JP7099978B2 - ジクロロシランの精製方法 - Google Patents
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- ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、
前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、
該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、
前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で0.2mol%以上であることを特徴とするジクロロシランの精製方法。 - ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、
前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、
該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、
前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で30mol%以下であることを特徴とするジクロロシランの精製方法。 - ジクロロシランを含むシラン系ガスからジクロロシランを精製する方法であって、
前記シラン系ガスからジクロロシランよりも蒸気圧の高い不純物を除去する蒸留精製工程を備え、
該蒸留精製工程において、不活性ガスを供給して、前記シラン系ガスと前記不活性ガスとを接触させ、
前記不活性ガスの供給を、前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔のガス導入口からガス排出口に至る経路中の、前記シラン系ガス中に占めるジクロロシランの割合が90wt%を超える地点よりも上流側で実行することを特徴とするジクロロシランの精製方法。 - 前記不純物は、塩化水素、モノシラン、モノクロロシラン、ジシラン、ホウ素化合物である、請求項1~3の何れか1項に記載のジクロロシランの精製方法。
- 前記不活性ガスは、ヘリウム、アルゴン、窒素、水素の何れかのガス若しくはこれらの何れかの混合ガスである、請求項1~4の何れか1項に記載のジクロロシランの精製方法。
- 前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で0.5mol%以上である、請求項1~5の何れか1項に記載のジクロロシランの精製方法。
- 前記不活性ガスの供給量は、精製対象である前記シラン系ガスに対する比率で3mol%以下である、請求項1~6の何れか1項に記載のジクロロシランの精製方法。
- 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度を25℃以下とする、請求項1~7の何れか1項に記載のジクロロシランの精製方法。
- 前記蒸留塔の塔頂の温度を17℃以下とする、請求項8に記載のジクロロシランの精製方法。
- 前記蒸留精製工程を実施する蒸留塔の塔頂の温度を8℃以上とする、請求項1~9の何れか1項に記載のジクロロシランの精製方法。
- 前記蒸留塔の塔頂の温度を10℃以上とする、請求項10に記載のジクロロシランの精製方法。
- 前記蒸留精製工程を複数備えている、請求項1~11の何れか1項に記載のジクロロシランの精製方法。
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JP2010521409A (ja) | 2007-03-21 | 2010-06-24 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | ホウ素を含有するクロロシラン流の後処理法 |
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