JP7111581B2 - 高純度原料ガス供給方法、及び高純度原料ガス供給設備 - Google Patents
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Description
[1] 容器又は高純度原料ガス使用設備にホウ素系の高純度原料ガスを供給する高純度原料ガス供給方法であって、
供給配管、及び前記容器又は前記高純度原料ガス使用設備に不活性ガスを供給して、前記供給配管の下流側に設置された測定計にて前記供給配管、及び前記容器又は前記高純度原料ガス使用設備中に含まれる水分、及びホウ酸の濃度を測定し、測定される前記水分、及び前記ホウ酸の濃度が規定値以下となるまで前記不活性ガスの供給及び排出を繰り返す工程と、
前記供給配管、及び前記容器又は前記高純度原料ガス使用設備に前記高純度原料ガスを供給して、前記測定計にて前記供給配管、及び前記容器又は前記高純度原料ガス使用設備中に含まれる水分、及びホウ酸の濃度を測定し、測定される前記水分、及び前記ホウ酸の濃度が規定値以下となるまで前記高純度原料ガスの供給及び排出を繰り返す工程と、を含む、高純度原料ガス供給方法。
[2] 前記規定値が、0.5ppm以下である、[1]に記載の高純度原料ガス供給方法。
[3] 前記不活性ガスの供給及び排出を繰り返す工程並びに前記高純度原料ガスの供給及び排出を繰り返す工程が、高次ボランの濃度も測定する、[1]又は[2]に記載の高純度原料ガス供給方法。
[4] 前記ホウ素系の高純度原料ガスが、ジボラン(B2H6)である、[1]乃至[3]のいずれか一項に記載の高純度原料ガス供給方法。
[5] ホウ素系の高純度原料ガスを供給する供給配管、及び前記高純度原料ガスを充填する容器、又は高純度原料ガス使用設備を有する高純度原料ガス供給設備であって、
前記供給配管の下流側に、前記供給配管に供給された不活性ガス、及び高純度原料ガスの少なくともいずれかに含まれる水分、及びホウ酸の濃度を分析する測定計を備え、
前記供給配管を介して前記容器に充填された、又は高純度原料ガス使用設備に供給された高純度原料ガスに含まれる前記水分、及び前記ホウ酸の濃度が、0.5ppm以下である、高純度原料ガス供給設備。
[6] 前記測定計が、高次ボランの濃度も測定する、[5]に記載の高純度原料ガス供給設備。
[7] 前記高純度原料ガス使用設備を有する場合、該高純度原料ガス使用設備に供給される高純度原料ガスは、前記供給配管の上流側に連結された前記容器に充填されたものである、[5]又は[6]に記載の高純度原料ガス供給設備。
したがって、容器へホウ素系ガスを充填する場合でも、半導体デバイスの製造装置等の高純度原料ガス使用設備に供給する場合でも、高次ボラン濃度だけではなく、水分、ホウ酸濃度を監視することで、供給設備の制御不能を起こさない、より高品質及び/又は高純度な材料ガスを供給することが可能となる。
<第1実施形態>
図1は、本発明の高純度原料ガス供給方法及びそのための装置における第1実施形態の処理手順を示すフローチャートである。図2は、本発明の高純度原料ガス供給方法及びそのための装置における第1実施形態の構成を示す系統図である。
ホウ素系ガスをホウ素系ガス容器2に充填する前に、まず、主配管(供給配管)La内に残留している大気成分を十分除去する(ステップS1~S3)。
図3は、本発明の高純度原料ガス供給方法及びそのための装置における第2実施形態の構成を示す系統図である。ここで、第1実施形態と同一の構成については、同符号を付し、以下、重複した説明を省略する。また、第1実施形態に関して図1に示した処理手順に対応した、第2実施形態に係る処理手順は、図1におけるホウ素系ガス容器2が高純度原料ガス使用設備10に代わるのみであるので、図としては省略する。
第3実施形態は、不活性ガスの供給に関して、第1実施形態におけるステップS1~S3の供給及び排出工程を行わず、ステップS4~S6の供給及び排出工程を行う形態である。すなわち、不活性ガスの供給に関するステップS4~S6、高純度原料ガスの供給に関するステップS7~S9を行う。
危険性ガス状物質:製法・用途,物性,火災・爆発性,毒性・応急処置,取扱いなど(東レリサーチセンター発行)に記載されるような方法にて、ジボラン(B2H6)を発生させ、蒸留等を用いて不純物を除去し、ジボラン(B2H6)を精製した。精製したジボラン(B2H6)中の不純物として水分及びホウ酸を測定し、ともに0.1ppm以下であることを確認した。
その結果、下記表1に示す通り、水分及びホウ酸の濃度がともに0.1ppm以下となり、高次ボランが0.5ppm以下となったことを確認した。
その結果、下記表1に示す通り、水分及びホウ酸の濃度がともに0.1ppm以下となり、高次ボランが0.5ppm以下となったことを確認した。
ゆえに、高品質なジボラン(B2H6)ガスが供給可能であることが分かった。
ステップS1~S3の供給及び排出工程を行わず、かつステップS4~S5の供給及び排出工程を22回繰り返し行ったこと以外は、実施例1と同様にして、高純度原料ガスを供給した。なお、繰り返し6回目からステップS6の分析計での分析を毎回行った。
その結果、下記表2に示す通り、水分及びホウ酸の濃度がともに0.1ppm以下となり、高次ボランが0.5ppm以下となったことを確認した。
なお、ステップS1~2の供給及び排出工程を行わなかったことから、ステップS1~S6の供給及び排出工程の総繰り返し回数が増加する結果となった。
図3に示す高純度原料ガス供給設備を用いて、実施例1において、容器に充填した高純度原料ガスとして、高純度原料ガス使用設備に供給したこと以外は、実施例1と同様にして、高純度原料ガスを供給した。
その結果、下記表2に示す通り、水分及びホウ酸の濃度がともに0.1ppm以下となり、高次ボランが0.5ppm以下となったことを確認した。
不活性ガス(高純度N2を採用)による供給及び排出工程を、実施例1と同様に実施したところ、下記表1に示すように、実施例1と同様、繰り返しを5回実施したら、水分及びホウ酸の濃度がともに0.1ppm以下となり、高次ボランが0.5ppm以下となったことを確認した。
不活性ガス(高純度N2を採用)による供給及び排出工程(ステップS1~S3)を、実施例1とは異なり1回のみしか実施せず、ステップS4~S6を実施しなかったところ、下記表2に示すように、実施例1とは異なり、水分が2.3ppm検出された。これは、1回のみの供給及び排出工程では水分が十分排除しきれなかったためである。
ステップS1~S3の不活性ガス供給及び排出工程を行わず、ステップS4~S5の不活性ガス供給及び排出工程を1回繰り返し行った以外は、比較例2と同様にして、高純度原料ガスを供給した。
その結果、下記表2に示す通り、ホウ酸の濃度が2.0ppmで、水分の濃度が0.2ppmであった。
Claims (7)
- 容器又は高純度原料ガス使用設備にホウ素系の高純度原料ガスを供給する高純度原料ガス供給方法であって、
供給配管、及び前記容器又は前記高純度原料ガス使用設備に不活性ガスを供給して、前記供給配管の下流側に設置された測定計にて前記供給配管、及び前記容器又は前記高純度原料ガス使用設備中に含まれる水分、及びホウ酸の濃度を測定し、測定される前記水分、及び前記ホウ酸の濃度が規定値以下となるまで前記不活性ガスの供給及び排出を繰り返す工程と、
前記供給配管、及び前記容器又は前記高純度原料ガス使用設備に前記高純度原料ガスを供給して、前記測定計にて前記供給配管、及び前記容器又は前記高純度原料ガス使用設備中に含まれる水分、及びホウ酸の濃度を測定し、測定される前記水分、及び前記ホウ酸の濃度が規定値以下となるまで前記高純度原料ガスの供給及び排出を繰り返す工程と、を含む、高純度原料ガス供給方法。 - 前記規定値が、0.5ppm以下である、請求項1に記載の高純度原料ガス供給方法。
- 前記不活性ガスの供給及び排出を繰り返す工程並びに前記高純度原料ガスの供給及び排出を繰り返す工程が、高次ボランの濃度も測定する、請求項1又は2に記載の高純度原料ガス供給方法。
- 前記ホウ素系の高純度原料ガスが、ジボラン(B2H6)である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の高純度原料ガス供給方法。
- ホウ素系の高純度原料ガスを供給する供給配管、及び前記高純度原料ガスを充填する容器、又は高純度原料ガス使用設備を有する高純度原料ガス供給設備であって、
前記供給配管の下流側に、前記供給配管に供給された不活性ガス、及び高純度原料ガスの少なくともいずれかに含まれる水分、及びホウ酸の濃度を分析する測定計を備え、
前記供給配管を介して前記容器に充填された、又は高純度原料ガス使用設備に供給された高純度原料ガスに含まれる前記水分、及び前記ホウ酸の濃度が、0.5ppm以下である、高純度原料ガス供給設備。 - 前記測定計が、高次ボランの濃度も測定する、請求項5に記載の高純度原料ガス供給設備。
- 前記高純度原料ガス使用設備を有する場合、該高純度原料ガス使用設備に供給される高純度原料ガスは、前記供給配管の上流側に連結された前記容器に充填されたものである、請求項5又は6に記載の高純度原料ガス供給設備。
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