JP7111768B2 - 感光性樹脂組成物、これを利用した感光性樹脂膜およびカラーフィルター - Google Patents
感光性樹脂組成物、これを利用した感光性樹脂膜およびカラーフィルター Download PDFInfo
- Publication number
- JP7111768B2 JP7111768B2 JP2020080504A JP2020080504A JP7111768B2 JP 7111768 B2 JP7111768 B2 JP 7111768B2 JP 2020080504 A JP2020080504 A JP 2020080504A JP 2020080504 A JP2020080504 A JP 2020080504A JP 7111768 B2 JP7111768 B2 JP 7111768B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- chemical formula
- resin composition
- core
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
- C09B57/007—Squaraine dyes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Architecture (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
R1は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、または*-OR6(R6は、置換または非置換の炭素数1~20のアルキル基)であり、
R2~R5は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
ただし、R1~R5は、同時に水素原子になることはなく、
mは、1~10の整数であり、
nは、0~3の整数であり、
L1およびL2は、それぞれ独立して、単結合または置換もしくは非置換の炭素数1~10のアルキレン基である。
R1は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、または*-OR6(R6は、置換または非置換の炭素数1~20のアルキル基)であり、
R2~R5は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
ただし、R1~R5は、同時に水素原子になることはなく、
nは、0~3の整数である。
R2~R5は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
R7およびR8は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、または*-OR6(R6は、置換または非置換の炭素数1~20のアルキル基)である。
R9~R12は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基、または置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリール基である。
R1は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、または*-OR6(R6は、置換または非置換の炭素数1~20のアルキル基)であり、
R2~R5は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
ただし、R1~R5は、同時に水素原子になることはなく、
mは、1~10の整数であり、
nは、0~3の整数であり、
L1およびL2は、それぞれ独立して、単結合、または置換もしくは非置換の炭素数1~10のアルキレン基である。
本発明の一実施形態による感光性樹脂組成物は、コア-シェル構造の染料を含む。
R1は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、または*-OR6(R6は、置換または非置換の炭素数1~20のアルキル基)であり、
R2~R5は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
ただし、R1~R5は、同時に水素原子になることはなく、
nは、0~3の整数である。
R1は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、または*-OR6(R6は、置換または非置換の炭素数1~20のアルキル基)であり、
R2~R5は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基である。
R2~R5は、それぞれ独立して、水素原子、または置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基であり、
R7およびR8は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、または*-OR6(R6は、置換または非置換の炭素数1~20のアルキル基)である。
R9~R12は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基、または置換もしくは非置換の炭素数6~20のアリール基である。
バインダー樹脂は、第1エチレン性不飽和単量体およびこれと共重合可能な第2エチレン性不飽和単量体の共重合体であり、1つ以上のアクリル系繰り返し単位を含む樹脂であってもよい。
光重合性単量体は、少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する(メタ)アクリル酸の一官能または多官能エステルを用いることができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、ベンゾイン系化合物、トリアジン系化合物、オキシム系化合物などを用いることができる。
溶媒は特に制限されないが、具体的に例を挙げると、メタノール、エタノールなどのアルコール類;ジクロロエチルエーテル、n-ブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、メチルフェニルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類;エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルなどのグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチルセロソルブアセテートなどのセロソルブアセテート類;メチルエチルカルビトール、ジエチルカルビトール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのカルビトール類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン、メチル-n-プロピルケトン、メチル-n-ブチルケトン、メチル-n-アミルケトン、2-ヘプタノンなどのケトン類;酢酸エチル、酢酸-n-ブチル、酢酸イソブチルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類;メチルラクテート、エチルラクテートなどの乳酸アルキルエステル類;メチルヒドロキシアセテート、エチルヒドロキシアセテート、ブチルヒドロキシアセテートなどのヒドロキシ酢酸アルキルエステル類;メトキシメチルアセテート、メトキシエチルアセテート、メトキシブチルアセテート、エトキシメチルアセテート、エトキシエチルアセテートなどの酢酸アルコキシアルキルエステル類;メチル3-ヒドロキシプロピオネート、エチル3-ヒドロキシプロピオネートなどの3-ヒドロキシプロピオン酸アルキルエステル類;メチル3-メトキシプロピオネート、エチル3-メトキシプロピオネート、エチル3-エトキシプロピオネート、メチル3-エトキシプロピオネートなどの3-アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類;メチル2-ヒドロキシプロピオネート、エチル2-ヒドロキシプロピオネート、プロピル2-ヒドロキシプロピオネートなどの2-ヒドロキシプロピオン酸アルキルエステル類;メチル2-メトキシプロピオネート、エチル2-メトキシプロピオネート、エチル2-エトキシプロピオネート、メチル2-エトキシプロピオネートなどの2-アルコキシプロピオン酸アルキルエステル類;メチル2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオネート、エチル2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオネートなどの2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸アルキルエステル類;メチル2-メトキシ-2-メチルプロピオネート、エチル2-エトキシ-2-メチルプロピオネートなどの2-アルコキシ-2-メチルプロピオン酸アルキルエステル類;2-ヒドロキシエチルプロピオネート、2-ヒドロキシ-2-メチルエチルプロピオネート、ヒドロキシエチルアセテート、メチル2-ヒドロキシ-3-メチルブタノエートなどのエステル類;またはピルビン酸エチルなどのケト酸エステル類の化合物が挙げられる。