JP7086481B2 - 連続浸炭炉 - Google Patents
連続浸炭炉 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7086481B2 JP7086481B2 JP2018234576A JP2018234576A JP7086481B2 JP 7086481 B2 JP7086481 B2 JP 7086481B2 JP 2018234576 A JP2018234576 A JP 2018234576A JP 2018234576 A JP2018234576 A JP 2018234576A JP 7086481 B2 JP7086481 B2 JP 7086481B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- temperature
- carburizing
- gas
- work
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/20—Carburising
- C23C8/22—Carburising of ferrous surfaces
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
Description
ワークは、パレット等の冶具上に並べて配置され、そのパレットを複数段積み重ねた荷姿の状態で搬送路を搬送される。
複数段積み重ねた各冶具上に複数個並べて配置された荷姿で搬入されたワークを、搬送路で搬送しながら浸炭処理を行うものであって、
前記搬送路上に設けられ、搬入された前記ワークを昇温させる昇温室と、
前記昇温室に対して、前記搬送路の下流側に設けられ、昇温された前記ワークに浸炭処理を行う浸炭室と、
前記昇温室および前記浸炭室に対して、炭化水素ガスを含む浸炭処理用ガスを供給するガス供給装置と、
前記ガス供給装置の、前記昇温室と前記浸炭室への前記浸炭処理用ガスの供給量を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記昇温室に搬入された前記ワークの荷姿内部の温度差が、スケールが発生する可能性のある温度差を示す閾値以上である場合、前記温度差が大きくなるほど、前記昇温室に供給する炭化水素ガスの量を減少させる制御を行う。
図1は、連続浸炭炉の構成を示す図である。
図1に示すように、連続浸炭炉は、炉1の内部に、例えばベルトコンベア等で構成された搬送路2が配置され、搬送方向に沿って仕切り扉3で区切られた複数の処理室が配置された構成となっている。炉1の、搬送方向上流側の端部にはワークの搬入口4aが設置され、搬送方向下流側の端部にはワークの搬出口4bが設置されている。搬入口4aおよび搬出口4bには、開閉扉5が設置されている。炉1の内部に搬入されたワークが、搬送路2上を搬送されて複数の処理室を順次通過することで、浸炭処理が行われる。詳細は後述するが、ワークは冶具に積載された荷姿Fの状態で炉1内に搬入される。
昇温室11は、搬入されたワークを加熱して浸炭処理に適切な温度に昇温させる。浸炭室12は、昇温されたワークに炭素を付与して浸炭させる。拡散室13は、ワークに付与された炭素をワークの内部に拡散させる。焼入室14は、浸炭処理されたワークを焼入れする。
ガス供給装置6は、炉1内の雰囲気のベースガスとなるキャリアガスを、各処理室に供給する。キャリアガスは、例えば窒素等を主成分とする。ガス供給装置6は、また、昇温室11および浸炭室12に対しては、キャリアガスと共にエンリッチガスを供給する。エンリッチガスは、炭化水素ガスCnH2n+2を主成分とするガスであり、エンリッチガスによってワークへの炭素の浸入を促進させる。ガス供給装置6は、浸炭処理を行う浸炭室12に加えて、ワークの昇温を行う昇温室11でもエンリッチガスを供給することで、浸炭処理を促進させる。実施の形態では、エンリッチガスとしてブタンガスを用いる例を説明する。
制御装置8は、例えば、CPU等のプロセッサとROMおよびRAM等のメモリを備えた汎用のコンピュータにより構成することができる。メモリに格納したプログラムをプロセッサが実行することにより、連続浸炭炉の動作制御の機能を実現する。
図2は、制御装置8の機能構成を示すブロック図である。
図2に示すように、制御装置8は、搬送制御部81、扉開閉制御部82、加熱制御部83、ガス供給制御部84および記憶部85を備える。記憶部85はメモリによって構成される。
制御装置8は、作業員が操作する入力装置9に接続され、作業員の操作による入力信号が入力される。制御装置8は、また、温度センサTSおよびガス濃度センサGS等の各種センサに接続され、各センサの検出信号が入力される。
搬送制御部81は、搬送路2の駆動機構(不図示)を制御し、各処理室におけるワークの処理時間を管理する。
扉開閉制御部82は、入力装置9の入力信号等に基づいて、搬入口4aおよび搬出口4bの扉の開閉を制御する。扉開閉制御部82は、また、各処理室の仕切り扉3の開閉を制御する。
加熱制御部83は、温度センサTSの検出信号等に基づいて、各処理室に配置された加熱器7を制御して、各処理室の温度を管理する。
ガス供給制御部84は、ガス濃度センサGSの検出信号等に基づいてガス供給装置6を制御し、各処理室へのガス供給量を管理する。
図2に示した機能構成はあくまで一例であり、制御装置8は、他にも連続浸炭炉の動作を制御する各種の機能構成を備えているが、説明は省略する。
図3の(a)では、簡略化したものを図示しているが、ワークWであるリダクションギヤは、シャフトに歯車がスプライン嵌合した構成となっている。
連続浸炭炉では、処理効率を高めるために、複数のワークWを同時に炉1内に搬入して処理を行う。そのため、図3の(b)に示すように、複数のワークWを、冶具であるパレット100に載せて搬入する。なお、図3の(b)では、簡略化したパレット100を図示している。
