JP7094359B2 - 感光性樹脂組成物およびパターン構造体 - Google Patents
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Description
また、別の電気光学素子として、例えば、特許文献1には、調光素子が提案されている。調光素子では、基板間に高分子分散液晶を封入することで、電界印加により散乱状態と透過状態とを切り替えることによってアクティブに光の透過状態を切り替えることができる。
しかし、アクティブ変調素子の用途によって、変調材料層のギャップや占有率の設計は変化する。例えば、高周波帯の偏波解消用アクティブパターンリターダーを考えると、対象波長が数μmと長いために、従来の材料で有意な位相差を与えるには、ギャップは1mm程度の厚さが要求され、また、占有率は50%程度でよい。
しかし、厚さ数十μm以上のギャップを設ける場合、特に、変調材料層のアスペクト比(変調材料層に形成するパターンの幅に対するギャップの厚さの比)が高い場合には、従来知られた材料では良好な形状のギャップを形成することができないことが明らかとなった。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
バインダーポリマーの酸価が、100mgKOH/g以上200mgKOH/g以下であり、
光重合開始剤が、アシルホスフィンオキサイド化合物またはチタノセン化合物であり、
光重合開始剤の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分に対して1.0質量%以下であり、
光重合性化合物の平均I/O値が、1.1~1.5の範囲である、感光性樹脂組成物。
また、上記式(II)中、R2は、水素原子またはメチル基を表し、R3は、炭素数1~30のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。
また、上記式(III)中、R4は、水素原子またはメチル基を表し、R5は、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、炭素数5以上のシクロアルキル基、または、ハロゲン原子を表し、AOは、オキシアルキレン基を表し、mは、0~5の整数を表し、sは、1~5の整数を表す。mが2~5である場合、複数のR5は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ここで、上記式(1)中、*は、化合物に含まれる構造以外の構造との結合位置を表す。Aは、炭素数1~8のアルキレン基を表す。ただし、アルキレン基の炭化水素を構成する水素原子は、水酸基またはメチル基に置換されていてもよい。nは、1~20の整数を表す。
[6] 硬化物が、複数の線状のパターン部を構成し、
複数の線状のパターン部のうち、隣接するパターン部同士の間に形成されるスペース領域の幅Wが、パターン部の高さHよりも小さい、[5]に記載のパターン構造体。
[7] スペース領域の幅Wに対する、パターン部の高さHが、3以上40以下である、[6]に記載のパターン構造体。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
また、本明細書において、“(メタ)アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“(メタ)アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“(メタ)アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性のバインダーポリマーと、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物である。
本発明においては、バインダーポリマーの酸価が、100mgKOH/g以上200mgKOH/g以下である。
また、本発明においては、光重合開始剤が、アシルホスフィンオキサイド化合物またはチタノセン化合物であり、かつ、光重合開始剤の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分に対して1.0質量%以下である。
また、本発明においては、光重合性化合物の平均I/O値が、1.1~1.5の範囲である。
このような感光性樹脂組成物は、光照射によって露光部に重合反応が起こって現像液に対する溶解性が変化し、露光部と未露光部との溶解性の差によってパターン構造を形成することができる。
以下、本発明の感光性樹脂組成物に含まれる各成分を詳細に説明する。
本発明の感光性樹脂組成物に含まれるバインダーポリマー(以下、「バインダー」とも略す。)は、その酸価が100mgKOH/g以上200mgKOH/g以下となるアルカリ可溶性のバインダーである。
(1)固形分濃度(x(%))の樹脂溶液(y(g))をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートによって希釈し、固形分濃度が1質量%~10質量%の試料溶液を作製する。
(2)上記試料溶液に対して、電位差測定装置(平沼産業社製、装置名「平沼自動滴定装置COM-550」)を用いて、0.1mol/L水酸化カリウム・エタノール溶液(力価a)で滴定を行い、滴定終点までに必要な水酸化カリウム・エタノール溶液の量(b(mL))を測定する。
