JP7102288B2 - ゴム組成物、タイヤ、及びゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤 - Google Patents
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Description
本発明は、ゴム組成物、タイヤ、及びゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤に関する。
近年、省資源、省エネルギー、及び環境保護の観点から、二酸化炭素をはじめとした排出ガスの規制が厳しくなっていることから、自動車に対する低燃費化の要求が高まっている。自動車の低燃費化には、エンジン等の駆動系及び伝達系の寄与が大きいが、タイヤの転がり抵抗も大きく関与しているため、駆動系及び伝達系だけでなく、タイヤの転がり抵抗の改善も必要とされている。
タイヤの転がり抵抗の改善方法として、発熱性の低いゴム組成物をタイヤに適用することが知られている。発熱性の低いゴム組成物として、例えば、ゴム成分、カーボンブラック、及びスルフィド化合物を含むゴム組成物（特許文献１）；トリアゾール及び／又はピラゾールなどが吸着する修飾フィラーを含むゴム組成物（特許文献２）等が挙げられる。
特許文献１及び２に記載されている発明によれば、ゴム組成物の発熱性を低くすることができ、その結果、ヒステリシスロス（転がり抵抗性）の低いタイヤを得ることができる。
しかしながら、特許文献１及び２のゴム組成物を用いても、低発熱性の改良は不十分だった。
本発明の目的は、低発熱性を発現し得るゴム組成物を提供することである。
本発明の他の目的の一つは、低発熱性に優れたタイヤを提供することである。
本発明の他の目的の一つは、ゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤を提供することである。
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、ピラゾロン系の化合物がゴム成分に低発熱性を付与できることを見出した。本発明者らはかかる知見に基づき、更に検討を行った結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、以下に示すゴム組成物、該ゴム組成物の製造方法、タイヤ、及びゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤を提供する。
（項１）ゴム成分、下記一般式（１）又は（２）で表される化合物、あるいは該化合物の塩、並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材を含むゴム組成物。
［式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。Ｒ３とＲ４とは一緒になってアルキリデン基を形成してもよく、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のいずれか２つが一緒になってアルキレン基を形成してもよい。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。］
［式（２）中、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８は同一又は異なって、水素原子、アミノ基、アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示し、Ｒ６はアルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。］
（項２）前記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１～４の直鎖状及び分岐状アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基であり、Ｒ２が水素原子、炭素数１～１８の直鎖状及び分岐状アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基であり、Ｒ３とＲ４とは一緒になってアルキリデン基を形成してもよく、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のいずれか２つが一緒になってアルキレン基を形成してもよく、これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい化合物であるか、又は、前記一般式（２）において、Ｒ５が水素原子であり、Ｒ６が炭素数１～４の直鎖状アルキル基、アラルキル基、又はアリール基であり、Ｒ７及びＲ８が、同一又は異なって、水素原子、アミノ基、アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基であり、これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい化合物である、項１に記載のゴム組成物。
（項３）前記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４が共に水素原子であり、Ｒ２が水素原子、炭素数１～４の直鎖状アルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はフリル基である化合物である、項１又は２に記載のゴム組成物。
（項４）前記一般式（１）で表される化合物が、５－ピラゾロン、３－メチル－５－ピラゾロン、３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、又は３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オンである、項１～３のいずれか一項に記載のゴム組成物。
（項５）前記ゴム成分がジエン系ゴムである、項１～４のいずれか一項に記載のゴム組成物。
（項６）前記ゴム成分が、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレン－ブタジエン共重合体ゴム及びブタジエンゴムからなる群から選択される少なくとも１種である、項１～５のいずれか一項に記載のゴム組成物。
（項７）ゴム成分１００質量部に対して、前記一般式（１）又は（２）で表される化合物あるいは該化合物の塩を０．１～５０質量部、及びカーボンブラック及び／又は無機充填材を２～２００質量部含む、項１～６のいずれか一項に記載のゴム組成物。
（項８）トレッド部、サイドウォール部、ビートエリア部、ベルト部、カーカス部及びショルダー部から選ばれる少なくとも１つの部材に用いられる、項１～７のいずれか一項に記載のゴム組成物。
（項９）項１～８のいずれか一項に記載のゴム組成物を用いて作製されたタイヤ。
（項１０）ゴム成分、前記一般式（１）又は（２）で表される化合物、あるいは該化合物の塩、及びカーボンブラック及び／又は無機充填材を含む原料成分を混合する工程（Ａ）、並びに工程（Ａ）で得られる混合物、及び加硫剤を混合する工程（Ｂ）を含む、ゴム組成物の製造方法。
（項１１）前記工程（Ａ）が、ゴム成分、及び前記一般式（１）又は（２）で表される化合物、あるいは該化合物の塩を混合する工程（Ａ－１）、並びに工程（Ａ－１）で得られた混合物及びカーボンブラック及び／又は無機充填材を混合する工程（Ａ－２）である、項１０に記載の製造方法。
（項１２）ゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤であって、下記一般式（１）又は（２）で表される化合物、あるいは該化合物の塩を含む、添加剤。
［式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。Ｒ３とＲ４とは一緒になってアルキリデン基を形成してもよく、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のいずれか２つが一緒になってアルキレン基を形成してもよい。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。］
［式（２）中、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８は同一又は異なって、水素原子、アミノ基、アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示し、Ｒ６はアルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。］
（項１３）下記一般式（１）又は（２）で表される化合物、あるいは該化合物の塩を含む、ゴム成分用低発熱化剤。
［式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。Ｒ３とＲ４とは一緒になってアルキリデン基を形成してもよく、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のいずれか２つが一緒になってアルキレン基を形成してもよい。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。］
［式（２）中、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８は同一又は異なって、水素原子、アミノ基、アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示し、Ｒ６はアルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。］
本発明は、低発熱性を発現し得るゴム組成物を提供することができる。
本発明は、低発熱性を発現し得るゴム組成物を用いてタイヤを作製することで、タイヤの転がり抵抗を小さくし、かつタイヤの発熱性を低くすることができることから、低燃費タイヤを提供することができる。
本発明は、ゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤を提供することができる。該添加剤によって、ゴム成分中に、カーボンブラック及び／又は無機充填材が分散される。
以下に本発明を詳細に説明する。
（ゴム組成物）
本発明のゴム組成物は、下記一般式（１）で表される化合物もしくはその塩（以下、「化合物（１）」ということがある）又は下記一般式（２）で表される化合物もしくはその塩（以下、「化合物（２）」ということがある）、ゴム成分、並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材を含んでいる。
本発明のゴム組成物は、下記一般式（１）で表される化合物もしくはその塩（以下、「化合物（１）」ということがある）又は下記一般式（２）で表される化合物もしくはその塩（以下、「化合物（２）」ということがある）、ゴム成分、並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材を含んでいる。
（化合物（１）又は化合物（２））
本発明のゴム組成物は、下記一般式（１）で表される化合物もしくはその塩（化合物（１））又は下記一般式（２）で表される化合物もしくはその塩（化合物（２））を含む。
本発明のゴム組成物は、下記一般式（１）で表される化合物もしくはその塩（化合物（１））又は下記一般式（２）で表される化合物もしくはその塩（化合物（２））を含む。
化合物（１）又は化合物（２）をゴム成分に添加することで、ゴム成分に低発熱性を付与することができる。このような化合物（１）又は化合物（２）を含むゴム組成物から作製（製造）されたタイヤは、低発熱性を付与できることから、転がり抵抗が低減され、その結果、低燃費性能を発現する。
［式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。Ｒ３とＲ４とは一緒になってアルキリデン基を形成してもよく、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のいずれか２つが一緒になってアルキレン基を形成してもよい。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。］
［式（２）中、Ｒ５、Ｒ７及びＲ８は同一又は異なって、水素原子、アミノ基、アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示し、Ｒ６はアルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。これら各基は、それぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。］
本明細書において、「アルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、１－エチルプロピル等の炭素数１～４の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、更に、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ－ヘキシル、イソヘキシル、３－メチルペンチル、ｎ－ヘプチル、ｎ－オクチル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル、ｎ－ウンデシル、ｎ－ドデシル、５－プロピルノニル、ｎ－トリデシル、ｎ－テトラデシル、ｎ－ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等を加えた炭素数１～１８の直鎖状又は分岐状アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等の炭素数３～８の環状アルキル基等が挙げられる。
本明細書において、「アラルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、ベンジル、フェネチル、トリチル、１－ナフチルメチル、２－(１－ナフチル)エチル、２－(２－ナフチル)エチル基等が挙げられる。
本明細書において、「アリール基」としては、特に限定はなく、例えば、フェニル、ビフェニル、ナフチル、ジヒドロインデニル、９Ｈ－フルオレニル基等が挙げられる。
本明細書において、「アミノ基」としては、－ＮＨ２で表されるアミノ基だけでなく、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ－プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ｎ－ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ｓ－ブチルアミノ、ｔ－ブチルアミノ、１－エチルプロピルアミノ、ｎ－ペンチルアミノ、ネオペンチルアミノ、ｎ－ヘキシルアミノ、イソヘキシルアミノ、３－メチルペンチルアミノ基等の直鎖状又は分岐状のモノアルキルアミノ基；ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ基等の直鎖状又は分岐状のアルキル基を２つ有するジアルキルアミノ基等の置換アミノ基も含まれる。
