JP5598621B1 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】ぬれ性に優れたパターン、すなわち、隔壁と基板によって画成される凹部基板表面のぬれ性が高く、隔壁上面の撥液性が高いパターンを形成できる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含み、
（Ａ）の含有量が、（Ａ）と（Ｃ）との合計含有量に対して、４５質量％以上８０質量％以下である感光性樹脂組成物。
（Ａ）エチレン性不飽和結合を有する芳香族カルボン酸に由来する構造単位と、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位とを含み、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を有しない重合体
（Ｂ）炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を含む重合体
（Ｃ）重合性化合物
（Ｄ）重合開始剤
【選択図】なし

Description

本発明は感光性樹脂組成物に関する。

近年の表示装置等では、カラーフィルタ、液晶表示素子のＩＴＯ電極、有機ＥＬ表示素子、回路配線基板等がインクジェット法により作製される。また、インクジェット法においては、感光性樹脂組成物を用いて形成された隔壁が利用される。
このような感光性樹脂組成物としては、例えば、樹脂として、メタクリル酸と３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^２．６］デシルアクリレートとの共重合体を含む感光性樹脂組成物が知られている（特許文献１）。

特開２０１２−７３６０３号公報

基板上に形成された隔壁と基板によって画成される凹部に、インクジェット装置を用いて有機機能性材料を含むインクを塗布する場合には、凹部基板表面がインクで完全に被覆されるように基板表面のぬれ性が高いことが好ましく、かつ、インクが目的とする領域以外に漏れ出すことを防止するため隔壁上面のぬれ性が低い（撥液性が高い）ことが好ましい。しかしながら、従来から提案されている感光性樹脂組成物を用いて形成された隔壁と基板によって画成される凹部基板表面のぬれ性は、満足できない場合があった。

本発明は、以下の［１］〜［６］を提供するものである。
［１］（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含み、
（Ａ）の含有量が、（Ａ）と（Ｃ）との合計含有量に対して、４５質量％以上８０質量％以下である感光性樹脂組成物。
（Ａ）エチレン性不飽和結合を有する芳香族カルボン酸に由来する構造単位と、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位とを含み、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を有しない重合体
（Ｂ）炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を含む重合体
（Ｃ）重合性化合物
（Ｄ）重合開始剤

［２］（Ｄ）が、ビイミダゾール化合物、アルキルフェノン化合物及びＯ−アシルオキシム化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む重合開始剤である［１］記載の感光性樹脂組成物。
［３］［１］または［２］に記載の感光性樹脂組成物により形成されるパターン。
［４］［１］または［２］に記載の感光性樹脂組成物により形成されるインクジェット用隔壁。
［５］［３］記載のパターンを含む表示装置。
［６］［４］記載のインクジェット用隔壁を含む表示装置。

本発明の感光性樹脂組成物によれば、ぬれ性に優れたパターン、すなわち、隔壁と基板によって画成される凹部基板表面のぬれ性が高く、隔壁上面の撥液性が高いパターンを得ることができる。

表示装置１の一部を拡大して模式的に示す断面図である。 本発明の一実施形態の表示装置１の一部を拡大して模式的に示す平面図である。

本発明の感光性樹脂組成物は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含む感光性樹脂組成物である。
（Ａ）エチレン性不飽和結合を有する芳香族カルボン酸に由来する構造単位と、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位とを含み、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する構造単位は有しない重合体（以下「樹脂（Ａ）」という場合がある）
（Ｂ）炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を含む重合体（以下「樹脂（Ｂ）」という場合がある）
（Ｃ）重合性化合物
（Ｄ）重合開始剤
さらに、本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤（Ｅ）を含有することが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂（Ａ）及び樹脂（Ｂ）以外の樹脂（以下「樹脂（Ａ１）」という場合がある）、重合開始助剤（Ｄ１）、多官能チオール化合物（Ｔ）及び界面活性剤（Ｆ）からなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
なお、本明細書においては、各成分として例示する化合物は、特に断りのない限り、単独で又は組合せて使用することができる。

本発明の感光性樹脂組成物に含まれる樹脂（Ａ）としては、
樹脂（Ａ−１）：エチレン性不飽和結合を有する芳香族カルボン酸（ａ）（以下「（ａ）」という場合がある）に由来する構造単位と、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物（ｂ）（以下「（ｂ）」という場合がある）に由来する構造単位とを含む重合体、
樹脂（Ａ−２）：（ａ）及び（ｂ）と重合可能であり、かつ、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有しない単量体（ｃ）（以下「（ｃ）」という場合がある）と、（ａ）と、（ｂ）とを重合してなる重合体が挙げられる。ただし、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）は、いずれも炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有しない。

（ａ）は、エチレン性不飽和結合を有する芳香族カルボン酸及びエチレン性不飽和結合を有する芳香族カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも一種の単量体であり、具体的には、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸、３−ビニルフタル酸、４−ビニルフタル酸等の芳香族カルボン酸類；３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物等の芳香族カルボン酸無水物類が挙げられる。

（ｂ）は、炭素数２〜４の環状エーテル構造（例えば、オキシラン環、オキセタン環およびテトラヒドロフラン環からなる群から選ばれる少なくとも１種）を有する単量体であり、炭素数２〜４の環状エーテル構造とエチレン性不飽和二重結合とを有する単量体が好ましく、炭素数２〜４の環状エーテル構造と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。
本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸及びメタクリル酸からなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。「（メタ）アクリロイル」及び「（メタ）アクリレート」等の表記も同様の意味を有する。

（ｂ）としては、例えば、オキシラニル基を有する単量体（ｂ１）（以下「（ｂ１）」という場合がある）、オキセタニル基を有する単量体（ｂ２）（以下「（ｂ２）」という場合がある）、テトラヒドロフリル基を有する単量体（ｂ３）（以下「（ｂ３）」という場合がある）などが挙げられる。

（ｂ１）としては、不飽和脂肪族炭化水基がエポキシ化された構造を有する単量体（ｂ１−１）（以下「（ｂ１−１）」という場合がある）、不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造を有する単量体（ｂ１−２）（以下「（ｂ１−２）」という場合がある）が挙げられる。
（ｂ１）としては、オキシラニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましく、不飽和脂環式炭化水素がエポキシ化された構造と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。これらより好ましい単量体であると、感光性樹脂組成物の保存安定性に優れる。

（ｂ１−１）としては、具体的には、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、特開平７−２４８６２５号公報に記載される化合物等が挙げられる。

（ｂ１−２）としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド（登録商標）２０００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（例えば、サイクロマー（登録商標）Ａ４００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート（例えば、サイクロマー（登録商標）Ｍ１００；ダイセル化学工業（株）製）、式（Ｉ）で表される化合物、式（ＩＩ）で表される化合物等が挙げられる。

［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒ^１及びＲ^２は、水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘ^１及びＸ^２は、単結合、＊−Ｒ^３−、＊−Ｒ^３−Ｏ−、＊−Ｒ^３−Ｓ−、＊−Ｒ^３−ＮＨ−を表す。
Ｒ^３は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。
＊は、Ｏとの結合手を表す。］

Ｒ^１及びＲ^２で表される炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
Ｒ^１及びＲ^２としては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。

Ｒ^３で表されるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基等が挙げられる。
Ｘ^１及びＸ^２としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊−ＣＨ_２−Ｏ−（＊はＯとの結合手を表す）基、＊−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−基が挙げられ、より好ましくは単結合、＊−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｏ−基が挙げられる。

