JP7088188B2 - インクジェットヘッド、インクジェット記録装置及びインクジェットヘッドの製造方法 - Google Patents
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Description
インクを射出するノズルが形成された基板部と、
前記基板部の射出面側に形成され、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層と、
前記撥液膜下地層の射出面側に形成された撥液膜と、を有するノズル基板を備え、
前記撥液膜下地層は、前記基板部側のシリコン窒化膜と前記射出面側のシリコン酸窒化膜とを有する。
請求項2に記載の発明のインクジェットヘッドは、
インクを射出するノズルが形成された基板部と、
前記基板部の射出面側に形成され、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層と、
前記撥液膜下地層の射出面側に形成された撥液膜と、を有するノズル基板を備え、
前記撥液膜下地層は、前記基板部側のシリコン酸化膜と前記射出面側のシリコン酸窒化膜とを有する。
請求項3に記載の発明のインクジェットヘッドは、
インクを射出するノズルが形成された基板部と、
前記基板部の射出面側に形成され、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層と、
前記撥液膜下地層の射出面側に形成された撥液膜と、を有するノズル基板を備え、
前記撥液膜下地層は、前記基板部側のシリコン酸化膜と前記射出面側のシリコン酸窒化膜との間の窒素及び酸素の濃度勾配が調整されている。
前記インクは、顔料分子を含む。
前記インクは、アルカリ性である。
前記撥液膜下地層は、前記基板部の射出面側及び前記ノズルの流路内に形成されている。
前記基板部の前記ノズルの流路内に形成された流路保護膜を有する。
前記基板部は、ケイ素、金属材料又は樹脂材料からなる。
請求項1から8のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドと、
前記撥液膜の射出面側のインクを拭き取るクリーニング部と、を備える。
インクを射出するノズルを有する基板部を生成する基板部生成工程と、
前記基板部の射出面側に、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層を形成する撥液膜下地層形成工程と、
前記撥液膜下地層の射出面側に、撥液膜を形成してノズル基板を生成する撥液膜形成工程と、
前記ノズル基板を備えるインクジェットヘッドを生成するインクジェットヘッド生成工程と、を含み、
前記撥液膜下地層形成工程において、前記基板部の射出面側に、シリコン窒化膜を形成し、当該シリコン窒化膜の表面に追酸化処理を行い前記撥液膜下地層を形成する。
インクを射出するノズルを有する基板部を生成する基板部生成工程と、
前記基板部の射出面側に、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層を形成する撥液膜下地層形成工程と、
前記撥液膜下地層の射出面側に、撥液膜を形成してノズル基板を生成する撥液膜形成工程と、
前記ノズル基板を備えるインクジェットヘッドを生成するインクジェットヘッド生成工程と、を含み、
前記撥液膜下地層形成工程において、前記基板部の射出面側に、シリコン酸化膜を形成し、当該シリコン酸化膜の表面に追窒化処理を行い前記撥液膜下地層を形成する。
インクを射出するノズルを有する基板部を生成する基板部生成工程と、
前記基板部の射出面側に、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層を形成する撥液膜下地層形成工程と、
前記撥液膜下地層の射出面側に、撥液膜を形成してノズル基板を生成する撥液膜形成工程と、
前記ノズル基板を備えるインクジェットヘッドを生成するインクジェットヘッド生成工程と、を含み、
前記撥液膜下地層形成工程において、窒素及び酸素の濃度勾配を制御して前記基板部側のシリコン酸化膜から前記射出面側のシリコン酸窒化膜まで変化する前記撥液膜下地層を形成する。
前記撥液膜下地層形成工程において、前記基板部の射出面側及び前記ノズルの流路内に、前記撥液膜下地層を形成する。
前記ノズルの流路内に、流路保護膜を形成する流路保護膜形成工程を含む。