また、N-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルホルムアニリド、N-メチルアセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセチルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1-オクタノール、1-ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γブチロラクトン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、フェニルセロソルブアセテートなども挙げられる。これらは単独でもまたは2種以上を混合しても用いることができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、塗布時に染みや斑点を防止し、レベリング性能を改善するために、また未現像による残留物の生成を防止するために、マロン酸;3-アミノ-1,2-プロパンジオール;ビニル基または(メタ)アクリルオキシ基を含むシラン系カップリング剤;レベリング剤;フッ素系界面活性剤;ラジカル重合開始剤などの添加剤をさらに含むことができる。
(製造例1:中間体Aの製造)
中間体C-1の代わりに中間体C-2を用いたことを除き、製造例12と同様の方法で合成して、化学式4-2で表される化合物を得た。
中間体C-1の代わりに中間体C-3を用いたことを除き、製造例12と同様の方法で合成して、化学式4-3で表される化合物を得た。
中間体C-1の代わりに中間体C-4を用いたことを除き、製造例12と同様の方法で合成して、化学式4-4で表される化合物を得た。
中間体C-1の代わりに中間体C-5を用いたことを除き、製造例12と同様の方法で合成して、化学式4-5で表される化合物を得た。
中間体C-1の代わりに中間体C-6を用いたことを除き、製造例12と同様の方法で合成して、化学式4-6で表される化合物を得た。
(合成例1:化学式5-1の合成)
Maldi-TOF MS:1346.75m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-2で表される化合物を用いたことを除き、合成例1と同様の方法で合成して、化学式5-2で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1402.82m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-3で表される化合物を用いたことを除き、合成例1と同様の方法で合成して、化学式5-3で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1290.60m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-4で表される化合物を用いたことを除き、合成例1と同様の方法で合成して、化学式5-4で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1318.72m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-5で表される化合物を用いたことを除き、合成例1と同様の方法で合成して、化学式5-5で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1342.72m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-6で表される化合物を用いたことを除き、合成例1と同様の方法で合成して、化学式5-6で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1538.94m/z。
Maldi-TOF MS:1262.66m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-2で表される化合物を用いたことを除き、合成例7と同様の方法で合成して、化学式5-8で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1318.72m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-3で表される化合物を用いたことを除き、合成例7と同様の方法で合成して、化学式5-9で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1206.59m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-4で表される化合物を用いたことを除き、合成例7と同様の方法で合成して、化学式5-10で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1234.63m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-5で表される化合物を用いたことを除き、合成例7と同様の方法で合成して、化学式5-11で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1258.63m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-6で表される化合物を用いたことを除き、合成例7と同様の方法で合成して、化学式5-12で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1454.84m/z。
Maldi-TOF MS:1370.60m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-2で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-14で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1426.66m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-3で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-15で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1314.54m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-4で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-16で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1342.57m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-5で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-17で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1366.57m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-6で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-18で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1562.79m/z。