式（Ｉ）で表される化合物としては、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−１５）表される化合物等が挙げられる。中でも、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−５）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）又は式（Ｉ−１１）〜式（Ｉ−１５）で表される化合物が好ましく、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）又は式（Ｉ−１５）で表される化合物がより好ましい。

式（ＩＩ）で表される化合物としては、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−１５）で表される化合物等が挙げられる。中でも、式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−３）、式（ＩＩ−５）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）又は式（ＩＩ−１１）〜式（ＩＩ−１５）で表される化合物が好ましく、式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）又は式（ＩＩ−１５）で表される化合物がより好ましい。

式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物は、それぞれ単独で用いても、２種以上を併用してもよい。式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物を併用する場合、これらの含有比率〔式（Ｉ）で表される化合物：式（ＩＩ）で表される化合物〕はモル基準で、好ましくは５：９５〜９５：５、より好ましくは２０：８０〜８０：２０である。

（ｂ２）としては、オキセタニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。（ｂ２）としては、例えば、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。

（ｂ３）としては、テトラヒドロフリル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましい。
（ｂ３）としては、具体的には、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。

（ｃ）としては、（メタ）アクリル酸エステル類、Ｎ−置換マレイミド類、不飽和ジカルボン酸ジエステル類、脂環式不飽和化合物類、不飽和カルボン酸類、不飽和カルボン酸無水物類、スチレン類、その他のビニル化合物等が挙げられる。

（メタ）アクリル酸エステル類としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート等のアルキルエステル類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートといわれている。
）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デセン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として「ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート」といわれている。）、イソボルニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキルエステル類；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキルエステル類；
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等のアリール及びアラルキルエステル類等が挙げられる。

Ｎ−置換マレイミド類としては、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等が挙げられる。
不飽和ジカルボン酸ジエステル類としては、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等が挙げられる。

脂環式不飽和化合物類としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物類等が挙げられる。

不飽和カルボン酸類としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１、４−シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類；
メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物類；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル類；
α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸等の、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和（メタ）アクリレート類等が挙げられる。

不飽和カルボン酸無水物類としては、無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物等の不飽和ジカルボン酸類無水物等が挙げられる。

スチレン類としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン等が挙げられる。
その他のビニル化合物としては、（メタ）アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン及び２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等が挙げられる。
（ｃ）としては、スチレン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド及びビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等が、重合反応性及びアルカリ溶解性の点から好ましい。

樹脂（Ａ−１）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ−１）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構造単位；５〜６０モル％（より好ましくは１０〜５０モル％）
（ｂ）に由来する構造単位；４０〜９５モル％（より好ましくは５０〜９０モル％）
樹脂（Ａ−１）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性および機械強度が良好になる傾向がある。
樹脂（Ａ−１）としては、（ｂ）が（ｂ１）である樹脂（Ａ−１）が好ましく、（ｂ）が（ｂ１−２）である樹脂（Ａ−１）がより好ましい。

樹脂（Ａ−１）は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。

具体的には、（ａ）及び（ｂ）の所定量、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に入れて、例えば、窒素により大気中の酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気にし、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が例示される。なお、ここで用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているもののいずれをも使用することができる。例えば、重合開始剤としては、アゾ化合物（２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４− ジメチルバレロニトリル）等）や有機過酸化物（ベンゾイルペルオキシド等）が挙げられ、溶剤としては、各単量体を溶解するものであればよく、感光性樹脂組成物の溶剤（Ｅ）として後述する溶剤等を用いることができる。得られる樹脂の分子量を調整するために、重合反応の際に連鎖移動剤を加えてもよい。連鎖移動剤としては、ｎ−ブタンチオール、ｔｅｒｔ−ブタンチオール、ｎ−ドデカンチオール、２−スルファニルエタノール、チオグリコール酸、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、チオグリコール酸メトキシブチル、３−スルファニルプロピオン酸、スルファニル基含有シリコーン（ＫＦ−２００１：信越化学製）等のチオール類；クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素等のハロゲン化アルキル類等が挙げられる。

なお、得られた重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。特に、この重合の際に溶剤として、後述する溶剤（Ｅ）と同一の溶剤を使用することにより、反応後の溶液をそのまま使用することができ、製造工程を簡略化することができる。

樹脂（Ａ−２）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ−２）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）に由来する構造単位；２〜４０モル％（より好ましくは５〜３５モル％）
（ｃ）に由来する構造単位；１〜６５モル％（より好ましくは１〜６０モル％）
（ｂ）に由来する構造単位；２〜９５モル％（より好ましくは５〜８０モル％）
樹脂（Ａ−２）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性及び機械強度が良好になる傾向がある。
樹脂（Ａ−２）としては、（ｂ）が（ｂ１）である樹脂（Ａ−２）が好ましく、（ｂ）が（ｂ１−２）である樹脂（Ａ−２）がより好ましい。
樹脂（Ａ−２）は、樹脂（Ａ−１）と同様の方法により製造することができる。

樹脂（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。樹脂（Ａ）の重量平均分子量が、前記の範囲にあると、塗布性に優れる傾向があり、また現像時に露光部の膜減りが生じにくく、さらに非露光部が現像で除去しやすい。

樹脂（Ａ）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０であり、より好ましくは１．２〜４．０である。分子量分布が、前記の好ましい範囲にあると、現像性に優れる傾向がある。

樹脂（Ａ）の酸価は、２０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは４０〜１３５ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜１３５ｍｇＫＯＨ／ｇである。ここで酸価は樹脂１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。

樹脂（Ａ）の含有量は、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量に対して、４５質量％以上８０質量％以下であり、好ましくは４８質量％以上７５質量％以下であり、より好ましくは５０質量％以上７０質量％以下である。
樹脂（Ａ）の含有量が、樹脂（Ａ）と重合性化合物（Ｃ）との合計含有量に対して８０質量％を超えると、感光性樹脂組成物から形成した塗膜を現像する際に現像時間が長くなる傾向がある。
樹脂（Ａ）の含有量が、前記の好ましい範囲にあると、感光性樹脂組成物により形成した隔壁でパターニングされた基盤表面のぬれ性が良好になる。

本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂（Ｂ）を含む。樹脂（Ｂ）は、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する不飽和化合物（ｄ）（以下「（ｄ）」という場合がある）に由来する構造単位を含む重合体である。

（ｄ）としては、式（ｄ−０）で表される化合物が挙げられる。

［式（ｄ−０）中、Ｒ^ｆは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒ^ｄは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ベンジル基又は炭素数１〜２１のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｘ^ｄは、単結合、炭素数１〜１０の２価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜１０の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ^ｅ−、−Ｓ−又は−ＳＯ_２−で置き換わっていてもよい。］

Ｒ^ｆは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基であり、ペルフルオロブチル基及びペルフルオロヘキシル基が好ましい。

Ｒ^ｄにおける炭素数１〜２１のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等の直鎖状アルキル基；
イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−メチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、２−エチルペンチル基、３−エチルペンチル基、１−プロピルブチル基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、４−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、６−メチルヘプチル基、１−エチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル基、４−エチルヘキシル基、２−プロピルペンチル基、１−ブチルブチル基、１−ブチル−２−メチルブチル基、１−ブチル−３−メチルブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、１，１−ジメチルペンチル基、１，２−ジメチルペンチル基、１，３−ジメチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２，２−ジメチルペンチル基、２，３−ジメチルペンチル基、２，４−ジメチルペンチル基、３，３−ジメチルペンチル基、３，４−ジメチルペンチル基、１−エチル−１−メチルブチル基、２−エチル−３−メチルブチル基等の分枝鎖状アルキル基等が挙げられる。
Ｒ^ｄとしては、水素原子、ハロゲン原子及びメチル基が好ましい。

Ｘ^ｄにおける炭素数１〜１０の２価の脂肪族炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。

Ｘ^ｄにおける炭素数３〜１０の２価の脂環式炭化水素基としては、シクロプロパンジイル基、シクロブタンジイル基、シクロペンタンジイル基、シクロヘキサンジイル基、シクロヘプタンジイル基、シクロデカンジイル基等が挙げられる。
Ｘ^ｄにおける炭素数６〜１２の２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフタレンジイル基等が挙げられる。

炭素数１〜１０の２価の脂肪族炭化水素基及び炭素数３〜１０の２価の脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−が、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ^ｅ−、−Ｓ−又は−ＳＯ_２−で置き換わったＸ^ｄとしては、例えば、式（ｘｄ−１）〜式（ｘｄ−１０）で表される基等が挙げられる。

Ｘ^ｄとしては、炭素数１〜６のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。

（ｄ）としては、式（ｄ−０’）で表される化合物が好ましい。

［式（ｄ−０’）中、Ｒ^ｈは、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｒ^ｇは、水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表す。］

式（ｄ−０）で表される化合物としては、例えば、化合物（ｄ−１）〜化合物（ｄ−９４）等が挙げられる。表中、Ｘ^ｄ欄に示した式番号は、上記に例示した基の式番号を表す。また、例えば、化合物（ｄ−１）は下記式（ｄ−１）で表される化合物である。

樹脂（Ｂ）としては、（ｄ）に由来する構造単位と、前記（ａ）に由来する構造単位、並びに、不飽和カルボン酸及び／又不飽和カルボン酸無水物（ｅ）（ただし、（ａ）とは異なる）（以下「（ｅ）」という場合がある）に由来する構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種とを含む樹脂であることが好ましく、（ｄ）に由来する構造単位と（ｅ）に由来する構造単位とを含む樹脂であることがより好ましく、（ｄ）に由来する構造単位と（ｅ）に由来する構造単位と（ｂ）に由来する構造単位とを含む樹脂であることがさらに好ましい。樹脂（Ｂ）が（ａ）及び／又は（ｅ）に由来する構造単位を含むことにより、現像性に優れるため、残渣や現像に由来するムラが抑制される傾向がある。樹脂（Ｂ）が（ｂ）に由来する構造単位を含むことにより、耐溶剤性に優れる傾向がある。また、樹脂（Ｂ）はその他の構造単位を含んでいてもよい。その他の構造単位を導く単量体（以下「（ｃ’）」という場合がある）としては、例えば、前記（ｃ）で示したもののうち、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物以外の単量体が挙げられる。

樹脂（Ｂ）が、（ａ）及び／又は（ｅ）と（ｄ）との重合体である場合、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ｂ）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）及び／又は（ｅ）に由来する構造単位；５〜４０質量％（より好ましくは１０〜３０質量％）
（ｄ）に由来する構造単位；６０〜９５質量％（より好ましくは７０〜９０質量％）

樹脂（Ｂ）が、（ａ）及び／又は（ｅ）、（ｂ）及び（ｄ）の重合体である場合、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ｂ）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）及び／又は（ｅ）に由来する構造単位；５〜４０質量％（より好ましくは１０〜３０質量％）
（ｂ）に由来する構造単位；５〜８０質量％（より好ましくは１０〜７０質量％）
（ｄ）に由来する構造単位；１０〜８０質量％（より好ましくは２０〜７０質量％）

樹脂（Ｂ）が、（ａ）及び／又は（ｅ）、（ｂ）、（ｃ’）及び（ｄ）の重合体である場合、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ｂ）を構成する構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ａ）及び／又は（ｅ）に由来する構造単位；５〜４０質量％（より好ましくは１０〜３０質量％）
（ｂ）に由来する構造単位；5〜７０質量％（より好ましくは１０〜６０質量％）
（ｃ’）に由来する構造単位；１０〜５０質量％（より好ましくは２０〜４０質量％）
（ｄ）に由来する構造単位；１０〜８０質量％（より好ましくは２０〜７０質量％）

各構造単位の比率が、上記の範囲にあると、撥液性、現像性に優れる傾向がある。

樹脂（Ｂ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜２０，０００、より好ましくは５，０００〜１５，０００である。樹脂（Ｂ）の重量平均分子量が、前記の好ましい範囲にあると、塗布性に優れる傾向があり、また現像時に露光部の膜減りが生じにくく、さらに非露光部が現像で除去しやすい。
樹脂（Ｂ）の酸価は、２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは４０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇである。

樹脂（Ｂ）の含有量は、樹脂（Ａ）、樹脂（Ａ１）及び重合性化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．００１〜１０質量部、より好ましくは０．０１〜５質量部である。樹脂（Ｂ）の含有量が前記の好ましい範囲にあると、パターン形成の際に現像性に優れ、かつ得られるパターンは撥液性に優れる傾向がある。

本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂（Ａ１）を含んでいてもよい。樹脂（Ａ１）としては、
樹脂（Ａ１−１）：（ｅ）と（ｂ）とを重合してなる重合体、
樹脂（Ａ１−２）：（ｅ）と（ｂ）と（ｃ’）とを重合してなる重合体
樹脂（Ａ１−３）：（ｅ）と（ｃ’）とを重合してなる重合体、
樹脂（Ａ１−４）：（ｅ）と（ｃ’）とを重合してなる重合体に（ｂ）を反応させて得られる樹脂、
樹脂（Ａ１−５）：（ｂ）と（ｃ’）とを重合してなる重合体に（ａ）及び／又は（ｅ）を反応させて得られる樹脂等が挙げられる。

樹脂（Ａ１−１）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ１−１）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；５〜６０モル％（より好ましくは１０〜５０モル％）
（ｂ）に由来する構造単位；４０〜９５モル％（より好ましくは５０〜９０モル％）
樹脂（Ａ１−１）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性が良好になる傾向がある。

樹脂（Ａ１−２）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ１−２）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；２〜４５モル％（より好ましくは５〜４０モル％）
（ｂ）に由来する構造単位；２〜９５モル％（より好ましくは５〜８０モル％）
（ｃ’）に由来する構造単位；１〜６５モル％（より好ましくは５〜６０モル％）
樹脂（Ａ１−２）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性が良好になる傾向がある。

樹脂（Ａ１−３）において、各単量体に由来する構造単位の比率が、樹脂（Ａ１−３）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；２〜４０モル％（より好ましくは５〜３５モル％）
（ｃ’）に由来する構造単位；６０〜９８モル％（より好ましくは６５〜９５モル％）
樹脂（Ａ１−１）の構造単位の比率が、上記の範囲にあると、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性が良好になる傾向がある。

樹脂（Ａ１−４）は、（ｅ）と（ｃ’）との重合体に、（ｂ）を反応させて得られる樹脂である。
樹脂（Ａ１−４）は、例えば、二段階の工程を経て製造することができる。この場合も、上述した文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法、特開２００１−８９５３３号公報に記載された方法等を参考にして製造することができる。

まず、第一段階として、上述した樹脂（Ａ−１）の製造方法と同様にして、（ｅ）と（ｃ’）との重合体を得る。
この場合、上記と同様に、得られた重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。また、上記と同様のポリスチレン換算の重量平均分子量及び分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］とすることが好ましい。
ただし、（ｅ）及び（ｃ’）に由来する構造単位の比率が、前記の重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｅ）に由来する構造単位；５〜５０モル％（より好ましくは１０〜４５モル％）
（ｃ’）に由来する構造単位；５０〜９５モル％（より好ましくは５５〜９０モル％）

次に、第二段階として、得られた重合体に由来する（ｅ）のカルボン酸及びカルボン酸無水物の一部を、前述の（ｂ）の環状エーテルと反応させる。環状エーテルの反応性が高く、未反応の（ｂ）が残存しにくいことから、樹脂（Ａ１−２）に用いられる（ｂ）としては（ｂ１）又は（ｂ２）が好ましく、（ｂ１−１）がより好ましい。
具体的には、上記に引き続き、フラスコ内雰囲気を窒素から空気に置換し、（ｅ）のモル数に対して、５〜８０モル％の（ｂ）、カルボキシ基と環状エーテルとの反応触媒（例えばトリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等）を（ｅ）、（ｂ）及び（ｃ’）の合計量に対して０．００１〜５質量％、及び重合禁止剤（例えばハイドロキノン等）を（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計量に対して０．００１〜５質量％をフラスコ内に入れて、６０〜１３０℃で、１〜１０時間反応させ、樹脂（Ａ１−４）を得ることができる。なお、重合条件と同様に、製造設備や重合による発熱量等を考慮し、仕込方法や反応温度を適宜調整することができる。
また、この場合、（ｂ）のモル数は、（ｅ）のモル数に対して、１０〜７５モル％とすることが好ましく、より好ましくは１５〜７０モル％である。前記の好ましい範囲とすることにより、感光性樹脂組成物の保存安定性、感光性樹脂組成物からパターンを形成する際の現像性、並びに、得られる塗膜及びパターンの耐溶剤性、耐熱性、機械強度及び感度のバランスが良好になる傾向がある。

樹脂（Ａ１−５）は、第一段階として、上述した樹脂（Ａ−１）の製造方法と同様にして、（ｂ）と（ｃ’）との重合体を得る。
この場合、上記と同様に、得られた重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。
（ｂ）及び（ｃ’）に由来する構造単位の比率が、前記の重合体を構成する全構造単位の合計モル数に対して、以下の範囲にあることが好ましい。
（ｂ）に由来する構造単位；５〜９５モル％（より好ましくは１０〜９０モル％）
（ｃ’）に由来する構造単位；５〜９５モル％（より好ましくは１０〜９０モル％）

さらに、樹脂（Ａ１−４）の製造方法と同様にして、（ｂ）と（ｃ’）との重合体中の（ｂ）に由来する環状エーテルに、（ａ）及び／又は（ｅ）が有するカルボン酸又はカルボン酸無水物を反応させることにより得ることができる。環状エーテルとカルボン酸又はカルボン酸無水物との反応により発生するヒドロキシ基に、さらにカルボン酸無水物を反応させてもよい。
前記の重合体に反応させる（ａ）及び／又は（ｅ）の使用量は、（ｂ）のモル数に対して５〜８０モル％であることが好ましい。環状エーテルの反応性が高く、未反応の（ｂ）が残存しにくいことから、（ｂ）としては（ｂ１）が好ましく、さらに（ｂ１−１）が好ましい。

樹脂（Ａ１）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。樹脂（Ａ）の重量平均分子量が、前記の好ましい範囲にあると、塗布性に優れる傾向があり、また現像時に露光部の膜減りが生じにくく、さらに非露光部が現像で除去しやすい。

樹脂（Ａ１）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０であり、より好ましくは１．２〜４．０である。分子量分布が、前記の好ましい範囲にあると、現像性に優れる傾向がある。

樹脂（Ａ１）の酸価は、２０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは４０〜１３５ｍｇＫＯＨ／ｇ、より好ましくは５０〜１３５ｍｇＫＯＨ／ｇである。

樹脂（Ａ１）を含有する場合、その含有量は、樹脂（Ａ）及び樹脂（Ａ１）の合計量に対して、好ましくは１〜８０質量％、より好ましくは１〜５０質量％である。樹脂（Ａ１）の含有量が、前記の好ましい範囲にあると、パターンを高感度で形成することができ、かつ現像性に優れる。

重合性化合物（Ｃ）は、重合開始剤（Ｄ）から発生した活性ラジカルによって重合しうる化合物であって、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物などであり、好ましくは（メタ）アクリル酸エステル化合物である。

エチレン性不飽和結合を１つ有する重合性化合物（Ｃ）としては、前記（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）として挙げた化合物と同じものが挙げられ、中でも、（メタ）アクリル酸エステル類が好ましい。

エチレン性不飽和結合を２つ有する重合性化合物（Ｃ）としては、１，３―ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

エチレン性不飽和結合を３つ以上有する重合性化合物（Ｃ）としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、カプロラクトン変性トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物等が挙げられる。 中でも、エチレン性不飽和結合を３つ以上有する重合性化合物（Ｃ）が好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートがより好ましい。

重合性化合物（Ｃ）の含有量は、樹脂（Ａ）、樹脂（Ａ１）及び重合性化合物（Ｃ）の合計量に対して、好ましくは２０〜５５質量％、より好ましくは３０〜４５質量％である。重合性化合物（Ｃ）の含有量が、前記の範囲にあると、感度や、得られるパターンの強度、平滑性、信頼性が良好になる傾向がある。

本発明の感光性樹脂組成物は、重合開始剤（Ｄ）を含む。重合開始剤（Ｄ）としては、光又は熱の作用により重合を開始しうる化合物であれば特に限定されることなく、公知の重合開始剤を用いることができる。
重合開始剤（Ｄ）として、例えば、アルキルフェノン化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物及びＯ−アシルオキシム化合物が挙げられる。また、特開２００８−１８１０８７号公報に記載された光及び／又は熱カチオン重合開始剤（例えば、オニウムカチオンとルイス酸由来のアニオンとから構成されているもの）を用いてもよい。中でも、ビイミダゾール化合物、アルキルフェノン化合物及びＯ−アシルオキシム化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、特にアルキルフェノン化合物であることが好ましい。これらの化合物を含む重合開始剤であると、特に、高感度になる傾向があり好ましい。

前記Ｏ−アシルオキシム化合物は、式（ｄ１）で表される部分構造を有する化合物である。以下、＊は結合手を表す。

前記Ｏ−アシルオキシム化合物としては、例えば、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）ブタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−３−シクロペンチルプロパン−１−オン−２−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−｛２−メチル−４−（３，３−ジメチル−２，４−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−３−シクロペンチルプロパン−１−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−３−シクロペンチルプロパン−１−オン−２−イミン等が挙げられる。イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２（以上、ＢＡＳＦ社製）、Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いてもよい。

前記アルキルフェノン化合物は、式（ｄ２）で表される部分構造又は式（ｄ３）で表される部分構造を有する化合物である。これらの部分構造中、ベンゼン環は置換基を有していてもよい。

式（ｄ２）で表される部分構造を有する化合物としては、例えば、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］ブタン−１−オン等が挙げられる。イルガキュア（登録商標）３６９、９０７、３７９（以上、ＢＡＳＦ社製）等の市販品を用いてもよい。
式（ｄ３）で表される部分構造を有する化合物としては、例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−イソプロペニルフェニル）プロパン−１−オンのオリゴマー、α，α−ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。
感度の点で、アルキルフェノン化合物としては、式（ｄ２）で表される部分構造を有する化合物が好ましい。

前記ビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報等参照。）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報等参照。）、４，４’，５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報等参照。）等が挙げられる。好ましくは２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールが挙げられる。

前記トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−(４−メトキシスチリル)−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。

前記アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。

さらに重合開始剤（Ｄ）としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；９，１０−フェナンスレンキノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン系化合物；１０−ブチル−２−クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。これらは、後述の重合開始助剤（Ｄ１）と組み合わせて用いることが好ましい。