図3では、ワークWをリダクションギヤとした場合について説明したが、ファイナルギヤまたはドライブギヤについても、同様に段積みされたパレット100に積載され、連続浸炭炉に搬入される。また、図3の(b)では、荷姿Fの一例として、パレット100を3段に積んだ状態を図示しているが、段積みする数は適宜増減可能である。
・CH4+CO2→2CO+2H2
・CH4+H2O→CO+3H2
なお、ブタンガスの化学式はC4H10だが、高温環境下では、ブタンガスはすぐにメタン(CH4)に変化する。
・2CO+2H2→CH4+CO2
・CO+3H2→CH4+H2O
CO2やH2OがワークWに付着すると、ワークWの鉄と反応してスケールを発生させる原因となる。
スケールの発生を防ぐために、昇温室11においてワークWを950℃程度まで昇温させるが、ワークWは荷姿F状態(図3の(b))で炉1内に搬入されるため、ワークWは均一に加熱されるわけではなく、荷姿F内部の位置によって、温度差が生じることがある。
図4に示すように、スケールは、3段に段積みしたパレット100のうち、上段のパレット100に積載したワークWにはスケールの発生はないが、中段と下段のパレット100においては、幅方向中心と奥行き方向中心が交差する中央部付近に積載したワークWにスケールが発生する傾向がある。
実線は、図4において示した位置P1のワークWの温度を示し、破線は図4において示した位置P2の載置したワークWの温度を示している。位置P1は、上段のパレット100の、中央部から離れた位置、すなわち荷姿Fの外側に位置するワークWである。位置P2は、スケールが発生しやすい傾向がある、中段のパレット100の中央部付近のワークWであり、すなわち荷姿Fの内側に位置するワークWである。
このような温度差が生じる要因は、昇温室11では、内壁に配置されたラジアントチューブ71(図1参照)によって、荷姿Fの外側からワークWが加熱されるため、ラジアントチューブ71から離れた荷姿Fの内側のワークWには熱が伝達されにくいためと考えられる。
ここで、荷姿Fの総重量は、積載されるワークW単体の重量は、ワークW単体の重量と、パレット100への積載数によって決定される。
図6は、各ギヤの重量を示す図である。
図6に示すように、リダクションギヤは、単体の重量ではドライブギヤより重いものの、ファイナルギヤよりは軽い。しかしながら、リダクションギヤはパレット100への積載数が多いため、パレット100に積載した際の総重量は、3つのギヤの中で最も重くなる。そのため、パレット100を積み重ねた荷姿Fにおける総重量もリダクションギヤが最も重くなる。結果として、3つのギヤの中では、リダクションギヤにおいて、スケールが比較的発生しやすい。
そこで、制御装置8のガス供給制御部84は、荷姿Fの占有率SPと総重量FWに応じた温度差に基づいて、昇温室11におけるブタンガスの供給量を減少させる制御を行う。
図7は、制御装置8における、昇温室11へのブタンガスの供給量を決定する処理を説明するフローチャートである。
制御装置8の記憶部85に、昇温室11の容積RC、荷姿Fの昇温室11における占有率SPと総重量FWに応じた荷姿F内部の温度差TDを定義するテーブルT1、温度差の閾値TH、昇温室11へのブタンガスの基準供給量SA、および温度差TDに応じたブタンガスの減少量DAを定義するテーブルT2を予め記憶させておく。これらのデータは、予め試験等を行って作成する。なお、テーブルT1とテーブルT2に代えて、計算式としても良い。
入力装置9からの入力信号を受けると、ガス供給制御部84は、入力された荷姿Fの体積FVと、記憶部85に予め記憶させた昇温室11の容積RCから、荷姿Fの昇温室11における占有率SPを算出する(ステップS02)。
あるいは、入力装置9において、1つのパレット100の重量、幅、奥行きおよび高さ、ワークW単体の重量、1つのパレット100への積載数、パレット100の段積数をそれぞれ入力するようにしても良い。制御装置8は、入力された情報から荷姿Fの体積FVと総重量FWを算出するようにしても良い。
ガス供給制御部84は、テーブルT1から取得した温度差TDを、閾値THと比較する(ステップS04)。閾値THは、スケールが発生する可能性のある温度差TDを示す値である。
荷姿F内部の温度差TDが閾値THを下回る場合(ステップS04:No)、温度差TDはワークWにスケールを発生させる程度のものではないため、ガス供給制御部84は、ガス供給装置6を制御して昇温室11へ基準供給量SAのブタンガスを供給する(ステップS05)。
このように、昇温室11へのブタンガスの供給量を減少させることで、荷姿F内部の温度が低い箇所で起きる酸化反応によるスケールの発生を防止する。
ここで、テーブルT2に定義するブタンガスの減少量DAは、最大で基準供給量SAと同量とすることができる。減少量DAを基準供給量SAと同量とした場合、ガス供給制御部84は、昇温室11にはキャリアガスの供給のみを行い、ブタンガスの供給は行わない。
(1)複数段積み重ねた各パレット100(冶具)上に複数個並べて配置された荷姿Fで搬入されたワークWを、搬送路2で搬送しながら浸炭処理を行うものであって、
搬送路2上に設けられ、搬入されたワークWを昇温させる昇温室11と、
昇温室11に対して、搬送路2の下流側に設けられ、昇温されたワークWに浸炭処理を行う浸炭室12と、
昇温室11および浸炭室12に対して、炭化水素ガスを含むガス(浸炭処理用ガス)を供給するガス供給装置と、
ガス供給装置の、昇温室11と浸炭室12へのガスの供給量を制御する制御装置8のガス供給制御部84(制御装置)と、を備え、
ガス供給制御部84は、昇温室11に搬入されたワークWの荷姿F内部の温度差TDに応じて、昇温室11に供給する炭化水素ガスの量を減少させる制御を行う。
炭化水素ガスは、例えば、ブタンガスとすることができる。
そのため、制御装置8のガス供給制御部84は、昇温室11に搬入された荷姿F内部の温度差TDに応じて、昇温室11への炭化水素ガスを減少させる制御を行う。これによって、スケールの発生を低減することができる。
ガス供給制御部84は、昇温室11に対する荷姿Fの占有率SPと、荷姿Fの総重量FWとに応じた荷姿F内部の温度差TDに基づいて、昇温室11に供給するブタンガスの減少量DAを決定する。
