御対象物と、
上記温度制御対象物を通過して設けられ、または、上記温度制御対象物の近傍に設けられた循環流路とを有し、
上記循環流路に一定流量で媒体を循環させながら、第1の温度に調温された媒体または上記第1の温度より高い第2の温度に調温された媒体を互いに混合することなく上記循環流路に供給し、この際、上記循環流路を循環する媒体の流量が上記一定流量に維持されるように過剰の媒体を上記循環流路から除去することにより上記温度制御対象物の温度を制御するように構成されている温度制御システムである。
温度制御対象物を通過して設けられ、または、温度制御対象物の近傍に設けられた循環流路に一定流量で媒体を循環させながら、第1の温度に調温された媒体または上記第1の温度より高い第2の温度に調温された媒体を互いに混合することなく上記循環流路に供給し、この際、上記循環流路を循環する媒体の流量が上記一定流量に維持されるように過剰の媒体を上記循環流路から除去することにより上記温度制御対象物の温度を制御する温度制御方法である。
温度制御対象物と、
上記温度制御対象物を通過して設けられ、または、上記温度制御対象物の近傍に設けられた循環流路とを有し、
上記循環流路に一定流量で媒体を循環させながら、第1の温度に調温された媒体または上記第1の温度より高い第2の温度に調温された媒体を互いに混合することなく上記循環流路に供給し、この際、上記循環流路を循環する媒体の流量が上記一定流量に維持されるように過剰の媒体を上記循環流路から除去することにより上記温度制御対象物の温度を制御するように構成されている温度制御システム
を有する製造装置である。
温度制御対象物と、
上記温度制御対象物を通過して設けられ、または、上記温度制御対象物の近傍に設けられた循環流路とを有し、
上記循環流路に一定流量で媒体を循環させながら、第1の温度に調温された媒体または上記第1の温度より高い第2の温度に調温された媒体を互いに混合することなく上記循環流路に供給し、この際、上記循環流路を循環する媒体の流量が上記一定流量に維持されるように過剰の媒体を上記循環流路から除去することにより上記温度制御対象物の温度を制御するように構成されている温度制御システム
を有する検査装置である。
[温度制御システム]
図1はこの温度制御システムを示す。
ポンプ60の運転により循環流路40に媒体を一定流量で循環させる。この一定流量は温度制御対象物10、温度制御を行う温度範囲などに応じて適宜選択される。循環流路40を循環する媒体の温度はTL とTH との間であるものとする。
開度(%)
三方弁31の出入り口31c 100
三方弁31の出入り口31b 0
三方弁32の出入り口32c 0
三方弁32の出入り口32b 100
二方弁33 100
二方弁34 0
開度(%)
三方弁31の出入り口31c 20
三方弁31の出入り口31b 80
三方弁32の出入り口32c 0
三方弁32の出入り口32b 100
二方弁33 100
二方弁34 0
開度(%)
三方弁31の出入り口31c 0
三方弁31の出入り口31b 100
三方弁32の出入り口32c 100
三方弁32の出入り口32b 0
二方弁33 0
二方弁34 100
開度(%)
三方弁31の出入り口31c 0
三方弁31の出入り口31b 100
三方弁32の出入り口32c 5
三方弁32の出入り口32b 95
二方弁33 0
二方弁34 100
開度(%)
三方弁31の出入り口31c 0
三方弁31の出入り口31b 100
三方弁32の出入り口32c 0
三方弁32の出入り口32b 100
二方弁33 0
二方弁34 100
[温度制御システム]
図2はこの温度制御システムを示す。
この温度制御システムの動作方法は第1の実施の形態と同様である。
Claims (7)
- 載置台および当該載置台上に載置される被処理体からなる温度制御対象物と、
上記載置台を通過して設けられた循環流路と、
上記循環流路に設けられたポンプと、
第1の温度に調温された媒体を貯蔵する第1の温調ユニットと、
上記第1の温度より高い第2の温度に調温された媒体を貯蔵する第2の温調ユニットと、
上記載置台の上流部の、上記載置台と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた圧力計と、
上記圧力計の上流部の、上記圧力計と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた温度センサーと、
上記温度センサーが接続された制御装置と、
上記被処理体に取り付けられる、上記被処理体の温度を測定するための、上記温度センサーとは別の温度センサーと、
上記別の温度センサーが接続された、上記制御装置とは別の制御装置と、
上記被処理体を加熱するためのヒータと、
上記ヒータの出力を制御するための電力制御装置と、
上記別の温度センサーの温度の設定値および上記別の温度センサーによる上記被処理体の温度の測定値と上記電力制御装置の負荷アナログ値とが読み込まれ、当該設定値および当該測定値と当該負荷アナログ値とから供給液温値を演算し、当該供給液温値を上記制御装置に上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値として書き込むプログラマブルロジックコントローラーと、
