JP7110528B2 - 有機el素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法 - Google Patents
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本発明に係る有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法は、有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法であって、基板ホルダーに保持されたベース基板上に、陽極膜、バッファー層、p形正孔輸送層、n形有機半導体層、及びLiF層を積層した積層膜を成膜する準備ステップと、電極膜材料を対向ターゲットとして配置し、対向空間側面に前記ベース基板を配置し、前記ベース基板に対向させてハロゲンランプを配置し、ハロゲンランプ加熱により前記ベース基板の表側へ赤外線を照射し、赤外線照射量を制御することにより前記ベース基板を所定温度範囲内に加熱しながら、前記ベース基板の表側の前記積層膜に、前記電極膜材料をスパッタして前記上部電極膜を成膜するスパッタステップと、を有するものである。
また、本発明は、構成1を有する有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法において、前記スパッタステップの終了後に、真空中にて前記ベース基板上の前記積層膜をアニールするアニールステップを有するものである。
本実施例にかかる有機EL素子の製造方法は、対向ターゲット式低ダメージスパッタ装置を使用する。この装置を用いたスパッタ成膜では成膜時のベース基板温度上昇は5℃以下であるため、スパッタリングによる上部電極膜の成膜時にハロゲンランプ等でベース基板表面側から赤外線を照射し加熱する。この成膜時の赤外線照射・加熱により、真空蒸着法と比べ遜色ない低電圧で発光可能な有機EL素子の作製が可能である。
本実施例の有機EL素子の製造方法は、準備ステップとスパッタステップの後に、真空中にてベース上の積層膜を加熱するアニールステップをさらに有する。アニールステップを付加することにより、真空蒸着法と同等の発光特性を持つ素子の作製が可能である。
0103 ベース基板
0106 加熱装置
Claims (2)
- 有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法であって、
基板ホルダーに保持されたベース基板上に、陽極膜、バッファー層、p形正孔輸送層、n形有機半導体層、及びLiF層を積層した積層膜を成膜する準備ステップと、
電極膜材料を対向ターゲットとして配置し、対向空間側面に前記ベース基板を配置し、前記ベース基板に対向させてハロゲンランプを配置し、ハロゲンランプ加熱により前記ベース基板の表側へ赤外線を照射し、赤外線照射量を制御することにより前記ベース基板を所定温度範囲内に加熱しながら、前記ベース基板の表側の前記積層膜に、前記電極膜材料をスパッタして前記上部電極膜を成膜するスパッタステップと、
を有する有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法。 - 前記スパッタステップの終了後に、真空中にて前記ベース基板上の前記積層膜をアニールするアニールステップを有する請求項1に記載の有機EL素子の上部電極膜のスパッタ法による製造方法。
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