(3)また、水に対して(2)と同様の方法で滴定を行い、滴定終点までに必要な水酸化カリウム・エタノール溶液の量(c(mL))を測定する。
(4)下記式で計算することにより、樹脂エマルジョンの固形分酸価を決定する。
固形分酸価(mgKOH/g)={5.611×(b-c)×a}/{(x/100)×y}
また、バインダーの酸価が200mgKOH/g以下であると、アスペクト比が大きいギャップの形成に際して必要な、従来より強い条件での現像処理においても、形成されたパターン端部の直線性、いわゆるエッジラフネスが良好で、パターン構造体表面が滑らかな構造体を得ることができる。
ここで、オキシアルキレン基は、[OCnH2n]で表される基であり、nが1~5を示す。具体的には、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシブチレン基等が挙げられる。
また、アラルキル基に含まれるアルキレン基は、炭素数1~10のアルキレン基であることが好ましい。
また、炭素数5以上のシクロアルキル基は、炭素数が20以下であることが好ましく、炭素数が10以下であることがより好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有し、平均I/O値が1.1~1.5の範囲の化合物である。
ここで、「平均I/O値」とは、光重合性化合物ごとに、全光重合性化合物の総質量部に対する当該光重合性化合物の質量部の割合に、当該光重合性化合物のI/O値を乗じて平均したものである。光重合性化合物として単一の化合物を用いる場合は、その光重合性化合物のI/O値を平均I/O値として用いることができる。
本発明においては、上記I/O値は、“甲田善生ら著、「新版:有機概念図―基礎と応用」、2008年11月、三共出版”に記載された方法によって求めた「無機性(I)/有機性(O)」値である。
上記光重合性化合物の具体的としては、例えば、特許第4098550号の段落[0023]~[0024]に記載されたエチレン性不飽和二重結合含有モノマーの他、トリシクロデカンジオールジメタノールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、および、これらのエチレンオキシ変性体、プロピレンオキシ変性体などの2官能の重合性化合物等が挙げられる。
また、ウレタン(メタ)アクリレート化合物などのウレタン系モノマーも好ましく用いることができる。
ここで、Aは、エチレン(-CH2-CH2-)であるときはポリ(エチレンオキシ)と称され、プロピレン(-CH2-CH(CH3)-)であるときはポリ(プロピレンオキシ)と称されることもある。
本発明の感光性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤は、アシルホスフィンオキサイド化合物またはチタノセン化合物である。
また、光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分に対して1.0質量%以下である。
アシルホスフィンオキサイド化合物ならびにチタノセン化合物は、重合開始にかかる励起光照射によって励起光帯域の吸光係数が減少する、いわゆるフォトブリーチング性を有している。
アシルホスフィンオキサイド化合物は、未露光状態での吸収帯が430nm以下であり、露光によって概ね無色を呈するので、パターン構造体が可視域で無色であることが望ましい用途に好ましく用いることができる。
チタノセン化合物は未露光状態での吸収帯が一般に550nm付近まであるため、可視光を露光光源として利用することができる。例えば耐光性のために紫外線吸収剤を含んだ基板等にパターン構造体を設ける必要がある場合、紫外線吸収剤の影響を受けずにパターン露光が行えるため、好ましい。
ここで、全光線透過率は、本発明の感光性樹脂組成物から上記光重合開始剤のみを除いた組成物を塗布し、乾燥させて固形分化した0.1mm厚の膜(以下、「サンプル膜」と略す。)に対してJIS K 7375:2008に準じた方法で測定した値を採用する。
具体的には、バックグラウンドとして透明な支持体(例えばガラス)を用い、支持体上のサンプル膜の全光線透過率を測定してバックグラウンドを除することによって測定した値を採用する。
本発明の感光性樹脂組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤が好ましく、フッ素系界面活性剤がより好ましい。
本発明に用いることができる界面活性剤としては、例えば、市販品である、メガファックF142D、同F172、同F173、同F176、同F177、同F183、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781、同F781-F、同R30、同R08、同F-472SF、同BL20、同R-61、同R-90(DIC(株)製)、フロラードFC-135、同FC-170C、同FC-430、同FC-431、Novec FC-4430(住友スリーエム(株)製)、アサヒガードAG7105,7000,950,7600、サーフロンS-112、同S-113、同S-131、同S-141、同S-145、同S-382、同SC-101、同SC-102、同SC-103、同SC-104、同SC-105、同SC-106(旭硝子(株)製)、エフトップEF351、同352、同801、同802(三菱マテリアル電子化成(株)製)、フタージェント250(ネオス(株)製)が挙げられる。また、上記以外にも、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄社化学(株)製)、エフトップ(三菱マテリアル電子化成(株)製)、メガファック(DIC(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(旭硝子(株)製)、PolyFox(OMNOVA社製)等の各シリーズを挙げることができる。
