JP7072805B2 - 時間分解光電子顕微鏡装置および当該装置によるキャリアダイナミクス画像の取得方法 - Google Patents
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Description
(2)フェムト秒パルスレーザーの照射による試料の帯電を低減し、撮像される画像のS/N比を大幅に向上させることが可能となった。
(3)放出される光電子の運動エネルギーを制御することによって、試料の深さ方向の分解計測により、物質のバルク情報を得ることが可能となった。
1.2eV、2.4eV、3.6eV、4.8eV、6eVの5段階で選択可能である。時間分解光電子顕微鏡装置101では、プローブ光7は、1.2eV、2.4eV、3.6eV、4.8eV、6eVの5段階で選択可能であるが、実施形態に係る時間分解光電子顕微鏡装置では、ポンプ光は、複数の任意のエネルギーで離散的に選択可能であっても良い。
実施形態に係る時間分解光電子顕微鏡装置を開発したことにより、試料の光電子放出観測において、上述したように予期せぬ効果を得ることができた。図9は、時間分解光電子顕微鏡装置101によって、試料の微小領域の仕事関数を見積もる方法を示す図である。実施例1では、試料として自然酸化膜(SiO2)付のn型Si基板を用い、プローブ光のエネルギーを40meVのステップで増加させながら、ポンプ・プローブ法を実行し、各ステップでのPEEM画像を取得した。
図10は、n型GaAs基板を試料として用いて、プローブ光のエネルギーと測定時間(遅延時間、Delay)とを変化させた場合の、試料の局所的な光電子放出強度の変化を示す図である。ポンプ光のエネルギーは2.4eVに固定されており、露光時間は1sである。遅延時間は0.2psのステップで、プローブ光のエネルギー(Prove Energy)は40meVステップで変化させて、光電子放出強度を測定している。図10(b)は図10(a)の一部拡大図である。
図14は、光電子運動エネルギーと光電子脱出深度の関係を示すユニバーサルカーブである。図14で縦軸は光電子の脱出深度をnmで示し、横軸は光電子の運動エネルギーをeVで示している。脱出深度とは、試料から光電子放出された電子が、試料の深さ方向のどの位置から出てきたものであるかを表すものである。光電子放出された電子の運動エネルギーと脱出深度の関係は物質に拠らず一定であることが分かっており、この関係を示したものがユニバーサルカーブである。
Claims (12)
- パルス幅がフェムト秒レベル以下であり且つ繰り返し周波数が可変であるパルスを出力するレーザー光源と、
前記レーザー光源から出力される光の波長を変換して、試料の光キャリアを励起するポンプ光を生成するポンプ光生成部と、
前記レーザー光源から出力される光の波長を変換して、前記ポンプ光によって励起された光キャリアを光電効果によって前記試料から放出するプローブ光を生成するプローブ光生成部と、を有し、
前記ポンプ光生成部および前記プローブ光生成部の少なくとも一方は、観測対象となる試料に照射する光のエネルギーを0.1eV以上8eV以下の範囲において0.5eV以下の間隔で変更するエネルギー可変部を有する、ことを特徴とする、時間分解光電子顕微鏡装置。 - 前記プローブ光生成部は、前記プローブ光のエネルギーを変更するプローブ光エネルギー可変部を有する、請求項1に記載の時間分解光電子顕微鏡装置。
- 前記プローブ光エネルギー可変部は、前記レーザー光源から出力される光の波長を変換する光パラメトリック増幅器を有する、請求項2に記載の時間分解光電子顕微鏡装置。
- 前記プローブ光エネルギー可変部は、光パラメトリック増幅器によって波長が変換された光から前記プローブ光を生成する高次高調波発生装置を更に有する、請求項2に記載の時間分解光電子顕微鏡装置。
- 前記プローブ光生成部がエネルギーを変更可能な範囲は、観測対象となる試料の電子親和力、イオン化エネルギーまたは仕事関数に対して±3eV以内である、請求項2~4の何れか1項に記載の時間分解光電子顕微鏡装置。
- 前記プローブ光の集光位置およびサイズを一定に保持する集光レンズステージを更に有する、請求項2~5の何れか1項に記載の時間分解光電子顕微鏡装置。
- 前記集光レンズステージは、集光レンズと、前記集光レンズを位置を移動する駆動素子とを有する、請求項6に記載の時間分解光電子顕微鏡装置。
- 前記ポンプ光生成部は、前記ポンプ光のエネルギーを変更するポンプ光エネルギー可変部を有する、請求項1~7の何れか1項に記載の時間分解光電子顕微鏡装置。
- 前記レーザー光源は、前記ポンプ光生成部に光を出力する第1レーザー光源と、前記プローブ光生成部に光を出力する第2レーザー光源と、前記第1レーザー光源および第2レーザー光源が光を出力するタイミングを制御するタイミング制御装置と、を有する請求項2~8の何れか1項に記載の時間分解光電子顕微鏡装置。
- ポンプ光を前記試料に照射して試料の光キャリアを励起し、プローブ光を前記試料に照射して前記ポンプ光によって励起された光キャリアを光電効果によって前記試料から放出する前記試料から放出された光キャリアを観察する時間分解光電子顕微鏡装置を使用して光励起されたキャリアダイナミクス画像を取得する方法であって、
観測対象となる試料に照射する前記プローブ光のエネルギーを、前記試料の電子親和力または仕事関数に対し±3eV以内の範囲で連続的に可変して、光電子放出強度を測定し、
前記光電子放出強度の経時変化から前記試料の観測対象領域の仕事関数を求め、
前記求めた仕事関数に応じた値を前記プローブ光のエネルギーに決定し、
前記決定されたプローブ光エネルギーで、キャリアダイナミクス画像を取得する、
キャリアダイナミクス画像の取得方法。 - パルス幅がフェムト秒レベル以下であり且つ繰り返し周波数が可変であるパルスを出力するレーザー光源と、
前記レーザー光源から出力される光の波長を変換して、試料の光キャリアを励起するポンプ光を生成するポンプ光生成部と、
前記レーザー光源から出力される光の波長を変換して、前記ポンプ光によって励起された光キャリアを光電効果によって前記試料から放出するプローブ光を生成するプローブ光生成部と、を有し、
前記ポンプ光生成部および前記プローブ光生成部の少なくとも一方は、観測対象となる試料に照射する光のエネルギーを0.5eV以下の間隔で変更するエネルギー可変部を有する、ことを特徴とする、時間分解光電子顕微鏡装置。 - ポンプ光を前記試料に照射して試料の光キャリアを励起し、プローブ光を前記試料に照射して前記ポンプ光によって励起された光キャリアを光電効果によって前記試料から放出する前記試料から放出された光キャリアを観察する時間分解光電子顕微鏡装置を使用して光励起されたキャリアダイナミクス画像を取得する方法であって、
観測対象となる試料に照射する前記プローブ光のエネルギーを、前記試料の電子親和力または仕事関数に対し±3eV以内の範囲で連続的に可変して、光電子放出強度を測定する、
ことを含む、キャリアダイナミクス画像の取得方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017037139 | 2017-02-28 | ||
JP2017037139 | 2017-02-28 | ||
PCT/JP2018/004734 WO2018159272A1 (ja) | 2017-02-28 | 2018-02-09 | 時間分解光電子顕微鏡装置および当該装置によるキャリアダイナミクス画像の取得方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018159272A1 JPWO2018159272A1 (ja) | 2020-02-06 |
JP7072805B2 true JP7072805B2 (ja) | 2022-05-23 |
Family
ID=63370073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019502851A Active JP7072805B2 (ja) | 2017-02-28 | 2018-02-09 | 時間分解光電子顕微鏡装置および当該装置によるキャリアダイナミクス画像の取得方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10989679B2 (ja) |
EP (1) | EP3591388B1 (ja) |
JP (1) | JP7072805B2 (ja) |
WO (1) | WO2018159272A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7354669B2 (ja) * | 2018-08-31 | 2023-10-03 | Dic株式会社 | 表示装置 |
JP6832592B1 (ja) * | 2019-10-21 | 2021-02-24 | 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 | 時間分解光電子顕微鏡装置、正孔空間分布検出方法、正孔寿命推定方法及び正孔移動度演算方法 |
KR102402681B1 (ko) | 2020-04-17 | 2022-05-26 | 한국과학기술원 | 다광자 현미경, 그리고 이의 시간 게이트 검출 기반 이미징 방법 |
CN113008840B (zh) * | 2021-02-22 | 2023-01-17 | 西北核技术研究所 | 基于激光泵浦探测的闪烁材料瞬态过程表征系统和方法 |
CN116642882B (zh) * | 2023-04-20 | 2024-02-20 | 之江实验室 | 一种基于脉冲调制的干涉散射泵浦探测成像方法及系统 |
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JP2007193230A (ja) | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光源装置 |
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JP2016138801A (ja) | 2015-01-27 | 2016-08-04 | 国立大学法人東京工業大学 | 時間分解光電子顕微鏡装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH493934A (de) * | 1969-04-28 | 1970-07-15 | Balzers Patent Beteilig Ag | Elektronenemissionsmikroskop |
JP2002168814A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-06-14 | Hitachi Ltd | 検出装置およびデバイス評価装置 |
JP4839481B2 (ja) * | 2006-11-29 | 2011-12-21 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ポンププローブ測定装置及びそれを用いた走査プローブ顕微鏡装置 |
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WO2015161136A1 (en) * | 2014-04-17 | 2015-10-22 | Femtometrix, Inc. | Wafer metrology technologies |
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KR20210021308A (ko) * | 2018-05-15 | 2021-02-25 | 펨토매트릭스, 인코포레이티드. | 제2고조파 발생(shg) 광학 검사 시스템 설계 |
-
2018
- 2018-02-09 US US16/489,522 patent/US10989679B2/en active Active
- 2018-02-09 JP JP2019502851A patent/JP7072805B2/ja active Active
- 2018-02-09 EP EP18760545.6A patent/EP3591388B1/en active Active
- 2018-02-09 WO PCT/JP2018/004734 patent/WO2018159272A1/ja unknown
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JP2007193230A (ja) | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光源装置 |
US20090066963A1 (en) | 2007-08-31 | 2009-03-12 | University Of Pittsburgh - Of The Commonwealth System Of Higher Education | Ultrafast microscopy of surface electromagnetic fields |
JP2011029435A (ja) | 2009-07-27 | 2011-02-10 | Institute Of Physical & Chemical Research | レーザー同期方法、レーザーシステム及びポンプ・プローブ測定システム |
JP2016138801A (ja) | 2015-01-27 | 2016-08-04 | 国立大学法人東京工業大学 | 時間分解光電子顕微鏡装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2018159272A1 (ja) | 2018-09-07 |
US10989679B2 (en) | 2021-04-27 |
EP3591388A1 (en) | 2020-01-08 |
US20200072771A1 (en) | 2020-03-05 |
JPWO2018159272A1 (ja) | 2020-02-06 |
EP3591388A4 (en) | 2021-03-31 |
EP3591388B1 (en) | 2022-05-11 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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