本明細書において、「複素環基」としては、特に限定はなく、例えば、２－ピリジル、３－ピリジル、４－ピリジル、２－ピラジニル、２－ピリミジル、４－ピリミジル、５－ピリミジル、３－ピリダジル、４－ピリダジル、４－(１，２，３－トリアジル)、５－(１，２，３－トリアジル)、２－(１，３，５－トリアジル)、３－(１，２，４－トリアジル)、５－(１，２，４－トリアジル)、６－(１，２，４－トリアジル)、２－キノリル、３－キノリル、４－キノリル、５－キノリル、６－キノリル、７－キノリル、８－キノリル、１－イソキノリル、３－イソキノリル、４－イソキノリル、５－イソキノリル、６－イソキノリル、７－イソキノリル、８－イソキノリル、２－キノキサリル、３－キノキサリル、５－キノキサリル、６－キノキサリル、７－キノキサリル、８－キノキサリル、３－シンノリル、４－シンノリル、５－シンノリル、６－シンノリル、７－シンノリル、８－シンノリル、２－キナゾリル、４－キナゾリル、５－キナゾリル、６－キナゾリル、７－キナゾリル、８－キナゾリル、１－フタラジル、４－フタラジル、５－フタラジル、６－フタラジル、７－フタラジル、８－フタラジル、１－テトラヒドロキノリル、２－テトラヒドロキノリル、３－テトラヒドロキノリル、４－テトラヒドロキノリル、５－テトラヒドロキノリル、６－テトラヒドロキノリル、７－テトラヒドロキノリル、８－テトラヒドロキノリル、１－ピロリル、２－ピロリル、３－ピロリル、２－フリル、３－フリル、２－チエニル、３－チエニル、１－イミダゾリル、２－イミダゾリル、４－イミダゾリル、５－イミダゾリル、１－ピラゾリル、３－ピラゾリル、４－ピラゾリル、５－ピラゾリル、２－オキサゾリル、４－オキサゾリル、５－オキサゾリル、２－チアゾリル、４－チアゾリル、５－チアゾリル、３－イソオキサゾリル、４－イソオキサゾリル、５－イソオキサゾリル、３－イソチアゾリル、４－イソチアゾリル、５－イソチアゾリル、４－(１，２，３－チアジアゾリル)、５－(１，２，３－チアジアゾリル)、３－(１，２，５－チアジアゾリル)、２－(１，３，４－チアジアゾリル)、４－(１，２，３－オキサジアゾリル)、５－(１，２，３－オキサジアゾリル)、３－(１，２，４－オキサジアゾリル)、５－(１，２，４－オキサジアゾリル)、３－(１，２，５－オキサジアゾリル)、２－(１，３，４－オキサジアゾリル)、１－(１，２，３－トリアゾリル)、４－(１，２，３－トリアゾリル)、５－(１，２，３－トリアゾリル)、１－(１，２，４－トリアゾリル)、３－(１，２，４－トリアゾリル)、５－(１，２，４－トリアゾリル)、１－テトラゾリル、５－テトラゾリル、１－インドリル、２－インドリル、３－インドリル、４－インドリル、５－インドリル、６－インドリル、７－インドリル、１－イソインドリル、２－イソインドリル、３－イソインドリル、４－イソインドリル、５－イソインドリル、６－イソインドリル、７－イソインドリル、１－ベンゾイミダゾリル、２－ベンゾイミダゾリル、４－ベンゾイミダゾリル、５－ベンゾイミダゾリル、６－ベンゾイミダゾリル、７－ベンゾイミダゾリル、２－ベンゾフラニル、３－ベンゾフラニル、４－ベンゾフラニル、５－ベンゾフラニル、６－ベンゾフラニル、７－ベンゾフラニル、１－イソベンゾフラニル、３－イソベンゾフラニル、４－イソベンゾフラニル、５－イソベンゾフラニル、６－イソベンゾフラニル、７－イソベンゾフニル、２－ベンゾチエニル、３－ベンゾチエニル、４－ベンゾチエニル、５－ベンゾチエニル、６－ベンゾチエニル、７－ベンゾチエニル、２－ベンゾオキサゾリル、４－ベンゾオキサゾリル、５－ベンゾオキサゾリル、６－ベンゾオキサゾリル、７－ベンゾオキサゾリル、２－ベンゾチアゾリル、４－ベンゾチアゾリル、５－ベンゾチアゾリル、６－ベンゾチアゾリル、７－ベンゾチアゾリル、１－インダゾリル、３－インダゾリル、４－インダゾリル、５－インダゾリル、６－インダゾリル、７－インダゾリル、２－モルホリル、３－モルホリル、４－モルホリル、１－ピペラジル、２－ピペラジル、１－ピペリジル、２－ピペリジル、３－ピペリジル、４－ピペリジル、２－テトラヒドロピラニル、３－テトラヒドロピラニル、４－テトラヒドロピラニル、２－テトラヒドロチオピラニル、３－テトラヒドロチオピラニル、４－テトラヒドロチオピラニル、１－ピロリジル、２－ピロリジル、３－ピロリジル、フラニル、２－テトラヒドロフラニル、３－テトラヒドロフラニル、２－テトラヒドロチエニル、３－テトラヒドロチエニル、５－メチル－３－オキソ－２，３－ジヒドロ－１Ｈ－ピラゾール－４－イル基等が挙げられる。
本明細書において、「アルキリデン基」としては、特に限定はなく、例えば、メチリデン、エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチリデン基等が挙げられる。
本明細書において、「アルキレン基」としては、特に限定はなく、例えば、 エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基等を挙げることができる。これらアルキレン基は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子を含んでいてもよく、フェニレン基を介していてもよい。このようなアルキレン基としては、例えば、－ＣＨ２ＮＨＣＨ２－、－ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＮＨＮＨＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＮＨＮＨＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＮＨＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２－、
等が挙げられる。
これらアルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、アルキリデン基、及びアルキレン基の各基は、置換可能な任意の位置にそれぞれ１個以上の置換基を有していてもよい。該「置換基」としては、特に限定はなく、例えば、ハロゲン原子、アミノ基、アミノアルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルボキシル基、カルボキシアルキル基、ホルミル基、ニトリル基、ニトロ基、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、水酸基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、チオール基、アルキルチオ基、アリールチオ基等が挙げられる。該置換基は、好ましくは１～５個、より好ましくは１～３個有していてもよい。
本明細書において、「ハロゲン原子」としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子である。
本明細書において、「アミノアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、アミノメチル、メチルアミノメチル、エチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、エチルメチルアミノメチル、ジエチルアミノメチル、２－アミノエチル、２－（メチルアミノ）エチル、２－（エチルアミノ）エチル、２－（ジメチルアミノ）エチル、２－（エチルメチルアミノ）エチル、２－（ジエチルアミノ）エチル、３－アミノプロピル、３－（メチルアミノ）プロピル、３－（エチルアミノ）プロピル、３－（ジメチルアミノ）プロピル、３－（エチルメチルアミノ）プロピル、３－（ジエチルアミノ）プロピル基等のアミノアルキル基、モノアルキル置換アミノアルキル基又はジアルキル置換アミノアルキル基等が挙げられる。
本明細書において、「アルコキシカルボニル基」としては、特に限定はなく、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル基等が挙げられる。
本明細書において、「アシル基」としては、特に限定はなく、例えば、アセチル、プロピオニル、ピバロイル基等の炭素数１～４の直鎖状又は分岐鎖状アルキルカルボニル基が挙げられる。
本明細書において、「アシルオキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ｎ－ブチリルオキシ基等が挙げられる。
本明細書において、「アミド基」としては、特に限定はなく、例えば、アセトアミド、ベンズアミド基等のカルボン酸アミド基；チオアセトアミド、チオベンズアミド基等のチオアミド基；Ｎ－メチルアセトアミド、Ｎ－ベンジルアセトアミド基等のＮ－置換アミド基；等が挙げられる。
本明細書において、「カルボキシアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、カルボキシメチル、カルボキシエチル、カルボキシ－ｎ－プロピル、カルボキシ－ｎ－ブチル、カルボキシ－ｎ－ペンチル、カルボキシ－ｎ－ヘキシル基等のカルボキシアルキル基が挙げられる。
本明細書において、「ヒドロキシアルキル基」としては、特に限定はなく、例えば、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシ－ｎ－プロピル、ヒドロキシ－ｎ－ブチル基等のヒドロキシ－アルキル基が挙げられる。
本明細書において、「アルコキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、直鎖状、分岐状又は環状のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｎ－ペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ｎ－ヘキシルオキシ基の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基；シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ基等の環状アルコキシ基等が挙げられる。
本明細書において、「アリールオキシ基」としては、特に限定はなく、例えば、フェノキシ、ビフェニルオキシ、ナフトキシ基等が挙げられる。
化合物（１）の中でも、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４が、同一又は異なって、水素原子、炭素数１～４の直鎖状及び分岐状アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基である化合物が好ましい。
化合物（１）の中でも、Ｒ１が水素原子である化合物が好ましい。
化合物（１）の中でも、Ｒ２が、水素原子、炭素数１～４の直鎖状及び分岐状アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基である化合物が好ましく、水素原子、炭素数１～４の直鎖状及び分岐状アルキル基、ベンジル基、フェニル基、ナフチル基、又はフリル基である化合物がより好ましく、水素原子、又は炭素数１～４の直鎖状アルキル基である化合物が特に好ましい。
化合物（１）の中でも、Ｒ３及びＲ４の少なくとも一方が水素原子である化合物が好ましく、Ｒ３及びＲ４が共に水素原子である化合物がより好ましい。
化合物（１）の中でも、Ｒ１が水素原子であり、Ｒ２が水素原子、炭素数１～４の直鎖状及び分岐状アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基であり、Ｒ３及びＲ４が共に水素原子である化合物、及び、Ｒ１が水素原子であり、Ｒ２が水素原子、炭素数１～４の直鎖状及び分岐状アルキル基、アラルキル基、アリール基、又は複素環基であり、Ｒ３とＲ４とが一緒になってアルキリデン基を形成している化合物がさらに好ましく、Ｒ１が水素原子であり、Ｒ２が水素原子又は炭素数１～４の直鎖状アルキル基であり、Ｒ３及びＲ４が共に水素原子である化合物が特に好ましい。
化合物（２）の中でも、Ｒ５は水素原子であり、Ｒ６は炭素数１～４の直鎖状及び分岐状アルキル基、アラルキル基、又はアリール基であり、Ｒ７及びＲ８は同一又は異なって、水素原子、炭素数１～４の直鎖状及び分岐状アルキル基、アラルキル基、アリール基、アミノ基又は複素環基である化合物が好ましい。
化合物（２）の中でも、Ｒ６が炭素数１～４の直鎖状アルキル基、アラルキル基、又はアリール基である化合物が好ましく、炭素数１～４の直鎖状アルキル基、又はアリール基である化合物がより好ましい。
化合物（２）の中でも、Ｒ７及びＲ８が同一又は異なって、水素原子、炭素数１～４の直鎖状アルキル基、又はアミノ基である化合物が好ましい。
化合物（２）の中でも、Ｒ５は水素原子であり、Ｒ６が炭素数１～４の直鎖状アルキル基、又はアリール基であり、Ｒ７及びＲ８が同一又は異なって、水素原子、炭素数１～４の直鎖状アルキル基、又はアミノ基である化合物が好ましい。
化合物（１）及び化合物（２）の中でも、化合物（１）が特に好ましい。
具体的に、化合物（１）又は（２）としては、例えば、５－ピラゾロン、３－メチル－５－ピラゾロン、３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－ウンデシル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン、４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン、４－メチル－２，３-ジアゾスピロ［４．４］ノン－３エン－１－オン、５－メチル－２－（４－ニトロフェニル）－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン、５－メチル－２－フェニル－２，４－ジヒドロ－３Ｈ－ピラゾール－３－オン、１，５－ジメチル－２－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン、４，５，６，７－テトラヒドロ－２Ｈ－インダゾール－３（３ａＨ）－オン、４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン、４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、１，３－ジフェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、及び、４－アミノ－１，５－ジメチル－２－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン等が挙げられる。
中でも、好ましい化合物は、化合物（１）であり、その中でも、５－ピラゾロン、３－メチル－５－ピラゾロン、３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、及び３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オンがより好ましい。
本発明のゴム組成物は、これら化合物を一種単独で、又は二種以上を混合して含んでもよい。
化合物（１）又は（２）の中には、互変異性体を生じるものがある。互変異性化が可能である（例えば、溶液中である）場合に、互変異性体の化学平衡に達し得る。化合物（１）又は（２）は、例えば、式（３）～（９）で表されるような互変異性体として存在することができる。
前記式（１）において、Ｒ１及びＲ３が水素原子である化合物（化合物（１）－Ａ）には、以下の式（３）～（５）で表される互変異性体が存在する。
［式中、Ｒ２及びＲ４は、前記に同じ。］
前記式（１）において、Ｒ３が水素原子である化合物（化合物（１）－Ｂ）には、以下の式（６）～（７）で表される互変異性体が存在する。
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ４は、前記に同じ。］
前記式（１）において、Ｒ１が水素原子である化合物（化合物（１）－Ｃ）には、以下の式（８）で表される互変異性体が存在する。
［式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、前記に同じ。］
前記式（２）において、Ｒ５が水素原子である合物（化合物（２）－Ａ）には、以下の式（９）で表される互変異性体が存在する。
［式中、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、前記に同じ。］
上記式（３）～（９）で表されるような互変異性体と、化合物（１）又は（２）とは、どちらの異性体も共存する平衡状態に達している。よって、別段の記載がない限り、本明細書において、化合物（１）又は（２）のすべての互変異性体の形態は、本発明の範囲内である。
よって、本発明の添加剤には、化合物（１）又は（２）の互変異性体も包含される。
また、式（１）又は（２）で表される化合物の塩としては、特に限定はなく、あらゆる種類の塩が含まれる。このような塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩等の無機酸塩;酢酸塩、メタンスルホン酸塩等の有機酸塩；ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩；ジメチルアンモニウム、トリエチルアンモニウム等のアンモニウム塩等が挙げられる。
本発明のゴム組成物は、化合物（１）又は化合物（２）が任意の割合で含まれる混合物を含んでもよい。
（ゴム成分）
本明細書において、ゴム成分としては、特に制限はなく、例えば、天然ゴム(ＮＲ)、合成ジエン系ゴム、及び天然ゴムと合成ジエン系ゴムとの混合物、並びにこれら以外の非ジエン系ゴムが挙げられる。
本明細書において、ゴム成分としては、特に制限はなく、例えば、天然ゴム(ＮＲ)、合成ジエン系ゴム、及び天然ゴムと合成ジエン系ゴムとの混合物、並びにこれら以外の非ジエン系ゴムが挙げられる。
天然ゴムとしては天然ゴムラテックス、技術的格付けゴム（ＴＳＲ）、スモークドシート（ＲＳＳ）、ガタパーチャ、杜仲由来天然ゴム、グアユール由来天然ゴム、ロシアンタンポポ由来天然ゴムなどが挙げられ、さらにこれら天然ゴムを変性した、エポキシ化天然ゴム、メタクリル酸変性天然ゴム、スチレン変性天然ゴムなどの変性天然ゴムなども、本発明の天然ゴムに含まれる。
合成ジエン系ゴムとしては、スチレン－ブタジエン共重合体ゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エチレン－プロピレン－ジエン三元共重合体ゴム（ＥＰＤＭ）、スチレン－イソプレン-スチレン三元ブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレン－ブタジエン－スチレン三元ブロック共重合体（ＳＢＳ）等、及びこれらの変性合成ジエン系ゴムが挙げられる。変性合成ジエン系ゴムには、主鎖変性、片末端変性、両末端変性などの変性手法によるジエン系ゴムが包含される。ここで、変性合成ジエン系ゴムの変性官能基としては、エポキシ基、アミノ基、アルコキシシリル基、水酸基などの各種官能基が挙げられ、これら官能基は１種又は２種以上が変性合成ジエン系ゴムに含まれていてもよい。
合成ジエン系ゴムの製造方法は、特に制限はなく、乳化重合、溶液重合、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などが挙げられる。また、合成ジエン系ゴムのガラス転移点においても、特に制限はない。
