JP7098756B2 - 基板上のターゲットの特性を決定する方法 - Google Patents
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Description
I+d -1は正のバイアスターゲットからの-1次回折であり、
I-d +1は負のバイアスターゲットからの+1次回折であり、
I-d -1は負バイアスターゲットからの-1次回折であり、
A+d=I+d +1-I+d -1(例えば正のバイアスターゲットからの+1次及び-1次強度の非対称性)であり、
A+d=I-d +1-I-d -1(例えば負のバイアスターゲットからの+1次及び-1次強度の非対称性)である。
1.基板上のターゲットの特性を決定する方法であって、
複数の強度非対称測定値を取得し、各強度非対称性測定値は、基板上に形成されたターゲットに関連し、
複数の強度非対称測定値から、各ターゲットに対応する感度係数を決定し、
前のステップで決定された感度係数から、複数のターゲット又はそれらのうちの1つより大きいサブセットの代表的な感度係数を決定し、
前記代表的な感度係数を使用して、ターゲットの前記特性を決定する方法。
2.前記ターゲットの特性がオーバーレイを含む、第1項に記載の方法。
3.感度係数が、オーバーレイを強度の非対称性に関連付ける比例定数を表す、第1項又は第2項に記載の方法。
4.各ターゲットの前記代表的な感度係数を使用して、前記複数のターゲットの前記特性を決定することを含む、第1項、第2項又は第3項に記載の方法。
5.前記サブセットの各ターゲットの前記代表的な感度係数を使用して、複数のターゲットのサブセットの前記特性を決定することを含む、第1項、第2項又は第3項に記載の方法。
6.代表的な感度係数を決定することは、複数のターゲットの感度係数の中央値を決定することを含む、先行するいずれかの項に記載の方法。
7.前記複数の強度非対称測定値が、複数の異なる照射特性を有する放射を使用して実行される、第1から3項のいずれか一項に記載の方法。
8.前記複数の異なる照射特性が、複数の異なる波長及び/又は偏光を含む、第7項に記載の方法。
9.前記各ターゲットに対応する感度係数を決定することは、各ターゲットの照射特性に依存する感度係数関数を決定し、
代表的な感度係数を決定することは、代表的な照射特性に依存する感度係数関数を決定することを含む、第7項又は第8項に記載の方法。
10.機械学習プロセスを実行して、照射特性に依存する感度係数関数をグループに分類することを含む、第9項に記載の方法。
11.機械学習プロセスがクラスタリングプロセスである、第10項に記載の方法。
12.前記複数のターゲットのすべてについてターゲットの特性を決定する際に使用するための、前記グループの1つから単一の代表的な照射特性に依存する感度係数関数を決定することを含む、第10項又は第11項に記載の方法。
13.前記グループのそれぞれについて、グループを代表する照射特性に依存する感度係数関数を決定することを含む、第10項又は第11項に記載の方法。
14.前記複数のターゲット及び/又は前記グループのうちの1つ若しくは複数について、代表的な照射特性に依存する感度係数関数を決定することは、各照射特性における複数のターゲット又は適切なグループに対応する感度係数の中央値を介して回帰することを含む、第9項から第13項のいずれかの項に記載の方法。
15.前記ターゲットが、第1のバイアスを有する第1のサブターゲット及び第2のバイアスを有する第2のサブターゲットを含み、前記ターゲットの前記特性を決定する前記ステップが、前記第1のサブターゲット及び第2のサブターゲットの両方から非対称測定の組み合わせを使用することを含む、第1項から第14項のいずれか1項に記載の方法。
16. 前記ターゲットが単一のサブターゲットを含む、第1項から第14項のいずれか一項に記載の方法。
17. メトトロジ装置であって、
ターゲットを放射で照らすように構成された照射システムと、
ターゲットの照射から生じる散乱放射を検出するように構成された検出システムとを含み、
前記メトトロジ装置は、第1項から第16項のいずれかの方法を実行するように動作可能である装置。
18.適切なプロセッサ制御装置上で実行されると、プロセッサ制御装置に第1項から第16項のいずれか一項の方法を実行させる、プロセッサ可読命令を含むコンピュータープログラム。
19.第18項に記載のコンピュータープログラムを含むコンピュータープログラムキャリア。
Claims (15)
- 基板上のターゲットの特性を決定する方法であって、
複数の強度非対称測定値を取得することを含み、各強度非対称性測定値は、基板上に形成されたターゲットに関連しており、さらに、
前記複数の強度非対称測定値から複数の感度係数を決定することを含み、各感度係数は、前記基板上に形成された複数のターゲットの各ターゲットに対応しており、さらに、
前のステップで決定された前記複数の感度係数から、前記複数のターゲット又はその1つより大きいサブセットの代表的な感度係数を決定することと、
前記代表的な感度係数を使用して、ターゲットの前記特性を決定することと、を含む方法。 - 前記ターゲットの特性がオーバーレイを含む、請求項1に記載の方法。
- 感度係数が、オーバーレイを強度の非対称性に関連付ける比例定数を表す、請求項1又は2に記載の方法。
- 各ターゲットの前記代表的な感度係数を使用して、前記複数のターゲットの前記特性を決定することを含む、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記サブセットの各ターゲットの前記代表的な感度係数を使用して、複数のターゲットのサブセットの前記特性を決定することを含む、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の方法。
- 代表的な感度係数を決定することは、複数のターゲットの感度係数の中央値を決定することを含む、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の方法。
- 前記複数の強度非対称測定が、複数の異なる照射特性を有する放射を使用して実行される、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記複数の異なる照射特性が、複数の異なる波長及び/又は偏光を含む、請求項7に記載の方法。
- 前記各ターゲットに対応する感度係数を決定することは、各ターゲットの照射特性に依存する感度係数関数を決定することを含み、
前記代表的な感度係数を決定することは、代表的な照射特性に依存する感度係数関数を決定することを含む、請求項7又は8に記載の方法。 - 機械学習プロセスを実行して、照射特性に依存する感度係数関数をグループに分類することを含む、請求項9に記載の方法。
- 機械学習プロセスがクラスタリングプロセスである、請求項10に記載の方法。
- 前記複数のターゲットのすべてについてターゲットの特性を決定する際に使用するための、前記グループの1つから単一の代表的な照射特性に依存する感度係数関数を決定することを含む、請求項10又は請求項11に記載の方法。
- 前記グループのそれぞれについて、グループを代表する照射特性に依存する感度係数関数を決定することを含む、請求項10又は11に記載の方法。
- 前記複数のターゲット及び/又は前記グループのうちの1つ若しくは複数について、代表的な照射特性に依存する感度係数関数を決定することは、各照射特性における複数のターゲット又は適切なグループに対応する感度係数の中央値を介して回帰することを含む、請求項9乃至13のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ターゲットが、第1のバイアスを有する第1のサブターゲット及び第2のバイアスを有する第2のサブターゲットを含み、前記ターゲットの前記特性を決定する前記ステップが、前記第1のサブターゲットおよび第2のサブターゲットの両方から非対称測定の組み合わせを使用することを含む、請求項1乃至14のいずれか1項に記載の方法。
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