JP7049456B2 - 電気伝導性コーティング及び反射防止コーティングを有するヘッドアップディスプレイ用複合ペイン - Google Patents
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Description
- ケイ素窒化物に基づいており20nm~23nmの厚みを有する反射防止層、
- 亜鉛酸化物に基づいており8nm~12nmの厚みを有する第1適合層、
- 銀に基づいており8nm~11nmの厚みを有する電気伝導層、
- 随意の、NiCrに基づいており0.1nm~0.5nmの厚みを有する、ブロッキング層、
- 亜鉛酸化物に基づいており8nm~12nmの厚みを有する第2適合層、
- 28nm~32nmの厚みを有する反射防止層、この反射防止層は、好ましくは、ケイ素窒化物に基づいており14nm~17nmの厚みを有する誘電体層、及び、混合ケイ素/金属窒化物例えばケイ素-ジルコニウム窒化物又はケイ素-ハフニウム窒化物に基づいており14nm~17nmの厚みを有する光学的高屈折層に、さらに分割されている、
- 混合スズ-亜鉛酸化物に基づいており5nm~9nmの厚みを有する平滑層、
- 亜鉛酸化物に基づいており8nm~12nmの厚みを有する第1適合層、
- 銀に基づいており11nm~14nmの厚みを有する電気伝導層、
- 随意の、NiCrに基づいており0.1nm~0.5nmの厚みを有するブロッキング層、
- 亜鉛酸化物に基づいており8nm~12nmの厚みを有する第2適合層、
- 48nm~52nmの厚みを有する反射防止層、この反射防止層は、好ましくは、ケイ素窒化物に基づいており33nm~37nmの厚みを有する誘電体層、及び、混合ケイ素/金属窒化物例えばケイ素-ジルコニウム窒化物又はケイ素-ハフニウム窒化物に基づいており14nm~17nmの厚みを有する光学的高屈折層に、さらに分割されている、
- 混合スズ-亜鉛酸化物に基づいており、5nm~9nmの厚みを有する、平滑層、
- 亜鉛酸化物に基づいており8nm~12nmの厚みを有する第1適合層、
- 銀に基づいており8nm~11nmの厚みを有する電気伝導層、
- 随意の、NiCrに基づいており0.1nm~0.5nmの厚みを有するブロッキング層、
- 亜鉛酸化物に基づいており8nm~12nmの厚みを有する第2適合層、
- 18nm~22nmの厚みを有する反射防止層、この反射防止層は、好ましくは、ケイ素窒化物に基づいており4nm~7nmの厚みを有する誘電体層、及び、混合ケイ素/金属窒化物例えばケイ素-ジルコニウム窒化物又はケイ素-ハフニウム窒化物に基づいており14nm~17nmの厚みを有する光学的高屈折層に、さらに分割されている、
- 混合スズ-亜鉛酸化物に基づいており5nm~9nmの厚みを有する平滑層、
- 亜鉛酸化物に基づいており8nm~12nmの厚みを有する第1適合層、
- 銀に基づいており4nm~7nmの厚みを有する電気伝導層、
- 随意の、NiCrに基づいており0.1nm~0.5nmの厚みを有するブロッキング層、
- 亜鉛酸化物に基づいており8nm~12nmの厚みを有する第2適合層、
- 混合ケイ素/金属窒化物例えばケイ素-ジルコニウム窒化物又はケイ素-ハフニウム窒化物に基づいており11nm~15nmの厚みを有する反射防止層、
- ケイ素窒化物、スズ-亜鉛酸化物、ケイ素-ジルコニウム窒化物、又はチタン酸化物、好ましくはケイ素窒化物、に基づいており、15nm~25nm、好ましくは18nm~22nmの厚みを有する、層(高屈折層)、
- 二酸化ケイ素に基づいており、15nm~25nm、好ましくは18nm~22nmの厚みを有する、層(低屈折層)、
- ケイ素窒化物、スズ-亜鉛酸化物、ケイ素-ジルコニウム窒化物、又はチタン酸化物、好ましくはケイ素窒化物、に基づいており、90nm~110nm、好ましくは95nm~105nmの厚みを有する、層(高屈折層)、
- 二酸化ケイ素に基づいており、80nm~100nm、好ましくは85nm~95nmの厚みを有する、層(低屈折層)。
下記である、ヘッドアップディスプレイ用の複合ペイン(10):
上方端部(O)、下方端部(U)、及びHUD領域(B)を有しており、
少なくとも、熱可塑性中間層(3)によって互いに結合している外側ペイン(1)及び内側ペイン(2)、並びに、透明電気伝導性コーティング(20)を有しており、この透明電気伝導性コーティングが、前記内側ペイン(2)の、前記中間層(3)に面している表面(III)の上、又は、前記中間層(3)の中にあり、