本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じ溶媒を加えてもよい。溶媒で希釈することにより、塗布に適した粘度に調整でき、また、構成成分同士を均一に混合することが可能である。
使用される有機溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ブチレングリコールジアセテート類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコール類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。
本発明に用いることができる有機溶剤は、1種単独、又は、2種以上を併用することができる。沸点の異なる溶剤を併用することも好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、可塑剤、重合禁止剤、酸化防止剤、密着改良剤等のその他の成分を添加することができる。また、“高分子添加剤の新展開((株)日刊工業新聞社)”に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の感光性樹脂組成物に添加してもよい。
また、本発明の感光性樹脂組成物は、顔料および染料を実質的に含有していないことが好ましい。なお、「実質的に含有していない」とは、感光性樹脂組成物の全固形分に対して0.1質量%未満の量であることをいう。
ここで、感光性樹脂組成物のI/O値は、感光性樹脂組成物に含まれる成分ごとに、I/O値にモル比を乗じた値を算出し、これらを合計した値をいう。
本発明のパターン構造体は、基板と、基板上に本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成された、厚さ50μm以上5mm以下の硬化物とを有する、パターン構造体である。
硬化物の厚みは、70μm~3mmであることが好ましい。
パターン部の形状としては、例えば、線状、ストライプ状、格子状などが挙げられる。
このような高アスペクト比の溝は、従来よく知られたレジスト様のパターン形成材料を用いて形成することが困難であるが、本発明の感光性樹脂組成物を利用することにより、好適な形状で設けることが可能である。
図1に示すパターン構造体10は、基板1と、基板1上に設けられた金属膜2と、透明電極2上にストライプ状に設けられたパターン部3とを有し、パターン部3同士の間にスペース領域4が形成された構造体である。
また、図1中、符号Hは、パターン部の高さを表し、符号Wは、スペース領域の幅を表す。
上記基板としては、無機基板、樹脂基板、樹脂複合材料などが挙げられる。
無機基板としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、シリコンナイトライド、及び、それらのような基板上にモリブデン、チタン、アルミ、銅などを蒸着した複合基板が挙げられる。
樹脂基板としては、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリルジグリコールカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリベンズアゾール、ポリフェニレンサルファイド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン等のフッ素樹脂、液晶ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、シアネート樹脂、架橋フマル酸ジエステル、環状ポリオレフィン、芳香族エーテル、マレイミドーオレフィン、セルロース、エピスルフィド樹脂等の合成樹脂からなる基板が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、蒸着またはスパッタリングにより製膜された金属膜や金属酸化物に対する密着がよいため、本発明のパターン構造体は、上記基板上に、スパッタリングにより製膜された金属膜を有していることが好ましい。
金属としては、チタン、銅、アルミニウム、インジウム、スズ、マンガン、ニッケル、コバルト、モリブデン、タングステン、クロム、銀、ネオジウム及びこれらの酸化物又は合金であることが好ましく、モリブデン、チタン、アルミニウム、銅及びこれらの合金であることが更に好ましい。なお、金属や金属酸化物は1種単独で用いても、複数種を併用してもよい。
また、金属膜は、上記金属の酸化物、窒化物、炭化物であってもよい。
本発明のパターン構造体を製造する方法としては、公知の方法を特に制限はなく用いることができるが、以下の(1)~(3)および(5)の工程を含むことが好ましい。
(1)本発明の感光性樹脂組成物を基板上に塗布する塗布工程