図1~図8を参照して、本発明に係る実施の形態を説明する。先ず、図1~図3Bを参照して、本実施の形態のインクジェット記録装置1の装置構成を説明する。図1は、本実施の形態のインクジェット記録装置1の構成を正面から見た模式図である。
図9~図11Eを参照して、上記実施の形態の第1の変形例を説明する。本変形例の装置構成は、上記実施の形態のインクジェット記録装置1と同様であるが、ノズル基板40Aをノズル基板40Bに代えた構成とする。このため、上記実施の形態と同様の部分については説明を省略し、主として異なる部分を説明する。
図12~図14Fを参照して、上記実施の形態の第2の変形例を説明する。本変形例の装置構成は、上記実施の形態のインクジェット記録装置1と同様であるが、ノズル基板40Aをノズル基板40Cに代えた構成とする。このため、上記実施の形態と同様の部分については説明を省略し、主として異なる部分を説明する。
図15~図17Fを参照して、上記実施の形態の第3の変形例を説明する。本変形例の装置構成は、上記実施の形態のインクジェット記録装置1と同様であるが、ノズル基板40Aをノズル基板40Dに代えた構成とする。このため、上記実施の形態と同様の部分については説明を省略し、主として異なる部分を説明する。
図18及び図19を参照して、上記実施の形態の第4の変形例を説明する。本変形例の装置構成は、上記実施の形態のインクジェット記録装置1と同様であるが、ノズル基板40Aの窒化ケイ素(シリコン窒化膜)SiNの撥液膜下地層42Aを、窒化酸シリコン(シリコン酸窒化膜)SiONの撥液膜下地層42Aに代えた構成とする。このため、上記実施の形態と同様の部分については説明を省略し、主として異なる部分を説明する。
図20及び図21を参照して、上記実施の形態の第5の変形例を説明する。本変形例の装置構成は、上記実施の形態のインクジェット記録装置1と同様であるが、ノズル基板40Aの窒化ケイ素(シリコン窒化膜)SiNの撥液膜下地層42Aを、表面が窒化酸シリコン(シリコン酸窒化膜)SiONであるシリコン窒化膜の撥液膜下地層42Aに代えた構成とする。このため、上記実施の形態と同様の部分については説明を省略し、主として異なる部分を説明する。
図22及び図23を参照して、上記実施の形態の第6の変形例を説明する。本変形例の装置構成は、上記実施の形態のインクジェット記録装置1と同様であるが、ノズル基板40Aの窒化ケイ素SiNの撥液膜下地層42Aを、表面が窒化酸シリコン(シリコン酸窒化膜)SiONである二酸化ケイ素(シリコン酸化膜)SiO2の撥液膜下地層42Aに代えた構成とする。このため、上記実施の形態と同様の部分については説明を省略し、主として異なる部分を説明する。
図24及び図25を参照して、上記実施の形態の第7の変形例を説明する。本変形例の装置構成は、上記実施の形態のインクジェット記録装置1と同様であるが、ノズル基板40Aの窒化ケイ素(シリコン窒化膜)SiNの撥液膜下地層42Aを、表面が窒化酸シリコン(シリコン酸窒化膜)SiONであり基板部41側に徐々に二酸化ケイ素(シリコン酸化膜)SiO2となる撥液膜下地層42Aに代えた構成とする。このため、上記実施の形態と同様の部分については説明を省略し、主として異なる部分を説明する。
10 媒体供給部
11 媒体供給トレー
12 搬送部
121,122 ローラー
123 ベルト
20 画像形成部
21 画像形成ドラム
221 爪部
222 ドラム
22 受け渡しユニット
23 温度計測部
24 ヘッドユニット
241 インクジェットヘッド
241a ノズル開口面
2411 ノズル
242 インクジェットモジュール
243 第1サブタンク
244 第2サブタンク
245 固定部材
246 キャリッジ
25 加熱部
26 デリバリー部
261,262,264 ローラー
263 ベルト
27 クリーニング部
271 払拭部材
272 弾性部材
273 巻き出しローラー
274 巻き取りローラー
30 媒体排出部
31 媒体排出トレー
40A,40B,40C,40D ノズル基板
41 基板部
42A,42B 撥液膜下地層
43,43a 撥液膜
44 流路保護膜
45 撥液膜保護層
50 圧力室基板
51 圧力室
60 振動板
70 スペーサー基板
71 圧電素子部
80 配線基板
R 記録媒体
Claims (14)
- インクを射出するノズルが形成された基板部と、
前記基板部の射出面側に形成され、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層と、
前記撥液膜下地層の射出面側に形成された撥液膜と、を有するノズル基板を備え、
