JP7080874B2 - 流動層反応装置及び塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法 - Google Patents
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Description
特許文献1のCPVCの製造方法は、ナス型フラスコ内にPVCの粉体を入れ、ナス型フラスコ内に塩素ガスを流通させた上で紫外線をPVCの粉体に照射し、ナス型フラスコを回転させる。こうすることで、PVCの粉体が塩素ガスと反応し、塩酸ガスとともにCPVCが形成される。また、特許文献2の塩素化法では、多孔底板などの分散機構を有する反応容器を用い、PVCの粒子を塩素気流によって流動状態に保ちながら、紫外線照射により連続的に塩素化反応を行っている。
試作した反応装置500の反応器501は、筐体502内に、ガス供給孔503をもつガス分散板505と、紫外線を照射する発生機506と、伝熱管507が設けられている。そして、CPVCの製造は、筐体502内に原料たるPVC粉末510を導入し、ガス分散板505上にPVC粉末510を載置し、各ガス供給孔503から塩素ガスをPVC粉末510に対して噴射して流動層を形成しながら発生機506から紫外線を照射することで行った。こうすることで、本発明者は、噴射された塩素ガスにより、紫外線発生機506付近で生成したCPVCとPVC粉末510が撹拌され、CPVCと未反応のPVC粉末510が置換されていくので、未反応のPVC粉末510を効率良く反応させることができ、大量生産が可能と考えた。
ここでいう「固体原料が充填された状態」とは、反応器が完全に固体原料で充填された状態だけではなく、反応器の一部が固体原料で充填された状態も含む。
ここでいう「平面充填形」とは、平面を図形で隙間なく埋めたときの形状をいう。
(1)前記非鉛直部が水平であるか、水平面に対して45度未満の傾斜角度で傾斜している。
(2)前記固体原料充填部側の開口の外接径が前記固体原料のメディアン径の10倍未満である。
(1)前記非鉛直部が水平であるか、水平面に対して45度未満の傾斜角度で傾斜している。
(2)前記固体原料充填部側の開口の外接径が前記固体原料のメディアン径の10倍未満である。
ここでいう「塩素化塩化ビニル系樹脂」とは、塩素化塩化ビニル樹脂だけではなく、塩素化塩化ビニル樹脂の基本骨格構造を維持しつつ、その一部のみが他の置換基と置換されたものや共重合体も含む。
筐体10は、図2のように、縦長直方体状であって、天面側壁部40と、側壁部41~44と、底面側壁部45を備えており、これら壁部40~45に囲繞された囲繞空間50を備えている。また、筐体10は、天地方向において、主に固体原料充填部51(以下、単に充填部51ともいう)と、ガス供給部52で構成されている。そして、側壁部41~44は、図3のように、充填部51に属する充填側側壁部141~144と、ガス供給部52に属する供給側側壁部161~164で構成されている。
発光部材11は、固体原料100に光エネルギーを与える装置である。具体的には、発光部材11は、紫外線を発生し、固体原料100に紫外線を照射する紫外線照射装置である。発光部材11は、図2のように天地方向(高さ方向,上下方向,鉛直方向)に棒状に延び、延び方向に対して直交する断面の外形形状が円形状となっている。
ここでいう「外形形状」とは、輪郭を構成する輪郭形状をいい、外郭を構成する外面の形状をいう。
光源部20は、紫外光を照射する光源として機能し、天地方向に棒状に延びた部位である。光源部20は、円柱状であって、その側面にLED23が散りばめられたものである。光源部20は、径方向に紫外線を照射可能となっており、平面視したときに、少なくとも2方向に紫外線を照射可能となっていることが好ましい。本実施形態では、縦横斜めの8方位に紫外線を照射可能となっている。
なお、光源部20の光源は、LED23に限定されない。光源部20の光源は、例えば高圧水銀灯などの他の光源であってもよい。また、光源部20の光源は、LED23のような点光源だけではなく、有機ELや無機EL等の面光源であってもよい。
温度調節部材12は、筐体10内を所定の温度に調整し、筐体10内を一定の温度に維持可能な温度調整装置である。本実施形態の温度調節部材12は、固体原料100と原料ガスの反応熱に伴う温度上昇を抑制する空冷式又は水冷式の冷却装置である。
温度調節部材12は、図2のように主に伝熱管で構成され格子状をしている。温度調節部材12は、流出部30と、流入部31と、流出部30と流入部31を繋ぐ調節側棒状群32を備えている。
流入部31は、外部から冷却気体又は冷却液体(冷却媒体)を調節側棒状群32に流入させる部位である。流出部30は、調節側棒状群32で熱交換された冷却気体又は冷却液体を外部に流出する部位である。
調節側棒状部35は、図2のように流出部30と流入部31を繋ぎ、天地方向に棒状に延びた筒状体である。本実施形態の調節側棒状部35は、円筒状の中空体である。その内部は冷却気体又は冷却液体を通すことが可能である。
図4に示される縦方向Yに最近接する2本の調節側棒状部35,35の側面の最短距離D2は、1.9cm以上であることが好ましく、2.0cm以上であることがより好ましい。また、当該最短距離D2は、15cm以下であることが好ましく、10cm以下であることがより好ましく、5cm以下であることが特に好ましい。
これらの範囲であれば、固体原料100の流動が調節側棒状部35によって阻害されにくく、十分に固体原料100を混合できる。また、固体原料100を一定温度に保つことができ、固体原料100の温度ムラも抑制できる。
本実施形態の調節側棒状群32は、調節側棒状部35が正方形の頂点位置に並んでいる。横方向Xに最近接する2列の調節側棒状列33,33の調節側棒状部35,35の側面の最短距離D3は、縦方向Yに最近接する2本の調節側棒状部35,35の側面の最短距離D2と等しい。すなわち、当該最短距離D3は、1.9cm以上であることが好ましく、2.0cm以上であることがより好ましい。また、当該最短距離D3は、15cm以下であることが好ましく、10cm以下であることがより好ましく、5cm以下であることが特に好ましい。
ガス分散部材15は、図2のように、筐体10内に水平姿勢で設けられ、筐体10の囲繞空間50を充填部51側とガス供給部52側に仕切る板状体である。
ガス分散部材15は、図6のように、本体板部55と、複数のガス供給孔56を備えている。
ここでいう「中間部」とは、一方向における端部以外の部分であって当該端部の間の部分をいう。
本体板部55の材質としては、原料ガスや反応生成ガスに対する耐性を有するものであれば、特に限定されない。本体板部55は、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)に代表されるフッ素樹脂、硬質塩素化塩化ビニル系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂などから構成できる。また、機械強度を担保するために、これらの樹脂にガラス繊維などが添加されてもよい。
本体板部55の厚みは、0.3cm以上10cm以下であることが好ましく、0.5cm以上3cm以下であることがより好ましい。
この範囲であれば、載置する固体原料100の重量に耐え得る十分な強度を確保しつつ、嵩張りすぎず材料費を抑制できる。
ガス供給孔56の開口率は、0.1%以上5%以下であることが好ましい。
この範囲であれば、本体板部55の剛性を維持しつつ、安定した原料ガスの供給が可能である。
第1ガス供給孔150は、少なくとも水平方向成分をもつ非鉛直部152を備え、全体として水平方向成分と、鉛直方向成分をもつ孔である。
本実施形態の第1ガス供給孔150は、非鉛直部152のみで構成され、水平面に対して所定の角度で傾斜した傾斜孔である。すなわち、第1ガス供給孔150は、図6のように、直線状に延び、本体板部55を斜め方向に貫通した傾斜孔である。そのため、第1ガス供給孔150の形成が容易である。
第1ガス供給孔150は、図6のように、充填部51側の開口たる充填側開口145が上向きに開いており、充填側開口145の上方が他の部分で塞がれていない。
充填側開口145は、その90%以上の部分が第1ガス供給孔150を構成する内壁面と重なっていることが好ましい。本実施形態では、充填側開口145は、第1ガス供給孔150を構成する内壁面と完全に重なっており、充填部51側からガス供給部52側の開口たる供給側開口146が視認不能となっている。そのため、固体原料100が第1ガス供給孔150から落下することをより防止できる。