また、天然ゴム及び合成ジエン系ゴムの二重結合部のシス／トランス／ビニルの比率については、特に制限はなく、いずれの比率においても好適に用いることができる。また、ジエン系ゴムの数平均分子量および分子量分布は、特に制限はないが、数平均分子量５００～３００００００、分子量分布１．５～１５が好ましい。
非ジエン系ゴムとしては、公知のものを広く使用することができる。
ゴム成分は、１種単独で、又は２種以上を混合(ブレンド)して用いることができる。中でも、好ましいゴム成分としては、天然ゴム、ＩＲ、ＳＢＲ、ＢＲ又はこれらから選ばれる２種以上の混合物であり、より好ましくは天然ゴム、ＳＢＲ、ＢＲ又はこれらから選ばれる２種以上の混合物である。
（カーボンブラック）
カーボンブラックは、通常ゴムの補強性を向上させるために用いられる。なお、本明細書においては、無機充填材にカーボンブラックは含まれない。
カーボンブラックは、通常ゴムの補強性を向上させるために用いられる。なお、本明細書においては、無機充填材にカーボンブラックは含まれない。
カーボンブラックとしては、特に制限はなく、例えば、市販品のカーボンブラック、Ｃａｒｂｏｎ－Ｓｉｌｉｃａ Ｄｕａｌ ｐｈａｓｅ ｆｉｌｌｅｒ等が挙げられる。ゴム成分にカーボンブラックを含有することにより、ゴムの電気抵抗を下げて、帯電を抑止する効果、さらにゴムの強度を向上させる効果を享受できる。
具体的に、カーボンブラックとしては、例えば、高、中又は低ストラクチャーのＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＩＩＳＡＦ、Ｎ１１０、Ｎ１３４、Ｎ２２０、Ｎ２３４、Ｎ３３０、Ｎ３３９、Ｎ３７５、Ｎ５５０、ＨＡＦ、ＦＥＦ、ＧＰＦ、ＳＲＦグレードのカーボンブラック等が挙げられる。中でも、好ましいカーボンブラックとしては、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＩＩＳＡＦ、Ｎ１３４、Ｎ２３４、Ｎ３３０、Ｎ３３９、Ｎ３７５、ＨＡＦ、又はＦＥＦグレードのカーボンブラックである。
カーボンブラックのＤＢＰ吸収量としては、特に制限はなく、好ましくは６０～２００ｃｍ３／１００ｇ、より好ましくは７０～１８０ｃｍ３／１００ｇ以上、特に好ましくは８０～１６０ｃｍ３／１００ｇである。
また、カーボンブラックの窒素吸着比表面積(Ｎ２ＳＡ、ＪＩＳＫ６２１７－２：２００１に準拠して測定する)は、好ましくは３０～２００ｍ２／ｇ、より好ましくは４０～１８０ｍ２／ｇ、特に好ましくは５０～１６０ｍ２／ｇである。
カーボンブラックが配合されたゴム組成物では、化合物（１）が、又はゴム成分と化合物（１）との反応物が、カーボンブラックと強く相互作用をすることが考えられる。したがって、本発明のゴム組成物によれば、特にカーボンブラックの分散性が大幅に向上し、ゴム組成物の低発熱性が著しく改良できる。
（無機充填材）
無機充填材としては、ゴム工業界において、通常使用される無機化合物であれば、特に制限はない。使用できる無機化合物としては、例えば、シリカ;γ-アルミナ、α-アルミナ等のアルミナ(Ａｌ２Ｏ３);ベーマイト、ダイアスポア等のアルミナ一水和物(Ａｌ２Ｏ３・Ｈ２Ｏ);ギブサイト、バイヤライト等の水酸化アルミニウム[Ａｌ（ＯＨ）３];炭酸アルミニウム[Ａｌ２（ＣＯ３）３]、水酸化マグネシウム[Ｍｇ（ＯＨ）２]、酸化マグネシウム(ＭｇＯ)、炭酸マグネシウム(ＭｇＣＯ３)、タルク(３ＭｇＯ・４ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏ)、アタパルジャイ(５ＭｇＯ・８ＳｉＯ２・９Ｈ２Ｏ)、チタン白(ＴｉＯ２)、チタン黒(ＴｉＯ２ｎ－１)、酸化カルシウム(ＣａＯ)、水酸化カルシウム[Ｃａ（ＯＨ）２]、酸化アルミニウムマグネシウム(ＭｇＯ・Ａｌ２Ｏ３)、クレー(Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２)、カオリン(Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２・２Ｈ２Ｏ)、パイロフィライト(Ａｌ２Ｏ３・４ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏ)、ベントナイト(Ａｌ２Ｏ３・４ＳｉＯ２・２Ｈ２Ｏ)、ケイ酸アルミニウム(Ａｌ２ＳｉＯ５、Ａｌ４・３ＳｉＯ４・５Ｈ２Ｏ等)、ケイ酸マグネシウム(Ｍｇ２ＳｉＯ４、ＭｇＳｉＯ３等)、ケイ酸カルシウム(Ｃａ２・ＳｉＯ４等)、ケイ酸アルミニウムカルシウム(Ａｌ２Ｏ３・ＣａＯ・２ＳｉＯ２等)、ケイ酸マグネシウムカルシウム(ＣａＭｇＳｉＯ４)、炭酸カルシウム(ＣａＣＯ３)、酸化ジルコニウム(ＺｒＯ２)、水酸化ジルコニウム[ＺｒＯ（ＯＨ）２・ｎＨ２Ｏ]、炭酸ジルコニウム[Ｚｒ（ＣＯ３）２]、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛、各種ゼオライトのように電荷を補正する水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む結晶性アルミノケイ酸塩等が挙げられる。これらの無機充填材は、ゴム成分との親和性を向上させるために、該無機充填材の表面が有機処理されていてもよい。
無機充填材としては、ゴム工業界において、通常使用される無機化合物であれば、特に制限はない。使用できる無機化合物としては、例えば、シリカ;γ-アルミナ、α-アルミナ等のアルミナ(Ａｌ２Ｏ３);ベーマイト、ダイアスポア等のアルミナ一水和物(Ａｌ２Ｏ３・Ｈ２Ｏ);ギブサイト、バイヤライト等の水酸化アルミニウム[Ａｌ（ＯＨ）３];炭酸アルミニウム[Ａｌ２（ＣＯ３）３]、水酸化マグネシウム[Ｍｇ（ＯＨ）２]、酸化マグネシウム(ＭｇＯ)、炭酸マグネシウム(ＭｇＣＯ３)、タルク(３ＭｇＯ・４ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏ)、アタパルジャイ(５ＭｇＯ・８ＳｉＯ２・９Ｈ２Ｏ)、チタン白(ＴｉＯ２)、チタン黒(ＴｉＯ２ｎ－１)、酸化カルシウム(ＣａＯ)、水酸化カルシウム[Ｃａ（ＯＨ）２]、酸化アルミニウムマグネシウム(ＭｇＯ・Ａｌ２Ｏ３)、クレー(Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２)、カオリン(Ａｌ２Ｏ３・２ＳｉＯ２・２Ｈ２Ｏ)、パイロフィライト(Ａｌ２Ｏ３・４ＳｉＯ２・Ｈ２Ｏ)、ベントナイト(Ａｌ２Ｏ３・４ＳｉＯ２・２Ｈ２Ｏ)、ケイ酸アルミニウム(Ａｌ２ＳｉＯ５、Ａｌ４・３ＳｉＯ４・５Ｈ２Ｏ等)、ケイ酸マグネシウム(Ｍｇ２ＳｉＯ４、ＭｇＳｉＯ３等)、ケイ酸カルシウム(Ｃａ２・ＳｉＯ４等)、ケイ酸アルミニウムカルシウム(Ａｌ２Ｏ３・ＣａＯ・２ＳｉＯ２等)、ケイ酸マグネシウムカルシウム(ＣａＭｇＳｉＯ４)、炭酸カルシウム(ＣａＣＯ３)、酸化ジルコニウム(ＺｒＯ２)、水酸化ジルコニウム[ＺｒＯ（ＯＨ）２・ｎＨ２Ｏ]、炭酸ジルコニウム[Ｚｒ（ＣＯ３）２]、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛、各種ゼオライトのように電荷を補正する水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む結晶性アルミノケイ酸塩等が挙げられる。これらの無機充填材は、ゴム成分との親和性を向上させるために、該無機充填材の表面が有機処理されていてもよい。
無機充填材としては、ゴム強度を付与する観点からシリカが好ましく、より好ましくはシリカ単独で、又はシリカとゴム工業界で通常使用される無機化合物の1種以上とを併用することができる。無機充填材として、シリカ及びシリカ以外の上記無機化合物を併用する場合には、無機充填材の全成分の合計量が上記範囲となるように適宜調整すればよい。
シリカは、ゴム強度を付与することができるため添加することが好ましい。
シリカとしては、市販のあらゆるものが使用できる。中でも、好ましいシリカとしては、湿式シリカ、乾式シリカ、又はコロイダルシリカであり、より好ましくは湿式シリカである。これらのシリカは、ゴム成分との親和性を向上させるために、シリカの表面が有機処理されていてもよい。
シリカのＢＥＴ比表面積としては、特に制限はなく、例えば、４０～３５０ｍ２／ｇの範囲が挙げられる。ＢＥＴ比表面積がこの範囲であるシリカは、ゴム補強性及びゴム成分中への分散性を両立できるという利点がある。該ＢＥＴ比表面積は、ＩＳＯ５７９４／１に準拠して測定される。
この観点から、好ましいシリカとしては、ＢＥＴ比表面積が８０～３００ｍ２／ｇの範囲にあるシリカであり、より好ましくは、ＢＥＴ比表面積１００～２７０ｍ２／ｇであるシリカであり、特に好ましくは、ＢＥＴ比表面積１１０～２７０ｍ２／ｇの範囲にあるシリカである。
このようなシリカの市販品としては、Ｑｕｅｃｈｅｎ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製の商品名「ＨＤ１６５ＭＰ」(ＢＥＴ比表面積＝１６５ｍ２／ｇ)、「ＨＤ１１５ＭＰ」(ＢＥＴ比表面積＝１１５ｍ２／ｇ)、「ＨＤ２００ＭＰ」(ＢＥＴ比表面積＝２００ｍ２／ｇ)、「ＨＤ２５０ＭＰ」(ＢＥＴ比表面積＝２５０ｍ２／ｇ)、東ソー・シリカ株式会社製の商品名「ニップシールＡＱ」(ＢＥＴ比表面積＝２０５ｍ２／ｇ)、「ニップシールＫＱ」(ＢＥＴ比表面積＝２４０ｍ２／ｇ)、デグッサ社製の商品名「ウルトラジルＶＮ３」(ＢＥＴ比表面積＝１７５ｍ２／ｇ)等が挙げられる。
無機充填材、特にシリカを配合するゴム組成物において、化合物（１）又は化合物（２）を配合することにより、シリカの分散性が大幅に向上し、ゴム組成物の低発熱性が著しく改良できる。つまり、前記化合物（１）又は化合物（２）は、カーボンブラック及び／又は無機充填材の分散剤、低発熱化剤、発熱防止材、又は発熱抑制剤として利用でき、好ましくは、ゴム用分散剤、ゴム用低発熱化剤、ゴム用発熱防止材、又はゴム用発熱抑制剤として利用できる。
上記化合物（１）又は化合物（２）の配合量は、ゴム組成物中のゴム成分１００質量部に対して、通常０．１～５０質量部であり、好ましくは０．１～２０質量部であり、より好ましくは０．２～１０質量部である。
カーボンブラック及び／又は無機充填材の配合量は、特に限定はなく、例えば、ゴム成分１００質量部に対して、通常２～２００質量部であり、好ましくは３０～１３０質量部であり、より好ましくは３５～１１０質量部である。
カーボンブラック及び無機充填材の両方を配合する場合には、両成分の合計量が上記範囲になるように適宜調整すれば良い。
カーボンブラック及び／又は無機充填材の配合量が、２質量部以上であれば、ゴム組成物の補強性向上の観点から好ましく、２００質量部以下であれば、転がり抵抗低減の観点から好ましい。
カーボンブラックの配合量としては、ゴム成分１００質量部に対して、通常２０～２００質量部であり、好ましくは３０～１３０質量部であり、より好ましくは３５～１００質量部である。
カーボンブラックの配合量が２質量部以上であれば、静電気防止性能及びゴム強度性能を確保する観点から好ましく、２００質量部以下であれば、転がり抵抗低減の観点から好ましい。
無機充填材の配合量としては、ゴム成分１００質量部に対して、通常１０～２００質量部である。
シリカの配合量としては、ゴム成分１００質量部に対して、通常２～１２００質量部であり、好ましくは３０～１３０質量部であり、より好ましくは３５～１３０質量部である。
特に運動性能と低燃費性能との両立を図る場合のシリカの配合量としては、ゴム成分１００質量部に対して、通常２０～２００質量部であり、好ましくは３０～１３０質量部であり、より好ましくは３５～１３０質量部である。
（その他配合剤）
本発明のゴム組成物には、上記化合物（１）又は化合物（２）、並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材以外にも、ゴム工業界で通常使用される配合剤、例えば、老化防止剤、オゾン防止剤、軟化剤、加工助剤、ワックス、樹脂、発泡剤、オイル、ステアリン酸、酸化亜鉛(ＺｎＯ)、加硫促進剤、加硫遅延剤、加硫剤(硫黄)等を、本発明の目的を害しない範囲内で適宜選択して配合することができる。これら配合剤としては、市販品を好適に使用することができる。
本発明のゴム組成物には、上記化合物（１）又は化合物（２）、並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材以外にも、ゴム工業界で通常使用される配合剤、例えば、老化防止剤、オゾン防止剤、軟化剤、加工助剤、ワックス、樹脂、発泡剤、オイル、ステアリン酸、酸化亜鉛(ＺｎＯ)、加硫促進剤、加硫遅延剤、加硫剤(硫黄)等を、本発明の目的を害しない範囲内で適宜選択して配合することができる。これら配合剤としては、市販品を好適に使用することができる。
また、カーボンブラック及び／又はシリカなどの無機充填材が配合されたゴム組成物においては、カーボンブラック及び／又はシリカによるゴム組成物の補強性を高める目的、又はゴム組成物の引裂き強度と共に耐摩耗性を高める目的で、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤、ジルコネートカップリング剤を配合してもよい。
カーボンブラック及び／又は無機充填剤と併用可能なシランカップリング剤としては特に制限されず、市販品を好適に使用することができる。このようなシランカップリング剤として、例えばスルフィド系、ポリスルフィド系、チオエステル系、チオール系、オレフィン系、エポキシ系、アミノ系、アルキル系のシランカップリング剤が挙げられる。
スルフィド系のシランカップリング剤としては、例えば、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－トリメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－メチルジメトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(２－トリエトキシシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(３－トリメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(３－メチルジメトキシシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(２－トリエトキシシリルエチル)ジスルフィド、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(３－トリメトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(３－メチルジメトキシシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(２－トリエトキシシリルエチル)トリスルフィド、ビス(３－モノエトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－モノエトキシジメチルシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(３－モノエトキシジメチルシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(３－モノメトキシジメチルシリルプロピル)テトラスルフィド、ビス(３－モノメトキシジメチルシリルプロピル)トリスルフィド、ビス(３－モノメトキシジメチルシリルプロピル)ジスルフィド、ビス(２－モノエトキシジメチルシリルエチル)テトラスルフィド、ビス(２－モノエトキシジメチルシリルエチル)トリスルフィド、ビス(２－モノエトキシジメチルシリルエチル)ジスルフィド等が挙げられる。これらの内、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドが特に好ましい。
チオエステル系のシランカップリング剤としては、例えば、３－ヘキサノイルチオプロピルトリエトキシシラン、３－オクタノイルチオプロピルトリエトキシシラン、３－デカノイルチオプロピルトリエトキシシラン、３－ラウロイルチオプロピルトリエトキシシラン、２－ヘキサノイルチオエチルトリエトキシシラン、２－オクタノイルチオエチルトリエトキシシラン、２－デカノイルチオエチルトリエトキシシラン、２－ラウロイルチオエチルトリエトキシシラン、３－ヘキサノイルチオプロピルトリメトキシシラン、３－オクタノイルチオプロピルトリメトキシシラン、３－デカノイルチオプロピルトリメトキシシラン、３－ラウロイルチオプロピルトリメトキシシラン、２－ヘキサノイルチオエチルトリメトキシシラン、２－オクタノイルチオエチルトリメトキシシラン、２－デカノイルチオエチルトリメトキシシラン、２－ラウロイルチオエチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
チオール系のシランカップリング剤としては、例えば、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－［エトキシビス（３，６，９，１２，１５－ペンタオキサオクタコサン－１－イルオキシ）シリル］－１－プロパンチオール等を挙げることができる。