よって、荷姿Fの昇温室11に対する占有率SPと総重量FWに応じた温度差TDに基づいて昇温室11に供給するブタンガスの減少量DAを決定することができ、浸炭処理の促進とスケールの発生の低減のバランスを取ることができる。
2 搬送路
3 仕切り扉
4a 搬入口
4b 搬出口
5 開閉扉
11 昇温室
12 浸炭室
13 拡散室
14 焼入室
6 ガス供給装置
7 加熱器
71 ラジアントチューブ
72 ガスバーナ
8 制御装置
81 搬送制御部
82 扉開閉制御部
83 加熱制御部
84 ガス供給制御部
85 記憶部
9 入力装置
TS 温度センサ
GS ガス濃度センサ
W ワーク
F 荷姿
100 パレット
101 支持部
102 ジョイント
Claims (3)
- 複数段積み重ねた各冶具上に複数個並べて配置された荷姿で搬入されたワークを、搬送路で搬送しながら浸炭処理を行う連続浸炭炉であって、
前記搬送路上に設けられ、搬入された前記ワークを昇温させる昇温室と、
前記昇温室に対して、前記搬送路の下流側に設けられ、昇温された前記ワークに浸炭処理を行う浸炭室と、
前記昇温室および前記浸炭室に対して、炭化水素ガスを含む浸炭処理用ガスを供給するガス供給装置と、
前記ガス供給装置の、前記昇温室と前記浸炭室への前記浸炭処理用ガスの供給量を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記昇温室に搬入された前記ワークの荷姿内部の温度差が、スケールが発生する可能性のある温度差を示す閾値以上である場合、前記温度差が大きくなるほど、前記昇温室に供給する炭化水素ガスの量を減少させる制御を行うことを特徴とする連続浸炭炉。 - 前記炭化水素ガスは、ブタンガスであることを特徴とする請求項1記載の連続浸炭炉。
- 前記昇温室の壁面に設けられ、前記荷姿を外側から加熱して昇温させる加熱装置を備え、
前記制御装置は、前記昇温室に対する前記荷姿の占有率と、前記荷姿の重量とに応じた前記荷姿内部の温度差に基づいて、前記昇温室に供給する前記炭化水素ガスの減少量を決定することを特徴とする請求項1または2記載の連続浸炭炉。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018234576A JP7086481B2 (ja) | 2018-12-14 | 2018-12-14 | 連続浸炭炉 |
CN201911179770.6A CN111321367B (zh) | 2018-12-14 | 2019-11-27 | 连续渗碳炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018234576A JP7086481B2 (ja) | 2018-12-14 | 2018-12-14 | 連続浸炭炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020094256A JP2020094256A (ja) | 2020-06-18 |
JP7086481B2 true JP7086481B2 (ja) | 2022-06-20 |
Family
ID=71084649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018234576A Active JP7086481B2 (ja) | 2018-12-14 | 2018-12-14 | 連続浸炭炉 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7086481B2 (ja) |
CN (1) | CN111321367B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008029522A1 (fr) * | 2006-09-06 | 2008-03-13 | Yokohama National University | Procédé et système de mesure de distorsion d'intermodulation passive |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3973795B2 (ja) | 1999-05-24 | 2007-09-12 | 東邦瓦斯株式会社 | ガス浸炭方法 |
JP2008266729A (ja) | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Honda Motor Co Ltd | 鋼製ワークの加熱方法 |
JP2008303444A (ja) | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Koyo Thermo System Kk | 連続浸炭方法 |
JP2014196854A (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-16 | Dowaサーモテック株式会社 | 熱処理炉 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996030556A1 (fr) * | 1995-03-29 | 1996-10-03 | Jh Corporation | Procede et equipement de cementation, et produits de cette operation |
JP5550276B2 (ja) * | 2009-07-23 | 2014-07-16 | 光洋サーモシステム株式会社 | ガス浸炭処理装置およびガス浸炭方法 |
JP4851569B2 (ja) * | 2009-09-01 | 2012-01-11 | ジヤトコ株式会社 | 真空浸炭方法 |
JP5167301B2 (ja) * | 2010-03-29 | 2013-03-21 | トヨタ自動車株式会社 | 連続式ガス浸炭炉 |
JP6412436B2 (ja) * | 2015-02-13 | 2018-10-24 | ジヤトコ株式会社 | 真空浸炭方法及び真空浸炭装置 |
CN105316621B (zh) * | 2015-11-19 | 2018-02-23 | 天津天海同步科技有限公司 | 行星排传动齿轮的渗碳组合总装结构及热处理方法 |
-
2018
- 2018-12-14 JP JP2018234576A patent/JP7086481B2/ja active Active
-
2019
- 2019-11-27 CN CN201911179770.6A patent/CN111321367B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3973795B2 (ja) | 1999-05-24 | 2007-09-12 | 東邦瓦斯株式会社 | ガス浸炭方法 |
JP2008266729A (ja) | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Honda Motor Co Ltd | 鋼製ワークの加熱方法 |
JP2008303444A (ja) | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Koyo Thermo System Kk | 連続浸炭方法 |
JP2014196854A (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-16 | Dowaサーモテック株式会社 | 熱処理炉 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008029522A1 (fr) * | 2006-09-06 | 2008-03-13 | Yokohama National University | Procédé et système de mesure de distorsion d'intermodulation passive |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111321367A (zh) | 2020-06-23 |
JP2020094256A (ja) | 2020-06-18 |
CN111321367B (zh) | 2021-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8617461B2 (en) | Continuous gas carburizing furnace | |
JP7086481B2 (ja) | 連続浸炭炉 | |
JP2009068070A (ja) | 熱処理方法及び熱処理設備 | |
JP4876280B2 (ja) | 熱処理方法及び熱処理装置 | |
JP4956417B2 (ja) | 雰囲気熱処理装置及びその運転方法 | |
JP2009182206A (ja) | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法、並びに処理管 | |
US20070068606A1 (en) | Single-chamber vacuum furnace with hydrogen quenching | |
JP5330651B2 (ja) | 熱処理方法 | |
EP4023985A1 (en) | Heat treatment furnace | |
JP5225634B2 (ja) | 熱処理方法及び熱処理設備 | |
JP2006063389A (ja) | 連続浸炭炉および連続浸炭方法 | |
JP5613943B2 (ja) | 連続式焼結炉 | |
JP5828425B2 (ja) | 連続浸炭炉及び連続浸炭方法 | |
JP2006009087A (ja) | 多段連続浸炭焼入れ炉及び連続浸炭焼入れ方法 | |
JP5144136B2 (ja) | 連続浸炭方法 | |
KR20200064863A (ko) | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기록 매체 | |
JP6105992B2 (ja) | 連続浸炭炉 | |
JP3758745B2 (ja) | 密閉式雰囲気熱処理炉の空気侵入防止装置 | |
KR102441323B1 (ko) | 가열 방법 및 장치 | |
WO2021053972A1 (ja) | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、プログラム、記録媒体および排ガス処理システム | |
JP4418949B2 (ja) | 熱処理方法 | |
JP2011042878A (ja) | 熱処理方法及び熱処理装置 | |
JP2023084095A (ja) | 熱処理設備及び熱処理方法 | |
JP2005105396A (ja) | 浸炭処理方法 | |
JP6212937B2 (ja) | 真空焼入れ処理設備 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210607 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220301 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220329 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220607 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220607 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7086481 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |