JP7119378B2 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7119378B2 JP7119378B2 JP2018005125A JP2018005125A JP7119378B2 JP 7119378 B2 JP7119378 B2 JP 7119378B2 JP 2018005125 A JP2018005125 A JP 2018005125A JP 2018005125 A JP2018005125 A JP 2018005125A JP 7119378 B2 JP7119378 B2 JP 7119378B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor layer
- type
- layer
- semiconductor
- trench
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
本発明にかかる半導体装置について、フローティングp型領域を有するIGBTを例に説明する。図1は、実施の形態1にかかる半導体装置の構造を示す断面図である。図1には、2つの単位セル(素子の機能単位)のみを示し、これらに隣接する他の単位セルを図示省略する。図1に示すIGBTは、n-型ドリフト領域1となるシリコンからなる半導体基体(シリコン基体:半導体チップ)のおもて面(p+型ベース層11側の面)側にMOS(Metal Oxide Semiconductor)ゲートを備えたIGBTである。
次に、実施の形態1にかかる半導体装置の製造方法について説明する。図2~5は、実施の形態にかかるIGBTの製造途中の状態を示す断面図である。まず、n-型ドリフト層1となるn-型半導体基板を用意する。n-型半導体基板の材料は、シリコンであってもよいし、炭化珪素(SiC)であってもよい。また、n-型半導体基板は、n型の半導体基板のおもて面上にn-型の半導体層をエピタキシャル成長させたものでもよい。以下、n-型半導体基板がシリコンウエハである場合を例に説明する。
図6は、実施の形態2にかかる半導体装置の構造を示す断面図である。図6に示すように、実施の形態2にかかる半導体装置は、実施の形態1にかかる半導体装置に対し、p-型フローティング領域(第2導電型の第7半導体層)13を追加した構造である。
次に、実施の形態2にかかる半導体装置の製造方法について説明する。実施の形態2では実施の形態1の図2において、フォトリソグラフィおよびイオン注入によって、n-型ドリフト層1のおもて面側に、p-型ベース領域12を選択的に形成する際、同時に、p-型フローティング領域13を選択的に形成する。そのほかの工程は、実施の形態1と同様にすることで、図6に示す半導体装置が完成する。
図7は、実施の形態3にかかる半導体装置の構造を示す断面図である。図7に示すように、実施の形態3にかかる半導体装置は、実施の形態1にかかる半導体装置に対し、n+型フローティング領域17の幅を広くした構造である。
次に、実施の形態3にかかる半導体装置の製造方法について説明する。実施の形態3では実施の形態1の図2において、フォトリソグラフィおよびイオン注入によって、n-型ドリフト層1のおもて面側に、n+型フローティング領域17を形成する際、n+型フローティング領域17をメサ部16のn-型ドリフト層1のおもて面の全面に形成する。そのほかの工程は、実施の形態1と同様にすることで、図7に示す半導体装置が完成する。
図8は、実施の形態4にかかる半導体装置の構造を示す断面図である。図8に示すように、実施の形態4にかかる半導体装置は、実施の形態3にかかる半導体装置に対し、p-型フローティング領域13を追加した構造である。
次に、実施の形態4にかかる半導体装置の製造方法について説明する。実施の形態4では実施の形態1の図2において、フォトリソグラフィおよびイオン注入によって、n-型ドリフト層1のおもて面側に、p-型ベース領域12を選択的に形成する際、同時に、p-型フローティング領域13を形成する。その後、実施の形態3と同様に、フォトリソグラフィおよびイオン注入によって、n-型ドリフト層1のおもて面側に、n+型フローティング領域17をメサ部16のn-型ドリフト層1のおもて面の全面に形成する。そのほかの工程は、実施の形態1と同様にすることで、図8に示す半導体装置が完成する。
図9は、実施の形態5にかかる半導体装置の構造を示す断面図である。図9に示すように、実施の形態5にかかる半導体装置は、実施の形態1にかかる半導体装置に対し、n+型フローティング領域17をチャネルが設けられていないメサ部16に一つ設けて、n+型フローティング領域17の幅を広くした構造である。
次に、実施の形態5にかかる半導体装置の製造方法について説明する。実施の形態5では実施の形態1の図2において、フォトリソグラフィおよびイオン注入によって、n-型ドリフト層1のおもて面側に、n+型フローティング領域17を形成する際、n+型フローティング領域17をメサ部16のn-型ドリフト層1のおもて面にトレンチ6の側壁と接しないように一つ形成する。そのほかの工程は、実施の形態1と同様にすることで、図9に示す半導体装置が完成する。
図10は、実施の形態6にかかる半導体装置の構造を示す断面図である。図10に示すように、実施の形態6にかかる半導体装置は、実施の形態5にかかる半導体装置に対し、p-型フローティング領域13を追加した構造である。
次に、実施の形態6にかかる半導体装置の製造方法について説明する。実施の形態6では実施の形態1の図2において、フォトリソグラフィおよびイオン注入によって、n-型ドリフト層1のおもて面側に、p-型ベース領域12を選択的に形成する際、同時に、p-型フローティング領域13を形成する。この後、実施の形態5と同様に、n+型フローティング領域17をメサ部16のn-型ドリフト層1のおもて面にトレンチ6の側壁と接しないように一つ形成する。そのほかの工程は、実施の形態1と同様にすることで、図10に示す半導体装置が完成する。
図11は、実施の形態7にかかる半導体装置の構造を示す断面図である。図11に示すように、実施の形態7にかかる半導体装置は、実施の形態1にかかる半導体装置に対し、n+型フローティング領域17の位置を変更した構造である。
次に、実施の形態7にかかる半導体装置の製造方法について説明する。実施の形態7では実施の形態1の図2において、フォトリソグラフィおよびイオン注入によって、n-型ドリフト層1のおもて面側に、n+型フローティング領域17を形成する際、n+型フローティング領域17をメサ部16のn-型ドリフト層1のおもて面に、複数形成する。この際、トレンチ6近傍のn+型フローティング領域17の一方の側面がトレンチ6と接するよう形成する。そのほかの工程は、実施の形態1と同様にすることで、図11に示す半導体装置が完成する。
図12は、実施の形態8にかかる半導体装置の構造を示す断面図である。図12に示すように、実施の形態8にかかる半導体装置は、実施の形態7にかかる半導体装置に対し、p-型フローティング領域13を追加した構造である。
