JP7112249B2 - データ生成方法、パターン形成方法、インプリント装置および物品製造方法 - Google Patents
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Claims (13)
- 基板にインプリント材を配置する配置工程、インプリント材と型のパターン部とを接触させる接触工程およびインプリント材を硬化させる硬化工程を含むインプリント処理における前記配置工程を制御するためのデータを生成するデータ生成方法であって、
前記パターン部は、パターンを構成する凹部の特徴が互いに異なる少なくとも2つの領域を含み、
前記データ生成方法は、
前記基板のうち前記少なくとも2つの領域の境界または前記境界からの距離が所定距離以内の領域に対面する複数の第1位置を、インプリント材を配置すべき位置として決定する第1工程と、
前記第1工程の後に、前記複数の第1位置とは異なる複数の第2位置を、前記複数の第1位置に基づいてインプリント材を更に配置すべき位置として決定する第2工程と、を含む、
ことを特徴とするデータ生成方法。 - 前記パターン部の前記境界または前記境界からの距離が前記所定距離以内の領域を示す情報を取得する工程を更に含む、
ことを特徴とする請求項1に記載のデータ生成方法。 - 前記第2工程では、前記複数の第2位置が前記複数の第1位置の少なくとも一部によって挟まれる位置を含むように前記複数の第2位置を決定する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のデータ生成方法。 - 前記第2工程では、前記複数の第2位置が前記複数の第1位置によって囲まれる領域に均等に配置されるように前記複数の第2位置を決定する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のデータ生成方法。 - 前記境界と前記複数の第1位置それぞれとの距離が、前記複数の第2位置の間の最小距離より小さい、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のデータ生成方法。 - 前記境界は、前記パターン部と前記パターン部の外側の領域との境界を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のデータ生成方法。 - 前記特徴が互いに異なる少なくとも2つの領域は、前記凹部が延びる方向、および、前記凹部の密度、の少なくとも1つが互いに異なる少なくとも2つの領域を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のデータ生成方法。 - 前記第1工程では、前記複数の第1位置が、前記基板に設けられたアライメントマークを覆うようにインプリント材を配置するべき第1位置を含むように決定する、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のデータ生成方法。 - 前記複数の第1位置および前記複数の第2位置の各々は、前記基板の上に配置するべきインプリント材の中心位置である、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のデータ生成方法。 - 前記境界に関する情報を取得する取得工程を更に含み、
前記第1工程は、前記取得工程で取得した情報に基づいて前記複数の第1位置を決定する、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載のデータ生成方法。 - コンピュータに請求項1乃至10のいずれか1項に記載のデータ生成方法を実行させるためのコンピュータプログラム。
- 基板にインプリント材を配置する配置工程、インプリント材と型のパターン部とを接触させる接触工程およびインプリント材を硬化させる硬化工程を含むインプリント処理を行うインプリント工程と、
前記配置工程を制御するためのデータを生成するデータ生成工程と、を含むパターン形成方法であって、
前記パターン部は、パターンを構成する凹部の特徴が互いに異なる少なくとも2つの領域を含み、
前記データ生成工程は、
前記基板のうち前記少なくとも2つの領域の境界または前記境界からの距離が所定距離以内の領域に対面する複数の第1位置を、インプリント材を配置すべき位置として決定する第1工程と、
前記第1工程の後に、前記複数の第1位置とは異なる複数の第2位置を、前記複数の第1位置に基づいてインプリント材を更に配置すべき位置として決定する第2工程と、を含む、
ことを特徴とするパターン形成方法。 - 請求項12に記載のパターン形成方法に従って基板の上にパターンを形成する工程と、
前記工程において前記パターンが形成された基板の処理を行う工程と、
を含み、前記処理が行われた前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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