- 前記中間層(3)が、少なくとも1つの熱可塑性材料の層(3a)によって形成されており、この少なくとも1つの熱可塑性材料の層(3a)が、前記電気伝導性コーティング(20)と前記外側ペイン(1)との間に配置されており、
- 前記熱可塑性材料の層(3a)の厚みが、前記下方端部(U)と前記上方端部(O)との間におけるその垂直経路にわたって、少なくとも前記HUD領域(B)において、くさび角度(α)を有して種々の値を有しており、かつ、
- 反射防止コーティング(30)が、前記内側ペイン(2)の、前記中間層(3)から離れて面している表面(IV)に、適用されている。
<態様2>
前記くさび角度(α)が、前記電気伝導性コーティング(20)における反射と、前記外側ペイン(1)の外部側表面(I)における反射とを重ね合わせることに適しており、又は、これらの間の距離を少なくとも低減するために適している、態様1に記載の複合ペイン(10)。
<態様3>
前記電気伝導性コーティング(20)が、少なくとも2つ、好ましくは少なくとも3つ、特に好ましくは少なくとも4つの、電気伝導層(21)を有しており、これらが、それぞれ、2つの誘電体層又は誘電体層配列の間に配置されている、態様1又は2に記載の複合ペイン(10)。
<態様4>
前記反射防止コーティング(30)が、交互に配置されている異なる屈折率を有する層から形成されている、態様1~3のいずれか一項に記載の複合ペイン(10)。
<態様5>
少なくとも下記を有する、ヘッドアップディスプレイ(HUD)のための投影設備:
- 態様1~4のいずれか一項に記載の複合ペイン(10)、及び、
- 前記HUD領域(B)に向けられている投影器(4)。
<態様6>
前記投影器(4)の光が、少なくとも1つのp偏光成分を有しており、
ここで、前記複合ペイン(10)が、400nm~650nmのスペクトル範囲において、p偏光に関して、単一の局所的な反射極大のみを有しており、この局所的な反射極大が、510nm~550nmの範囲にある、
態様5に記載の投影設備。
<態様7>
400nm~650nmのスペクトル範囲において、p偏光に関して、局所的な反射極大の反射率と、極小で起こる反射率との間の差異が、最大で10%、好ましくは最大で8%である、態様6に記載の投影設備。
<態様8>
450nm~600nmのスペクトル範囲におけるs偏光に関する反射率が、実質的に一定であり、それにより、極大で起こる反射率と平均との間の差異、並びに、極小で起こる反射率と平均との間の差異が、最大で5%、好ましくは最大で3%、特に好ましくは最大で1%となっている、態様6又は7に記載の投影設備。
<態様9>
前記投影器(4)の合計の光におけるp偏光の割合が、20%~80%、特に好ましくは50%~80%である、態様5~8のいずれか一項に記載の投影設備。
<態様10>
前記電気伝導性コーティング(20)が、少なくとも4つの電気伝導層(21)を有しており、これらが、それぞれ、2つの誘電体層又は誘電体層配列の間に配置されている、態様5~9のいずれか一項に記載の投影設備。
<態様11>
前記電気伝導層(21)が、銀に基づいており、かつ、それぞれ、5nm~15nmの層厚を有しており、すべての前記電気伝導層(21)の合計の層厚が、20nm~50nmである、態様10に記載の投影設備。
<態様12>
それぞれの誘電体層配列が、反射防止層(22)を有しており、下記である、態様10又は11に記載の投影設備:
- 第1電気伝導層(21.1)の下方の反射防止層(22.1)が、15nm~25nmの厚みを有し、
- 第1と第2電気伝導層(21.1、21.2)の間の反射防止層(22.2)が、25nm~35nmの厚みを有し、
- 第2と第3電気伝導層(21.2、21.3)の間の反射防止層(22.3)が、45nm~55nmの厚みを有し、
- 第3と第4電気伝導層(21.3、21.4)の間の反射防止層(22.4)が、15nm~25nmの厚みを有し、かつ、
- 第4電気伝導層(21.4)の上方の反射防止層(22.5)が、8nm~18nmの厚みを有する。
<態様13>
2つの電気伝導層(21)の間に配置されているすべての前記反射防止層(22.2、22.3、22.4)が、好ましくはケイ素窒化物に基づいている、2.1未満の屈折率を有する誘電体層(22a)、及び、好ましくは混合ケイ素/金属窒化物、例えばケイ素-ジルコニウム窒化物又はケイ素-ハフニウム窒化物に基づいている、2.1以上の屈折率を有する光学的高屈折層(22b)に、分割されている、態様10~12のいずれか一項に記載の投影設備。
<態様14>
前記反射防止コーティング(30)が、前記内側ペイン(2)から出発して、下記の層を有する、態様5~13のいずれか一項に記載の投影設備:
- ケイ素窒化物に基づいており、15nm~25nm、好ましくは18nm~22nmの厚みを有する、高屈折層(31.1)、
- 二酸化ケイ素に基づいており、15nm~25nm、好ましくは18nm~22nmの厚みを有する、低屈折層(32.1)、
- ケイ素窒化物に基づいており、90nm~110nm、好ましくは95nm~105nmの厚みを有する、高屈折層(31.2)、
- 二酸化ケイ素に基づいており、80nm~100nm、好ましくは85nm~95nmの厚みを有する、低屈折層(32.2)。
<態様15>
態様1~4のいずれか一項に記載の複合ペインの、自動車、好ましくは乗用車における、ヘッドアップディスプレイの投影表面として機能するウィンドシールドとしての、使用。
(1) 外側ペイン
(2) 内側ペイン
(3) 熱可塑性中間層
(3a) 中間層の熱可塑性材料の層
(4) 投影器
(5) 観察者/乗り物運転者
(20) 電気伝導性コーティング
(21) 電気伝導層
(21.1)、(21.2)、(21.3)、(21.4) 1.、2.、3.、4.電気伝導層
(22) 反射防止層
(22.1)、(22.2)、(22.3)、(22.4)、(22.5) 1.、2.、3.、4.、5.反射防止層
(22a)反射防止層4の誘電体層
(22a.2)、(22a.3)、(22a.4) 1.、2.、3.誘電体層
(22b)反射防止層4の光学的高屈折層
(22b.2)、(22b.3)、(22b.4) 1.、2.、3.光学的高屈折層
(23) 平滑層
(23.2)、(23.3)、(23.4) 1.、2.、3.平滑層
(24) 第1適合層
(24.1)、(24.2)、(24.3)、(24.4) 1.、2.、3.、4.第1適合層
(25) 第2適合層
(25.2)、(25.3)、(25.4)、(25.5) 1.、2.、3.、4.第2適合層
(26) ブロッキング層
(26.1)、(26.2)、(26.3)、(26.4) 1.、2.、3.、4.ブロッキング層
(30) 反射防止コーティング
(31) 反射防止コーティング30の高屈折層
(31.1)、(31.2) 1.、2.高屈折層
(32) 反射防止層30の低屈折層
(32.1)、(32.2) 低屈折層
(O) 複合ペイン10の上方端部
(U) 複合ペイン10の下方端部
(B) 複合ペイン10のHUD領域
(E) アイボックス
(I) 中間層3から離れて面している、外側ペイン1の外部側表面
(II) 中間層3に面している、外側ペイン1の内部側表面
(III) 中間層3に面している、内側ペイン2の外部側表面
(IV) 中間層3から離れて面している、内側ペイン2の内部側表面
α くさび角度
Claims (15)
- 下記である、ヘッドアップディスプレイ用の複合ペイン(10):
上方端部(O)、下方端部(U)、及びHUD領域(B)を有しており、
少なくとも、熱可塑性中間層(3)によって互いに結合している外側ペイン(1)及び内側ペイン(2)、並びに、透明電気伝導性コーティング(20)を有しており、この透明電気伝導性コーティングが、前記内側ペイン(2)の、前記中間層(3)に面している表面(III)の上、又は、前記中間層(3)の中にあり、
- 前記中間層(3)が、少なくとも1つの熱可塑性材料の層(3a)によって形成されており、この少なくとも1つの熱可塑性材料の層(3a)が、前記電気伝導性コーティング(20)と前記外側ペイン(1)との間に配置されており、
- 前記熱可塑性材料の層(3a)の厚みが、前記下方端部(U)と前記上方端部(O)との間におけるその垂直経路にわたって、少なくとも前記HUD領域(B)において、くさび角度(α)を有して種々の値を有しており、かつ、
- 反射防止コーティング(30)が、前記内側ペイン(2)の、前記中間層(3)から離れて面している表面(IV)に、適用されている。 - 前記電気伝導性コーティング(20)が、少なくとも2つ、好ましくは少なくとも3つ、特に好ましくは少なくとも4つの、電気伝導層(21)を有しており、これらが、それぞれ、2つの誘電体層又は誘電体層配列の間に配置されている、請求項1に記載の複合ペイン(10)。
- 前記反射防止コーティング(30)が、交互に配置されている異なる屈折率を有する層から形成されている、請求項1又は2に記載の複合ペイン(10)。
- 少なくとも下記を有する、ヘッドアップディスプレイ(HUD)のための投影設備:
- 請求項1~3のいずれか一項に記載の複合ペイン(10)、及び、
- 前記HUD領域(B)に向けられている投影器(4)。 - 前記くさび角度(α)が、前記電気伝導性コーティング(20)における反射と、前記外側ペイン(1)の外部側表面(I)における反射とを重ね合わせることに適しており、又は、これらの間の距離を少なくとも低減するために適している、請求項4に記載の投影設備。
- 前記投影器(4)の光が、少なくとも1つのp偏光成分を有しており、
ここで、前記複合ペイン(10)が、400nm~650nmのスペクトル範囲において、p偏光に関して、単一の局所的な反射極大のみを有しており、この局所的な反射極大が、510nm~550nmの範囲にある、
請求項4又は5に記載の投影設備。 - 400nm~650nmのスペクトル範囲において、p偏光に関して、局所的な反射極大の反射率と、極小で起こる反射率との間の差異が、最大で10%、好ましくは最大で8%である、請求項6に記載の投影設備。
- 450nm~600nmのスペクトル範囲におけるs偏光に関する反射率が、実質的に一定であり、それにより、極大で起こる反射率と平均との間の差異、並びに、極小で起こる反射率と平均との間の差異が、最大で5%、好ましくは最大で3%、特に好ましくは最大で1%となっている、請求項6又は7に記載の投影設備。
- 前記投影器(4)の合計の光におけるp偏光の割合が、20%~80%、特に好ましくは50%~80%である、請求項4~8のいずれか一項に記載の投影設備。
- 前記電気伝導性コーティング(20)が、少なくとも4つの電気伝導層(21)を有しており、これらが、それぞれ、2つの誘電体層又は誘電体層配列の間に配置されている、請求項4~9のいずれか一項に記載の投影設備。
- 前記電気伝導層(21)が、銀に基づいており、かつ、それぞれ、5nm~15nmの層厚を有しており、すべての前記電気伝導層(21)の合計の層厚が、20nm~50nmである、請求項10に記載の投影設備。
- それぞれの誘電体層配列が、反射防止層(22)を有しており、下記である、請求項10又は11に記載の投影設備:
- 第1電気伝導層(21.1)の下方の反射防止層(22.1)が、15nm~25nmの厚みを有し、
- 第1と第2電気伝導層(21.1、21.2)の間の反射防止層(22.2)が、25nm~35nmの厚みを有し、
- 第2と第3電気伝導層(21.2、21.3)の間の反射防止層(22.3)が、45nm~55nmの厚みを有し、
- 第3と第4電気伝導層(21.3、21.4)の間の反射防止層(22.4)が、15nm~25nmの厚みを有し、かつ、
- 第4電気伝導層(21.4)の上方の反射防止層(22.5)が、8nm~18nmの厚みを有する。 - 2つの電気伝導層(21)の間に配置されているすべての前記反射防止層(22.2、22.3、22.4)が、好ましくはケイ素窒化物に基づいている、2.1未満の屈折率を有する誘電体層(22a)、及び、好ましくは混合ケイ素/金属窒化物、例えばケイ素-ジルコニウム窒化物又はケイ素-ハフニウム窒化物に基づいている、2.1以上の屈折率を有する光学的高屈折層(22b)に、分割されている、請求項12に記載の投影設備。
- 前記反射防止コーティング(30)が、前記内側ペイン(2)から出発して、下記の層を有する、請求項4~13のいずれか一項に記載の投影設備:
- ケイ素窒化物に基づいており、15nm~25nm、好ましくは18nm~22nmの厚みを有する、高屈折層(31.1)、
- 二酸化ケイ素に基づいており、15nm~25nm、好ましくは18nm~22nmの厚みを有する、低屈折層(32.1)、
- ケイ素窒化物に基づいており、90nm~110nm、好ましくは95nm~105nmの厚みを有する、高屈折層(31.2)、
- 二酸化ケイ素に基づいており、80nm~100nm、好ましくは85nm~95nmの厚みを有する、低屈折層(32.2)。 - 請求項1~3のいずれか一項に記載の複合ペインの、自動車、好ましくは乗用車における、ヘッドアップディスプレイの投影表面として機能するウィンドシールドとしての、使用。
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