また、前記傾斜角度θ1は、45度未満であることが好ましい。この範囲であれば、従来に比べて、固体原料100が第1ガス供給孔150からガス供給部52側に落下することを抑制でき、効率良く固体原料100を撹拌できる。そのため、均等に固体原料100をガスと反応させることができ、良質の流動層を形成できる。
これらの範囲であれば、固体原料100のガス供給部52側への落下や第1ガス供給孔150への詰まりを抑制しつつ、単位面積当たりの第1ガス供給孔150の数を多く設けることができる。
本実施形態の第1ガス供給孔150の内径は、固体原料100のメディアン径の10倍未満である。そのため、従来に比べて第1ガス供給孔150からガス供給部52側への固体原料100の落下を抑制でき、効率良く固体原料100を撹拌できる。それ故に、良質の流動層を形成でき、均等に固体原料100をガスと反応させることができる。
第2ガス供給孔151の内径(外接径,最小包含円の径)は、第1ガス供給孔150の内径(外接径,最小包含円の径)よりも小さいことが好ましく、固体原料100のメディアン径の10倍未満であることがより好ましい。
この範囲であれば、第2ガス供給孔151からガス供給部52側への固体原料100の落下を抑制できる。
第2ガス供給孔151の充填部51側の開口面積は、第1ガス供給孔150の充填側開口145の開口面積よりも小さいことが好ましい。
充填部51は、固体原料100を収容可能な固体原料収容部であり、下方に向けて開放した筐体である。充填部51は、図3のように天面側壁部40と、ガス分散部材15から立ち上がった充填側側壁部141~144を備えている。
一の充填側側壁部141は、図3(b)のように、開閉部材171によって開閉可能な払出口170が設けられている。
払出口170は、固体原料100や反応生成物を図示しない収容部材に払い出すものであり、充填部51の内外を連通する開口である。
開閉部材171は、図示しない動力源によって閉塞姿勢と開放姿勢との間で姿勢変更され、払出口170を開閉する蓋体である。すなわち、開閉部材171は、閉塞姿勢において充填側側壁部141の内壁面と面一となって払出口170を閉塞し、開放姿勢において充填側側壁部141から離反し、払出口170を開放する部材である。
ガス供給部52は、上方に向けて開放した筐体であり、図3のように、主に供給側側壁部161~164と、底面側壁部45で構成されている。
ガス分散部材15は、図3のように、筐体10内を天地方向に上下に区切っており、充填部51とガス供給部52との境界を構成している。ガス分散部材15のガス供給孔56の軸線は、発光部材11の発光側棒状部22又は温度調節部材12の調節側棒状部35の長手方向に対する直交方向と交差する関係となっている。
発光部材11及び温度調節部材12は、図3のように、充填部51内に一部又は全部が配され、ガス分散部材15よりも上方に位置しており、天地方向に高さをもって延びている。発光部材11の発光側棒状部22は、鉛直方向に延びた鉛直姿勢となっており、光源部20の外側を囲繞部21が囲んでいる。温度調節部材12は、流出部30及び流入部31が水平方向に延びた水平姿勢となり、流出部30及び流入部31を繋ぐ調節側棒状部35が鉛直方向に延びた鉛直姿勢となっている。
図5に示される発光側棒状部22の外周面と、発光側棒状部22に最近接する調節側棒状部35の側面との最短距離D1は、1.9cm以上であり、2.0cm以上であることが好ましい。また、当該最短距離D1は、15cm以下であることが好ましく、10cm以下であることがより好ましく、5cm以下であることがさらに好ましい。
これらの範囲であれば、十分に固体原料100を混合でき、調節側棒状部35の外周面から反応により発生した反応熱を吸収し、反応場の温度上昇を防ぐことができる。すなわち、反応場である発光側棒状部22付近の温度を適切な温度に調節しつつ、十分に混合した状態で紫外線を照射できるので、従来に比べて反応効率を向上でき、一定水準以上の品質の反応生成物を大量に製造できる。
図8に示される一の第1ガス供給孔150aと隣接する第1ガス供給孔150bの距離D11は、一の第1ガス供給孔150aと隣接する他の第1ガス供給孔150cとの距離D12と等しい。また、当該距離D11は、第1ガス供給孔150bと隣接する他の第1ガス供給孔150cとの距離D13とも等しい。