オレフィン系のシランカップリング剤としては、例えば、ジメトキシメチルビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ジメチルエトキシビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリス(２－メトキシエトキシ)シラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－(メトキシジメトキシジメチルシリル)プロピルアクリレート、３－(トリメトキシシリル)プロピルアクリレート、３－[ジメトキシ(メチル)シリル]プロピルメタクリレート、３－(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレート、３－[ジメトキシ(メチル)シリル]プロピルメタクリレート、３－(トリエトキシシリル)プロピルメタクリレート、３－[トリス(トリメチルシロキシ)シリル]プロピルメタクリレート等を挙げることができる。
エポキシ系のシランカップリング剤としては、例えば、３－グリシジルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、３－グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、ジエトキシ(３－グリシジルオキシプロピル)メチルシラン、トリエトキシ(３－グリシジルオキシプロピル)シラン、２－(３，４-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの内、３－グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。
アミノ系のシランカップリング剤としては、例えば、Ｎ－２－(アミノエチル)－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－(アミノエチル)－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－エトキシシリル－Ｎ－(１,３－ジメチルブチリデン)プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－(ビニルベンジル)－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの内、３－アミノプロピルトリエトキシシランが好ましい。
アルキル系のシランカップリング剤としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの内、メチルトリエトキシシランが好ましい。
これらシランカップリング剤の中でも、ビス(３－トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィドを特に好ましく使用することができる。
カーボンブラック及び／又は無機充填剤と併用可能なチタネートカップリング剤としては特に制限されず、市販品を好適に使用することができる。このようなチタネートカップリング剤として、例えばアルコキシド系、キレート系、アシレート系のチタネートカップリング剤が挙げられる。
アルコキシド系のチタネートカップリング剤としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラオクチルチタネート、テトラターシャリーブチルチタネート、テトラステアリルチタネート等を挙げることができる。これらの内、テトライソプロピルチタネートが好ましい。
キレート系のチタネートカップリング剤としては、例えば、チタンアセチルアセトネート、チタンテトラアセチルアセトネート、チタンエチルアセトアセテート、ドデシルベンゼンスルホン酸チタン化合物、リン酸チタン化合物、チタンオクチレングリコレート、チタンエチルアセトアセテート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンエタノールアミネート、チタンオクチレングリコレート、チタンアミノエチルアミノエタノレート等を挙げることができる。これらの内、チタンアセチルアセトネートが好ましい。
アシレート系のチタネートカップリング剤としては、例えば、チタンイソステアレート等を挙げることができる。
カーボンブラック及び／又は無機充填剤と併用可能なアルミネートカップリング剤としては特に制限されず、市販品を好適に使用することができる。このようなアルミネートカップリング剤として、９－オクタデセニルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムセカンダリーブトキシド、アルミニウムトリスアセチルアセトネート、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセトネート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート等が挙げることができる。これらの内、９－オクタデセニルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレートが好ましい。カーボンブラック及び／又は無機充填剤と併用可能なジルコネートカップリング剤としては特に制限されず、市販品を好適に使用することができる。このようなジルコネートカップリング剤として、例えばアルコキシド系、キレート系、アシレート系のジルコネートカップリング剤が挙げられる。
アルコキシド系のジルコニウム系カップリング剤としては、例えば、ノルマルプロピルジルコネート、ノルマルブチルジルコネート等を挙げることができる。この内、ノルマルブチルジルコネートが好ましい。
キレート系のジルコネートカップリング剤としては、例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムモノアセチルアセトネート、ジルコニウムエチルアセトアセテート、ジルコニウムラクテートアンモニウム塩等を挙げることができる。この内、ジルコニウムテトラアセチルアセトネートが好ましい。
アシレート系のジルコネートカップリング剤としては、例えば、ステアリン酸ジルコニウム、オクチル酸ジルコニウム等を挙げることができる。この内、ステアリン酸ジルコニウムが好ましい。
本発明においては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤、ジルコネートカップリング剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明のゴム組成物のシランカップリング剤の配合量は、カーボンブラック及び／又は無機充填材１００質量部に対して、０．１～２０質量部が好ましく、３～１５質量部であることが特に好ましい。０．１質量部以上であれば、ゴム組成物の引裂き強度向上の効果をより好適に発現することができ、２０質量部以下であれば、ゴム組成物のコストが低減し、経済性が向上するからである。
（ゴム組成物の製造方法）
本発明のゴム組成物の製造方法としては、特に制限されない。本発明のゴム組成物の製造方法は、例えば、ゴム成分、上記化合物（１）又は化合物（２）、並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材を含む原料成分を混練する工程（Ａ）、並びに工程（Ａ）で得られる混合物、及び加硫剤を混練する工程（Ｂ）を含んでいる。
本発明のゴム組成物の製造方法としては、特に制限されない。本発明のゴム組成物の製造方法は、例えば、ゴム成分、上記化合物（１）又は化合物（２）、並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材を含む原料成分を混練する工程（Ａ）、並びに工程（Ａ）で得られる混合物、及び加硫剤を混練する工程（Ｂ）を含んでいる。
工程（Ａ）
工程（Ａ）は、ゴム成分、上記化合物（１）又は化合物（２）、並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材を含む原料成分を混練する工程であり、加硫剤を配合する前の工程であることを意味している。
工程（Ａ）は、ゴム成分、上記化合物（１）又は化合物（２）、並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材を含む原料成分を混練する工程であり、加硫剤を配合する前の工程であることを意味している。
工程（Ａ）では、さらに必要に応じて、上記のその他の配合剤等を配合することができる。
工程（Ａ）における混練方法としては、例えば、ゴム成分と、上記化合物（１）又は化合物（２）と、カーボンブラック及び／又は無機充填材を含む原料成分とを含む組成物を混練する方法が挙げられる。この混練方法においては、各成分の全量を一度に混練してもよく、粘度調整等の目的に応じて、各成分を分割投入して混練してもよい。また、ゴム成分とカーボンブラック及び／又は無機充填材とを混練した後、上記化合物（１）又は化合物（２）を投入して混練するか、ゴム成分と上記化合物（１）又は化合物（２）とを混練した後、カーボンブラック及び／又は無機充填材を投入して混練してもよい。各成分を均一に分散させるために、混練操作を繰り返し行ってもよい。
また、工程（Ａ）における別の混練方法としては、ゴム成分と上記化合物（１）又は化合物（２）とを混練する工程（Ａ－１）、並びに工程（Ａ－１）で得られた混合物とカーボンブラック及び／又は無機充填材を含む原料成分とを混練する工程（Ａ－２）を含む二段階の混練方法を挙げることができる。
工程（Ａ）におけるゴム組成物を混合する際の温度としては、特に制限はなく、例えば、ゴム組成物の温度の上限が１００～１９０℃であることが好ましく、１１０～１７５℃であることがより好ましく、１２０～１７０℃であることがさらに好ましい。
工程（Ａ）における混合時間としては、特に制限はなく、例えば、１０秒間から２０分間であることが好ましく、３０秒間から１０分間であることがより好ましく、１分間から８分間であることがさらに好ましい。
工程(Ａ－１)におけるゴム成分と上記化合物（１）又は化合物（２）とを混合する際の温度としては、６０～１９０℃であることが好ましく、７０～１６０℃であることがより好ましく、８０～１５０℃であることがさらに好ましい。該混合温度が６０℃より低いと反応が進行せず、また、１９０℃以上になると、ゴムの劣化が進行するためである。
工程(Ａ－１)における混合時間としては、１０秒間～２０分間が望ましく、３０秒間～１０分間であることがより好ましく、６０秒間～７分間であることがさらに好ましい。該混合時間が１０秒より短いと反応が十分に進行せず、また、２０分間以上は生産性が低下するためである。
工程(Ａ－２)における工程(Ａ－１)で得られた混合物とカーボンブラック及び／又は無機充填材とを混合する際の温度としては、特に制限はなく、例えば、混合物の温度の上限が１００～１９０℃であることが好ましく、１３０～１７５℃であることがより好ましく、１１０～１７０℃であることがさらに好ましい。
工程(Ａ－２)における混合時間としては、特に制限はなく、例えば、１０秒間から２０分間であることが好ましく、３０秒間から１０分間であることがより好ましく、１分間から８分間であることがさらに好ましい。
工程（Ａ）において、上記化合物（１）又は化合物（２）の配合量としては、特に制限はなく、例えば、ゴム成分１００質量部に対して、０．１～５０質量部であり、好ましくは０．１～２０質量部であり、より好ましくは０．２～１０質量部である。
工程（Ｂ）
工程（Ｂ）は、工程（Ａ）で得られる混合物、及び加硫剤を混合する工程であり、混練の最終段階を意味している。
工程（Ｂ）は、工程（Ａ）で得られる混合物、及び加硫剤を混合する工程であり、混練の最終段階を意味している。
工程（Ｂ）では、さらに必要に応じて、加硫促進剤等を配合することができる。
工程（Ｂ）は、加熱条件下で行うことができる。該工程の加熱温度としては、特に制限はなく、例えば、６０～１４０℃であることが好ましく、８０～１２０℃であることがより好ましく、９０～１２０℃であることがさらに好ましい。
混合(又は混練)時間としては、特に制限はなく、例えば、１０秒間から２０分間であることが好ましく、３０秒間から１０分間であることがより好ましく、６０秒間から５分間であることがさらに好ましい。
工程（Ａ）から工程（Ｂ）に進む際には、前段階の工程終了後の温度より、３０℃以上低下させてから次の工程（Ｂ）へ進むことが好ましい。
本発明のゴム組成物の製造方法において、通常、ゴム組成物に配合されるステアリン酸、亜鉛華等の加硫促進剤、老化防止剤等の各種配合剤を、必要に応じて、工程（Ａ）又は工程（Ｂ）において添加することができる。
本発明におけるゴム組成物は、バンバリーミキサー、ロール、インテンシブミキサー、ニーダー、単軸押出機、二軸押出機等を用いて混合又は混練りされる。その後、押出工程において押出して加工され、例えば、トレッド用部材、又はサイドウォール用部材として成形される。続いて、タイヤ成形機上で通常の方法により貼り付け成形され、生タイヤが成形される。この生タイヤを加硫機中で加熱加圧して、タイヤが得られる。
その他の配合剤の添加
本発明のゴム組成物の製造方法において、通常、ゴム組成物に配合されるステアリン酸、酸化亜鉛、老化防止剤等の各種配合剤を、必要に応じて、工程（Ａ）又は工程（Ｂ）において添加することができる。
本発明のゴム組成物の製造方法において、通常、ゴム組成物に配合されるステアリン酸、酸化亜鉛、老化防止剤等の各種配合剤を、必要に応じて、工程（Ａ）又は工程（Ｂ）において添加することができる。
その他の配合剤は、工程（Ａ）又は工程（Ｂ）のどちらか一方で添加してもよいし、あるいは工程（Ａ）及び工程（Ｂ）に分けて添加してもよい。
ゴム組成物の成形方法
本発明におけるゴム組成物は、バンバリーミキサー、ロール、インテンシブミキサー、ニーダー、単軸押出機、二軸押出機等を用いて混合又は混練りされる。その後、押出工程において押出して加工され、例えば、トレッド用部材、又はサイドウォール用部材として成形される。続いて、タイヤ成形機上で通常の方法により貼り付け成形され、生タイヤが成形される。この生タイヤを加硫機中で加熱加圧して、タイヤが得られる。
本発明におけるゴム組成物は、バンバリーミキサー、ロール、インテンシブミキサー、ニーダー、単軸押出機、二軸押出機等を用いて混合又は混練りされる。その後、押出工程において押出して加工され、例えば、トレッド用部材、又はサイドウォール用部材として成形される。続いて、タイヤ成形機上で通常の方法により貼り付け成形され、生タイヤが成形される。この生タイヤを加硫機中で加熱加圧して、タイヤが得られる。
（タイヤ）
本発明のタイヤは、上記本発明のゴム組成物を用いて作製されたタイヤである。
本発明のタイヤは、上記本発明のゴム組成物を用いて作製されたタイヤである。
本発明のタイヤとしては、例えば、空気入りタイヤ(ラジアルタイヤ、バイアスタイヤ等)、ソリッドタイヤ等が挙げられる。
タイヤの用途としては、特に制限はなく、例えば、乗用車用タイヤ、高荷重用タイヤ、モーターサイクル(自動二輪車)用タイヤ、スタッドレスタイヤ等が挙げられ、中でも、乗用車用タイヤに好適に使用できる。
本発明のタイヤの形状、構造、大きさ及び材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
本発明のタイヤにおいて、上記ゴム組成物は、特にトレッド部、サイドウォール部、ビードエリア部、ベルト部、カーカス部及びショルダー部から選ばれる少なくとも一つの部材に用いられる。
中でも、空気入りタイヤのタイヤトレッド部、又はサイドウォール部を当該ゴム組成物で形成するのが好ましい態様の１つとして挙げられる。
トレッド部とは、トレッドパターンを有し、路面と直接接する部分で、カーカスを保護するとともに摩耗及び外傷を防ぐタイヤの外皮部分であり、タイヤの接地部を構成するキャップトレッド及び／又はキャップトレッドの内側に配設されるベーストレッドをいう。
サイドウォール部とは、例えば、空気入りラジアルタイヤにおけるショルダー部の下側からビード部に至るまでの部分であり、カーカスを保護するとともに、走行する際に最も屈曲の激しい部分である。
ビードエリア部とは、カーカスコードの両端を固定し、同時にタイヤをリムに固定させる役目を負っている部分である。ビードとは高炭素鋼を束ねた構造である。
ベルト部とは、ラジアル構造のトレッドとカーカスとの間に円周方向に張られた補強帯である。カーカスを桶のたがの様に強く締付けトレッドの剛性を高めている。
カーカス部とは、タイヤの骨格を形成するコード層の部分であり、タイヤの受ける荷重、衝撃、及び充填空気圧に耐える役割を果たしている。
ショルダー部とは、タイヤの肩の部分で、カーカスを保護する役目を果たす。
本発明のタイヤは、タイヤの分野において、これまでに知られている方法に従って製造することができる。また、タイヤに充填する気体としては、通常の又は酸素分圧を調整した空気；窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスを用いることができる。
本発明のタイヤは、低発熱性を有し、タイヤの転がり抵抗が小さくなることから、自動車の低燃費化を図ることができる。また、カーボンブラック及び／又は無機充填材が高充填されたゴム組成物においても高い低発熱性を示すことから、高い運動性能を有する低燃費タイヤを提供することができる。
（タイヤ以外の用途）
本発明のゴム組成物は、上記タイヤ用途以外にも、ベルト（コンベアベルト）、防振ゴム、免震ゴム等にも使用することができる。
本発明のゴム組成物は、上記タイヤ用途以外にも、ベルト（コンベアベルト）、防振ゴム、免震ゴム等にも使用することができる。
（ゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤）