(2)塗布された感光性樹脂組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
(3)有機溶剤が除去された感光性樹脂組成物を光によって硬化する硬化工程
(5)現像によって未露光部を除去する現像工程
また、さらに工程(3)と工程(5)の間に、以下の(4)の工程を含むことが好ましい。また、工程(5)の後に、以下の(6)の工程を含むことが好ましい。
(4)光により硬化した硬化物を熱処理する熱処理工程
(6)形成されたパターン構造体に対し、さらに露光または加熱を行うポストキュア工程
また、上記溶剤除去工程においては、感光性樹脂組成物中の有機溶剤を完全に除去する必要はなく、少なくとも一部が除去されればよい。
露光装置としては、ミラープロジェクションアライナー、ステッパー、スキャナー、プ
ロキシミティ、コンタクト、マイクロレンズアレイ、レーザー露光、など各種方式の露光機を用いることができる。
このようなアルカリ現像液の有効成分としては、具体的に、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア等の無機アルカリ性化合物;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン等の有機アルカリ性化合物等を挙げることができる。
また、上述したアルカリ性化合物の濃度は、0.001~10質量%であることが好ましく、0.01~5質量%であることがより好ましい。
この濃度範囲であると、アスペクト比の高いパターンであっても良好に現像が進行し、かつ、硬化部表面が冒されることによる表面荒れを防止することができる。前述のアルカリ現像液による現像処理がなされた後は、水洗処理を施すことが好ましい。
例えば、パターン構造体のギャップに電磁波により透過性や屈折率異方性、光吸収スペクトル、誘電率が変化する媒体を封入し、外部から電界または磁界を印加することでアクティブに各種の特性が変化できる素子を構成することができる。
また、ギャップに流動性の媒体(空気を含む)を封入し、圧力によってその流動を検知することで動的センサーとして利用することもできる。
特に、従来知られた感光性樹脂組成物では困難であった、厚みが50μm以上でアスペクト比の高く、精密なギャップ形状を必要とするこれらの用途において、本発明の組成物ならびに本発明のパターン構造体は、極めて有用なものである。
アルカリ可溶性のバインダーポリマーとして、下記表1中のモノマー比率で合成した以下の共重合体を準備した。なお、下記表1中、BzMAは、メタクリル酸ベンジルを表し、MAAは、メタクリル酸メチルを表し、AAは、アクリル酸を表す。
<感光性樹脂組成物の調製>
感光性樹脂組成物P1として、以下の組成物を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
感光性樹脂組成物P1
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アルカリ可溶性バインダーB1(I/O値:0.55) 60質量部
・光重合性化合物A
(A-GLY-9E、新中村化学(株)製、I/O値:1.24)
40質量部
・光重合開始剤
(イルガキュアTPO、BASF製、I/O値:1.56)
0.5質量部
・界面活性剤
(メガファックF-554、Dic製、I/O値:2.33)
0.1質量部
・溶媒 0.9質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
40×40mmガラス基板上に、上述の感光性樹脂組成物P1をスピンコートにより塗布し、90℃で15分乾燥し、塗膜(乾燥後膜厚:100μm)を形成した。
次いで、この塗膜に対し、プロキシミティ露光機(ウシオ(株)製、UIS-5011)を用いて、マスク露光〔マスクパターン:L(透明部)/S(遮光部)=300μm/30μm〕を行った。露光量は、露光領域平均で100mJ/cm2とし、マスクと塗膜との間に100μmの間隙を設けた。
パターン露光した塗膜を、小型現像機 AD-1200(MIKASA(株)製)にて、0.05質量%KOH水溶液を用い、シャワー5分間にて現像を行い、未露光部を除去することによって、基板上にパターン部(幅:300μm、高さ:100μm)およびスペース領域(幅:30μm、高さ:100μm、アスペクト比:3.3)が形成されたパターン構造体を作製した。
図2に、実施例1で作製したパターン構造体におけるパターン部の電子顕微鏡写真を示す。
感光性樹脂組成物P1に代えて、下記表2に示す感光性樹脂組成物を用いた以外は、実施例1と同様にしてパターン構造体を作製した。
図3に、比較例1で作製したパターン構造体におけるパターン部の電子顕微鏡写真を示し、図4に、比較例3で作製したパターン構造体におけるパターン部の電子顕微鏡写真を示す。
感光性樹脂組成物から光重合開始剤を除いた組成物を調製し、スピンコーターにて溶媒除去後の膜厚が100μmとなるように、アルカリ洗浄したガラス基板上に塗膜を設けた。これを、JIS K 7375:2008に準拠して、ガラス基板をバックグラウンドとして全光線透過率を測定した。結果を下記表2に示す。
感光性樹脂組成物のI/O値を上述した方法で算出した。結果を下記表2に示す。
形成した、パターン構造体の残膜、パターン部の膨潤、パターン部のテーパー角度を測定した。評価基準は以下のとりである。評価結果を下記表3に示す。