Maldi-TOF MS:1490.87m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-2で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-20で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1546.93m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-3で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-21で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1434.80m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-4で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-22で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1462.83m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-5で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-23で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1486.83m/z。
化学式4-1で表される化合物の代わりに化学式4-6で表される化合物を用いたことを除き、合成例13と同様の方法で合成して、化学式5-24で表される化合物を得た:
Maldi-TOF MS:1683.05m/z。
感光性樹脂組成物の製造に使用される成分の仕様は次のとおりである。
(染料)
(A-1)合成例1で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-1で表示)
(A-2)合成例2で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-2で表示)
(A-3)合成例3で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-3で表示)
(A-4)合成例4で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-4で表示)
(A-5)合成例5で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-5で表示)
(A-6)合成例6で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-6で表示)
(A-7)合成例7で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-7で表示)
(A-8)合成例8で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-8で表示)
(A-9)合成例9で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-9で表示)
(A-10)合成例10で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-10で表示)
(A-11)合成例11で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-11で表示)
(A-12)合成例12で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-12で表示)
(A-13)合成例13で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-13で表示)
(A-14)合成例14で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-14で表示)
(A-15)合成例15で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-15で表示)
(A-16)合成例16で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-16で表示)
(A-17)合成例17で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-17で表示)
(A-18)合成例18で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-18で表示)
(A-19)合成例19で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-19で表示)
(A-20)合成例20で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-20で表示)
(A-21)合成例21で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-21で表示)
(A-22)合成例22で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-22で表示)
(A-23)合成例23で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-23で表示)
(A-24)合成例24で製造されたコア-シェル構造の染料(化学式5-24で表示)
(A-25)比較合成例1で製造されたコア-シェル構造の染料。
(A’-1)C.I.ピグメントグリーン58
(B)バインダー樹脂
重量平均分子量が22,000g/molであり、かつ酸価が80~130mgKOH/gであるメタクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体(混合重量比15重量%/85重量%(混合質量比15質量%/85質量%))(重量平均分子量はGPCを用いて測定し、酸価は滴定法を用いて測定した)
(C)光重合性単量体
ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート
(D)光重合開始剤
(D-1)1,2-オクタンジオン
(D-2)2-ジメチルアミノ-2-(4-メチル-ベンジル)-1-(4-モルホリン-4-イル-フェニル)-ブタン-1-オン
(E)溶媒
(E-1)シクロヘキサノン
(E-2)プロピレングリコールメチルエーテルアセテート。
下記表1および表2の組成で各成分を混合して感光性樹脂組成物を製造した。具体的には、溶媒に光重合開始剤を溶解した後、2時間かけて常温で攪拌した。その後、着色剤を投入して30分間攪拌し、バインダー樹脂と光重合性単量体とを添加して2時間かけて常温で攪拌した。得られた溶液を、3回濾過して不純物を除去し、感光性樹脂組成物を製造した。
評価1:耐久性の評価
脱脂洗浄した厚さ1mmのガラス基板上に、1μm~3μmの厚さで実施例1~実施例24、比較例1、および比較例2で製造した感光性樹脂組成物を塗布し、90℃のホットプレート上で2分間乾燥させて塗膜を得た。続いて、塗膜に対して365nmの主波長を有する高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射した後、200℃のオーブンで60時間乾燥させた。その後、分光光度計(MCPD3000、大塚電子株式会社製)を用いて色座標変化値を測定して耐久性を確認し、その結果を下記表3に示した:
耐久性の評価基準
極めて良好:色座標変化値が0.003未満
良好:色座標変化値が0.003以上0.005以下
不良:色座標変化値が0.005超過。
脱脂洗浄した厚さ1mmのガラス基板上に、1μm~3μmの厚さで実施例1~実施例24、比較例1、および比較例2で製造した感光性樹脂組成物を塗布し、90℃のホットプレート上で2分間乾燥させて塗膜を得た。続いて、塗膜に対して365nmの主波長を有する高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射した後、200℃の熱風循環式乾燥炉内で5分間乾燥させた。画素層は、分光光度計(MCPD3000、大塚電子株式会社製)を用いて輝度および明暗比を測定し、その結果を下記表4に示した。
Claims (10)
- (A)コア-シェル構造の染料を含む着色剤;
(B)バインダー樹脂;
(C)光重合性化合物;
(D)光重合開始剤;および
(E)溶媒、を含み、
前記コアを構成する化合物は、下記化学式4で表されるスクアリリウム系化合物であり、
前記シェルを構成する化合物は、下記化学式3-1~化学式3-4で表される化合物のうちのいずれか1つである、感光性樹脂組成物:
前記化学式4中、
R9およびR11は、それぞれ独立して、炭素数1~10のアルコキシ基で置換されたもしくは非置換の炭素数1~20のアルキル基、または炭素数1~10のアルコキシ基で置換されたもしくは非置換の炭素数3~20のシクロアルキル基であり、
R10およびR12は、それぞれ独立して、置換または非置換の炭素数6~20のアリール基である:
- 前記コアを構成する化合物は、530nm~680nmの波長で最大吸収ピークを有する、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記コア-シェル構造の染料は、前記コアを構成する化合物および前記シェルを構成する化合物を1:1のモル比で含む、請求項1~3のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記コア-シェル構造の染料は、緑色染料である、請求項1~4のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記着色剤は、顔料をさらに含む、請求項1~5のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記感光性樹脂組成物は、前記感光性樹脂組成物の総量に対して、
前記着色剤 0.5質量%~20質量%;
前記バインダー樹脂 0.1質量%~30質量%;
前記光重合性単量体 0.1質量%~30質量%;
前記光重合開始剤 0.1質量%~5質量%;および
残部の前記溶媒の含有量で含む、請求項1~6のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。 - 前記感光性樹脂組成物は、マロン酸、3-アミノ-1,2-プロパンジオール、ビニル基もしくは(メタ)アクリルオキシ基を含むシラン系カップリング剤、レベリング剤、界面活性剤、ラジカル重合開始剤、またはこれらの組み合わせをさらに含む、請求項1~7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
- 請求項1~8のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物から形成される感光性樹脂膜。
- 請求項9に記載の感光性樹脂膜を含むカラーフィルター。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020190051681A KR20200127482A (ko) | 2019-05-02 | 2019-05-02 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 |
KR10-2019-0051681 | 2019-05-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020184073A JP2020184073A (ja) | 2020-11-12 |
JP7111768B2 true JP7111768B2 (ja) | 2022-08-02 |
Family
ID=73044573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020080504A Active JP7111768B2 (ja) | 2019-05-02 | 2020-04-30 | 感光性樹脂組成物、これを利用した感光性樹脂膜およびカラーフィルター |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7111768B2 (ja) |
KR (2) | KR20200127482A (ja) |
CN (1) | CN111880373A (ja) |
TW (1) | TWI826684B (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116472315A (zh) * | 2020-12-22 | 2023-07-21 | 三星Sdi株式会社 | 核壳染料、包含其的感光性树脂组合物、感光性树脂膜、滤色器、以及cmos图像传感器 |
KR20220094939A (ko) * | 2020-12-29 | 2022-07-06 | 삼성에스디아이 주식회사 | 코어-쉘 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 컬러필터 및 cmos 이미지 센서 |
KR102603293B1 (ko) * | 2021-03-24 | 2023-11-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 컬러필터 및 cmos 이미지 센서 |
KR20220169896A (ko) * | 2021-06-21 | 2022-12-28 | 삼성에스디아이 주식회사 | 코어-쉘 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 컬러필터 및 cmos 이미지 센서 |
KR20230013508A (ko) * | 2021-07-19 | 2023-01-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 코어-쉘 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치 |
KR20230015746A (ko) * | 2021-07-23 | 2023-01-31 | 삼성에스디아이 주식회사 | 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 cmos 이미지 센서 |
KR20230045362A (ko) * | 2021-09-28 | 2023-04-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러 필터 |
KR20230127066A (ko) * | 2022-02-24 | 2023-08-31 | 삼성에스디아이 주식회사 | 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 근적외선 흡수성 수지 조성물 및 근적외선 흡수 필름 |
WO2023162791A1 (ja) * | 2022-02-25 | 2023-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収組成物、赤外線吸収剤、膜、光学フィルタおよび固体撮像素子 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012013945A (ja) | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び液晶表示素子 |
JP2015098589A (ja) | 2013-10-17 | 2015-05-28 | 住友化学株式会社 | 着色硬化性樹脂組成物 |
JP2016117858A (ja) | 2014-12-22 | 2016-06-30 | 住友化学株式会社 | 着色硬化性樹脂組成物 |
CN107793327A (zh) | 2016-09-05 | 2018-03-13 | 三星Sdi株式会社 | 新颖化合物、核‑壳染料、感光树脂组合物及彩色滤光片 |
WO2018056546A1 (ko) | 2016-09-26 | 2018-03-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 신규한 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 |
WO2018062663A1 (ko) | 2016-09-28 | 2018-04-05 | 삼성에스디아이 주식회사 | 신규한 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101531616B1 (ko) * | 2012-12-05 | 2015-06-25 | 제일모직 주식회사 | 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
KR102018236B1 (ko) * | 2016-09-28 | 2019-09-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 |
KR102103804B1 (ko) * | 2017-03-23 | 2020-04-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 신규한 화합물, 코어-쉘 염료 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 |
KR102144981B1 (ko) * | 2017-06-27 | 2020-08-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 포함하는 컬러필터 |
US11091646B2 (en) * | 2017-08-14 | 2021-08-17 | Seta Biomedicals, Llc | Luminescent squaraine rotaxane compounds |
-
2019
- 2019-05-02 KR KR1020190051681A patent/KR20200127482A/ko not_active Application Discontinuation
-
2020
- 2020-04-29 CN CN202010357498.2A patent/CN111880373A/zh active Pending
- 2020-04-30 TW TW109114481A patent/TWI826684B/zh active
- 2020-04-30 JP JP2020080504A patent/JP7111768B2/ja active Active
-
2023
- 2023-02-01 KR KR1020230013928A patent/KR102624671B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012013945A (ja) | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Fujifilm Corp | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び液晶表示素子 |
JP2015098589A (ja) | 2013-10-17 | 2015-05-28 | 住友化学株式会社 | 着色硬化性樹脂組成物 |
JP2016117858A (ja) | 2014-12-22 | 2016-06-30 | 住友化学株式会社 | 着色硬化性樹脂組成物 |
CN107793327A (zh) | 2016-09-05 | 2018-03-13 | 三星Sdi株式会社 | 新颖化合物、核‑壳染料、感光树脂组合物及彩色滤光片 |
WO2018056546A1 (ko) | 2016-09-26 | 2018-03-29 | 삼성에스디아이 주식회사 | 신규한 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 |
WO2018062663A1 (ko) | 2016-09-28 | 2018-04-05 | 삼성에스디아이 주식회사 | 신규한 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200127482A (ko) | 2020-11-11 |
TWI826684B (zh) | 2023-12-21 |
JP2020184073A (ja) | 2020-11-12 |
CN111880373A (zh) | 2020-11-03 |
TW202041602A (zh) | 2020-11-16 |
KR102624671B1 (ko) | 2024-01-12 |
KR20230024934A (ko) | 2023-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7111768B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを利用した感光性樹脂膜およびカラーフィルター | |
KR102059022B1 (ko) | 신규한 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 | |
JP6761118B2 (ja) | 新規な化合物、コア−シェル染料、これを含む感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ | |
KR102020917B1 (ko) | 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 | |
JP6894500B2 (ja) | 新規な化合物、コア−シェル染料、これを含む感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ | |
JP6970162B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いて製造された感光性樹脂膜およびカラーフィルタ | |
JP6781834B2 (ja) | 新規な化合物、コア−シェル染料、これを含む感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ | |
KR101413072B1 (ko) | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 | |
KR102197413B1 (ko) | 신규한 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 | |
JP7317217B2 (ja) | 化合物、コア-シェル染料、これを含む感光性樹脂組成物、およびカラーフィルタ | |
KR102103804B1 (ko) | 신규한 화합물, 코어-쉘 염료 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 | |
KR102394252B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 | |
KR102018236B1 (ko) | 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 | |
KR20210146726A (ko) | 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 | |
KR20210028564A (ko) | 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 | |
KR20210156125A (ko) | 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터 | |
KR102144981B1 (ko) | 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막 및 이를 포함하는 컬러필터 | |
JP2023541420A (ja) | コア-シェル染料、これを含む感光性樹脂組成物、感光性樹脂膜、カラーフィルタ、およびcmosイメージセンサー | |
JP2023048989A (ja) | コア-シェル染料、これを含む感光性樹脂組成物およびカラーフィルター |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200430 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210317 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210330 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220628 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220721 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7111768 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |