JP7069677B2 - 発光装置 - Google Patents

Description

本発明は、光源からの出射光を整形して出力する発光装置に関する。

高出力化などのために、集光させた光を光ファイバなどの受光デバイスに入射させる発光装置が使用されている。これらの発光装置では、発光ダイオード（ＬＥＤ）や半導体レーザなどを光源として、光源の出射光をレンズやプリズムなどの光学素子を用いて集光する方法が採用されている。

また、半導体レーザなどの出射光について、ファースト軸方向よりもビーム品質の低いスロー軸方向のビーム品質を改善するための検討が行われている。例えば、スロー軸方向に複数の発光領域（エミッタ）を並べた半導体レーザアレイの出射光を光学素子によってスロー軸方向に分割し、分割したレーザ光をファースト軸方向に並列させる方法などが提案されている。

特開２００３－２７９８８５号公報

単一エミッタの光源を使用した場合にもスロー軸方向のビーム品質を改善することが望まれている。例えば、単一エミッタを有する高出力半導体レーザの出射光を小コア径で低ＮＡの光ファイバに結合する場合、ファースト軸方向のビーム品質は問題ないがスロー軸方向のビーム品質が低いために、高効率に出射光をファイバに結合することができない。

上記問題点に鑑み、本発明は、単一エミッタの光源からの出射光のスロー軸方向のビーム品質を改善できる発光装置を提供することを目的とする。

本発明の一態様によれば、単一のエミッタをそれぞれ有する、偏光方向が互いに異なる複数の光源と、光源の出射光をスロー軸方向に複数の分割光に分割し、複数の分割光をファースト軸方向に配列した整形ビームに整形して出力するビーム整形モジュールとを備え、ビーム整形モジュールが、複数の光源の出射光のそれぞれについて整形した複数の整形ビームを偏光合波し、偏光方向が互いに異なる光源の個数が３個以上である発光装置が提供される。

本発明によれば、単一エミッタの光源からの出射光のスロー軸方向のビーム品質を改善できる発光装置を提供できる。

本発明の第１の実施形態に係る発光装置の構成を示す模式図である。 光源の出射光のビーム形状の例を示す模式図である。 本発明の第１の実施形態に係る発光装置によるビーム整形の例を示すファースト軸方向から見た模式図である。 本発明の第１の実施形態に係る発光装置によるビーム整形の例を示すスロー軸方向から見た模式図である。 本発明の第１の実施形態に係る発光装置のビーム整形モジュールによってビーム整形される前の出射光の進行面のビーム形状を示す模式図である。 本発明の第１の実施形態に係る発光装置のビーム整形モジュールによってビーム整形された後の整形ビームの進行面のビーム形状を示す模式図である。 集光後のビーム径の例を示すグラフであり、図７（ａ）は本発明の第１の実施形態に係る発光装置によりビーム整形されたビームのビーム径を示し、図７（ｂ）は比較例のビームのビーム径を示す。 比較例の進行面のビーム形状を示す模式図である。 本発明の第１の実施形態の第１の変形例に係る発光装置による出射光の分割の例を示すファースト軸方向から見た模式図である。 本発明の第１の実施形態の第１の変形例に係る発光装置によって得られる整形ビームの進行面のビーム形状を示す模式図である。 本発明の第１の実施形態の第２の変形例に係る発光装置による出射光の分割の例を示すファースト軸方向から見た模式図である。 本発明の第１の実施形態の第２の変形例に係る発光装置によって得られる整形ビームの進行面のビーム形状を示す模式図である。 本発明の第１の実施形態の第３の変形例に係る発光装置のビーム整形モジュールの構成を示す模式図である。 本発明の第２の実施形態に係る発光装置の構成を示す模式図である。ための模式図である。 本発明のその他の実施形態に係る発光装置の構成を示す模式図である。

図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであることに留意すべきである。また、以下に示す実施形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の実施形態は、構成部品の構造、配置などを下記のものに特定するものでない。この発明の実施形態は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。

（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態に係る発光装置１は、図１に示すように、単一のエミッタを有する光源１０と、光源１０の出射光Ｌ１０をスロー軸方向に複数の分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎに分割し、分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎをファースト軸方向に配列した整形ビームＬ２０に整形して出力するビーム整形モジュール３０とを備える（ｎ：２以上の整数）。