このように、本実施形態のガス分散部材15は、第1ガス供給孔150が均一に配列されている。そのため、単位面積当たりに、より多くの第1ガス供給孔150をガス分散部材15に形成でき、反応器2内の固体原料100を均一に流動させることもできる。それ故に、非流動部分の発生を抑制しつつ、効率的に反応させることができ、従来に比べて品質を向上できる。
第2ガス供給孔151は、当該第1ガス供給孔群の周囲の少なくとも一部又は全部を囲むように配されている。第2ガス供給孔151は、本体板部55の縁に沿って充填部51の内壁たる一の充填側側壁部の近傍に配されている。隣接する第2ガス供給孔151,151間の距離は、等間隔となっている。すなわち、第2ガス供給孔151は、第1ガス供給孔150よりも前記一の充填側側壁部側にあって、当該一の充填側側壁部に沿って配されている。
例えば、図3(b)のように、第1ガス供給孔150がいずれも同一方向を向いて傾いており、充填部51側の開口が一の充填側側壁部141側を向いている場合、第2ガス供給孔151は、充填側側壁部141とは逆側の充填側側壁部143の近傍に少なくとも配置されている。
言い換えると、第2ガス供給孔151は、充填部51側からガス分散部材15を平面視したときに第1ガス供給孔150単体による開口密度(単位面積当たりの開口面積)が小さい部分に少なくとも設けられている。本実施形態では、第2ガス供給孔151は、図3のように、4方全ての充填側側壁部141~144に沿って設けられている。
第1ガス供給孔150の非鉛直部152は、図3(b)のように払出口170側を向いており、払出口170が設けられた充填側側壁部141に向かって開口している。
脱気経路5は、図1のように、反応器2から脱気装置3を繋ぎ、混合ガス等が脱気装置3に向かう往き流路である。脱気経路5は、原料ガスの流れ方向の中流にトラップ装置60が設けられ、反応器2とトラップ装置60を繋ぐ第1経路61と、トラップ装置60と脱気装置3を繋ぐ第2経路62を備えている。
トラップ装置60は、原料ガス及び反応生成ガスの混合ガスと、飛散した固体原料100とを分離する分離装置である。トラップ装置60は、第1経路61とは別途形成され、底部に反応器2に繋がる戻し経路63が接続されている。そのため、トラップ装置60は、混合ガスを第2経路62から脱気装置3側に送り、固体原料100を戻し経路63から反応器2の筐体10内に戻すことが可能となっている。
戻し経路63は、トラップ装置60で分離した固体原料100を反応器2に戻す流路である。戻し経路63は、固体原料100の流れ方向の中流に戻し側弁65を備えている。
ブロアー80は、原料ガスを加圧して原料ガスを反応器2側に押し出す装置であり、原料ガスを反応器2のガス供給部52に導入することが可能となっている。
導入流路81は、外部から供給経路6に新鮮な原料ガスを導入する流路である。導入流路81は、原料ガスの流れ方向の中流に導入弁82を備えている。
固体原料100のメディアン径は、40μm以上500μm以下であることが好ましく、100μm以上200μm以下であることが好ましい。なお、本発明の固体原料100のメディアン径は、レーザー回折・散乱式粒子径測定装置にて測定される体積基準における粒度分布の中央値を意味する。
このとき、充填部51の容量の5%以上70%以下で固体原料100を充填することが好ましい。この範囲であれば、撹拌時に流動層を形成しやすい。
循環回路7内が十分に塩素ガス雰囲気になると、図示しない排気弁を閉じ、塩素ガスが循環回路7を循環する循環運転とする。
発生した塩酸ガスは、ガス供給孔56からの原料ガスの噴射等によって、原料ガスたる塩素ガスや固体原料100の一部とともに第1経路61に流れる。これらがトラップ装置60まで至ると、トラップ装置60によって、固体原料100と、塩酸ガスと塩素ガスの混合ガスに分離される。そして、固体原料100は、戻し経路63から重力によって反応器2に戻され、混合ガスは第2経路62から脱気装置3に流れる。
混合ガスが脱気装置3に至ると、脱気装置3内で反応生成ガスたる塩酸ガスと、原料ガスたる塩素ガスに分離され、塩酸ガスは水等の液体に吸収させて図示しない排出口から外部に排出される。
一方、塩素ガスは、供給経路6を流れ、ブロアー80によって、反応器2のガス供給部52に導入され、ガス分散部材15から固体原料100に噴射される。
このとき、脱気装置3で塩酸ガスが除去されていくと、循環回路7の内圧が下がるため、循環回路7の内圧を維持するように導入流路81から塩素ガスが供給され続ける。