上記供給液温値に応じて上記プログラマブルロジックコントローラーから送られる運転周波数が書き込まれ、当該運転周波数で上記ポンプの運転を行うインバータとを有し、
上記ポンプの運転により上記循環流路に一定流量で媒体を循環させながら、上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値と上記循環流路を循環する媒体の温度の上記温度センサーによる測定値との差より負荷を算出し、負荷が冷却負荷の場合は上記第1の温調ユニットから上記第1の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、負荷が加熱負荷の場合は上記第2の温調ユニットから上記第2の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、この際、上記循環流路を循環する媒体の流量が上記一定流量に維持されるように過剰の媒体を上記循環流路から除去することにより上記載置台の温度を制御するとともに、上記電力制御装置により上記ヒータの出力を制御して上記被処理体の温度を制御するように構成されている温度制御システム。 - 温度制御対象物と、
上記温度制御対象物を通過して設けられた循環流路と、
上記循環流路に設けられたポンプと、
第1の温度に調温された媒体を貯蔵する第1の温調ユニットと、
上記第1の温度より高い第2の温度に調温された媒体を貯蔵する第2の温調ユニットと、
上記温度制御対象物の上流部の、上記温度制御対象物と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた圧力計と、
上記圧力計の上流部の、上記圧力計と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた温度センサーと、
上記温度センサーが接続された制御装置と、
上記温度制御対象物に取り付けられる、上記温度制御対象物の温度を測定するための、上記温度センサーとは別の温度センサーと、
上記別の温度センサーが接続された、上記制御装置とは別の制御装置と、
上記別の温度センサーの温度の設定値および上記別の温度センサーによる上記温度制御対象物の温度の測定値が読み込まれ、当該設定値および当該測定値から供給液温値を演算し、当該供給液温値を上記制御装置に上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値として書き込むプログラマブルロジックコントローラーと、
上記供給液温値に応じて上記プログラマブルロジックコントローラーから送られる運転周波数が書き込まれ、当該運転周波数で上記ポンプの運転を行うインバータとを有し、
上記ポンプの運転により上記循環流路に一定流量で媒体を循環させながら、上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値と上記循環流路を循環する媒体の温度の上記温度センサーによる測定値との差より負荷を算出し、負荷が冷却負荷の場合は上記第1の温調ユニットから上記第1の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、負荷が加熱負荷の場合は上記第2の温調ユニットから上記第2の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、この際、上記循環流路を循環する媒体の流量が上記一定流量に維持されるように過剰の媒体を上記循環流路から除去することにより上記温度制御対象物の温度を制御するように構成されている温度制御システム。 - 上記第1の温調ユニットの出口は第1の流路により第1の三方弁の第1の出入り口に接続され、上記第1の温調ユニットの入口は第2の流路により上記第1の三方弁の第2の出入り口に接続され、上記第2の温調ユニットの出口は第3の流路により第2の三方弁の第1の出入り口に接続され、上記第2の温調ユニットの入口は第4の流路により上記第2の三方弁の第2の出入り口に接続され、上記第1の三方弁の第3の出入り口と上記第2の三方弁の第3の出入り口とは第5の流路により互いに接続され、上記第5の流路と上記循環流路の上記温度制御対象物の上流側の部分とが第6の流路により互いに接続され、上記第2の流路と上記第4の流路とは第7の流路により互いに接続され、上記第7の流路と上記循環流路の上記温度制御対象物の下流側の部分とが第8の流路により互いに接続され、上記第8の流路と上記第2の流路との間の部分の上記第7の流路に第1の二方弁が設けられ、上記第8の流路と上記第4の流路との間の部分の上記第7の流路に第2の二方弁が設けられている請求項1または2記載の温度制御システム。
- 上記第1の三方弁の上記第1の出入り口および上記第2の三方弁の上記第1の出入り口を常時開いておき、上記循環流路に上記第1の温調ユニットから上記第1の温度に調温された媒体を供給する場合は、上記第2の三方弁の上記第3の出入り口を閉めるとともに上記第2の出入り口を開き、上記第1の二方弁を開くとともに上記第2の二方弁を閉め、上記第1の三方弁の上記第3の出入り口を開くとともに上記第2の出入り口を閉めるか、または、上記第1の三方弁の上記第2の出入り口および上記第3の出入り口を開き、上記循環流路に上記第2の温調ユニットから上記第2の温度に調温された媒体を供給する場合は、上記第1の三方弁の上記第3の出入り口を閉めるとともに上記第2の出入り口を開き、上記第2の二方弁を開くとともに上記第1の二方弁を閉め、上記第2の三方弁の上記第3の出入り口を開くとともに上記第2の出入り口を閉めるか、または、上記第2の三方弁の上記第2の出入り口および上記第3の出入り口を開く請求項3記載の温度制御システム。