図１に示す発光装置１は、光源１０の出射光Ｌ１０を、出射光Ｌ１０のファースト軸方向及びスロー軸方向についてコリメートするコリメート手段２０を更に備える。即ち、ファースト軸方向及びスロー軸方向についてコリメートされた出射光Ｌ１０が、ビーム整形モジュール３０に導光される
図１に示したコリメート手段２０は、出射光Ｌ１０をファースト軸方向についてコリメートするＦ軸コリメートレンズ２１と、出射光Ｌ１０をスロー軸方向についてコリメートするＳ軸コリメートレンズ２２を備える。図１に示すように、光源１０の直近にＦ軸コリメートレンズ２１が配置され、Ｆ軸コリメートレンズ２１から一定の間隔をおいてＳ軸コリメートレンズ２２が配置されている。

つまり、出射光Ｌ１０は、Ｆ軸コリメートレンズ２１によってコリメートされた後に、Ｓ軸コリメートレンズ２２によってコリメートされる。ビーム整形モジュール３０は、コリメートされた出射光Ｌ１０について整形した整形ビームＬ２０を出力する。

ビーム整形モジュール３０から出力された整形ビームＬ２０は、集光装置３によって集光されて受光デバイス２に導光される。受光デバイス２は例えば光ファイバであり、整形ビームＬ２０は光ファイバのコア部に集光される。集光装置３は、例えば集光レンズである。

光源１０は、例えばシングルエミッタの高出力半導体レーザである。単一のエミッタを有する半導体レーザなどでは、出射光の進行方向に垂直な断面（以下において、「進行面」という。）のビーム形状が楕円である。例えば、端面出力型のシングルエミッタ半導体レーザの出射光は、エミッタサイズの小さい方向にビームが大きく広がる。即ち、図２に示すように、エミッタエリアＡのサイズの広い方向がスロー軸方向Ｓ、エミッタエリアＡのサイズの狭い方向がファースト軸方向Ｆである。

光源１０の出射光Ｌ１０は、ファースト軸方向Ｆよりもスロー軸方向Ｓのビーム品質が低い。即ち、ファースト軸方向Ｆと比べてスロー軸方向Ｓの光束の外縁部がぼやけており、集光した場合にもシャープな形状が得られない。このため、光源１０からの出射光Ｌ１０をそのまま光ファイバと結合する場合には結合効率が低下するなどの問題が生じる。

これに対し、図１に示した発光装置１では、ビーム整形モジュール３０によって、出射光Ｌ１０のスロー軸方向Ｓのビーム品質が改善される。具体的には、ビーム品質の低いスロー軸方向Ｓについて出射光Ｌ１０を分割し、分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎをファースト軸方向Ｆに重ねる。これにより、整形ビームＬ２０のスロー軸方向Ｓの長さは短くなり、結合効率が改善する。

このとき、整形ビームＬ２０のファースト軸方向Ｆの品質は低下することになる。しかし、ビーム品質はファースト軸方向Ｆの方がスロー軸方向Ｓよりも数十倍以上よいため、結合効率の低下が問題になることはない。

以下に、発光装置１の動作について説明する。

光源１０から出射された出射光Ｌ１０は、図１に示すように、先ずＦ軸コリメートレンズ２１によってファースト軸方向Ｆについてコリメートされる。ファースト軸方向Ｆのビーム品質は高いため、光源１０とＦ軸コリメートレンズ２１との間隔は任意であるが、この間隔を狭くすることにより発光装置１のサイズを小さくできる。

Ｆ軸コリメートレンズ２１から一定の間隔をおいて配置されたＳ軸コリメートレンズ２２に、進行面のビーム形状がスロー軸方向Ｓに広がった出射光Ｌ１０が導光され、スロー軸方向Ｓについて出射光Ｌ１０がコリメートされる。そして、スロー軸方向Ｓに細長いビーム形状の出射光Ｌ１０が、ビーム整形モジュール３０に導光される。