そのため、ガス分散部材15の供給孔56が傾斜孔たる第1ガス供給孔150のみで構成される場合、一の充填側側壁部141と対向する充填側側壁部143(以下、対向側側壁部143ともいう)付近には原料ガスが流れにくくなる。そのため、対向側側壁部143付近の固体原料100の流動性が低くなるという問題がある。
すなわち、図9のように、噴射されるガスの流れが一方向に偏り、特に傾斜方向と反対側の充填側側壁部143付近において、粉体滞留部180が生じてしまうおそれがある。粉体滞留部180が生じると、粉体滞留部180の固体原料100が流動不良となり、焼け樹脂(スケール)等が発生する可能性がある。
また、本実施形態の反応装置1では、第2ガス供給孔151の開口径は、第1ガス供給孔150の開口径よりも小さくなっており、固体原料100がほとんど落下しない程度の大きさとなっている。そのため、天地方向に延びた第2ガス供給孔151が混在していても、第2ガス供給孔151から固体原料100が落下しにくい。
なお、本実施形態のように、対向側側壁部143以外の充填側側壁部141,142,144付近に第2ガス供給孔151をさらに設けてもよい。
単位ユニット202は、図11,図12のように、平面視したときに縦横方向に平面状に広がりをもって並べられている。
本実施形態の反応装置200は、同一の構成要素からなる単位ユニット202が繰り返し縦横に並んでいる。具体的には、反応装置200は、横方向X及び縦方向Yにおいて、3×3の9個の単位ユニット202a~202iが並んでいる。
図12に示される縦方向Yに隣接する単位ユニット202a,202bのガス分散部材15a,15bは、一つの平面を構成して面一となっており、ガス分散部材15a,15bの端面同士が対向し接続されている。
図11に示される縦方向Yに並設された各単位ユニット202の発光部材11の発光側棒状部22の間隔は、等間隔となっている。すなわち、縦方向Yに隣接する単位ユニット202a,202bの発光側棒状部22,22の間隔は、縦方向Yに隣接する単位ユニット202b,202cの発光側棒状部22,22の間隔と等しい。
図11に示される横方向Xに並設された各単位ユニット202の発光部材11の発光側棒状部22の間隔は、等間隔となっている。すなわち、横方向Xに隣接する単位ユニット202a,202dの発光側棒状部22,22の間隔は、横方向Xに隣接する単位ユニット202d,202gの発光側棒状部22,22の間隔と等しい。
横方向Xに並設された各単位ユニット202a,202d,202gの温度調節部材12,12,12の調節側棒状列33,33,33は、それぞれ互いに平行となっている。
天面側折り返し部303は、隣接する調節側棒状部305,305の上端部同士を接続し、「U」字状に折り返された部位である。調節側棒状部305は、折り返し部303,306を繋ぎ、直線状に延びた棒状部位である。底面側折り返し部306は、隣接する調節側棒状部305,305の下端部同士を接続し、「U」字状に折り返された部位である。
隣接する調節側棒状部305,305は、その内部を通過する冷却気体又は冷却液体の流れ方向が逆向きとなっている。
充填部703の充填側側壁部741~744は、図15,図16のように、第1内壁部710と、第2内壁部711と、接続壁部712を備えている。
第1内壁部710と第2内壁部711は、図16のように、接続壁部712を介して段差をもって連続している。接続壁部712は、ガス分散部材702から噴射されたガスを遮って第2内壁部711に沿うようにガスを導く誘導壁部である。
一の充填側側壁部741には、開閉部材726によって開閉可能な払出口725が設けられている。払出口725は、第1内壁部710、第2内壁部711、及び接続壁部712に跨って形成されている。
ガス供給孔720は、第1ガス供給孔150のみで構成されており、第2ガス供給孔151がない。
図16に示されるガス分散部材702と接続壁部712との最短距離D20、すなわち、ガス分散部材702に対する接続壁部712の高さは、0.1cm以上であることが好ましく、5cm以下であることが好ましい。この範囲であれば、固体原料100からのガスへの重力荷重を抑制でき、流入空間715におけるガスの流動を維持しやすい。
そこで、本実施形態の反応装置700では、図17のように対向側側壁部743のガス供給孔720から噴射されたガスを遮る位置に接続壁部712があり、ガス供給孔720と接続壁部712との間に流入空間715が存在する。言い換えると、ガス供給孔720は、接続壁部712に向かって延びており、ガス供給孔720から噴射されるガスは、固体原料100による重力荷重が小さい流入空間715に流れる。そのため、流入空間715内にガスが入りやすく、第2内壁部711に沿ってガスが流れやすい。それ故に、充填側側壁部743の第2内壁部711付近に粉体滞留部180が形成されにくく、焼け樹脂等の発生を抑制できる。
誘導部材801は、特定の充填側側壁部143の近傍であってガス分散部材702と天地方向に離間して設けられ、ガス分散部材702から噴射されたガスを遮って分散されたガスが特定の充填側側壁部143に沿うようにガスを導く部材である。
第1壁部802は、ガス分散部材702から噴射されたガスを遮り、第2壁部803と特定の充填側側壁部143との間の空間に導く誘導壁部である。
第2壁部803は、第1壁部802に対して直交し、特定の充填側側壁部143と対向する直立壁部である。
第3壁部804は、第1壁部802に対して傾斜する傾斜壁部であり、第2壁部803とともに一つの角部を構成する壁部である。
誘導部材801は、ガス分散部材702を平面視したときの大きさが第1ガス供給孔150の充填側開口145の開口面積よりも大きい。
誘導部材801は、固体原料100及び反応生成物が載置される部分に実質的に凹部がない。すなわち、第2壁部803と第3壁部804には、実質的に凹部がない。
ここでいう「実質的に凹部がない」とは、完全に平滑な場合だけではなく、固体原料100及び反応生成物が引っ掛からない程度の凹部を許容するものであり、例えば、深さが固体原料100の1/10以下の大きさであることをいう。
図18に示されるガス分散部材702と第1壁部802との最短距離D21は、0.1cm以上であることが好ましく、0.5cm以上であることがより好ましい。また、当該最短距離D21は、5cm以下であることが好ましく、1cm以下であることがより好ましい。
この範囲であれば、固体原料100からのガスへの重力荷重を抑制でき、流入空間806におけるガスの流動を維持しやすい。
そのため、誘導部材801上の固体原料100から受ける重力荷重は第2壁部803及び第3壁部804に沿って分散される。それ故に、固体原料100から誘導部材801に加わる重力荷重を抑制できる。
なお、誘導部材は、第5実施形態と同様、固体原料100及び反応生成物が載置される部分が下り傾斜面又は下り傾斜曲面で構成されることが好ましい。こうすることで、誘導部材801上の固体原料100から受ける重力荷重が下り傾斜面又は下り傾斜曲面によって分散することができる。
例えば、第4実施形態の反応装置700の充填部703に第5実施形態の反応装置800の誘導部材801を挿入してもよい。
実施例1では、図28のように縦25cm×横25cmのガス分散部材400を底板とする容器401に、円筒状の伝熱管402を縦方向に一列に並べて横方向の中央に配置した。また、最近接する伝熱管402,402の側面の最短距離Dが2.4cmとなるように、各伝熱管402を鉛直姿勢で容器401に挿入した。使用した伝熱管402は、外径3.2cm、長さ110cmの円筒状の管であり、ガス分散部材400から上方10cm離れた位置に鉛直姿勢で配置した。
実施例2では、最近接する伝熱管402,402の側面の最短距離Dが2.1cmとなるように鉛直姿勢で挿入し、それ以外は、実施例1と同様とした。
比較例1では、最近接する伝熱管402,402の側面の最短距離Dが1.5cmとなるように各伝熱管402を鉛直姿勢で挿入し、それ以外は、実施例1と同様とした。
参考例1では、縦25cm×横25cmのガス分散部材400を底板とする容器401に伝熱管402を挿入せず、それ以外は、実施例1と同様とした。
実施例1,2、比較例1、並びに参考例1において、容器401にPVC粒子403とトレーサー粒子405を粉体層高が50cmとなるように収容した。そして、容器401のガス分散部材400のガス供給孔406から線速0.4m/sで流動ガスを噴射して、14.7秒間PVC粒子403とトレーサー粒子405を混合させた。
このとき、トレーサー粒子405は、全粒子の2重量%となるように添加量を調整し、容器401の一つの側面と平行かつその面に接するトレーサー粒子405の層を形成するように収容した。PVC粒子403は、比重が1.4でメディアン径が40μm以上500μm以下のものを使用し、トレーサー粒子405は、比重が1.2でメディアン径が500μm以上700μm以下のものを使用した。
実施例3では、テフロン(登録商標)製の平板(株式会社栗本鐵工所製)に、直径が0.15cmであって、傾斜角度θ1が30度の第1ガス供給孔をピッチ(中心間距離)が0.7cmとなるように形成し、第1ガス供給孔の周囲に直径が0.1cmの第2ガス供給孔を二列形成したガス分散部材を作製した。
実施例4では、第1ガス供給孔の直径を0.1cmとし、それ以外は、実施例3と同様とした。
実施例5では、第1ガス供給孔の傾斜角度θ1を45度とし、それ以外は、実施例4と同様とした。
比較例2では、第1ガス供給孔の直径を0.15cmとし、傾斜角度θ1を45度とした。それ以外は、実施例3と同様とした。
実施例3、4、5及び比較例2のガス分散部材上に3.5kgの固体原料を載置し、第1ガス供給孔を通過して落下する固体原料の量及び様子を観察した。載置する固体原料は、粒子径が40μm以上500μm以下であって、メディアン径が150μmのPVC粉末を使用した。この固体原料についてJIS R 9301-2-2(ISO902:1976に相当)に準ずる安息角を測定したところ、35度以上40度以下であった。
一方、実施例3及び実施例4のガス分散部材では、固体原料を載置しても、第1ガス供給孔及び第2ガス供給孔ともに全く落下しなかった。実施例5のガス分散部材では、固体原料を載置するとガス分散部材の一部から、第1ガス供給孔及び第2ガス供給孔の両方から少量ずつ落下するが、その落下スピードは、比較例3に比べてかなり遅かった。
実施例3、4及び比較例2の結果から、第1ガス供給孔の傾斜角度を安息角よりも小さくすることで固体原料の落下を抑制できることがわかった。
実施例5と比較例2の結果から、第1ガス供給孔の直径を小さくすることで固体原料の落下をある程度抑制できることがわかった。
実施例3、5及び比較例2のガス分散部材上に上記と同様の固体原料を載置し、この固体原料に着色粒子を添加した。そして、その状態で線速0.125m/sのガスで流動させた後の非流動部分を目視で確認し、非流動となる樹脂原料の量を測定した。なお、上記したように比較例2では、固体原料を載置するとガス供給孔から落下するので、流動化開始速度のエアーを常にガス供給孔から流し、落下を防止した状態で測定を行った。
(1)第1ガス供給孔の傾斜角度が45度未満である。
(2)第1ガス供給孔の直径が固体原料のメディアン径の10倍未満である。
2,201 反応器
10,701 筐体
11 発光部材
12,301 温度調節部材
15,702 ガス分散部材(ガス分散部)
20 光源部
21 囲繞部
22 発光側棒状部
25 隙間
32 調節側棒状群
33,302 調節側棒状列
35,305 調節側棒状部
41~44 側壁部
51,703 固体原料充填部
56,720 ガス供給孔
100 固体原料
145 充填側開口
150,150a~150c 第1ガス供給孔
152 非鉛直部
170,725 払出口
202 単位ユニット
710 第1内壁部
711 第2内壁部
712 接続壁部(誘導壁部)
715 流入空間
730 狭窄部
741~744 充填側側壁部
801 誘導部材
802 第1壁部(誘導壁部)
Claims (7)
- 粉状又は粒状の固体原料が充填される反応器を有し、前記固体原料が充填された状態の前記反応器にガスが供給され、前記ガスによって前記固体原料を流動化しつつ前記固体原料と前記ガスを反応させて反応生成物を得る流動層反応装置であって、
発光部材と温度調節部材を有し、
前記発光部材は、前記反応器内に配され前記固体原料に光を照射する発光側棒状部を有し、
前記発光側棒状部は、鉛直方向に延びた鉛直姿勢となっており、
前記発光側棒状部は、前記発光側棒状部の長手方向からみたときに、前記反応器の内壁から離れた位置に配されており、
前記温度調節部材は、前記反応器内に配され前記固体原料の温度を調節する調節側棒状部を複数有し、
少なくとも2つの調節側棒状群を有し、
前記2つの調節側棒状群は、2つ以上の前記調節側棒状部が間隔を空けて直線状に並んだ調節側棒状列を有し、
前記発光側棒状部は、少なくとも2方向に光を照射可能であり、
前記発光側棒状部は、前記2つの調節側棒状群の前記調節側棒状列の間に配され、前記2つの調節側棒状群の前記調節側棒状列側に向かって光を照射可能であり、