次に、実施の形態8にかかる半導体装置の製造方法について説明する。実施の形態8では実施の形態1の図2において、フォトリソグラフィおよびイオン注入によって、n-型ドリフト層1のおもて面側に、p-型ベース領域12を選択的に形成する際、同時に、p-型フローティング領域13を形成する。この後、n+型フローティング領域17を実施の形態7と同様に形成する。そのほかの工程は、実施の形態1と同様にすることで、図12に示す半導体装置が完成する。
2 p+型コレクタ領域
3 n+型バッファ層
4 p-型層
5 n+型エミッタ領域
6 トレンチ
7 ゲート絶縁膜
8 ゲート電極
9 層間絶縁膜
10 エミッタ電極
11 p+型ベース領域
12 p-型ベース領域
13 p-型フローティング領域
14 コレクタ電極
15 チャネルの設けられるメサ部
16 チャネルの設けられないメサ部
17 n+型フローティング領域
Claims (11)
- 第1導電型の第1半導体層と、
前記第1半導体層の一方の表面層に選択的に設けられた第2導電型の第2半導体層と、
前記第2半導体層の内部に選択的に設けられた第1導電型の第3半導体層と、
前記第2半導体層の内部に前記第3半導体層に隣接して選択的に設けられ、前記第2半導体層に接続される第2導電型の第4半導体層と、
前記第3半導体層および前記第2半導体層に接し、前記第1半導体層に達するトレンチと、
前記第1半導体層の前記一方の表面層に選択的に設けられた第1導電型の第5半導体層と、
前記第1半導体層の他方の表面層に設けられた第2導電型の第6半導体層と、
前記第3半導体層および前記第4半導体層と電気的に接続され、かつ前記第5半導体層と電気的に絶縁されたエミッタ電極と、
前記第6半導体層と電気的に接続されたコレクタ電極と、
前記トレンチの内部にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、
を備え、
前記第5半導体層は、前記トレンチと離間して、前記第2半導体層に接していない前記トレンチ間に設けられていることを特徴とする半導体装置。 - 前記第5半導体層は、前記第2半導体層が設けられていない前記トレンチ間に複数設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第2半導体層が設けられていない前記トレンチ間の、前記第5半導体層によって挟まれた領域に、前記トレンチと離間して第2導電型の第7半導体層が設けられていることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
- 第1導電型の第1半導体層と、
前記第1半導体層の一方の表面層に選択的に設けられた第2導電型の第2半導体層と、
前記第2半導体層の内部に選択的に設けられた第1導電型の第3半導体層と、
前記第2半導体層の内部に前記第3半導体層に隣接して選択的に設けられ、前記第2半導体層に接続される第2導電型の第4半導体層と、
前記第3半導体層および前記第2半導体層に接し、前記第1半導体層に達するトレンチと、
前記第1半導体層の前記一方の表面層に選択的に設けられた第1導電型の第5半導体層と、
前記第1半導体層の他方の表面層に設けられた第2導電型の第6半導体層と、
前記第2半導体層が設けられていない前記トレンチ間に、前記トレンチと離間して、一方の表面が前記第5半導体層と接する第2導電型の第7半導体層と、
前記第3半導体層および前記第4半導体層と電気的に接続され、かつ前記第5半導体層と電気的に絶縁されたエミッタ電極と、
前記第6半導体層と電気的に接続されたコレクタ電極と、
前記トレンチの内部にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、
を備え、
前記第5半導体層は、前記第2半導体層が設けられていない前記トレンチ間の、前記第1半導体層の前記一方の表面層全体に設けられることを特徴とする半導体装置。 - 前記第5半導体層は、前記第2半導体層が設けられていない前記トレンチ間に一つ設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第2半導体層が設けられていない前記トレンチ間に、前記トレンチと離間して、一方の表面が前記第5半導体層と接し、前記第5半導体層より幅の狭い第2導電型の第7半導体層が設けられていることを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。
- 第1導電型の第1半導体層と、
前記第1半導体層の一方の表面層に選択的に設けられた第2導電型の第2半導体層と、
前記第2半導体層の内部に選択的に設けられた第1導電型の第3半導体層と、
前記第2半導体層の内部に前記第3半導体層に隣接して選択的に設けられ、前記第2半導体層に接続される第2導電型の第4半導体層と、
前記第3半導体層および前記第2半導体層に接し、前記第1半導体層に達するトレンチと、
前記第1半導体層の前記一方の表面層に選択的に設けられた第1導電型の第5半導体層と、
前記第1半導体層の他方の表面層に設けられた第2導電型の第6半導体層と、
前記第2半導体層が設けられていない前記トレンチ間に、前記トレンチと離間して、前記第5半導体層によって挟まれた領域に設けられた第2導電型の第7半導体層と、
前記第3半導体層および前記第4半導体層と電気的に接続され、かつ前記第5半導体層と電気的に絶縁されたエミッタ電極と、
前記第6半導体層と電気的に接続されたコレクタ電極と、
前記トレンチの内部にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極と、
を備え、
前記第5半導体層は、前記トレンチと接続して、前記第2半導体層が設けられていない前記トレンチ間に複数設けられ、
前記第7半導体層は、2μm以上4μm以下の距離、前記トレンチと離間していることを特徴とする半導体装置。 - 前記第5半導体層は、2μm以上6μm以下の距離、前記トレンチと離間していることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記トレンチと前記第7半導体層との距離は、前記トレンチと前記第5半導体層との距離より、1μm以上大きいことを特徴とする請求項3または6に記載の半導体装置。
- 前記第7半導体層は、2μm以上4μm以下の距離、前記トレンチと離間していることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置。
- 前記第5半導体層の幅は、2μm以上であることを特徴とする請求項1、4、7のいずれか一項に記載の半導体装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017049503 | 2017-03-15 | ||
JP2017049503 | 2017-03-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018157190A JP2018157190A (ja) | 2018-10-04 |
JP7119378B2 true JP7119378B2 (ja) | 2022-08-17 |