前記撥液膜下地層は、前記基板部側のシリコン窒化膜と前記射出面側のシリコン酸窒化膜とを有するインクジェットヘッド。 - インクを射出するノズルが形成された基板部と、
前記基板部の射出面側に形成され、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層と、
前記撥液膜下地層の射出面側に形成された撥液膜と、を有するノズル基板を備え、
前記撥液膜下地層は、前記基板部側のシリコン酸化膜と前記射出面側のシリコン酸窒化膜とを有するインクジェットヘッド。 - インクを射出するノズルが形成された基板部と、
前記基板部の射出面側に形成され、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層と、
前記撥液膜下地層の射出面側に形成された撥液膜と、を有するノズル基板を備え、
前記撥液膜下地層は、前記基板部側のシリコン酸化膜と前記射出面側のシリコン酸窒化膜との間の窒素及び酸素の濃度勾配が調整されているインクジェットヘッド。 - 前記インクは、顔料分子を含む請求項1から3のいずれか一項に記載のインクジェットヘッド。
- 前記インクは、アルカリ性である請求項1から4のいずれか一項に記載のインクジェットヘッド。
- 前記撥液膜下地層は、前記基板部の射出面側及び前記ノズルの流路内に形成されている請求項1から5のいずれか一項に記載のインクジェットヘッド。
- 前記基板部の前記ノズルの流路内に形成された流路保護膜を有する請求項1から6のい
ずれか一項に記載のインクジェットヘッド。 - 前記基板部は、ケイ素、金属材料又は樹脂材料からなる請求項1から7のいずれか一項に記載のインクジェットヘッド。
- 請求項1から8のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドと、
前記撥液膜の射出面側のインクを拭き取るクリーニング部と、を備えるインクジェット記録装置。 - インクを射出するノズルを有する基板部を生成する基板部生成工程と、
前記基板部の射出面側に、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層を形成する撥液膜下地層形成工程と、
前記撥液膜下地層の射出面側に、撥液膜を形成してノズル基板を生成する撥液膜形成工程と、
前記ノズル基板を備えるインクジェットヘッドを生成するインクジェットヘッド生成工程と、を含み、
前記撥液膜下地層形成工程において、前記基板部の射出面側に、シリコン窒化膜を形成し、当該シリコン窒化膜の表面に追酸化処理を行い前記撥液膜下地層を形成するインクジェットヘッドの製造方法。 - インクを射出するノズルを有する基板部を生成する基板部生成工程と、
前記基板部の射出面側に、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層を形成する撥液膜下地層形成工程と、
前記撥液膜下地層の射出面側に、撥液膜を形成してノズル基板を生成する撥液膜形成工程と、
前記ノズル基板を備えるインクジェットヘッドを生成するインクジェットヘッド生成工程と、を含み、
前記撥液膜下地層形成工程において、前記基板部の射出面側に、シリコン酸化膜を形成し、当該シリコン酸化膜の表面に追窒化処理を行い前記撥液膜下地層を形成するインクジェットヘッドの製造方法。 - インクを射出するノズルを有する基板部を生成する基板部生成工程と、
前記基板部の射出面側に、少なくとも表面にシリコン窒化膜又はシリコン酸窒化膜を有する撥液膜下地層を形成する撥液膜下地層形成工程と、
前記撥液膜下地層の射出面側に、撥液膜を形成してノズル基板を生成する撥液膜形成工程と、
前記ノズル基板を備えるインクジェットヘッドを生成するインクジェットヘッド生成工程と、を含み、
前記撥液膜下地層形成工程において、窒素及び酸素の濃度勾配を制御して前記基板部側のシリコン酸化膜から前記射出面側のシリコン酸窒化膜まで変化する前記撥液膜下地層を形成するインクジェットヘッドの製造方法。 - 前記撥液膜下地層形成工程において、前記基板部の射出面側及び前記ノズルの流路内に、前記撥液膜下地層を形成する請求項10から12のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
- 前記ノズルの流路内に、流路保護膜を形成する流路保護膜形成工程を含む請求項10から13のいずれか一項に記載のインクジェットヘッドの製造方法。
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