連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤として、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されている重合開始剤を使用してもよい。
前記の連鎖移動を起こしうる基を有する重合開始剤は、樹脂（Ａ）を構成する成分（ｃ）としても使用することができる。

本発明の感光性樹脂組成物において、上述した重合開始剤（Ｄ）とともに、重合開始助剤（Ｄ１）を用いることができる。重合開始助剤（Ｄ１）は、重合開始剤（Ｄ）と組み合わせて用いられ、重合開始剤によって重合が開始された重合性化合物の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤である。重合開始助剤（Ｄ１）としては、チオキサントン化合物、アミン化合物、カルボン酸化合物、特開２００８−６５３１９号公報及び特開２００９−１３９９３２号公報記載の化合物等が挙げられる。

チオキサントン化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。

アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の脂肪族アミン化合物、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称；ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンのような芳香族アミン化合物が挙げられる。

カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等の芳香族ヘテロ酢酸類が挙げられる。

重合開始剤（Ｄ）と重合開始助剤（Ｄ１）との組合せとしては、アルキルフェノン化合物とチオキサントン化合物、アルキルフェノン化合物と芳香族アミン化合物が挙げられ、具体的には、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと２−イソプロピルチオキサントンと４−イソプロピルチオキサントン、２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）−２−メチルプロパン−１−オンと４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オンと４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。

中でも、アルキルフェノン化合物とチオキサントン化合物との組合せが好ましく、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オンと２，４−ジエチルチオキサントン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オンと２−イソプロピルチオキサントンと４−イソプロピルチオキサントンがより好ましい。これらの組合せであると、高感度で、かつ可視光透過率の高いパターンが得られる。

重合開始剤（Ｄ）の含有量は、樹脂（Ａ）、樹脂（Ａ１）及び重合性化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．５〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部であり、さらに好ましくは１〜１０質量部である。重合開始剤（Ｄ）の含有量が前記の好ましい範囲にあると、高感度でパターンを得ることができる。

重合開始助剤（Ｄ１）の使用量は、樹脂（Ａ）、樹脂（Ａ１）及び重合性化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部、より好ましくは０．３〜７質量部である。重合開始助剤（Ｄ１）の量が前記の好ましい範囲にあると、高感度でパターンを得ることができ、得られるパターンは形状が良好である。

本発明の感光性樹脂組成物は、溶剤（Ｅ）を含んでいても良い。
本発明において使用し得る溶剤としては、例えば、エステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−を含み、−Ｏ−を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に−Ｏ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に−ＣＯＯ−と−Ｏ−とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に−ＣＯ−を含み、−ＣＯＯ−を含まない溶剤）、アルコール溶剤、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等の中から選択して用いることができる。

エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、２−ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテート、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。

エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソールなどが挙げられる。

エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。

ケトン溶剤としては、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、アセトン、２−ブタノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、４−メチル−２−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロンなどが挙げられる。

アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどが挙げられる。

芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどが挙げられる。

アミド溶剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。
これらの溶剤は、単独でも２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、１ａｔｍにおける沸点が１２０℃以上１８０℃以下である有機溶剤が好ましい。中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−１−ブタノール等が好ましい。溶剤（Ｅ）がこれらの好ましい溶剤であると、塗布時のムラを抑制し、塗膜の平坦性を良好にすることができる。

本発明の感光性樹脂組成物における溶剤（Ｅ）の含有量は、感光性樹脂組成物の総量に対して、好ましくは６０〜９５質量％であり、より好ましくは７０〜９０質量％である。言い換えると、感光性樹脂組成物の固形分は、好ましくは５〜４０質量％であり、より好ましくは１０〜３０質量％である。溶剤（Ｅ）の含有量が前記の好ましい範囲にあると、感光性樹脂組成物を塗布した膜の平坦性が高い傾向がある。ここで、固形分とは、感光性樹脂組成物から溶剤（Ｅ）を除いた量のことをいう。

また、本発明の感光性樹脂組成物は、さらに多官能チオール化合物（Ｔ）を含有していてもよい。多官能チオール化合物（Ｔ）とは、分子内に２個以上のスルファニル基（−ＳＨ）を有する化合物をいう。特に、脂肪族炭化水素基に由来する炭素原子と結合する２個以上のスルファニル基を有する化合物を用いると、本発明の感光性樹脂組成物の感度が高くなる傾向にある。

多官能チオール化合物（Ｔ）としては、具体的には、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ビス（メチルスルファニル）ベンゼン、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、ブタンジオールビス（３−スルファニルアセテート）、エチレングリコールビス（３−スルファニルアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルアセテート）、ブタンジオールビス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３−スルファニルアセテート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルアセテート）、トリスヒドロキシエチルトリス（３−スルファニルプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−スルファニルブチレート）、１，４−ビス（３−スルファニルブチルオキシ）ブタン等が挙げられる。

多官能チオール化合物（Ｔ）の含有量は、重合開始剤（Ｄ）１００質量部に対して、好ましくは０．１〜１０質量部、より好ましくは０．５〜７質量部である。多官能チオール化合物（Ｔ）の含有量が前記の好ましい範囲にあると、感光性樹脂組成物の感度が高くなり、また現像性が良好になる傾向があり好ましい。

本発明の感光性樹脂組成物は界面活性剤（Ｆ）（ただし、樹脂（Ｂ）とは異なる。）を含有してもよい。界面活性剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。

シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、ポリエーテル変性シリコーンオイルＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。

フッ素系界面活性剤としては、フルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、フロリナート（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｒ３０（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）、Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）等が挙げられる。

フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合及びフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７、同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。好ましくはメガファック（登録商標）Ｆ４７５が挙げられる。

界面活性剤（Ｆ）の含有量は、感光性樹脂組成物の総量に対して、０．００１質量％以上０.２質量％以下であり、好ましくは０.００２質量％以上０．１質量％以下、より好ましくは０.０１質量％以上０．０５質量％以下である。界面活性剤を０．００１質量％以上０.２質量％以下の範囲で含有することにより、塗膜の平坦性を良好にすることができる。

本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、連鎖移動剤等の種々の添加剤を含んでもよい。

密着促進剤としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−グリシジルオキシキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−スルファニルプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物は、顔料および染料などの着色剤を実質的に含有しない。すなわち、本発明の感光性樹脂組成物において、組成物全体に対する着色剤の含量は、例えば、好ましくは１質量％未満、より好ましくは０．５質量％未満である。

本発明の感光性樹脂組成物は、光路長が１ｃｍの石英セルに充填し、分光光度計を使用して測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で透過率を測定した場合の平均透過率が、好ましくは７０％以上であり、より好ましくは８０％以上である。

本発明の感光性樹脂組成物は、塗膜にした際に、塗膜の平均透過率が、好ましくは９０％以上であり、さらに９５％以上となることがより好ましい。この平均透過率は、加熱硬化（例えば、１００〜２５０℃、５分〜３時間の条件で硬化）後の厚みが３μｍの塗膜を、分光光度計を使用して、測定波長４００〜７００ｎｍの条件下で測定した場合の平均値である。これにより、可視光領域での透明性に優れた塗膜を提供することができる。

本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、ガラス、金属、プラスチック等の基板、あるいは、カラーフィルタ、各種絶縁又は導電膜、駆動回路等が形成されたこれらの基板上に塗布し、所望の形状にパターニングして、パターンを形成することができる。さらに、このパターンを、表示装置等の構成部品の一部として形成して使用してもよい。

まず、本発明の感光性樹脂組成物を、基板上に塗布する。
塗布は、上述したように、スピンコーター、スリット＆スピンコーター、スリットコーター、インクジェット、ロールコーター、ディップコーター等の種々の塗布装置を用いて行うことができる。

次いで、乾燥又はプリベークして、溶剤等の揮発成分を除去して乾燥させることが好ましい。これにより、平滑な未硬化塗膜を得ることができる。
この場合の塗膜の膜厚は、特に限定されず、用いる材料、用途等によって適宜調整することができ、例えば、１〜６μｍ程度である。

さらに、得られた未硬化塗膜に、目的のパターンを形成するためのフォトマスクを介して、光、例えば、水銀灯、発光ダイオードから発生する紫外線等を照射する。この際のフォトマスクの形状は特に限定されず、形状や大きさは、パターンの用途に応じて選択すればよい。
近年の露光機では、３５０ｎｍ未満の光を、この波長域をカットするフィルタを用いてカットしたり、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、３６５ｎｍ付近の光を、これらの波長域を取り出すバンドパスフィルタを用いて選択的に取り出して、露光面全体に均一に略平行光線を照射したりすることができる。マスクアライナ、ステッパ等の装置を用いれば、このときマスクと基材との正確な位置合わせを行うことができる。

露光後の塗膜を現像液に接触させて所定部分、例えば、非露光部（すなわち非画素部分）を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状を得ることができる。
現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基材を任意の角度に傾けてもよい。

現像に使用する現像液は、塩基性化合物の水溶液が好ましい。
塩基性化合物は、無機及び有機の塩基性化合物のいずれでもよい。
無機の塩基性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア等が挙げられる。

有機の塩基性化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン等が挙げられる。
これらの無機及び有機の塩基性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０３〜５質量％である。

前記の現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性剤のいずれでもよい。
ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン等が挙げられる。

アニオン系界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類等が挙げられる。

カチオン系界面活性剤としては、例えば、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩又は第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．０５〜８質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。

現像後、水洗を行うことで、パターンを得ることができる。さらに必要に応じて、ポストベークを行ってもよい。ポストベークは、例えば、１５０〜２４０℃の温度範囲、１０〜１８０分間が好ましい。
未硬化塗膜を露光する際に、パターンが形成されたフォトマスクを使用せず、全面に光照射を行うこと及び／又は現像を省略することで、パターンを有さない塗膜を得ることができる。

本発明の表示装置の一例として、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置について以下に説明する。
図１は本発明の表示装置の一例である表示装置１の一部を拡大して模式的に示す断面図である。図２は本発明の表示装置の一例である表示装置１の一部を拡大して模式的に示す平面図である。表示装置１は主に、支持基板２と、この支持基板２上において予め設定される区画を画成する隔壁３と、隔壁３によって画成される区画に設けられる複数の有機ＥＬ素子４とを含んで構成される。隔壁３が本発明のインクジェット用隔壁に相当する。

隔壁３は支持基板２上においてたとえば格子状またはストライプ状に形成される。なお図２では実施の一形態として格子状の隔壁３が設けられた表示装置１を示している。同図中、隔壁３が設けられた領域にはハッチングを施している。

支持基板２上には、隔壁３と支持基板２とによって規定される複数の凹部５が設定される。この凹部５が、隔壁３によって画成される区画に相当する。

表示装置１における隔壁３は格子状に設けられる。そのため支持基板２の厚み方向Ｚの一方から見て（以下、「平面視で」ということがある。）、複数の凹部５がマトリクス状に配置されている。すなわち凹部５は行方向Ｘに所定の間隔をあけるとともに、列方向Ｙにも所定の間隔をあけて整列して設けられている。各凹部５の平面視における形状はとくに限定されない。たとえば凹部５は、平面視で略矩形状、略楕円状および小判形状などの形状に形成される。本実施形態では平面視で略矩形状の凹部５が設けられている。なお本明細書において上記の行方向Ｘおよび列方向Ｙは、支持基板の厚み方向Ｚに垂直な方向であって、かつ互いに垂直な方向を意味する。

なお他の実施形態としてストライプ状の隔壁が設けられる場合、隔壁は、たとえば行方向Ｘに延在する複数本の隔壁部材が、列方向Ｙに所定の間隔をあけて配置されて構成される。この形態ではストライプ状の隔壁と支持基板とによって、ストライプ状の凹部が規定される。

隔壁は支持基板から離間するにしたがって幅が狭くなるように形成されている。たとえば列方向Ｙに延在する隔壁を、その延在方向（列方向Ｙ）に垂直な平面で切断したときの断面形状は、支持基板から離間するにしたがって幅が狭くなるように形成されている。図１では等脚台形形状の隔壁が示されており、上底と、支持基板側の下底とを比べると、下底の方が上底よりも幅広である。なお実際に形成される隔壁の断面は必ずしも台形形状とはならず、台形形状の直線部分および角が丸みを帯びていることもある。

隔壁３は、その頂面が撥液性を示すことが好ましい。なお頂面とは、隔壁３の表面のうちで、支持基板２から最も離間した位置に存在する平面を意味する。隔壁３の頂面が撥液性を示すことで、隔壁３に囲まれた領域（凹部５）に供給されたインクが、隔壁３の頂面を伝わって隣の領域に溢れ出ることを防ぐことができる。

有機ＥＬ素子４は隔壁３によって画成される区画（すなわち凹部５）に設けられる。表示装置１における格子状の隔壁３が設けられる場合、各有機ＥＬ素子４はそれぞれ各凹部５に設けられる。すなわち有機ＥＬ素子４は、各凹部５と同様にマトリクス状に配置され、支持基板２上において、行方向Ｘに所定の間隔をあけるとともに、列方向Ｙにも所定の間隔をあけて整列して設けられている。
隔壁３の形状およびその配置は、画素数および解像度などの表示装置の仕様や製造の容易さなどに応じて適宜設定される。たとえば隔壁３の行方向Ｘまたは列方向Ｙの幅は、５μｍ〜５０μｍ程度であり、隔壁３の高さは０．５μｍ〜５μｍ程度であり、行方向Ｘまたは列方向Ｙに隣り合う隔壁３間の間隔、すなわち凹部５の行方向Ｘまたは列方向Ｙの幅は、１０μｍ〜２００μｍ程度である。また第１電極６の行方向Ｘまたは列方向Ｙの幅はそれぞれ１０μｍ〜２００μｍ程度である。
隔壁３は、本発明の感光性樹脂組成物から、前述のパターンの形成方法により形成することができる。

なお他の実施形態としてストライプ状の隔壁が設けられる場合、有機ＥＬ素子４は行方向Ｘに延在する各凹部において、行方向Ｘにそれぞれ所定の間隔をあけて配置される。

表示装置１には３種類の有機ＥＬ素子４が設けられる。すなわち（１）赤色の光を出射する赤色有機ＥＬ素子４Ｒ、（２）緑色の光を出射する緑色有機ＥＬ素子４Ｇ、および（３）青色の光を出射する青色有機ＥＬ素子４Ｂが設けられる。

有機ＥＬ素子４は、第１電極、有機ＥＬ層、第２電極が、支持基板側からこの順で積層されて構成される。本明細書では第１電極６と第２電極１０との間に設けられる１または複数の層をそれぞれ有機ＥＬ層という。有機ＥＬ素子４は有機ＥＬ層として少なくとも１層の発光層を備える。なお有機ＥＬ素子は、１層の発光層に加えて、必要に応じて発光層とは異なる有機ＥＬ層をさらに備えることもある。たとえば第１電極６と第２電極１０との間には、有機ＥＬ層として、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、電子輸送層、および電子注入層などが設けられる。また第１電極６と第２電極１０との間には２層以上の発光層が設けられることもある。

有機ＥＬ素子４は、陽極および陰極からなる一対の電極として、第１電極６と第２電極１０とを備える。第１電極６および第２電極１０のうちの一方の電極は陽極として設けられ、他方の電極は陰極として設けられる。表示装置１では、陽極として機能する第１電極６、正孔注入層として機能する第１の有機ＥＬ層７、発光層として機能する第２の有機ＥＬ層９、陰極として機能する第２電極１０がこの順で支持基板２上に積層されて構成されている。

第１電極６は有機ＥＬ素子４ごとに設けられる。すなわち有機ＥＬ素子４と同数の第１電極６が支持基板２上に設けられる。第１電極６は有機ＥＬ素子４の配置に対応して設けられ、有機ＥＬ素子４と同様にマトリクス状に配置される。なお隔壁３は、主に第１電極６を除く領域に格子状に形成されるが、さらに第１電極６の周縁部を覆うように形成されている（図１参照）。

正孔注入層に相当する第１の有機ＥＬ層７は、凹部５において第１電極６上にそれぞれ設けられる。この第１の有機ＥＬ層７は、必要に応じて、有機ＥＬ素子の種類ごとにその材料または膜厚を異ならせて設けられる。なお第１の有機ＥＬ層７の形成工程の簡易さの観点から、同じ材料、同じ膜厚で全ての第１の有機ＥＬ層７を形成してもよい。
第１の有機ＥＬ層７は、第１の有機ＥＬ層７となる材料を含むインクを隔壁３に囲まれた領域（凹部５）にインクジェット法により供給し、次いで、乾燥、加熱及び／又は光照射を行ってインクを固化させることにより形成される。

発光層として機能する第２の有機ＥＬ層９は、凹部５において第１の有機ＥＬ層７上に設けられる。上述したように発光層は有機ＥＬ素子の種類に応じて設けられる。そのため赤色発光層９Ｒは赤色有機ＥＬ素子４Ｒが設けられる凹部５に設けられ、緑色発光層９Ｇは緑色有機ＥＬ素子４Ｇが設けられる凹部５に設けられ、青色発光層９Ｂは青色有機ＥＬ素子４Ｂが設けられる凹部５に設けられる。

第２電極１０は有機ＥＬ素子４が設けられる表示領域において全面に形成される。すなわち第２電極１０は、第２の有機ＥＬ層９上だけでなく、隔壁３上にも形成され、複数の有機ＥＬ素子に亘って連続して形成されている。

上述のように、支持基板２上に形成された複数の有機ＥＬ素子４を、封止層及び封止基板で覆うことにより（図示せず）、有機ＥＬ表示装置を製造することができる。

本発明の感光性樹脂組成物から得られるパターンは、隔壁と基板によって画成される凹部基板表面のぬれ性が高く、隔壁上面の撥液性が高いものであるため、特に、インクジェット法でカラーフィルタ、液晶表示素子のＩＴＯ電極、有機ＥＬ表示素子及び回路配線基板等を作製するために用いられる隔壁として有用である。さらに、例えば、カラーフィルタ基板及び／又はアレイ基板の一部を構成するフォトスペーサ、パターニング可能なオーバーコート、層間絶縁膜、液晶配向制御用突起、マイクロレンズ、膜厚調整のためのコート層等、タッチパネル用の部材として有用であり、上記のようにして得られるパターンを有さない塗膜は、カラーフィルタ基板及び／又はアレイ基板の一部を構成するオーバーコートとして有用である。前記のカラーフィルタ基板及びアレイ基板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置及び電子ペーパー等に好適に用いられる。

以下、実施例によって本発明をより詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。

（合成例１）
還流冷却器、滴下ロートおよび攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を適量流し窒素雰囲気に置換し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６６部、メトキシプロパノール５２部を入れ撹拌しながら８５℃まで加熱した。次いで３，４−エポキシトリシクロ[５．２．１．０^２，６]デカン−８又は／および９−イルアクリレートの混合物２３３部、ｐ−ビニル安息香酸７７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１２５部、メトキシプロパノール１１５部の混合溶液を４時間かけて滴下した。一方、２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３２部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２１０部に溶解した混合溶液を５時間かけて滴下した。滴下終了後、３時間同温度で保持した後、室温まで冷却して、Ｂ型粘度（２３℃）４６ｍＰａｓ、固形分３３．７％、溶液酸価８３ｍｇＫＯＨ／ｇの重合体（樹脂Ａａ）溶液を得た。得られた樹脂Ａａの重量平均分子量Ｍｗは７．７×１０^３、分子量分布は１．９０であった。樹脂Ａａは、以下の構造単位を有する。

（合成例２）
還流冷却器、滴下ロートおよび攪拌機を備えたフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、３−メトキシ−１−ブタノール２００質量部および３−メトキシブチルアセテート１０５質量部を入れ、撹拌しながら７０℃まで加熱した。次いで、メタクリル酸６０質量部、３，４−エポキシトリシクロ［５．２．１．０^２．６］デシルアクリレート（式（Ｉ−１）で表される化合物および式（ＩＩ−１）で表される化合物を、モル比で、５０：５０で混合。）２４０質量部および、３−メトキシブチルアセテート１４０質量部に溶解して溶液を調製し、該溶解液を、滴下ロートを用いて４時間かけて、７０℃に保温したフラスコ内に滴下した。

一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３０質量部を３−メトキシブチルアセテート２２５質量部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、７０℃に保持し、その後室温まで冷却して、固形分３２．６質量％、酸価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の重合体（樹脂Ａ１ａ）の溶液を得た。得られた樹脂Ａ１ａの重量平均分子量Ｍｗは、１．３×１０^４、分子量分布は２．５０であった。樹脂Ａ１ａは、以下の構造単位を有する。

（合成例３）
還流冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた四つ口フラスコ中にα−クロロアクリル酸３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル７８部、メタクリル酸１９．５部、イソボルニルメタクリレート１９．５部、グリシジルメタクリレート１３部、ドデカンチオール１２．７部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２６６部を入れ、７０℃に加熱後、３０分間窒素気流下で撹拌した。これにアゾビスイソブチロニトリル１部を添加し、１８時間重合して、固形分３３質量％、酸価６８ｍｇＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の重合体（樹脂Ｂａ）の溶液を得た。得られた樹脂Ｂａの重量平均分子量は７，５００であった。樹脂Ｂａは、以下の構造単位を有する。

合成例で得られた樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）の測定は、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置；Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
カラム；ＳＨＩＭＡＤＺＵ Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ ＧＰＣ−８０Ｍ
カラム温度；４０℃
溶媒；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器；ＲＩ
上記で得られたポリスチレン換算の重量平均分子量及び数平均分子量の比（Ｍｗ／Ｍｎ）を分子量分布とした。