Family
ID=63716947
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018005125A Active JP7119378B2 (ja) | 2017-03-15 | 2018-01-16 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7119378B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004221370A (ja) | 2003-01-16 | 2004-08-05 | Toyota Motor Corp | 半導体装置 |
JP2005340626A (ja) | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2009135224A (ja) | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 絶縁ゲートバイポーラトランジスタ |
JP2010045144A (ja) | 2008-08-12 | 2010-02-25 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びそれを用いた電力変換装置 |
JP2016134465A (ja) | 2015-01-19 | 2016-07-25 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
-
2018
- 2018-01-16 JP JP2018005125A patent/JP7119378B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004221370A (ja) | 2003-01-16 | 2004-08-05 | Toyota Motor Corp | 半導体装置 |
JP2005340626A (ja) | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2009135224A (ja) | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 絶縁ゲートバイポーラトランジスタ |
JP2010045144A (ja) | 2008-08-12 | 2010-02-25 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びそれを用いた電力変換装置 |
JP2016134465A (ja) | 2015-01-19 | 2016-07-25 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018157190A (ja) | 2018-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
USRE47198E1 (en) | Power semiconductor device | |
JP5987990B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5634318B2 (ja) | 半導体装置 | |
US9853024B2 (en) | Semiconductor device | |
US9054154B2 (en) | Semiconductor device | |
US20190296133A1 (en) | Semiconductor device | |
JP7279770B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP7326725B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP5865618B2 (ja) | 半導体装置 | |
US20140209972A1 (en) | Semiconductor device | |
US10217830B2 (en) | Semiconductor device having trenches with enlarged width regions | |
KR20150140270A (ko) | 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
JP2010153864A (ja) | 半導体ダイ上に製造されるパワートランジスタデバイス | |
JP7279356B2 (ja) | 半導体装置 | |
US8067797B2 (en) | Variable threshold trench IGBT with offset emitter contacts | |
JP2023099104A (ja) | 半導体装置 | |
JP5838176B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR20160029630A (ko) | 반도체 장치 | |
JP2020161712A (ja) | 半導体装置 | |
JP2013211512A (ja) | 絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ | |
JP6173987B2 (ja) | 半導体装置 | |
US8853775B2 (en) | Insulated gate bipolar transistor having control electrode disposed in trench | |
JP7119378B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR20150061972A (ko) | 전력 반도체 소자 | |
JP5884772B2 (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211109 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211213 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220308 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220427 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220705 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220718 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7119378 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |