JP7112015B2 - 多孔質シリカの製造方法 - Google Patents
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例えば、特許文献1(特開2017-128484号公報)には、界面活性剤、金属塩、及び配位子成分を水溶液中で混合し、前記金属塩の金属に前記配位子成分が配位した水に不溶性の錯体を含有するミセルを生成させる工程と、前記ミセルを生成させる工程の後に、前記水溶液にシリカ源を添加する工程と、前記シリカ源を添加する工程の後に、前記水溶液に塩基性水溶液を添加する工程と、前記塩基性水溶液を添加する工程の後に、前記ミセルを回収する工程と、前記回収したミセルを焼成し、多孔質シリカを得る工程とを含む、多孔質シリカの製造方法が開示されている。
特許文献1に記載された方法によれば、コバルト等の金属粒子を担持した多孔質シリカが得られ、このような多孔質シリカは、消臭剤などとして有用であり、高い白色度を有している。
特許文献1に記載の方法においては、金属が取り込まれたミセルを含む水溶液が、強酸又は強塩基水溶液になると、ミセルから金属が溶出してしまう可能性がある。例えば、シリカ源を縮合させるために塩基性水溶液を添加する工程などにおいては、ミセルから金属が溶出しないように、pHを注意深く管理する必要があった。
よって、pHの管理を容易にする技術の提供が望まれていた。
〔1〕水溶液中で、界面活性剤とシリカ源とを混合し、表面に前記シリカ源が集積したミセルを生成する工程と、前記集積したシリカ源を縮合させる工程と、前記縮合させる工程の後に、前記ミセル内に水に不溶性の金属化合物を導入することにより、前駆体を生成する工程と、前記前駆体を焼成する工程と、を備える、多孔質シリカの製造方法。
〔2〕前記縮合させる工程が、前記シリカ源が縮合するまで水溶液のpHを増加または減少させる工程を含む、前記〔1〕に記載の多孔質シリカの製造方法。
〔3〕前記ミセルを生成する工程が、更に、前記水溶液に、水に不溶性の配位子成分を添加する工程を備え、前記前駆体を生成する工程が、水溶液中で、前記ミセルと、前記金属化合物の原料となる金属塩とを混合する工程を備え、前記金属化合物は、前記配位子成分と、前記金属塩に含まれる金属とによって形成される、前記〔1〕又は〔2〕に記載の多孔質シリカの製造方法。
〔4〕前記金属塩が水溶性の塩である、前記〔3〕に記載の多孔質シリカの製造方法。
〔5〕前記前駆体を生成する工程が、水溶液中で、前記ミセルと、前記金属化合物の原料となる水に不溶性の金属塩とを混合する工程を備える、前記〔1〕又は〔2〕に記載の多孔質シリカの製造方法。
〔6〕前記金属化合物が、亜鉛、銀、ニッケル、銅、コバルト、マンガン、セリウム、ジルコニウム、白金、バナジウム及び鉄からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む、前記〔1〕乃至〔5〕のいずれかに記載の多孔質シリカの製造方法。
〔7〕前記ミセルを生成する工程が、更に、前記水溶液に、前記金属化合物に含まれる金属とは異なるドープ用金属の供給源となるドープ用金属塩を添加する工程を備える、前記〔1〕乃至〔6〕のいずれかに記載の多孔質シリカの製造方法。
〔8〕前記ドープ用金属塩が、アルミニウム、及びジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属の塩を含む、前記〔7〕に記載の多孔質シリカの製造方法。
本発明の第1の実施態様に係る方法により得られる多孔質シリカは、細孔内に金属含有粒子を担持する。担持される金属含有粒子の金属としては、特に限定されるものではないが、例えば、コバルト、亜鉛、銀、ニッケル、銅、マンガン、セリウム、ジルコニウム、白金、バナジウム及び鉄などが挙げられる。これらの中でも、消臭機能を有する金属が好ましく、より好ましくはコバルト、マンガンである。
(A)水溶液中で、界面活性剤とシリカ源とを混合し、表面に前記シリカ源が集積したミセルを生成する工程、
(B)集積したシリカ源を縮合させる工程、
(C)縮合させる工程の後に、前記ミセル内に水に不溶性の金属化合物を導入することにより、前駆体を生成する工程、及び
(D)前駆体を焼成する工程、
を備える。
(A-1)界面活性剤水溶液の調製
まず、界面活性剤の水溶液を調製する。界面活性剤は、水中でミセルを形成する。
水溶液には、水以外にエタノール、トルエンなどの有機溶媒が含まれていてもよい。
界面活性剤の添加量は、好ましくは50~400mmol/L、より好ましくは50~150mmol/Lである。
或いは、界面活性剤の添加量は、例えば、後の工程で添加されるシリカ源1モルに対して、0.01~5.0モル、好ましくは0.05~1.0モルである。
但し、界面活性剤は、好ましくは中性又は陽イオン性のものであり、より好ましくはアルキルアンモニウム塩である。アルキルアンモニウム塩は、炭素数が8以上のものであればよいが、工業的な入手の容易さを鑑みると、炭素数が12から18のものがより好ましい。アルキルアンモニウム塩としては、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、オクタデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ジドデシルジメチルアンモニウムブロマイド、ジテトラデシルジメチルアンモニウムブロマイド、ジドデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジテトラデシルジメチルアンモニウムクロライドなどが挙げられる。これらの界面活性剤は、単独で用いてもよく、また2種以上を組み合わせて用いてもよい。
続いて、水溶液中に、配位子成分を添加する。配位子成分は、後の工程において、金属塩由来の金属をミセル内部に取り込むために添加される。
詳細には、配位子成分は、例えば1.1以上、好ましくは1.5以上、更に好ましくは1.8以上、最も好ましくは2.0以上のオクタノール/水分配係数を有している。
この錯体のオクタノール/水分配係数は、例えば1.1以上、好ましくは1.5以上、更に好ましくは1.8以上、最も好ましくは2.0以上である。
コンプレクサン類としては、例えば、EDTAが挙げられる。
オキシン類とは、8-キノリノール構造を有する化合物の総称である。
β-ジケトン類としては、例えば、アセチルアセトンが挙げられる。
尚、オキシンのオクタノール/水分配係数は2.02であり、オキシン銅のオクタノール/水分配係数は2.46である。
より好ましくは、下記式(I)で表されるオキシン類が好ましく用いられる。
最も好ましくは、配位子成分は、8-キノリノール又は5-(オクチルオキシメチル)-8-キノリノールである。
次に、水溶液にシリカ源を添加し、均一になるまで水溶液を攪拌する。シリカ源を添加することで、ミセル表面にシリカ源が集積する。
尚、シリカ源としてケイ酸ナトリウムを単独もしくは併用して用いる場合、水溶液中200℃以下で20~2時間加熱還流する操作をする。
次に、シリカ源を縮合させる。
具体的には、シリカ源が縮合するまで、水溶液のpHを増加または減少させる。
例えば、塩基性水溶液を添加し、攪拌することにより、シリカ源を縮合させることができる。攪拌は、例えば、1時間以上行う。
塩基性水溶液の添加により、ミセルの表面に集積したシリカ源が脱水縮合し、シリカの壁を形成する。
塩基性水溶液としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニアなどの水溶液が挙げられる。塩基性水溶液は、好ましくは水酸化ナトリウム水溶液である。これらの塩基性水溶液は、単独で用いてもよく、また2種以上を組み合わせて用いてもよい。塩基性水溶液は、添加直後に好ましくはpHが8~14となるように、より好ましくは9~11となるように添加される。塩基水溶液の添加により、シリカ源の脱水縮合反応が加速する。
その結果、縮合部分の表面張力が上昇してシリカの壁が球状となり、さらに球体が幾重にも接合した形態となって、スピノーダル分解(相分離)が引き起こされる。化学架橋によってこれらの構造が凍結される。
(C-1)ミセルの回収
続いて、ミセルを水溶液から回収する。詳細には、シリカ源を縮合させると、ミセルが沈殿する。そこで、沈殿物を濾別することにより、沈殿物を回収する。回収した沈殿物は、好ましくは、中性になるまで水等により洗浄される。
続いて、ミセルを再び水溶液に分散させる。更に、水溶液に、金属塩を添加する。金属塩は、金属化合物の供給源となる物質であり、最終的に多孔質シリカに担持される金属含有粒子の原料になる物質でもある。
ミセルの内部には、既述のように、配位子成分が取り込まれている。金属塩を添加すると、金属塩由来の金属が配位成分と配位結合により結合し、水に不溶性の錯体を形成する。この錯体は、水に不溶性であるから、疎水環境であるミセルの内部に存在する。すなわち、金属塩由来の金属が、ミセルの内部に取り込まれる。これにより、ミセルの内部に金属が取り込まれた前駆体が生成する。
金属塩は、単独で用いてもよく、また2種以上を組み合わせて用いてもよい。
続いて、前駆体を回収し、焼成する。
例えば、まず、濾過により前駆体を回収し、乾燥する。濾過は、例えば吸引ろ過で行い、ろ液のpHが7となるまで水で繰り返し洗浄する。乾燥は、例えば乾燥機、もしくは真空乾燥機で行い、十分に乾燥する。
乾燥後、焼成を行うことにより、前駆体中に含まれる有機成分が除去される。すなわち、界面活性剤及び配位子成分が除去され、細孔を有する多孔質シリカが形成される。細孔の内部には、金属塩由来の金属含有粒子が残存する。
前駆体の焼成は、界面活性剤の分解温度以上で行われる。焼成温度は、例えば400~600℃である。
続いて、第2の実施態様について説明する。
本実施態様では、工程A(ミセルの生成)において、ドープ用金属塩が水溶液に添加される。その他の特徴については、第1の実施態様の構成を採用することができるので、詳細な説明を省略する。
また、ドープ金属をドープすることにより、工程Cで使用される金属塩由来の金属が、多孔質シリカの骨格内に移行することを防ぐことができる。例えばコバルトなど、金属の種類よっては、多孔質シリカの骨格内に取り込まれると発色し、外観が備われる場合がある。これに対して、予めドープ金属をドープしておくことにより、工程Cで使用される金属塩由来の金属がシリカ骨格内に取り込まれることを防ぐことができ、発色等を防ぐことができる。
ドープ用金属塩としては、特に限定されるものではないが、ドープ用金属の水溶性の塩であることが好ましく、例えば、ドープ金属の塩化物及び硫酸塩等を用いることができる。例えば、ドープ金属がアルミニウムである場合には、ドープ用金属化合物として塩化アルミニウムを用いることができる。
ドープ用金属化合物の添加量は、例えば、シリカ源1molに対して0.001~0.5mol、好ましくは0.01mol~0.1molである。
続いて、第3の実施態様について説明する。
本実施態様では、工程(A)において、必ずしも配位子成分が添加される必要が無い。一方、工程(C)において、金属化合物の原料となる金属塩として、水溶性ではなく、水に不溶性の金属塩が使用される。その他の特徴については、第1及び第2の実施態様の構成を採用することができるので、詳細な説明を省略する。
これにより、必ずしも配位子成分を用いなくても、金属化合物をミセルの内部に導入することができ、第1及び第2の実施形態と同様の構成を有する多孔質シリカを得ることができる。
尚、添加された水に不溶性の金属塩は、必ずしもそのままの形態でミセル内に導入される必要は無く、添加された金属塩に含まれる金属が、配位子成分等の別の物質と結合し、別の形態でミセル内に導入されてもよい。
実施例1:
300mlビーカーに、水及びヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド(界面活性剤)を加え、100℃で1時間攪拌した。得られた水溶液に、8-キノリノール(配位子成分)を加えて、室温でさらに1時間攪拌した。水溶液に、テトラエトキシシラン(シリカ源)を添加して、均一になるまで攪拌した。次いで、水酸化ナトリウム水溶液を加え、攪拌子を1000rpmで回転させて、20時間水溶液を攪拌し、シリカ源を縮合させた。
水溶液中の各成分のモル比は、テトラエトキシシラン:ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド:8-キノリノール:水:水酸化ナトリウム=1:0.225:0.066:125:0.225とした。
得られた懸濁液から固体生成物をろ別し、中性になるまで水で洗浄して黄色のスラリー(固形分14.1%)を得た。スラリー10gを水に再分散させ、塩化コバルト14.4mg(金属塩)を加えて1時間攪拌した。次いで、得られた懸濁液から固体生成物をろ別し、55℃で1晩乾燥した後、470℃で5時間焼成した。これにより、実施例1に係る多孔質シリカを得た。
300mlビーカーに、水及びヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリドを加え、100℃で1時間攪拌した。得られた水溶液に、8-キノリノールを加えて室温でさらに1時間攪拌した。次いで、塩化アルミニウム(ドープ用金属塩)を加えて室温でさらに30分、水溶液を攪拌した。次いで、水溶液にテトラエトキシシランを添加して、均一になるまで攪拌した。次いで、水酸化ナトリウム水溶液を加え、攪拌子を1000rpmで回転させ、20時間攪拌し、シリカ源を縮合させた。
混合溶液のモル比は、テトラエトキシシラン:ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド:塩化アルミニウム:8-キノリノール:水:水酸化ナトリウム=1:0.225:0.026:0.066:125:0.225とした。
得られた懸濁液から固体生成物をろ別し、レモン色のスラリー(固形分14.8%)を得た。スラリーを水に再分散させ、塩化コバルトを加えて1時間攪拌した。その後、得られた懸濁液から固体生成物をろ別し、55℃で1晩乾燥した後、570℃で5時間焼成した。これにより、実施例2に係る多孔質シリカを得た。
300mlビーカーに、水、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリドを100℃で1時間攪拌した。ここに、塩化アルミニウムを加えて、室温でさらに30分、水溶液を攪拌した。テトラエトキシシランを添加して、均一になるまで水溶液を攪拌した。次いで、水酸化ナトリウム水溶液を加え、攪拌子を1000rpmで回転させて、20時間、水溶液を攪拌し、シリカ源を縮合させた。
得られた水溶液(懸濁液)から固体生成物をろ別し、白色のスラリーを得た。これを水に再分散させ、ステアリン酸コバルトを加え、100℃で1時間攪拌し、ステアリン酸コバルトを吸着させた。
得られた懸濁液から固体生成物をろ別し、55℃で一晩乾燥した後、570℃で5時間焼成した。これにより、実施例3に係る多孔質シリカを得た。
再分散させたスラリーに、塩化マンガンを加えた以外は実施例2と同様にして、多孔質シリカを得た。
再分散させたスラリーに、塩化鉄を加えた以外は実施例2と同様にして、多孔質シリカを得た。
再分散させたスラリーに、塩化亜鉛を加えた以外は実施例2と同様にして、多孔質シリカを得た。
再分散させたスラリーに、塩化白金酸を加えた以外は実施例2と同様にして、多孔質シリカを得た。
実施例8:(V-Al-MPS)
再分散させたスラリーに、塩化バナジウムを加えた以外は実施例2と同様にして、多孔質シリカを得た。
特開2017-128484に記載の実施例1の再現により、比較例1に係る多孔質シリカを得た。
具体的には、300mlビーカーに、水、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド及びステアリン酸コバルトを加えて、100℃で1時間攪拌し、ステアリン酸コバルトが均一に分散した水溶液を調製した。得られた水溶液に、8-キノリノールを加え、100℃でさらに1時間攪拌した。室温まで水溶液冷却した後、テトラエトキシシランを添加して、均一になるまで攪拌した。次いで、水酸化ナトリウム水溶液を加え、攪拌子を1000rpmで回転させ、20時間攪拌した。
混合溶液のモル比は、合成物中のCo量が1wt%となり、Coに対して8-キノリノールが3モル当量となるように、テトラエトキシシラン:ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド:ステアリン酸コバルト:8-キノリノール:水:水酸化ナトリウム=1:0.225:0.0106:0.0319:125:0.225とした。得られた懸濁液から固体生成物をろ別し、80℃で真空乾燥した後、570℃で5時間焼成し、有機成分を除去した。これにより、比較例1に係る多孔質シリカを得た。
特開2017-132687に記載の実施例1の再現により、比較例2に係る多孔質シリカを得た。
具体的には、300mlビーカーに、水、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ステアリン酸コバルト、及び8-キノリノールを加えて攪拌し、ミセルを形成させた。その後、塩化アルミニウムを加えて100℃で1時間攪拌した。室温まで冷却した後、テトラエトキシシランを添加して、均一になるまで攪拌した。次いで、水酸化ナトリウム水溶液を加え、攪拌子を1000rpmで回転させて20時間攪拌した。
混合溶液のモル比は、合成物中のCoおよびAl量が1wt%となり、Coに対して8-キノリノールが3モル当量となるように、テトラエトキシシラン:ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド:ステアリン酸コバルト:8-キノリノール::塩化アルミニウム:水:水酸化ナトリウム=1:0.225:0.0111:0.0332:0.0241:125:0.225とした。
得られた懸濁液から固体生成物をろ別し、80℃で真空乾燥した後、570℃で5時間加熱して有機成分を除去した。これにより、比較例2に係る多孔質シリカを得た。
尚、試験条件は、次の通りとした。
スガ試験機株式会社製SMカラーコンピューター(SM-4)を用いてL*値、a*値、b*値を測定した。明度はL*値、彩度は√(a*2+b*2)で算出した。明度は数値が大きいほど白色であることを示す。彩度は数字が小さいほど無彩色であることを示す。
焼成後の多孔質シリカ約50mgを精確に量りとり、4mlの塩酸で溶解した後に、水溶液中の金属濃度をThermo Scientific社製のICP-OESにて測定した。塩酸で処理することにより、多孔質シリカに含まれるコバルト成分は、全て塩酸に溶解するものと考えられる。そこで、測定結果に基づき、多孔質シリカ中に存在するコバルトの全含有量を、コバルト含有量として算出した。コバルト以外の金属量についても同様の方法で算出した。
500mlの臭気を用意した。アセトアルデヒドの初期濃度を750ppmとした。臭気中に、多孔質シリカ50mgを入れ、一定時間攪拌した後、ガステック製ガス検知管92を用いて濃度を測定し、初期濃度との比較から消臭率を算出した。
すなわち、本発明の方法を採用しても、細孔内にコバルト等の金属粒子を担持させた多孔質シリカを得ることができ、得られた多孔質シリカが消臭剤等として有用であることが確認された。また、実施例4~実施例8において、コバルト以外の金属粒子を担持させた多孔質シリカを得ることができた。
Claims (7)
- 水溶液中で、界面活性剤とシリカ源と水に不溶性の配位子成分を混合し、表面に前記シリカ源が集積したミセルを生成する工程と、
前記集積したシリカ源を縮合させる工程と、
前記縮合させる工程の後に、水溶液中で、前記ミセルと金属塩とを混合し、前記配位子成分と前記金属塩に由来する金属とによって形成される水に不溶性の金属化合物を前記ミセル内に生成させることにより、前駆体を生成する工程と、
前記前駆体を焼成することにより、前記界面活性剤及び前記配位子成分を除去し、金属が担持された多孔質シリカを得る工程と、
を備える、
金属が担持された多孔質シリカの製造方法。 - 前記金属塩が水溶性の塩である、請求項1に記載の多孔質シリカの製造方法。
- 水溶液中で、界面活性剤とシリカ源とを混合し、表面に前記シリカ源が集積したミセルを生成する工程と、
前記集積したシリカ源を縮合させる工程と、
前記縮合させる工程の後に、水溶液中で、前記ミセルと、水に不溶性の金属塩とを混合して前記金属塩を金属化合物として前記ミセル内に導入することにより、前駆体を生成する工程と、
前記前駆体を焼成することにより、前記界面活性剤を除去し、金属が担持された多孔質シリカを得る工程と、
を備える、
金属が担持された多孔質シリカの製造方法。 - 前記縮合させる工程が、前記シリカ源が縮合するまで水溶液のpHを増加または減少させる工程を含む、
請求項1乃至3のいずれかに記載の多孔質シリカの製造方法。 - 前記金属化合物が、亜鉛、銀、ニッケル、銅、コバルト、マンガン、セリウム、白金、バナジウム及び鉄からなる群から選ばれる少なくとも一種の金属を含む、
請求項1乃至4のいずれかに記載の多孔質シリカの製造方法。 - 前記ミセルを生成する工程が、更に、前記シリカ源を縮合させる工程の前に、前記水溶液に、前記金属化合物に含まれる金属とは異なるドープ用金属の供給源となるドープ用金属塩を添加する工程を備える、
請求項1乃至5のいずれかに記載の多孔質シリカの製造方法。 - 前記ドープ用金属塩が、アルミニウム、及びジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属の塩を含む、
請求項6に記載の多孔質シリカの製造方法。
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