- 載置台および当該載置台上に載置される被処理体からなる温度制御対象物と、
上記載置台を通過して設けられた循環流路と、
上記循環流路に設けられたポンプと、
第1の温度に調温された媒体を貯蔵する第1の温調ユニットと、
上記第1の温度より高い第2の温度に調温された媒体を貯蔵する第2の温調ユニットと、
上記載置台の上流部の、上記載置台と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた圧力計と、
上記圧力計の上流部の、上記圧力計と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた温度センサーと、
上記温度センサーが接続された制御装置と、
上記被処理体に取り付けられる、上記被処理体の温度を測定するための、上記温度センサーとは別の温度センサーと、
上記別の温度センサーが接続された、上記制御装置とは別の制御装置と、
上記被処理体を加熱するためのヒータと、
上記ヒータの出力を制御するための電力制御装置と、
上記別の温度センサーの温度の設定値および上記別の温度センサーによる上記被処理体の温度の測定値と上記電力制御装置の負荷アナログ値とが読み込まれ、当該設定値および当該測定値と当該負荷アナログ値とから供給液温値を演算し、当該供給液温値を上記制御装置に上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値として書き込むプログラマブルロジックコントローラーと、
上記供給液温値に応じて上記プログラマブルロジックコントローラーから送られる運転周波数が書き込まれ、当該運転周波数で上記ポンプの運転を行うインバータとを有し、
上記ポンプの運転により上記循環流路に一定流量で媒体を循環させながら、上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値と上記循環流路を循環する媒体の温度の上記温度センサーによる測定値との差より負荷を算出し、負荷が冷却負荷の場合は上記第1の温調ユニットから上記第1の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、負荷が加熱負荷の場合は上記第2の温調ユニットから上記第2の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、この際、上記循環流路を循環する媒体の流量が上記一定流量に維持されるように過剰の媒体を上記循環流路から除去することにより上記載置台の温度を制御するとともに、上記電力制御装置により上記ヒータの出力を制御して上記被処理体の温度を制御するように構成されている温度制御システム
を有する製造装置。 - 温度制御対象物と、
上記温度制御対象物を通過して設けられた循環流路と、
上記循環流路に設けられたポンプと、
第1の温度に調温された媒体を貯蔵する第1の温調ユニットと、
上記第1の温度より高い第2の温度に調温された媒体を貯蔵する第2の温調ユニットと、
上記温度制御対象物の上流部の、上記温度制御対象物と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた圧力計と、
上記圧力計の上流部の、上記圧力計と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた温度センサーと、
上記温度センサーが接続された制御装置と、
上記温度制御対象物に取り付けられる、上記温度制御対象物の温度を測定するための、上記温度センサーとは別の温度センサーと、
上記別の温度センサーが接続された、上記制御装置とは別の制御装置と、
上記別の温度センサーの温度の設定値および上記別の温度センサーによる上記温度制御対象物の温度の測定値が読み込まれ、当該設定値および当該測定値から供給液温値を演算し、当該供給液温値を上記制御装置に上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値として書き込むプログラマブルロジックコントローラーと、
上記供給液温値に応じて上記プログラマブルロジックコントローラーから送られる運転周波数が書き込まれ、当該運転周波数で上記ポンプの運転を行うインバータとを有し、
上記ポンプの運転により上記循環流路に一定流量で媒体を循環させながら、上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値と上記循環流路を循環する媒体の温度の上記温度センサーによる測定値との差より負荷を算出し、負荷が冷却負荷の場合は上記第1の温調ユニットから上記第1の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、負荷が加熱負荷の場合は上記第2の温調ユニットから上記第2の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、この際、上記循環流路を循環する媒体の流量が上記一定流量に維持されるように過剰の媒体を上記循環流路から除去することにより上記温度制御対象物の温度を制御するように構成されている温度制御システム
を有する製造装置。 - 温度制御対象物と、
上記温度制御対象物を通過して設けられた循環流路と、
上記循環流路に設けられたポンプと、
第1の温度に調温された媒体を貯蔵する第1の温調ユニットと、
上記第1の温度より高い第2の温度に調温された媒体を貯蔵する第2の温調ユニットと、
上記温度制御対象物の上流部の、上記温度制御対象物と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた圧力計と、
上記圧力計の上流部の、上記圧力計と上記ポンプとの間の部分の上記循環流路に設けられた温度センサーと、
上記温度センサーが接続された制御装置と、
上記温度制御対象物に取り付けられる、上記温度制御対象物の温度を測定するための、上記温度センサーとは別の温度センサーと、
上記別の温度センサーが接続された、上記制御装置とは別の制御装置と、
上記別の温度センサーの温度の設定値および上記別の温度センサーによる上記温度制御対象物の温度の測定値が読み込まれ、当該設定値および当該測定値から供給液温値を演算し、当該供給液温値を上記制御装置に上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値として書き込むプログラマブルロジックコントローラーと、
上記供給液温値に応じて上記プログラマブルロジックコントローラーから送られる運転周波数が書き込まれ、当該運転周波数で上記ポンプの運転を行うインバータとを有し、
上記ポンプの運転により上記循環流路に一定流量で媒体を循環させながら、上記循環流路を循環する媒体の温度の設定値と上記循環流路を循環する媒体の温度の上記温度センサーによる測定値との差より負荷を算出し、負荷が冷却負荷の場合は上記第1の温調ユニットから上記第1の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、負荷が加熱負荷の場合は上記第2の温調ユニットから上記第2の温度に調温された媒体を上記循環流路に供給し、この際、上記循環流路を循環する媒体の流量が上記一定流量に維持されるように過剰の媒体を上記循環流路から除去することにより上記温度制御対象物の温度を制御するように構成されている温度制御システム
を有する検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018088144A JP7128023B2 (ja) | 2018-05-01 | 2018-05-01 | 温度制御システム、製造装置および検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018088144A JP7128023B2 (ja) | 2018-05-01 | 2018-05-01 | 温度制御システム、製造装置および検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019194753A JP2019194753A (ja) | 2019-11-07 |
JP7128023B2 true JP7128023B2 (ja) | 2022-08-30 |
Family
ID=68469613
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018088144A Active JP7128023B2 (ja) | 2018-05-01 | 2018-05-01 | 温度制御システム、製造装置および検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7128023B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022065995A (ja) * | 2020-10-16 | 2022-04-28 | 株式会社Kelk | 温度制御システム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014021828A (ja) | 2012-07-20 | 2014-02-03 | Tokyo Electron Ltd | 温度制御システムへの温調流体供給方法及び記憶媒体 |
JP2016012593A (ja) | 2014-06-27 | 2016-01-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 温度制御可能なステージを含むシステム、半導体製造装置及びステージの温度制御方法 |
JP2016081158A (ja) | 2014-10-14 | 2016-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 温度制御システム及び温度制御方法。 |
JP2017063088A (ja) | 2015-09-24 | 2017-03-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 温度調整装置及び基板処理装置 |
-
2018
- 2018-05-01 JP JP2018088144A patent/JP7128023B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014021828A (ja) | 2012-07-20 | 2014-02-03 | Tokyo Electron Ltd | 温度制御システムへの温調流体供給方法及び記憶媒体 |
JP2016012593A (ja) | 2014-06-27 | 2016-01-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 温度制御可能なステージを含むシステム、半導体製造装置及びステージの温度制御方法 |
JP2016081158A (ja) | 2014-10-14 | 2016-05-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 温度制御システム及び温度制御方法。 |
JP2017063088A (ja) | 2015-09-24 | 2017-03-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 温度調整装置及び基板処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019194753A (ja) | 2019-11-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3623696B2 (ja) | ワークステーション温度制御システム及びワークステーション温度調節方法 | |
US8896335B2 (en) | Thermal controller for electronic devices | |
JP6063895B2 (ja) | 半導体製造設備のための温度制御システム | |
TWI312056B (en) | Constant temperature liquid circulating device and method of controlling temperature in the device | |
KR101739369B1 (ko) | 반도체 공정 설비용 온도 제어시스템 | |
JP6639193B2 (ja) | 温度制御装置 | |
JP2007533155A5 (ja) | ||
KR20220012301A (ko) | 온도 제어 시스템 및 온도 제어 방법 | |
JP4982547B2 (ja) | 作動流体用試験台調整システム及びこの種の試験台調整システムを駆動する装置 | |
JP7129877B2 (ja) | 温度制御システム及び温度制御方法 | |
JP7128023B2 (ja) | 温度制御システム、製造装置および検査装置 | |
JP2005022412A (ja) | 射出成形用金型の調温装置 | |
JP2009168403A (ja) | チラー装置 | |
KR101954165B1 (ko) | 플라스틱 수지 사출성형에서 인버터 펌프에 의한 열량 제어방법 | |
JP5848895B2 (ja) | 燃料電池を流れる冷却水の制御方法及び制御装置 | |
JP2001244179A (ja) | 温度調節装置を備えた露光装置およびデバイス製造方法 | |
JP2001228924A (ja) | 熱交換器における温調流体温度の高速設定変更方法及びその装置を備えたサーキュレータ | |
JP2021063601A (ja) | 熱媒体のバイパス流路を備えた熱交換システムのバイパス率の推定方法 | |
TWI840571B (zh) | 溫度控制系統及溫度控制方法 | |
JP2009014305A (ja) | チラー装置 | |
CN218489425U (zh) | 用于作业机械驾驶室的制暖系统及具有该系统的作业机械 | |
JP6749796B2 (ja) | 温度調節装置 | |
CN114610091B (zh) | 温控设备及温控方法 | |
JP5107548B2 (ja) | 循環式流体供給装置 | |
JPH0454501Y2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211028 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211029 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211126 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220401 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220817 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220818 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7128023 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |