JP7105185B2 - インピーダンス整合装置及びインピーダンス整合方法 - Google Patents
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Description
(実施形態1)
図1は、実施形態1に係るインピーダンス整合装置100の構成例を示すブロック図である。インピーダンス整合装置100は、高周波電力を出力する高周波電源5及び高周波電力を消費する負荷7の間に設けられている。高周波電源5及びインピーダンス整合装置100の間には、高周波電力を通過させると共に高周波電圧等のパラメータを検出する高周波検出部6が接続されている。即ち、高周波検出部6は、高周波電源5の出力端と、インピーダンス整合装置100の入力端との間に介在してある。高周波検出部6がインピーダンス整合装置100に含まれていてもよい。
実施形態1は、制御部3が負荷7側の反射係数を用いてキャパシタ11,12,・・18の組み合わせを決定する形態であるのに対し、実施形態2は、制御部3が負荷7側のインピーダンスを用いてキャパシタ11,12,・・18の組み合わせを決定する形態である。実施形態2に係るインピーダンス整合装置100の構成は、実施形態1の場合と同様であるため、対応する箇所には同様の符号を付してその説明を省略する。実施形態1と実施形態2とでは、CPUの処理手順の一部に違いがある。FPGAの処理手順については、実施形態1の図6に示すものと同様である。
101 伝送路
1 可変キャパシタ
C1 キャパシタ
L1 インダクタ
11、12、13、14、15、16、17、18 キャパシタ
21、22、23、24、25、26、27、28 半導体スイッチ
31、32、33、34、35、36、37、38 駆動回路
QH、QL トランジスタ
R 抵抗器
SC スピードアップコンデンサ
F フィルタ
FC キャパシタ
FL インダクタ
2 前置算出部
3 制御部
30 記憶部
4 スイッチ状態設定部
5 高周波電源
6 高周波検出部
7 負荷
Claims (6)
- 高周波電源と負荷との間に設けられ、前記高周波電源の出力端又は該出力端と同等の箇所から前記負荷側を見たインピーダンスに関する情報を時系列的に取得して、該高周波電源と負荷とのインピーダンスの整合を図るインピーダンス整合装置であって、
キャパシタ及び半導体スイッチの直列回路が複数並列に接続された可変キャパシタと、
取得した前記インピーダンスに関する情報を用いて前記負荷側のインピーダンス又は反射係数を算出する算出部と、
該算出部が所定期間内に算出したインピーダンス又は反射係数と前記半導体スイッチのオン/オフの状態とを対応付けて記憶する記憶部と、
前記所定期間内における前記算出部の算出結果を用いて、前記半導体スイッチがとるべきオン/オフの状態を決定する決定部と、
該決定部が決定した状態に基づいて前記半導体スイッチをオン/オフする制御部と、
前記決定部が決定した状態が変化した回数を計数する計数部と、
該計数部が計数した回数が所定回数より多い場合、前記記憶部が記憶したインピーダンス又は反射係数のうち、所定インピーダンスにより近いインピーダンス又は0により近い反射係数を抽出する抽出部と
を備え、
前記制御部は、前記抽出部が抽出したインピーダンス又は反射係数に対応付けられたオン/オフの状態に一致するように前記半導体スイッチをオン/オフした後に、前記半導体スイッチのオン/オフを禁止するようにしてあるインピーダンス整合装置。 - 前記算出部は、反射係数を算出するようにしてあり、
前記制御部は、前記半導体スイッチのオン/オフを禁止した場合、前記算出部が算出した反射係数の絶対値が、前記抽出部が抽出した反射係数の絶対値より大きい所定の反射係数以上であるときに、前記オン/オフの禁止を解除するようにしてある
請求項1に記載のインピーダンス整合装置。 - 前記算出部は、インピーダンスを算出するようにしてあり、
前記制御部は、前記半導体スイッチのオン/オフを禁止した場合、前記算出部が算出したインピーダンスと前記所定インピーダンスとの差分の絶対値が、前記抽出部が抽出したインピーダンスと前記所定インピーダンスとの差分の絶対値より大きい所定の差分以上であるときに、前記オン/オフの禁止を解除するようにしてある
請求項1に記載のインピーダンス整合装置。 - 前記計数部は、前記可変キャパシタに含まれる前記半導体スイッチの夫々について前記回数を計数し、最も計数値が大きい回数を計数結果とするようにしてある請求項1から請求項3の何れか1項に記載のインピーダンス整合装置。
- 前記計数部は、前記制御部が前記半導体スイッチをオン/オフすることによって決定される前記可変キャパシタのキャパシタンスの変化量が所定の閾値より大きい場合に、前記回数を計数するようにしてある請求項1から請求項3の何れか1項に記載のインピーダンス整合装置。
- 高周波電源と負荷との間に設けられる可変キャパシタによって、前記高周波電源と負荷とのインピーダンスの整合を図るインピーダンス整合方法であって、
前記可変キャパシタは、キャパシタ及び半導体スイッチの直列回路が複数並列に接続されており、
前記高周波電源の出力端又は該出力端と同等の箇所から前記負荷側を見たインピーダンスに関する情報を時系列的に取得し、
取得した前記インピーダンスに関する情報を用いて前記負荷側のインピーダンス又は反射係数を算出し、
所定期間内に算出したインピーダンス又は反射係数と前記半導体スイッチのオン/オフの状態とを対応付けて記憶し、
前記所定期間内における算出結果を用いて、前記半導体スイッチがとるべきオン/オフの状態を決定し、
決定した状態に基づいて前記半導体スイッチをオン/オフし、
決定した状態が変化した回数を計数し、
計数した回数が所定回数より多い場合、記憶したインピーダンス又は反射係数のうち、所定インピーダンスにより近いインピーダンス又は0により近い反射係数を抽出し、
抽出したインピーダンス又は反射係数に対応付けられたオン/オフの状態に一致するように前記半導体スイッチをオン/オフした後に、前記半導体スイッチのオン/オフを禁止するインピーダンス整合方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018248199A JP7105185B2 (ja) | 2018-12-28 | 2018-12-28 | インピーダンス整合装置及びインピーダンス整合方法 |
KR1020190172116A KR20200083255A (ko) | 2018-12-28 | 2019-12-20 | 임피던스 정합 장치 및 임피던스 정합 방법 |
US16/722,750 US11218135B2 (en) | 2018-12-28 | 2019-12-20 | Impedance matching device and impedance matching method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018248199A JP7105185B2 (ja) | 2018-12-28 | 2018-12-28 | インピーダンス整合装置及びインピーダンス整合方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020107578A JP2020107578A (ja) | 2020-07-09 |
JP7105185B2 true JP7105185B2 (ja) | 2022-07-22 |
Family
ID=71123300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018248199A Active JP7105185B2 (ja) | 2018-12-28 | 2018-12-28 | インピーダンス整合装置及びインピーダンス整合方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11218135B2 (ja) |
JP (1) | JP7105185B2 (ja) |
KR (1) | KR20200083255A (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US10431428B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-01 | Reno Technologies, Inc. | System for providing variable capacitance |
US12119206B2 (en) | 2015-02-18 | 2024-10-15 | Asm America, Inc. | Switching circuit |
US11476091B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-10-18 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network for diagnosing plasma chamber |
US11521833B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-12-06 | Reno Technologies, Inc. | Combined RF generator and RF solid-state matching network |
US11289307B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-03-29 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
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US11218135B2 (en) | 2022-01-04 |
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JP2020107578A (ja) | 2020-07-09 |
KR20200083255A (ko) | 2020-07-08 |
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JP2006288009A5 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211006 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220614 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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