ビーム整形モジュール３０は、光分割素子３１と光路変更素子３２を備える。光分割素子３１は、コリメートされた出射光Ｌ１０の一部についてその光軸を元の光軸から変更して、出射光Ｌ１０を複数の分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎに分割する。光路変更素子３２は、分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎを異なる光路でそれぞれ伝搬させる。なお、光路変更素子３２は、分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎがファースト軸方向Ｆに配列するように、分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎのそれぞれの光路を構成している。

光分割素子３１は、分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎの少なくとも１つの分割光について光軸が変化するように、出射光Ｌ１０を分割する。これにより、例えば分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎが互いに平行に離間して進行する。或いは、分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎのそれぞれが相互に別方向に進行するように、光分割素子３１を通過した部分の光束の光軸と通過していない部分の光束の光軸とが一定の角度をなして交差するように出射光Ｌ１０を分割してもよい。

光分割素子３１には、例えばレーザウィンドウや光学ミラー、プリズムなどが使用可能である。また、光路変更素子３２には、光学ミラーやプリズムなどを使用可能である。

図３～図４に、光分割素子３１としてレーザウィンドウ３１０を光軸に対して傾けて配置し、光路変更素子３２に光学ミラー対３２０を使用した例を示す。即ち、傾けたレーザウィンドウ３１０によって、出射光Ｌ１０はスロー軸方向Ｓに分割光Ｌ１１と分割光Ｌ１２に２分割される。このようにレーザウィンドウ３１０を光分割素子３１に使用することによって、レーザウィンドウ３１０を透過した分割光Ｌ１１の光軸は、分割される前の出射光Ｌ１０の光軸から変化する。一方、分割光Ｌ１２の光軸は分割される前の出射光Ｌ１０から変化しない。

そして、分割光Ｌ１１の光路が光学ミラー対３２０によって変更され、分割光Ｌ１１と分割光Ｌ１２がファースト軸方向Ｆに重ねて配列される。

ビーム整形モジュール３０によって、例えば図５に示すように進行面がスロー軸方向Ｓに細長いビーム形状の出射光Ｌ１０が、スロー軸方向Ｓに分割される。そして、出射光Ｌ１０を分割した分割光Ｌ１１と分割光Ｌ１２が図６に示すようにファースト軸方向Ｆに重ねられた整形ビームＬ２０が得られる。

なお、図６に示した進行面のビーム形状は、出射光Ｌ１０を２等分することにより得られる。つまり、光分割素子３１を、スロー軸方向に沿った光束の半分が通過する位置に配置する。例えば、レーザウィンドウ３１０を通過した光束の半分について、その光軸がレーザウィンドウ３１０を通過していない部分の光束の光軸から変化する角度で、レーザウィンドウ３１０を配置する。

上記のように出射光Ｌ１０を２等分する場合に限らず、ビーム整形モジュール３０が分割光のそれぞれのスロー軸方向Ｓの長さが同等になるように出射光Ｌ１０を等分することにより、進行面のビーム形状が矩形状の整形ビームＬ２０が得られる。

なお、レーザウィンドウ３１０を光分割素子３１に使用した場合、出射光Ｌ１０が入射するレーザウィンドウ３１０の入射面と出射光Ｌ１０の光軸とのなす角が小さいほど、光軸のずれが大きくなる。また、分割光が隙間なくファースト軸方向Ｆに重ねられる例を示したが、ファースト軸方向Ｆに沿って分割光の間に間隔を設けてもよい。

上記のように、発光装置１では、ビーム品質の低いスロー軸方向Ｓに沿って出射光Ｌ１０を分割した分割光Ｌ１１～Ｌ１ｎをファースト軸方向Ｆに重ねて配列する。このようにスロー軸方向Ｓの低い品質をファースト軸方向Ｆに分散させることにより、スロー軸方向Ｓのビーム品質が改善される。その結果、ビーム品質の向上した整形ビームＬ２０を得ることができる。

また、発光装置１によれば、レーザウィンドウや光学ミラー、プリズムなどの安価な光学素子を用いて構成可能なビーム整形モジュール３０によって、スロー軸方向Ｓのビーム品質を改善できる。つまり、低コストでビーム品質の向上した整形ビームＬ２０を得られる。