（実施例１〜４及び比較例１〜３）
＜感光性樹脂組成物の調整＞
表３の成分をそれぞれ混合して、感光性樹脂組成物を得た。

表３中各成分は以下のとおりである。樹脂（Ａ）及び樹脂（Ｂ）の欄に記載した部数は、固形分換算の質量部を表す。
樹脂（Ａ）；Ａａ：合成例１で得られた樹脂Ａａ
樹脂（Ａ１）；Ａ１ａ：合成例２で得られた樹脂Ａ１ａ
樹脂（Ｂ）；Ｂａ：合成例３で得られた樹脂Ｂａ
重合性化合物（Ｃ）；Ｃａ：トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ−ＴＭＰＴ；新中村化学工業（株）製）
重合性化合物（Ｃ）；Ｃｂ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標） ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製）
重合開始剤（Ｄ）；Ｄａ：２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン（イルガキュア（登録商標）９０７；ＢＡＳＦ社製）
重合開始剤（Ｄ）；Ｄｂ：エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）（イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０２；ＢＡＳＦ社製）
重合開始助剤（Ｄ１）；４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン（ＥＡＢ−Ｆ；保土ヶ谷化学工業（株）製）
溶剤（Ｅ）；Ｅａ；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
溶剤（Ｅ）；Ｅｂ；３−エトキシプロピオン酸エチル
溶剤（Ｅ）；Ｅｃ；３−メトキシ１−ブタノール
溶剤（Ｅ）；Ｅｄ；３−メトキシブチルアセテート
溶剤（Ｅ）は、感光性樹脂組成物の固形分量が表３の「固形分量（％）」となるように混合し、溶剤（Ｅ）中の溶剤成分（Ｅａ）〜（Ｅｄ）の値は、溶剤（Ｅ）中での質量比を表す。

＜組成物の平均透過率＞
上記で得られた感光性樹脂組成物について、それぞれ、紫外可視近赤外分光光度計（Ｖ−６５０；日本分光（株）製）（石英セル、光路長；１ｃｍ）を用いて、４００〜７００ｎｍにおける平均透過率（％）を測定した。結果を表３に示す。

＜塗膜の作製＞
２インチ角のガラス基板（イーグルＸＧ；コーニング社製）を、中性洗剤、水およびアルコールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、上記で得られた感光性樹脂組成物をそれぞれ、ポストベーク後の膜厚が３．０μｍになるようにスピンコートし、減圧乾燥機（マイクロテック（株）製）で減圧度が６６ｋＰａになるまで減圧乾燥させた後、ホットプレートで８０℃で２分間プレベークして乾燥させた。冷却後、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、露光量５０ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）の光を照射した。なお、このときの感光性樹脂組成物への照射は、超高圧水銀灯を使用した。光照射後、非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％を含む水系現像液に前記塗膜を２３℃で６０秒間浸漬・揺動して接触させ、その後、オーブン中、２３０℃で２０分加熱（ポストベーク）して塗膜を得た。

＜塗膜の平均透過率＞
得られた塗膜について、顕微分光測光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２００；ＯＬＹＭＰＵＳ社製）を用いて、４００〜７００ｎｍにおける平均透過率（％）を測定した。透過率が高くなることは、吸収が小さくなることを意味する。結果を表３に示す。

＜接触角＞
得られた塗膜について、接触角計（ＤＧＤ Ｆａｓｔ／６０；ＧＢＸ社製）を用いて、アニソールの接触角を測定した。
接触角が高いほど、撥液性が高いことを意味する。塗膜における接触角が高ければ、同じ感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターンにおいても接触角は高い。接触角の高い感光性樹脂組成物で隔壁を形成し、該隔壁で囲まれた中にインクジェット装置によりインクを印写した場合、インクをはじきやすい。そのため、例えばインクジェット法によりカラーフィルタを作製すると、隣り合う画素領域間におけるインクの混色が生じにくい。結果を表５に示す。

＜パターン形成＞
表面にＩＴＯが蒸着された２インチ角のガラス基板（イーグルＸＧ；コーニング社製）を、中性洗剤、水および２−プロパノールで順次洗浄してから乾燥した。このガラス基板上に、上記感光性樹脂組成物をそれぞれ、ポストベーク後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコートし、減圧乾燥機（マイクロテック（株）製）で減圧度が６６ｋＰａになるまで減圧乾燥させた後、ホットプレートにて９０℃で２分間プレベークして乾燥させた。冷却後、この感光性樹脂組成物を塗布した基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を１００μｍとし、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製、光源；超高圧水銀灯）を用いて、大気雰囲気下、露光量２００ｍＪ／ｃｍ^２（３６５ｎｍ基準）の光を照射した。なお、フォトマスクとしては、パターン（遮光部の形状が、長軸方向３００μｍ、短軸方向１００μｍである長方形から四隅を円状にカットした形（長丸））が同一平面上に形成されたものを用いた。
光照射後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（トクヤマ（株）製、トクソーＳＤ２５）を濃度が２．３８％となるように純水で希釈して調製した現像液に、前記塗膜を２３℃で６０秒間揺動しながら浸漬して現像し、水洗後、オーブン中、２３０℃で２０分間ポストベークを行い、パターンを得た。

＜ぬれ性＞
［ぬれ性評価用溶液作製］
隔壁のぬれ性評価を実施する溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（和光純薬株式会社製、９９．５％以上）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（東京化成工業株式会社製、９９．０％以上）の２種類を選定した。選定した溶媒２種類は、粘度が低いため、インクジェット装置による隔壁への液の充填が可能となるよう、粘度の調整材料として、シクロヘキサノール（和光純薬株式会社製、９８．０％以上）を添加し、混合溶媒として使用した。
また溶媒単体では、乾燥後の塗れ広がりを顕微鏡にて観察することが困難であるため、溶質として、ローダミンＢ（東京化成工業株式会社製、純度９５％以上）を用いた。
溶液は下記表４の３種類を作製した。

［ぬれ性評価］
隔壁内にインクジェット装置（ＵＬＶＡＣ社製Ｌｉｔｌｅｘ１２０Ｌ）を用いて、上記記載の溶液を各隔壁内に２００ｐＬずつ、１０００箇所の隔壁へ充填し、乾燥後に溶質が隔壁端部まで、広がっているかについて顕微鏡（ＯＬＩＭＰＵＳ社製ＭＸ６１Ｌ、レンズＬＣＰＦＬＮ２０ｘＬＣＤ）を用いて、３０箇所の観察を実施した。表４に示した全ての溶液において、３０箇所全てが塗れ広がっている場合にぬれ性が良好であるとし○とし、それ以外を×とした。結果を表５に示す。

実施例の結果から、本発明の感光性樹脂組成物からは、インクの混色が生じない接触角を維持したまま、ぬれ性に優れた塗膜及びパターンを得ることができることがわかる。

本発明の感光性樹脂組成物によれば、ぬれ性に優れたパターン、すなわち、隔壁と基板によって画成される凹部基板表面のぬれ性が高く、隔壁上面の撥液性が高いパターンを得ることができる。

１ 表示装置
２ 支持基板
３ 隔壁
４ 有機ＥＬ素子
５ 凹部
６ 第１電極
７ 第１の有機ＥＬ層（正孔注入層）
９ 第２の有機ＥＬ層（発光層）
１０ 第２電極

Claims (6)

1. （Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）を含み、
   （Ａ）の含有量が、（Ａ）と（Ｃ）との合計含有量に対して、４５質量％以上８０質量％以下である感光性樹脂組成物。
   （Ａ）エチレン性不飽和結合を有する芳香族カルボン酸に由来する構造単位と、炭素数２〜４の環状エーテル構造を有する不飽和化合物に由来する構造単位とを含み、炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を有しない重合体
   （Ｂ）炭素数４〜６のペルフルオロアルキル基を有する構造単位を含む重合体
   （Ｃ）重合性化合物
   （Ｄ）重合開始剤
2. （Ｄ）が、ビイミダゾール化合物、アルキルフェノン化合物及びＯ−アシルオキシム化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む重合開始剤である請求項１記載の感光性樹脂組成物。
3. 請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物により形成されるパターン。
4. 請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物により形成されるインクジェット用隔壁。
5. 請求項３記載のパターンを含む表示装置。
6. 請求項４記載のインクジェット用隔壁を含む表示装置。

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