作製したパターン構造体を切断し、その断面を電子顕微鏡で観察することにより、未露光部における残膜Rを以下の基準で判定した。
A:R<0.05μm
B:0.05μm≦R<0.2μm
C:0.2μm≦R<1μm
D:1μm≦R
作製したパターン構造体の平面部3×3mmの範囲を電子顕微鏡で観察し、パターン部が崩れている面積Sから以下の基準で硬化膜の膨潤を評価した。
A:S<1%
B:1%<S<5%
C:5%<S<20%
D:20%≦S
作製したパターン構造体を切断し、その断面を電子顕微鏡で観察し、パターン部のなす角度を画像解析によって計測した、図5Aおよび図5Bに示すテーパー角度θを測定し、以下の基準で評価した。なお、θ=0°を基板と垂直な角度と定義する。
A:θ<±3°
B:±3°≦θ<±10°
C:±10°≦θ<±20°
D:±20°≦θ
E:評価不可
また、光重合性化合物の平均I/O値が1.1~1.5の範囲外であると、テーパー角度が大きくなり、ギャップの形状が劣ることが分かった(比較例2~3)。
また、バインダーポリマーの酸価が、100mgKOH/g以上200mgKOH/g以下の範囲外であると、テーパー角度が大きくなり、ギャップの形状が劣ることが分かった(比較例4~5)。
また、アシルホスフィンオキサイド化合物およびチタノセン化合物のいずれにも該当しない光重合開始剤を用いた場合は、テーパー角度が大きくなり、ギャップの形状が劣ることが分かった(比較例4~5)。
特に、実施例1と実施例2との対比から、光重合性化合物の平均I/O値が1.10~1.25であると、形成されるギャップの膨潤をより抑制できることが分かった。
また、実施例1、4および5の対比から、光重合性化合物の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分に対して0.2~0.7質量%であると、ギャップの形状がより良好となることが分かった。
また、実施例1と実施例6との対比から、光重合性化合物が、エチレン性不飽和結合を2個または3個有している化合物であると、ギャップの形状がより良好となることが分かった。
また、実施例1と実施例7との対比から、感光性樹脂組成物のI/O値が0.7~1.0であると、形成されるギャップの膨潤をより抑制できることが分かった。
2 金属膜
3 パターン部
4 スペース領域
10 パターン構造体
Claims (7)
- アルカリ可溶性のバインダーポリマーと、エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する感光性樹脂組成物であって、
前記バインダーポリマーの酸価が、113mgKOH/g以上167mgKOH/g以下であり、
前記光重合開始剤が、2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-ホスフィンオキサイドまたはビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキサイドであり、
前記光重合開始剤の含有量が、前記感光性樹脂組成物の全固形分に対して0.7質量%以下であり、
前記光重合性化合物の平均I/O値が、1.21~1.28の範囲であり、
前記バインダーポリマーの含有量が、前記感光性樹脂組成物における全固形分に対し、30~90質量%である、感光性樹脂組成物。 - 前記感光性樹脂組成物から前記光重合開始剤のみを除いた固形分の、厚さ0.1mmあたりの全光線透過率が93%以上である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記バインダーポリマーが、下記式(I)で表される構造単位と、下記式(II)で表される構造単位および下記式(III)で表される構造単位の少なくとも一方の構成単位とを有する重合体である、請求項1または2に記載の感光性樹脂組成物。
ここで、前記式(I)中、R1は、水素原子またはメチル基を表す。
また、前記式(II)中、R2は、水素原子またはメチル基を表し、R3は、炭素数1~30のアルキル基またはシクロアルキル基を表す。
また、前記式(III)中、R4は、水素原子またはメチル基を表し、R5は、炭素数1~10のアルキル基、炭素数1~10のアルコキシ基、ヒドロキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、炭素数5以上のシクロアルキル基、または、ハロゲン原子を表し、AOは、オキシアルキレン基を表し、mは、0~5の整数を表し、sは、1~5の整数を表す。mが2~5である場合、複数のR5は、互いに同一であっても異なっていてもよい。 - 基板と、前記基板上に請求項1~4のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を用いて形成された、厚さ50μm以上5mm以下の硬化物とを有する、パターン構造体。
- 前記硬化物が、複数の線状のパターン部を構成し、
前記複数の線状のパターン部のうち、隣接するパターン部同士の間に形成されるスペース領域の幅Wが、前記パターン部の高さHよりも小さい、請求項5に記載のパターン構造体。 - 前記スペース領域の幅Wに対する、前記パターン部の高さHが、3以上40以下である、請求項6に記載のパターン構造体。
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