図７（ａ）に、整形ビームＬ２０を集光装置３により集光した集光ビームのビーム径の例を示す。横軸は、集光ビームが集光装置３を通過した後の任意の位置を基準点（０ｍｍ）として、集光スポットに向けて集光ビームが進行する方向をプラス方向とした距離Ｚである。なお、図７（ａ）は、ビーム整形モジュール３０によって出射光Ｌ１０を同程度の強度でスロー軸方向Ｓに２分割した後にファースト軸方向Ｆに重ねた場合の集光ビームのビーム径である。

また、図７（ｂ）に、ビーム整形モジュール３０によるビーム整形をしていない比較例の集光ビームのビーム径を示す。図７（ｂ）は、ビーム整形モジュール３０を配置しない状態で図７（ａ）の場合と同じ位置に集光装置３を配置した場合の集光ビームのビーム径である。

図７（ａ）を図７（ｂ）を比較すると、ビーム整形モジュール３０によってビーム整形することにより、集光後に集光ビームのビーム径が最も細くなる位置での集光径は比較例の半分程度になる。また、Ｍスクエア値は、比較例のＭスクエア値の半分程度である。このように、実施形態に係る発光装置１によれば、ビーム品質を向上させることができる。

以上に説明したように、本発明の実施形態に係る発光装置１では、単一のエミッタを有する光源１０から出射される出射光Ｌ１０がスロー軸方向Ｓに複数の分割光に分割され、これらの分割光がファースト軸方向Ｆに積層して配列される。その結果、出射光Ｌ１０についてスロー軸方向Ｓのビーム品質が改善され、整形ビームＬ２０をより小径に高品質に集光できる。このため、例えば、小コア径、低ＮＡの光ファイバと出射光Ｌ１０を高い効率で結合することができる。

また、発光装置１ではスロー軸方向Ｓのビーム径が短くなるため、例えば図８に示した比較例のようにビームＬの端部が受光デバイス２の外側にはみ出して結合効率が低下することを抑制できる。

なお、整形ビームＬ２０のビーム形状は、コリメート手段２０にも依存する。このため、光源１０のビーム品質や受光デバイス２の仕様などに応じて、コリメートレンズの特性や配置なども考慮される。

＜第１の変形例＞
上記では、出射光Ｌ１０の光束を等分する例を示した。しかし、ビーム整形モジュール３０によって、複数の分割光の少なくとも１つの分割光が他の分割光とスロー軸方向Ｓの長さが異なるように出射光Ｌ１０を分割してもよい。

例えば、図９に示すように、出射光Ｌ１０を等分しないで分割することによっても、スロー軸方向Ｓのビーム品質を改善することができる。図９に示した実施形態では、光分割素子３１として使用されるレーザウィンドウ３１０を透過する分割光Ｌ１１の割合が半分よりも小さい。このため、図１０に示すように、分割光Ｌ１１と分割光Ｌ１２をファースト軸方向Ｆに重ねた整形ビームＬ２０の進行面のビーム形状は矩形状でない。

出射光Ｌ１０の光束を２等分した場合には、出射光Ｌ１０の強度が最も高い光束の中心部分に光分割素子３１の端面が位置することになる。このため、光分割素子３１の端面において出射光Ｌ１０の一部が散乱したり吸収されたりした場合に、出射光Ｌ１０の強度の低下する割合が大きいおそれがある。

これに対し、図９に示すように光分割素子３１の端面の位置を出射光Ｌ１０の中心からずらすことにより、出射光Ｌ１０の強度の低下を抑制することができる。

＜第２の変形例＞
上記では、光源１０の出射光Ｌ１０を２つに分割する例を示したが、複数の光分割素子３１を用いて出射光Ｌ１０を３つ以上に分割してもよい。例えば、図１１に示すように、第１のレーザウィンドウ３１０ａと第２のレーザウィンドウ３１０ｂによって、出射光Ｌ１０が分割光Ｌ１１、分割光Ｌ１２及び分割光Ｌ１３の３つに分割される。

これにより、図１２に示すように、ファースト軸方向Ｆに分割光Ｌ１１～分割光Ｌ１３を３重に重ねた整形ビームＬ２０が得られる。その結果、スロー軸方向Ｓのビーム品質を３倍に改善することができる。

＜第３の変形例＞
光分割素子３１にレーザウィンドウ以外の光学素子を使用してもよい。例えば、直角プリズムを用いて出射光Ｌ１０を分割してもよい。

即ち、図１３に示すように、出射光Ｌ１０の一部が、分割光Ｌ１１として第１の折り返しプリズムミラー３１２によって直角プリズム３１３に導光される。分割光Ｌ１１は、直角プリズム３１３の内部で反射した後に、第２の折り返しプリズムミラー３１４に導光される。そして、第２の折り返しプリズムミラー３１４で反射した分割光Ｌ１１と、第２の折り返しプリズムミラー３１４を分割光Ｌ１２として透過した出射光Ｌ１０の他の一部とが、ファースト軸方向Ｆに重ねられる。

（第２の実施形態）
本発明の第２の実施形態に係る発光装置１は、図１４に示すように、偏光方向が互いに異なる第１の光源１０ａ及び第２の光源１０ｂを備える。

第１の光源１０ａの出射光Ｌ１０ａは、第１のＦ軸コリメートレンズ２１ａによってファースト軸方向Ｆについてコリメートされ、更に第１のＳ軸コリメートレンズ２２ａによってスロー軸方向Ｓについてコリメートされる。コリメートされた出射光Ｌ１０ａは、ビーム整形モジュール３０に導光される。第２の光源１０ｂの出射光Ｌ１０ｂは、第２のＦ軸コリメートレンズ２１ｂによってファースト軸方向Ｆについてコリメートされ、更に第２のＳ軸コリメートレンズ２２ｂによってスロー軸方向Ｓについてコリメートされる。コリメートされた出射光Ｌ１０ｂは、ビーム整形モジュール３０に導光される。

第２の実施形態に係る発光装置１のビーム整形モジュール３０は、第１の光分割素子３１ａと第１の光路変更素子３２ａによって、第１の光源１０ａの出射光Ｌ１０ａのビーム整形を行う。即ち、出射光Ｌ１０ａがスロー軸方向Ｓに複数の分割光Ｌ１１ａ～Ｌ１ｎａに分割された後、分割光Ｌ１１ａ～Ｌ１ｎａがファースト軸方向Ｆに重ねられて第１の整形ビームＬ２０ａが得られる。

同様に、第２の実施形態に係る発光装置１のビーム整形モジュール３０は、第２の光分割素子３１ｂと第２の光路変更素子３２ｂによって、第２の光源１０ｂの出射光Ｌ１０ｂのビーム整形を行う。即ち、出射光Ｌ１０ｂがスロー軸方向Ｓに複数の分割光Ｌ１１ｂ～Ｌ１ｎｂに分割された後、分割光Ｌ１１ｂ～Ｌ１ｎｂがファースト軸方向Ｆに重ねられて第２の整形ビームＬ２０ｂが得られる。

図１４に示したビーム整形モジュール３０は、第１の整形ビームＬ２０ａと光学ミラー３３によって光路変更された第２の整形ビームＬ２０ｂとを偏光ビームスプリッタ３４によって合波する。これにより、ビーム整形モジュール３０から、第１の光源１０ａの出射光Ｌ１０ａと第２の光源１０ｂの出射光Ｌ１０ｂとを偏光合波した、スロー軸方向Ｓのビーム品質が改善された整形ビームＬ２０が出力される。

なお、第１の光路変更素子３２ａや第２の光路変更素子３２ｂと偏光ビームスプリッタ３４との間にビームスプリッタを挿入してもよい。ビームスプリッタにより分割されたビームをモニタすることによって、第１の整形ビームＬ２０ａや第２の整形ビームＬ２０ｂのビーム形状を確認することができる。

上記では偏光方向が互いに異なる光源１０の個数が２個である場合を示したが、光源１０の個数は３個以上であってもよい。第２の実施形態に係る発光装置１によれば、偏光方向が互いに異なる複数の光源の出射光のそれぞれについて整形した複数の整形ビームを偏光合波し、スロー軸方向Ｓのビーム品質が改善された整形ビームＬ２０を得られる。また、複数の整形ビームを偏光合波することにより、整形ビームＬ２０の強度を増大させることができる。他は第１の実施形態と実質的に同様であり、重複した記載を省略する。

（その他の実施形態）
上記のように、本発明は実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。

例えば、既に述べた実施形態の説明においては、ビーム整形モジュール３０が１つである例を示した。しかし、例えば図１５に示すように、複数のビーム整形モジュール３０を多段に連結させてもよい。図１５に示した発光装置１では、それぞれのビーム整形モジュール３０から出力される整形ビームＬ２０が、次段のビーム整形モジュール３０に導光される。ビーム整形モジュール３０の連結する個数は、光源１０の出射光Ｌ１０のビーム品質と、整形ビームＬ２０に要求される直径若しくは受光デバイス２の仕様などに応じて、適宜設定される。

また、上記では、光源１０からの出射光Ｌ１０をコリメートするコリメート手段２０を有する発光装置１を示した。しかし、コリメートされた出射光Ｌ１０を出射する光源１０を使用する場合などには、コリメート手段２０を省略することもできる。

なお、実施形態に係る発光装置１は、ファースト軸方向Ｆと比べてスロー軸方向Ｓのビーム品質が低い様々な光源１０について好適に使用される。即ち、半導体レーザ以外の光源、例えば固体レーザなどを光源１０に使用してもよい。

また、集光装置３によって集光した後に受光デバイス２と結合する実施形態を示したが、発光装置１は他の用途にも適用可能である。例えば、ビーム整形モジュール３０からの整形ビームＬ２０をターゲットに直接照射する用途にも、本発明は適用可能である。

このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を含む。

１…発光装置
２…受光デバイス
３…集光装置
１０…光源
２０…コリメート手段
２１…Ｆ軸コリメートレンズ
２２…Ｓ軸コリメートレンズ
３０…ビーム整形モジュール
３１…光分割素子
３２…光路変更素子
３４…偏光ビームスプリッタ
３１０…レーザウィンドウ
３１３…直角プリズム
３２０…光学ミラー対
Ｆ…ファースト軸方向
Ｓ…スロー軸方向
Ｌ１０…出射光
Ｌ１１～Ｌ１ｎ…分割光
Ｌ２０…整形ビーム

Claims (7)

1. 単一のエミッタをそれぞれ有する、偏光方向が互いに異なる複数の光源と、
   前記光源の出射光をスロー軸方向に複数の分割光に分割し、前記複数の分割光をファースト軸方向に配列した整形ビームに整形して出力するビーム整形モジュールと
   を備え、
   前記ビーム整形モジュールが、複数の前記光源の出射光のそれぞれについて整形した複数の前記整形ビームを偏光合波し、
   偏光方向が互いに異なる前記光源の個数が３個以上である
   ことを特徴とする発光装置。
2. 前記ビーム整形モジュールが
   前記光源の出射光の一部についてその光軸を元の光軸から変更して、前記光源の出射光を前記複数の分割光に分割する光分割素子と、
   前記複数の分割光を異なる光路でそれぞれ伝搬させる光路変更素子と
   を備え、
   前記光路変更素子が、前記複数の分割光が前記ファースト軸方向に配列するように前記複数の分割光のそれぞれの光路を構成することを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
3. 前記ビーム整形モジュールが、前記光源の出射光を３つ以上に分割して前記ファースト軸方向に配列することを特徴とする請求項１又は２に記載の発光装置。
4. 前記ビーム整形モジュールが、前記複数の分割光のそれぞれの前記スロー軸方向の長さが同等になるように前記光源の出射光を等分することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の発光装置。
5. 前記ビーム整形モジュールが、前記複数の分割光の少なくとも１つの分割光が他の分割光と前記スロー軸方向の長さが異なるように前記光源の出射光を分割することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の発光装置。
6. 前記光源の出射光を前記ファースト軸方向及び前記スロー軸方向についてコリメートするコリメート手段を更に備え、
   前記ファースト軸方向及び前記スロー軸方向についてコリメートされた前記光源の出射光が前記ビーム整形モジュールに導光されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の発光装置。
7. 前記コリメート手段が、
   前記光源の出射光を前記ファースト軸方向についてコリメートするＦ軸コリメートレンズと、
   前記Ｆ軸コリメートレンズによってコリメートされた前記光源の出射光を前記スロー軸方向についてコリメートするＳ軸コリメートレンズと
   を備えることを特徴とする請求項６に記載の発光装置。

Images