本発明のゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤（「低発熱化剤」ということもある）は、前記化合物（１）又は化合物（２）を含む。
本発明のゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤（「低発熱化剤」ということもある）は、前記化合物（１）又は化合物（２）を含む。
化合物（１）又は化合物（２）をゴム成分に添加することで、ゴム成分に低発熱性を付与することができる。よって、化合物（１）又は化合物（２）を含むゴム組成物は、優れた低発熱性を発現することができる。さらに、このような化合物（１）又は化合物（２）を含むゴム組成物からタイヤを作製することで、転がり抵抗が低減され、その結果、低燃費性能に優れたタイヤが得ることができる。
以下、製造例及び実施例を示して、本発明について具体的に説明する。ただし、実施例はあくまで一例であって、本発明は、実施例に限定されない。
製造例１：３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン（化合物Ｃ）の製造
１００ｍＬナスフラスコにカルボニルジイミダゾール８．５ｇ（５２．１ｍｍｏｌ）、及び脱水テトラヒドロフラン６０ｍＬを加え、室温で撹拌した。次いでこの混合物に、２－ナフトエ酸７．５ｇ（４３．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。以下、この得られた反応液を「反応液１」とする。
１００ｍＬナスフラスコにカルボニルジイミダゾール８．５ｇ（５２．１ｍｍｏｌ）、及び脱水テトラヒドロフラン６０ｍＬを加え、室温で撹拌した。次いでこの混合物に、２－ナフトエ酸７．５ｇ（４３．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。以下、この得られた反応液を「反応液１」とする。
５００ｍＬ四つ口フラスコにモノエチルマロン酸カリウム１４．８ｇ（８７．０ｍｍｏｌ）、脱水アセトニトリル２１０ｍＬ、及びトリエチルアミン１８．３ｍＬ（１３２．４ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下で撹拌した。次いでこの混合物に、塩化マグネシウム１０．４ｇ（１０９．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。この得られた反応液に上記反応液１を滴下し、室温で一晩撹拌した。
この反応液を濃縮し、得られた残渣にトルエン１２５ｍＬを加え、４Ｍ塩酸７０ｍＬ、及び水７０ｍＬで洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧濃縮した。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ－ヘキサン：酢酸エチル＝４：１（体積比））にて精製し、無色透明の液体を得た。
この液体にヒドラジン一水和物２．２ｍＬ（４４．８ｍｍｏｌ）を加え、酢酸２．０ｍＬ（３５．０ｍｍｏｌ）を滴下し、４時間還流した。この反応液を室温に戻し、ジイソプロピルエーテル３０ｍＬを加え、析出した結晶を濾過して、白色固体の３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン８．２２ｇを得た。
融点：２０４℃
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．９４（１Ｈ，ｂｒ），８．２０～８．２１（１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，ｄ），７．８２～７．９６（４Ｈ，ｍ），７．４７～７．５６（２Ｈ，ｍ），６．０２（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６８．１３，１６０．９５，１４３．８３，１３３．０６，１３２．３９，１２８．３０，１２７．９０，１２７．６２，１２６．５５，１２６．０６，１２３．２８，１２３．１４，８７．１０
融点：２０４℃
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．９４（１Ｈ，ｂｒ），８．２０～８．２１（１Ｈ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，ｄ），７．８２～７．９６（４Ｈ，ｍ），７．４７～７．５６（２Ｈ，ｍ），６．０２（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６８．１３，１６０．９５，１４３．８３，１３３．０６，１３２．３９，１２８．３０，１２７．９０，１２７．６２，１２６．５５，１２６．０６，１２３．２８，１２３．１４，８７．１０
製造例２：３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン（化合物Ｄ）の製造
１００ｍＬナスフラスコにカルボニルジイミダゾール８．７ｇ（５３．５ｍｍｏｌ）、及び脱水テトラヒドロフラン６０ｍＬを加え、室温で撹拌した。次いでこの混合物に、２－フランカルボン酸５．０ｇ（４５．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。以下、この得られた反応液を「反応液２」とする。
１００ｍＬナスフラスコにカルボニルジイミダゾール８．７ｇ（５３．５ｍｍｏｌ）、及び脱水テトラヒドロフラン６０ｍＬを加え、室温で撹拌した。次いでこの混合物に、２－フランカルボン酸５．０ｇ（４５．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。以下、この得られた反応液を「反応液２」とする。
５００ｍＬ四つ口フラスコにモノエチルマロン酸カリウム１４．８ｇ（８７．０ｍｍｏｌ）、脱水アセトニトリル２００ｍＬ、及びトリエチルアミン１８．３ｍＬ（１３２．４ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下で撹拌した。次いでこの混合物に、塩化マグネシウム１０．４ｇ（１０９．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。この反応液に上記反応液２を滴下し、室温で一晩撹拌した。
得られた反応液を濃縮し、クロロホルム１２０ｍＬを加え、４Ｍ塩酸７０ｍＬ、及び水７０ｍＬで洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧濃縮し、無色透明の液体を得た。
この得られた液体にヒドラジン一水和物２．５ｍＬ（５０．７ｍｍｏｌ）を加え、酢酸２．０ｍＬ（３５．０ｍｍｏｌ）を滴下し、４時間還流した。この得られた反応液を室温に戻し、ジイソプロピルエーテル３０ｍＬを加え、析出した結晶を濾過して、白色固体の３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン５．４７ｇを得た。
融点：２３１℃
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．７９（２Ｈ，ｂｒ），７．６８～７．６９（１Ｈ，ｍ），６．６９（１Ｈ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，ｄ），６．５５（１Ｈ，Ｊ＝１．８，１．５，１．８Ｈｚ，ｄｄ），５．６９（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６０．２３，１４６．１６，１４２．２４，１３５．８４，１１１．５０，１０５．７７，８５．８８
融点：２３１℃
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．７９（２Ｈ，ｂｒ），７．６８～７．６９（１Ｈ，ｍ），６．６９（１Ｈ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，ｄ），６．５５（１Ｈ，Ｊ＝１．８，１．５，１．８Ｈｚ，ｄｄ），５．６９（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６０．２３，１４６．１６，１４２．２４，１３５．８４，１１１．５０，１０５．７７，８５．８８
製造例３：３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン（化合物Ｅ）の製造
１００ｍＬ四つ口フラスコにベンゾイルアセト酢酸エチル２５ｇ（０．１３ｍｏｌ）及びエタノール２５ｍＬを加えて撹拌した。これを水浴で冷却しながら、ヒドラジン一水和物６．５ｍＬ（０．１３ｍｏｌ）を滴下した。室温で４時間撹拌した後、生成した白色固体をろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液５０ｍＬで洗浄、乾燥することで、白色固体の３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン１８．８ｇを得た。
融点：２３６℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１２．０３（１Ｈ，ｂｒ）、９．６９（１Ｈ，ｂｒ）、７．６６（２Ｈ，ｍ）、７．３９（２Ｈ，ｍ）、７．３０（１Ｈ，ｍ）、５．８８（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６１．００、１４３．４８、１３０．４８、１２８．７３、１２７．７１、１２４．７３、８６．８７
１００ｍＬ四つ口フラスコにベンゾイルアセト酢酸エチル２５ｇ（０．１３ｍｏｌ）及びエタノール２５ｍＬを加えて撹拌した。これを水浴で冷却しながら、ヒドラジン一水和物６．５ｍＬ（０．１３ｍｏｌ）を滴下した。室温で４時間撹拌した後、生成した白色固体をろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液５０ｍＬで洗浄、乾燥することで、白色固体の３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン１８．８ｇを得た。
融点：２３６℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１２．０３（１Ｈ，ｂｒ）、９．６９（１Ｈ，ｂｒ）、７．６６（２Ｈ，ｍ）、７．３９（２Ｈ，ｍ）、７．３０（１Ｈ，ｍ）、５．８８（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６１．００、１４３．４８、１３０．４８、１２８．７３、１２７．７１、１２４．７３、８６．８７
製造例４：３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン（化合物Ｆ）の製造
５００ｍＬ四つ口フラスコに３－オキソヘキサン酸メチル２４．８ｇ（０．１６ｍｏｌ）、及びエタノール２６０ｍＬを加えて撹拌した。これを氷浴で冷却しながらヒドラジン一水和物８．６ｍＬ（０．１８ｍｏｌ）を滴下し、氷冷下で２時間撹拌した後、２時間加熱還流し、反応液を室温まで冷却した。生成した白色固体をろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで、白色固体の３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン１３．２ｇを得た。
融点：２０５－２０６℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．１１（１Ｈ，ｂｒ）、９．４２（１Ｈ，ｂｒ）、５．２３（１Ｈ，ｓ）、２．４１（２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，ｔ）、１．５４（２Ｈ，ｍ）、０．８８（３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ｔ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６０．８７、１４４．０４、８７．９３、２７．６７、２１．９３、１３．５７
５００ｍＬ四つ口フラスコに３－オキソヘキサン酸メチル２４．８ｇ（０．１６ｍｏｌ）、及びエタノール２６０ｍＬを加えて撹拌した。これを氷浴で冷却しながらヒドラジン一水和物８．６ｍＬ（０．１８ｍｏｌ）を滴下し、氷冷下で２時間撹拌した後、２時間加熱還流し、反応液を室温まで冷却した。生成した白色固体をろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで、白色固体の３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン１３．２ｇを得た。
融点：２０５－２０６℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．１１（１Ｈ，ｂｒ）、９．４２（１Ｈ，ｂｒ）、５．２３（１Ｈ，ｓ）、２．４１（２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，ｔ）、１．５４（２Ｈ，ｍ）、０．８８（３Ｈ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，ｔ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６０．８７、１４４．０４、８７．９３、２７．６７、２１．９３、１３．５７
製造例５：４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）(化合物Ｇ)の製造
２Ｌ四つ口フラスコに、水１Ｌ、３－メチル－５－ピラゾロン１０ｇ（０．１０ｍｏｌ）、ベンズアルデヒド５．４ｇ（０．０５ｍｏｌ）、及びドデシル硫酸ナトリウム０．７３ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間撹拌した後、１時間還流した。この反応液を氷浴で冷却しながら、３０分間撹拌した後、ろ別し、水５００ｍＬで洗浄し、乾燥することで淡黄色固体の４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）１２．１ｇを得た。
融点：２３０－２３２℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．３１（４Ｈ，ｂｒ）、７．２０（２Ｈ，ｍ）、７．１２（３Ｈ，ｍ）、４．８１（１Ｈ，ｓ）、２．０７（６Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６１．２４、１４３．３３、１３９．７３、１２７．６７、１２７．４７、１２５．３５、１０４．２１、３２．７２、１０．３４
２Ｌ四つ口フラスコに、水１Ｌ、３－メチル－５－ピラゾロン１０ｇ（０．１０ｍｏｌ）、ベンズアルデヒド５．４ｇ（０．０５ｍｏｌ）、及びドデシル硫酸ナトリウム０．７３ｇ（２．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間撹拌した後、１時間還流した。この反応液を氷浴で冷却しながら、３０分間撹拌した後、ろ別し、水５００ｍＬで洗浄し、乾燥することで淡黄色固体の４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）１２．１ｇを得た。
融点：２３０－２３２℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．３１（４Ｈ，ｂｒ）、７．２０（２Ｈ，ｍ）、７．１２（３Ｈ，ｍ）、４．８１（１Ｈ，ｓ）、２．０７（６Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６１．２４、１４３．３３、１３９．７３、１２７．６７、１２７．４７、１２５．３５、１０４．２１、３２．７２、１０．３４
製造例６：４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）（化合物Ｈ）の製造
３Ｌ四つ口フラスコに、水２．５Ｌ、３－メチル－５－ピラゾロン２５．０ｇ（０．２６ｍｏｌ）、４－ヒドロキシベンズアルデヒド１５．６ｇ（０．１３ｍｏｌ）、及びドデシル硫酸ナトリウム１．８４ｇ（６．４ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間撹拌した後、１時間還流した。この反応液を氷浴で冷却しながら、３０分間撹拌した後、ろ別し、水２．５Ｌで洗浄し、乾燥することで淡黄色固体の４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）３３．５ｇを得た。
融点：２６２－２６４℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．２２（４Ｈ，ｂｒ）、９．０３（１Ｈ，ｓ）、６．９１（２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ｄ）、６．５９（２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ｄ）、４．７１（１Ｈ，ｓ）、２．０６（６Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６１．１２、１５５．０３、１３９．６７、１３３．４４、１２８．２７、１１４．４２、１０４．８４、３１．９１、１０．３５
３Ｌ四つ口フラスコに、水２．５Ｌ、３－メチル－５－ピラゾロン２５．０ｇ（０．２６ｍｏｌ）、４－ヒドロキシベンズアルデヒド１５．６ｇ（０．１３ｍｏｌ）、及びドデシル硫酸ナトリウム１．８４ｇ（６．４ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間撹拌した後、１時間還流した。この反応液を氷浴で冷却しながら、３０分間撹拌した後、ろ別し、水２．５Ｌで洗浄し、乾燥することで淡黄色固体の４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）３３．５ｇを得た。
融点：２６２－２６４℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．２２（４Ｈ，ｂｒ）、９．０３（１Ｈ，ｓ）、６．９１（２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ｄ）、６．５９（２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，ｄ）、４．７１（１Ｈ，ｓ）、２．０６（６Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６１．１２、１５５．０３、１３９．６７、１３３．４４、１２８．２７、１１４．４２、１０４．８４、３１．９１、１０．３５
製造例７：４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）（化合物Ｉ）の製造
３Ｌ四つ口フラスコに、水２．５Ｌ、３－メチル－５－ピラゾロン２５．０ｇ（０．２６ｍｏｌ）、４－ニトロベンズアルデヒド１９．３ｇ（０．１３ｍｏｌ）、及びドデシル硫酸ナトリウム１．８４ｇ（６．４ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間撹拌した後、１時間還流した。この反応液を氷浴で冷却しながら、３０分間撹拌した後、ろ別し、メタノール５００ｍＬで洗浄し、乾燥することで淡黄色固体の４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）３７．８ｇを得た。
融点：３００－３０２℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．４０（４Ｈ，ｂｒ）、８．１２（２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ｄ）、７．３８（２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ｄ）、４．９８（１Ｈ，ｓ）、２．１０（６Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６０．８２、１５１．７１、１４５．５６、１３９．７１、１２８．７６、１２２．９４、１０３．２４、３２．９５、１０．２８
３Ｌ四つ口フラスコに、水２．５Ｌ、３－メチル－５－ピラゾロン２５．０ｇ（０．２６ｍｏｌ）、４－ニトロベンズアルデヒド１９．３ｇ（０．１３ｍｏｌ）、及びドデシル硫酸ナトリウム１．８４ｇ（６．４ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間撹拌した後、１時間還流した。この反応液を氷浴で冷却しながら、３０分間撹拌した後、ろ別し、メタノール５００ｍＬで洗浄し、乾燥することで淡黄色固体の４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）３７．８ｇを得た。
融点：３００－３０２℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．４０（４Ｈ，ｂｒ）、８．１２（２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ｄ）、７．３８（２Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，ｄ）、４．９８（１Ｈ，ｓ）、２．１０（６Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６０．８２、１５１．７１、１４５．５６、１３９．７１、１２８．７６、１２２．９４、１０３．２４、３２．９５、１０．２８
製造例８：４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン（化合物Ｊ）の製造
５００ｍＬ四つ口フラスコに、キシレン３００ｍＬ、３－メチル－５－ピラゾロン１４．７ｇ（０．１５ｍｏｌ）、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドジメチルアセタール２１．６ｇ（０．１８ｍｏｌ）を加えて１１０℃で一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、生じた固体をろ別し、トルエン３００ｍＬで洗浄し、乾燥することで黄色固体の４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン ２０．３ｇを得た。
融点：１５８－１５９℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１０．３０（１Ｈ，ｂｒ）、７．２７（１Ｈ，ｓ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．２６（３Ｈ，ｓ）、１．９７（３Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６４．７７、１５２．６６、１４９．６６、９７．１３、４６．７４、４２．４４、１３．３５
５００ｍＬ四つ口フラスコに、キシレン３００ｍＬ、３－メチル－５－ピラゾロン１４．７ｇ（０．１５ｍｏｌ）、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドジメチルアセタール２１．６ｇ（０．１８ｍｏｌ）を加えて１１０℃で一晩撹拌した。反応液を室温まで冷却した後、生じた固体をろ別し、トルエン３００ｍＬで洗浄し、乾燥することで黄色固体の４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン ２０．３ｇを得た。
融点：１５８－１５９℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１０．３０（１Ｈ，ｂｒ）、７．２７（１Ｈ，ｓ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．２６（３Ｈ，ｓ）、１．９７（３Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６４．７７、１５２．６６、１４９．６６、９７．１３、４６．７４、４２．４４、１３．３５
製造例９：４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン（化合物Ｋ）の製造
３Ｌ四つ口フラスコに、エタノール２．７Ｌ、３－メチル－５－ピラゾロン２７．０ｇ（０．２８ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノベンズアルデヒド４４．４ｇ（０．３０ｍｏｌ）、及びピペリジン４．７ｇ（５５ｍｍｏｌ）を加えて、３時間還流した。この反応液を一晩室温で撹拌した後、ろ別し、乾燥することで淡黄色固体の４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン４６．３ｇを得た。
融点：１６４℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ７－ＤＭＦ，δｐｐｍ）：
１０．９１（１Ｈ，ｂｒ）、８．７０（２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，ｄ）、７．４５（１Ｈ，ｓ）、６．８３（２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，ｄ）、３．１５（６Ｈ，ｓ）、２．１８（３Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ７－ＤＭＦ，δｐｐｍ）：
１６６．７４、１５３．８４、１５０．５５、１４６．２３、１３６．９２、１２２．４９、１２０．７４、１１１．４３、３９．５８、１２．９８
３Ｌ四つ口フラスコに、エタノール２．７Ｌ、３－メチル－５－ピラゾロン２７．０ｇ（０．２８ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノベンズアルデヒド４４．４ｇ（０．３０ｍｏｌ）、及びピペリジン４．７ｇ（５５ｍｍｏｌ）を加えて、３時間還流した。この反応液を一晩室温で撹拌した後、ろ別し、乾燥することで淡黄色固体の４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン４６．３ｇを得た。
融点：１６４℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ７－ＤＭＦ，δｐｐｍ）：
１０．９１（１Ｈ，ｂｒ）、８．７０（２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，ｄ）、７．４５（１Ｈ，ｓ）、６．８３（２Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ，ｄ）、３．１５（６Ｈ，ｓ）、２．１８（３Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ７－ＤＭＦ，δｐｐｍ）：
１６６．７４、１５３．８４、１５０．５５、１４６．２３、１３６．９２、１２２．４９、１２０．７４、１１１．４３、３９．５８、１２．９８
製造例１０：３－ウンデシル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン（化合物Ｌ）の製造
５０ｍＬナスフラスコに、カルボニルジイミダゾール２．８ｇ（１７．４ｍｍｏｌ）、及びクロロホルム２０ｍＬを加え、室温で撹拌した。次いでこの混合物に、ラウリン酸２．９ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。以下、この得られた反応液を「反応液３」とする。
５０ｍＬナスフラスコに、カルボニルジイミダゾール２．８ｇ（１７．４ｍｍｏｌ）、及びクロロホルム２０ｍＬを加え、室温で撹拌した。次いでこの混合物に、ラウリン酸２．９ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。以下、この得られた反応液を「反応液３」とする。
２００ｍＬ四つ口フラスコに、モノエチルマロン酸カリウム４．９ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）、脱水アセトニトリル７０ｍＬ、及びトリエチルアミン６．１ｍＬ（４４．１ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下で撹拌した。次いでこの得られた混合物に、塩化マグネシウム３．５ｇ（３６．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。この反応液に上記反応液３を滴下し、室温で一晩撹拌した。
この得られた反応液を濃縮し、クロロホルム４２ｍＬを加え、２Ｍ塩酸４８ｍＬ、及び水４８ｍＬで洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧濃縮した。
これにエタノール２０ｍＬ、ヒドラジン一水和物０．７ｍＬ（１４．９ｍｍｏｌ）を加え、酢酸０．７ｍＬ（１１．７ｍｍｏｌ）を滴下し、４時間還流した。この反応液を室温まで戻し、ジイソプロピルエーテル１０ｍＬを加え、析出した結晶をろ別することで、白色固体の３－ウンデシル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン２．８３ｇを得た。
融点：１８８℃
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．０５（１Ｈ，ｂｒ），９．４５（１Ｈ，ｂｒ），５．２１（１Ｈ，ｓ），２．３９～２．４４（２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，ｔ），１．４８～１．５３（２Ｈ，ｍ），１．３０（１６Ｈ，ｓ），０．８３～０．８８（３Ｈ，ｍ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６０．８５，１４４．２０，８７．８４，３１．２７，２９．０１，２８．９８，２８．９５，２８．７１，２８．６８，２８．６２，２８．５７，２５．６０，２２．０６，１３．９０
融点：１８８℃
１Ｈ－ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．０５（１Ｈ，ｂｒ），９．４５（１Ｈ，ｂｒ），５．２１（１Ｈ，ｓ），２．３９～２．４４（２Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，ｔ），１．４８～１．５３（２Ｈ，ｍ），１．３０（１６Ｈ，ｓ），０．８３～０．８８（３Ｈ，ｍ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６０．８５，１４４．２０，８７．８４，３１．２７，２９．０１，２８．９８，２８．９５，２８．７１，２８．６８，２８．６２，２８．５７，２５．６０，２２．０６，１３．９０
製造例１１：４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン（化合物Ｍ）の製造
１００ｍＬ四つ口フラスコに、α－アセチル－γ－ブチロラクトン２４．３ｇ（０．１９ｍｏｌ）、及びエタノール２４ｍＬを加えて撹拌した。これを氷浴で冷却しながらヒドラジン一水和物９．７ｍＬ（０．２０ｍｏｌ）を滴下し、室温で３時間撹拌した。析出した固体をろ別し、イソプロパノール５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで、白色固体の４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン２３．８ｇを得た。
融点：１８２℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ７－ＤＭＦ，δｐｐｍ）：
１０．６２（２Ｈ，ｂｒ）、３．７８（２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，ｔ）、３．６６（１Ｈ，ｂｒ）、２．６９（２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，ｔ）、２．３１（３Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ７－ＤＭＦ，δｐｐｍ）：
１６０．８８、１３７．８７、９８．６１、６２．２９、２６．１８、９．６６
１００ｍＬ四つ口フラスコに、α－アセチル－γ－ブチロラクトン２４．３ｇ（０．１９ｍｏｌ）、及びエタノール２４ｍＬを加えて撹拌した。これを氷浴で冷却しながらヒドラジン一水和物９．７ｍＬ（０．２０ｍｏｌ）を滴下し、室温で３時間撹拌した。析出した固体をろ別し、イソプロパノール５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで、白色固体の４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン２３．８ｇを得た。
融点：１８２℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ７－ＤＭＦ，δｐｐｍ）：
１０．６２（２Ｈ，ｂｒ）、３．７８（２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，ｔ）、３．６６（１Ｈ，ｂｒ）、２．６９（２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，ｔ）、２．３１（３Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ７－ＤＭＦ，δｐｐｍ）：
１６０．８８、１３７．８７、９８．６１、６２．２９、２６．１８、９．６６
製造例１２：４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン（化合物Ｎ）の製造
１００ｍＬ四つ口フラスコに、２－ベンジルアセト酢酸エチル２４．５ｇ（０．１１ｍｏｌ）、及びエタノール２５ｍＬを加え、撹拌した。これを氷浴で冷却しながらヒドラジン一水和物５．７ｍＬ（０．１２ｍｏｌ）を滴下した後、室温で３時間撹拌した。析出した固体をろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで、白色固体の４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン１５．６ｇを得た。
融点：２２８－２２９℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．０８（１Ｈ，ｂｒ）、９．４６（１Ｈ，ｂｒ）、７．２４（２Ｈ，ｍ）、７．１４（３Ｈ，ｍ）、３．５５（２Ｈ，ｓ）、２．０１（３Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１５９．５８、１４１．９０、１３６．８２、１２８．０６、１２７．９６、１２５．３７、９９．９４、２７．２８、９．９４
１００ｍＬ四つ口フラスコに、２－ベンジルアセト酢酸エチル２４．５ｇ（０．１１ｍｏｌ）、及びエタノール２５ｍＬを加え、撹拌した。これを氷浴で冷却しながらヒドラジン一水和物５．７ｍＬ（０．１２ｍｏｌ）を滴下した後、室温で３時間撹拌した。析出した固体をろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで、白色固体の４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン１５．６ｇを得た。
融点：２２８－２２９℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．０８（１Ｈ，ｂｒ）、９．４６（１Ｈ，ｂｒ）、７．２４（２Ｈ，ｍ）、７．１４（３Ｈ，ｍ）、３．５５（２Ｈ，ｓ）、２．０１（３Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１５９．５８、１４１．９０、１３６．８２、１２８．０６、１２７．９６、１２５．３７、９９．９４、２７．２８、９．９４
製造例１３：１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン (化合物Ｏ)の製造
１Ｌ四つ口フラスコに、１－フェニル－３－ピラゾリドン１０ｇ（６２ｍｍｏｌ）、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１５０ｍＬを加えて撹拌した。これに塩化銅（Ｉ）３１７ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）を加えて開放系で一晩撹拌した。反応液に水７５０ｍＬを加え、氷浴で冷却しながら３０分間撹拌した後、ろ別し、水７５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで淡茶色固体の１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン６．１ｇを得た。
融点：１５２℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１０．２２（１Ｈ，ｂｒ）、８．２２（１Ｈ，ｓ）、７．６８（２Ｈ，ｍ）、７．４２（２Ｈ，ｍ）、７．１８（１Ｈ，ｍ）、５．８０（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６２．６４、１３９．７９、１２９．２９、１２８．３７、１２４．５９、１１６．７６、９４．４７
１Ｌ四つ口フラスコに、１－フェニル－３－ピラゾリドン１０ｇ（６２ｍｍｏｌ）、及びＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド１５０ｍＬを加えて撹拌した。これに塩化銅（Ｉ）３１７ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）を加えて開放系で一晩撹拌した。反応液に水７５０ｍＬを加え、氷浴で冷却しながら３０分間撹拌した後、ろ別し、水７５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで淡茶色固体の１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン６．１ｇを得た。
融点：１５２℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１０．２２（１Ｈ，ｂｒ）、８．２２（１Ｈ，ｓ）、７．６８（２Ｈ，ｍ）、７．４２（２Ｈ，ｍ）、７．１８（１Ｈ，ｍ）、５．８０（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１６２．６４、１３９．７９、１２９．２９、１２８．３７、１２４．５９、１１６．７６、９４．４７
製造例１４：４－メチル－２，３-ジアゾスピロ［４．４］ノン－３エン－１－オン（化合物Ｑ）の製造
５００ｍＬ四つ口フラスコにアセト酢酸メチル７．２ｇ（６２．０ｍｍｏｌ）、１，４－ジヨードブタン２３．１ｇ（７５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４２．９ｇ（３１０ｍｍｏｌ）、及びジメチルスルホキシド２２０ｍＬを加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水２２０ｍＬを加え、１０分間撹拌した後に、イソプロピルエーテル３００ｍＬで抽出して得た有機層を水２００ｍＬで二回洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮してカラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１（体積比））することで中間体６．５ｇ（３６ｍｍｏｌ）を得た。
５００ｍＬ四つ口フラスコにアセト酢酸メチル７．２ｇ（６２．０ｍｍｏｌ）、１，４－ジヨードブタン２３．１ｇ（７５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４２．９ｇ（３１０ｍｍｏｌ）、及びジメチルスルホキシド２２０ｍＬを加え、室温で一晩撹拌した。反応液に水２２０ｍＬを加え、１０分間撹拌した後に、イソプロピルエーテル３００ｍＬで抽出して得た有機層を水２００ｍＬで二回洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮してカラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝５０：１（体積比））することで中間体６．５ｇ（３６ｍｍｏｌ）を得た。
得られた中間体とエタノール６ｍＬとを混合し、氷浴上で冷やしながらヒドラジン一水和物１．８ｍＬ（３９ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で一晩撹拌した。反応液を濃縮して得られた固体をヘキサン：酢酸エチル＝５：１（体積比）の混合液４０ｍＬで洗浄することで、白色固体の４－メチル－２，３-ジアゾスピロ［４．４］ノン－３エン－１－オン３．８ｇを得た。
融点：８３－８４℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１０．７７（１Ｈ，ｓ）、１．９２（３Ｈ，ｓ）、１．８６－１．６６（８Ｈ，ｍ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１８１．６４、１６３．３７、５５．７８、３３．５３、２６．４８、１３．３４
融点：８３－８４℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１０．７７（１Ｈ，ｓ）、１．９２（３Ｈ，ｓ）、１．８６－１．６６（８Ｈ，ｍ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１８１．６４、１６３．３７、５５．７８、３３．５３、２６．４８、１３．３４
製造例１５：４，５，６，７－テトラヒドロ－２Ｈ－インダゾール－３（３ａＨ）－オン（化合物Ｒ）の製造
１００ｍＬの四つ口フラスコに２－オキソシクロヘキサンカルボン酸エチル ２４．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、及びエタノール２４ｍＬを加え、混合した。これに氷浴で冷却しながらヒドラジン一水和物７．３ｍＬ（０．１５ｍｏｌ）を滴下し、８０℃で３時間撹拌した後、氷浴で冷却しながら３０分間撹拌した。その後、反応液をろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで白色固体の４，５，６，７－テトラヒドロ－２Ｈ－インダゾール－３（３ａＨ）－オン１７．３ｇを得た。
融点：２８６－２８８℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１０．５０（１Ｈ，ｂｒ）、９．６６（１Ｈ，ｂｒ）、２．４３（２Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，ｔ）、２．２２（２Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，ｔ）、１．６７－１．６２（４Ｈ，ｍ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１５８．３０、１３９．６２、９８．４１、２２．８６、２２．２７、２１．２６、１８．８８
１００ｍＬの四つ口フラスコに２－オキソシクロヘキサンカルボン酸エチル ２４．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）、及びエタノール２４ｍＬを加え、混合した。これに氷浴で冷却しながらヒドラジン一水和物７．３ｍＬ（０．１５ｍｏｌ）を滴下し、８０℃で３時間撹拌した後、氷浴で冷却しながら３０分間撹拌した。その後、反応液をろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液５０ｍＬで洗浄し、乾燥することで白色固体の４，５，６，７－テトラヒドロ－２Ｈ－インダゾール－３（３ａＨ）－オン１７．３ｇを得た。
融点：２８６－２８８℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１０．５０（１Ｈ，ｂｒ）、９．６６（１Ｈ，ｂｒ）、２．４３（２Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，ｔ）、２．２２（２Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，ｔ）、１．６７－１．６２（４Ｈ，ｍ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１５８．３０、１３９．６２、９８．４１、２２．８６、２２．２７、２１．２６、１８．８８
製造例１６：１，３－ジフェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン（化合物Ｓ）の製造
１Ｌの四つ口フラスコにベンゾイル酢酸エチル ５０．０ｇ（０．２６ｍｏｌ）、フェニルヒドラジン２８．１ｇ（０．２６ｍｏｌ）、酢酸４．５ｍＬ（０．０８ｍｏｌ）、及び水５００ｍＬを加えて混合した。これを１００℃で１時間撹拌した後、氷浴で冷却しながら３０分間撹拌してろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液１Ｌで洗浄し、乾燥することで淡橙色固体の１，３－ジフェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン５８．０ｇを得た。
融点：１３７－１３８℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．８１（１Ｈ，ｂｒ）、７．８３（４Ｈ，ｍ）、７．４９（２Ｈ，ｍ）、７．４２（２Ｈ，ｍ）、７．３５－７．２８（２Ｈ，ｍ）、６．０２（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１５３．７３、１４９．５２、１３８．８５、１３３．４１、１２８．８７、１２８．５１、１２７．７８、１２５．６５、１２５．０４、１２１．１１、８５．０５
１Ｌの四つ口フラスコにベンゾイル酢酸エチル ５０．０ｇ（０．２６ｍｏｌ）、フェニルヒドラジン２８．１ｇ（０．２６ｍｏｌ）、酢酸４．５ｍＬ（０．０８ｍｏｌ）、及び水５００ｍＬを加えて混合した。これを１００℃で１時間撹拌した後、氷浴で冷却しながら３０分間撹拌してろ別し、水：メタノール＝１：１（体積比）の混合液１Ｌで洗浄し、乾燥することで淡橙色固体の１，３－ジフェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン５８．０ｇを得た。
融点：１３７－１３８℃
１Ｈ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１１．８１（１Ｈ，ｂｒ）、７．８３（４Ｈ，ｍ）、７．４９（２Ｈ，ｍ）、７．４２（２Ｈ，ｍ）、７．３５－７．２８（２Ｈ，ｍ）、６．０２（１Ｈ，ｓ）
１３Ｃ－ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ｄ６－ＤＭＳＯ，δｐｐｍ）：
１５３．７３、１４９．５２、１３８．８５、１３３．４１、１２８．８７、１２８．５１、１２７．７８、１２５．６５、１２５．０４、１２１．１１、８５．０５
実施例１～２８及び比較例１～８：ゴム組成物の製造
下記表１～４の工程（Ａ）に記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混練した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、表１～４の工程（Ｂ）に記載の各成分をその割合(質量部)で投入し、混合物の最高温度が７０℃以下になるよう調整しながら混練して、ゴム組成物を製造した。
下記表１～４の工程（Ａ）に記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混練した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、表１～４の工程（Ｂ）に記載の各成分をその割合(質量部)で投入し、混合物の最高温度が７０℃以下になるよう調整しながら混練して、ゴム組成物を製造した。
実施例２９～３１及び比較例９～１０：ゴム組成物の製造
下記表５の工程(Ａ－１)に記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混合物の温度を１００℃で一定に保つように回転数を調整しながら、３分間混練して、マスターバッチを製造した。次に、下記表６の工程(Ａ－２)に記載の各成分をその割合で投入し、バンバリーミキサーで混練した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、工程(Ｂ)に記載の各成分をその割合で加えて、最高温度が７０℃以下になるように回転数を調整しながら混練して、ゴム組成物を製造した。
下記表５の工程(Ａ－１)に記載の各成分をその割合(質量部)で混合し、バンバリーミキサーで混合物の温度を１００℃で一定に保つように回転数を調整しながら、３分間混練して、マスターバッチを製造した。次に、下記表６の工程(Ａ－２)に記載の各成分をその割合で投入し、バンバリーミキサーで混練した。混合物の温度が６０℃以下になるまで養生させた後、工程(Ｂ)に記載の各成分をその割合で加えて、最高温度が７０℃以下になるように回転数を調整しながら混練して、ゴム組成物を製造した。
実施例１～３１及び比較例１～１０：低発熱性(Ｔａｎδ値指数)試験
下記実施例１～３１及び比較例１～１０のゴム組成物について、粘弾性測定装置(Ｍｅｔｒａｖｉｂ社製)を使用し、温度４０℃、動歪５％、周波数１５ＨｚでＴａｎδ値を測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物(比較例１～１０)を作製し、そのＴａｎδ値を１００とした。下記式に基づいて、低発熱性指数を算出した。なお、低発熱性指数の値が小さい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。
下記実施例１～３１及び比較例１～１０のゴム組成物について、粘弾性測定装置(Ｍｅｔｒａｖｉｂ社製)を使用し、温度４０℃、動歪５％、周波数１５ＨｚでＴａｎδ値を測定した。比較するために、化合物を添加しない以外は、各実施例と同じ配合内容及び同じ製法でゴム組成物(比較例１～１０)を作製し、そのＴａｎδ値を１００とした。下記式に基づいて、低発熱性指数を算出した。なお、低発熱性指数の値が小さい程、低発熱性であり、ヒステリシスロスが小さいことを示す。
式：低発熱性指数
＝ (各実施例１～１６のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例１のＴａｎδ値)×１００
＝ (各実施例１～１６のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例１のＴａｎδ値)×１００
式：低発熱性指数
＝ (各実施例１７～２０のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例２のＴａｎδ値)×１００
＝ (各実施例１７～２０のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例２のＴａｎδ値)×１００
式：低発熱性指数
＝ (実施例２１のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例３のＴａｎδ値)×１００
＝ (実施例２１のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例３のＴａｎδ値)×１００
式：低発熱性指数
＝ (実施例２２のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例４のＴａｎδ値)×１００
＝ (実施例２２のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例４のＴａｎδ値)×１００
式：低発熱性指数
＝ (実施例２３のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例５のＴａｎδ値)×１００
＝ (実施例２３のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例５のＴａｎδ値)×１００
式：低発熱性指数
＝ (実施例２４のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例６のＴａｎδ値)×１００
＝ (実施例２４のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例６のＴａｎδ値)×１００
式：低発熱性指数
＝ (各実施例２５～２６のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例７のＴａｎδ値)×１００
＝ (各実施例２５～２６のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例７のＴａｎδ値)×１００
式：低発熱性指数
＝ (各実施例２７～２８のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例８のＴａｎδ値)×１００
＝ (各実施例２７～２８のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例８のＴａｎδ値)×１００
式：低発熱性指数
＝ (各実施例２９～３０のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例９のＴａｎδ値)×１００
＝ (各実施例２９～３０のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例９のＴａｎδ値)×１００
式：低発熱性指数
＝ (実施例３１のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例１０のＴａｎδ値)×１００
＝ (実施例３１のゴム組成物のＴａｎδ値)/(比較例１０のＴａｎδ値)×１００
※１：ＮＲ（天然ゴム）；ＧＵＡＮＧＫＥＮ ＲＵＢＢＥＲ社製、ＴＳＲ－２０
※２：ＣＢ（カーボンブラック）；Ｃａｂｏｔ社製、Ｎ２３４
※３：老化防止剤（Ｎ－フェニル－Ｎ'－（１,３－ジメチルブチル）－ｐ－フェニレンジアミン）；Ｋｅｍａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※４：ワックス；Ｒｈｅｉｎ Ｃｈｅｍｉｅ Ｒｈｅｉｎａｕ社製、Ａｎｔｉｌｕｘ １１１
※５：酸化亜鉛；Ｄａｌｉａｎ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※６：ステアリン酸；Ｓｉｃｈｕａｎ Ｔｉａｎｙｕ Ｇｒｅａｓｅ社製
※７：化合物Ａ；東京化成工業株式会社製、５－ピラゾロン
※８：化合物Ｂ；大塚化学株式会社製、３－メチル－５－ピラゾロン
※９：化合物Ｃ；製造例１で製造した３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１０：化合物Ｄ；製造例２で製造した３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１１：化合物Ｅ；製造例３で製造した３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１２：化合物Ｆ；製造例４で製造した３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１３：化合物Ｇ；製造例５で製造した４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）
※１４：化合物Ｈ；製造例６で製造した４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）
※１５：化合物Ｉ；製造例７で製造した４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）
※１６：化合物Ｊ；製造例８で製造した４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン
※１７：化合物Ｋ；製造例９で製造した４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１８：化合物Ｌ；製造例１０で製造した３－ウンデシル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１９：化合物Ｍ；製造例１１で製造した４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※２０：化合物Ｎ；製造例１２で製造した４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン
※２１：化合物Ｏ；製造例１３で製造した１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン
※２２：化合物Ｐ；東京化成工業株式会社製、５－メチル－２－（４－ニトロフェニル）－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン
※２３：加硫促進剤Ｎ－(ｔｅｒｔ－ブチル)－２－ベンゾチアゾールスルフェンアミド；三新化学工業株式会社製、サンセラーＮＳ－Ｇ
※２４：硫黄；Ｓｈａｎｇｈａｉ Ｊｉｎｇｈａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※２５：ＩＲ（イソプレンゴム）；日本ゼオン株式会社製、ＮｉｐｏｌＩＲ２２００
※２６：ＳＢＲ（スチレンブタジエンゴム）；Ｐｅｔｒｏ Ｃｈｉｎａ Ｄｕｓｈａｎｚｉ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ社製、ＲＣ２５５７Ｓ
※２７：ＢＲ（ブタジエンゴム）；Ｓｉｎｏｐｅｃ ＱｉＬｕ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ社製、ＢＲ９０００
※２８：表５に記載のマスターバッチＮｏ．１
※２９：表５に記載のマスターバッチＮｏ．２
※３０：表５に記載のマスターバッチＮｏ．３
※３１：表５に記載のマスターバッチＮｏ．４
※２：ＣＢ（カーボンブラック）；Ｃａｂｏｔ社製、Ｎ２３４
※３：老化防止剤（Ｎ－フェニル－Ｎ'－（１,３－ジメチルブチル）－ｐ－フェニレンジアミン）；Ｋｅｍａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※４：ワックス；Ｒｈｅｉｎ Ｃｈｅｍｉｅ Ｒｈｅｉｎａｕ社製、Ａｎｔｉｌｕｘ １１１
※５：酸化亜鉛；Ｄａｌｉａｎ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※６：ステアリン酸；Ｓｉｃｈｕａｎ Ｔｉａｎｙｕ Ｇｒｅａｓｅ社製
※７：化合物Ａ；東京化成工業株式会社製、５－ピラゾロン
※８：化合物Ｂ；大塚化学株式会社製、３－メチル－５－ピラゾロン
※９：化合物Ｃ；製造例１で製造した３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１０：化合物Ｄ；製造例２で製造した３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１１：化合物Ｅ；製造例３で製造した３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１２：化合物Ｆ；製造例４で製造した３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１３：化合物Ｇ；製造例５で製造した４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）
※１４：化合物Ｈ；製造例６で製造した４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）
※１５：化合物Ｉ；製造例７で製造した４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）
※１６：化合物Ｊ；製造例８で製造した４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン
※１７：化合物Ｋ；製造例９で製造した４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１８：化合物Ｌ；製造例１０で製造した３－ウンデシル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※１９：化合物Ｍ；製造例１１で製造した４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン
※２０：化合物Ｎ；製造例１２で製造した４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン
※２１：化合物Ｏ；製造例１３で製造した１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン
※２２：化合物Ｐ；東京化成工業株式会社製、５－メチル－２－（４－ニトロフェニル）－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン
※２３：加硫促進剤Ｎ－(ｔｅｒｔ－ブチル)－２－ベンゾチアゾールスルフェンアミド；三新化学工業株式会社製、サンセラーＮＳ－Ｇ
※２４：硫黄；Ｓｈａｎｇｈａｉ Ｊｉｎｇｈａｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ社製
※２５：ＩＲ（イソプレンゴム）；日本ゼオン株式会社製、ＮｉｐｏｌＩＲ２２００
※２６：ＳＢＲ（スチレンブタジエンゴム）；Ｐｅｔｒｏ Ｃｈｉｎａ Ｄｕｓｈａｎｚｉ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ社製、ＲＣ２５５７Ｓ
※２７：ＢＲ（ブタジエンゴム）；Ｓｉｎｏｐｅｃ ＱｉＬｕ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ社製、ＢＲ９０００
※２８：表５に記載のマスターバッチＮｏ．１
※２９：表５に記載のマスターバッチＮｏ．２
※３０：表５に記載のマスターバッチＮｏ．３
※３１：表５に記載のマスターバッチＮｏ．４
本発明のゴム組成物は、化合物（１）又は化合物（２）を配合することにより、カーボンブラック及び／又は無機充填材の分散性が向上し、低発熱性に優れている。よって、各種自動車の各種空気入りタイヤの各部材、特に空気入りラジアルタイヤのトレッド用部材、サイドウォール用部材、ビードエリア用部材、ベルト用部材、カーカス用部材、及びショルダー用部材として利用することができる。
Claims (6)
- ゴム成分、
３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－ウンデシル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン、４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン、４－メチル－２，３-ジアゾスピロ［４．４］ノン－３エン－１－オン、４，５，６，７－テトラヒドロ－２Ｈ－インダゾール－３（３ａＨ）－オン、４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン、４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、１，３－ジフェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、及び４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）からなる群より選択される少なくとも一種の化合物、あるいは該化合物の塩、
並びにカーボンブラック及び／又は無機充填材を含むゴム組成物。 - 前記ゴム成分がジエン系ゴムである、請求項１に記載のゴム組成物。
- 請求項１又は２に記載のゴム組成物を用いて作製されたタイヤ。
- ゴム成分、３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－ウンデシル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン、４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン、４－メチル－２，３-ジアゾスピロ［４．４］ノン－３エン－１－オン、４，５，６，７－テトラヒドロ－２Ｈ－インダゾール－３（３ａＨ）－オン、４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン、４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、１，３－ジフェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、及び４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）からなる群より選択される少なくとも一種の化合物、あるいは該化合物の塩、及びカーボンブラック及び／又は無機充填材を含む原料成分を混合する工程（Ａ）、並びに
工程（Ａ）で得られる混合物、及び加硫剤を混合する工程（Ｂ）を含む、ゴム組成物の製造方法。 - ゴム成分に低発熱性を付与するための添加剤であって、３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－ウンデシル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン、４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン、４－メチル－２，３-ジアゾスピロ［４．４］ノン－３エン－１－オン、４，５，６，７－テトラヒドロ－２Ｈ－インダゾール－３（３ａＨ）－オン、４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン、４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、１，３－ジフェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、及び４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）からなる群より選択される少なくとも一種の化合物あるいは該化合物の塩を含む、添加剤。
- ３－（ナフタレン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－（フラン－２－イル）－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－プロピル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、３－ウンデシル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－（２－ヒドロキシエチル）－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、４－ベンジル－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）オン、４，４’－（フェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、４－[(ジメチルアミノ)メチリデン]－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５(４Ｈ)－オン、４－メチル－２，３-ジアゾスピロ［４．４］ノン－３エン－１－オン、４，５，６，７－テトラヒドロ－２Ｈ－インダゾール－３（３ａＨ）－オン、４－{[４－ジメチルアミノ]フェニル}メチリデン｝－３－メチル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、１－フェニル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン、４，４’－（４－ヒドロキシフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）、１，３－ジフェニル－１Ｈ－ピラゾール－５（４Ｈ）－オン、及び４，４’－（４－ニトロフェニルメチレン）ビス（５－メチル－１Ｈ－ピラゾール－３（２Ｈ）－オン）からなる群より選択される少なくとも一種の化合物、あるいは該化合物の塩を含む、ゴム成分用低発熱化剤。
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