前記発光側棒状部の外周面と、前記発光側棒状部に最近接する前記調節側棒状部の外周面の隙間の最短距離は、1.9cm以上15cm以下であり、
最近接する2つの調節側棒状部の外周面の隙間の最短距離は、1.9cm以上であることを特徴とする流動層反応装置。 - 前記温度調節部材は、流入部と、流出部を有し、
前記流入部は、外部から冷却媒体を前記調節側棒状群に流入させるものであり、
前記流出部は、前記調節側棒状群で熱交換された前記冷却媒体を外部に流出するものであり、
前記調節側棒状部は、前記流入部と前記流出部を繋ぐ中空体であって、内部に前記冷却媒体を通すことが可能であり、
前記調節側棒状部は、全体として鉛直方向に延びており、
前記流入部は、前記流出部に対して鉛直方向下側に位置していることを特徴とする請求項1に記載の流動層反応装置。 - 前記温度調節部材は、平面視したときに前記調節側棒状群における前記調節側棒状部が正平面充填形の頂点位置に配されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の流動層反応装置。
- 前記反応器内に、ガス分散部と、前記発光部材と、前記温度調節部材で構成される単位ユニットを複数有し、
前記ガス分散部は、前記固体原料が載置されるものであって、前記ガスを前記反応器内に噴射するガス供給孔を備えるものであり、
各単位ユニットは、平面状に広がりをもって並設されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の流動層反応装置。 - ガス分散部材と固体原料充填部を備えた反応器を有し、粉状又は粒状の固体原料が前記ガス分散部材の上面に接触する状態で前記固体原料充填部に充填され、前記ガス分散部材から前記固体原料充填部にガスが噴射され、前記ガスによって前記固体原料充填部内の前記固体原料を流動化しつつ前記固体原料と前記ガスを反応させて反応生成物を得る流動層反応装置であって、
前記ガス分散部材は、ガス供給孔を有し、
前記固体原料充填部は、前記ガス分散部材に対して立ち上がった第1内壁部と、前記第1内壁部と誘導壁部を介して段差をもって連続する第2内壁部を有し、
前記誘導壁部は、前記ガス分散部材と天地方向に所定の間隔を空けて対向し、前記ガス供給孔の前記固体原料充填部側の開口との間に流入空間があり、
前記誘導壁部は、前記ガス分散部材から噴射された前記ガスを遮って少なくとも前記第2内壁部に沿うように前記ガスを導くことを特徴とする流動層反応装置。 - ガス分散部材と固体原料充填部を備えた反応器を有し、粉状又は粒状の固体原料が前記ガス分散部材の上面に接触する状態で前記固体原料充填部に充填され、前記ガス分散部材を介して前記固体原料充填部にガスが供給され、前記ガスによって前記固体原料充填部内の前記固体原料を流動化しつつ前記固体原料と前記ガスを反応させて反応生成物を得る流動層反応装置であって、
前記固体原料充填部は、前記ガス分散部材に対して立ち上がった内壁部を有し、当該内壁部に開閉可能な払出口があり、
前記ガス分散部材は、複数の第1ガス供給孔を有し、
前記第1ガス供給孔は、少なくとも水平方向成分をもって延びる非鉛直部を有し、さらに下記の(1)又は(2)の条件を満たすものであり、
前記非鉛直部の延び方向の端部が、前記第1ガス供給孔の固体原料充填部側の開口を構成しており、
前記非鉛直部は、前記払出口側を向いて延びていることを特徴とする流動層反応装置。
(1)前記非鉛直部が水平面に対して45度未満の傾斜角度で傾斜している。
(2)前記固体原料充填部側の開口の外接径が前記固体原料のメディアン径の10倍未満である。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載の流動層反応装置を使用して塩素化塩化ビニル系樹脂を製造する塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法であって、
塩化ビニル系樹脂を前記反応器に充填し、前記反応器に塩素ガスを供給して塩化ビニル系樹脂と塩素ガスを反応させることを特徴とする塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法。
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