JP7034976B2 - ワーク保持部及びワーク保持部回転ユニット - Google Patents

Description

本発明は、ワーク保持部及びワーク保持部回転ユニットの技術に関する。

従来のワーク保持部及びワーク保持部回転ユニットの技術は、例えば、特許文献１に記載の如くである。

特許文献１には、コーティングシステムにおけるワークピースの装填装置が開示されている。この装填装置においては、挿入スリーブに形成されたボアホールにワークピースを収容し、保持することができる。ワークピースを収容した複数の挿入スリーブは、スタンドに形成された複数の開口部に挿入された状態で保持される。このようにして保持されたワークピースに対して、コーティングが施される。

しかしながら、特許文献１に記載の技術では、挿入スリーブにはワークピースの長さに応じた深さのボアホールが形成されている。このため、種類の異なる（長さの異なる）ワークピースを保持するためには、そのワークピースの長さに応じた挿入スリーブを準備する必要がある点で、改善の余地があった。

特表２０１８－５１１７０２号公報

本発明は以上の如き状況に鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、複数種類のワークに対応することができるワーク保持部及びワーク保持部回転ユニットを提供することである。

本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、この課題を解決するため、本発明に係るワーク保持部は、第一の部分と、前記第一の部分よりも外径が小さい第二の部分と、を具備する棒状のワークを保持するワーク保持部であって、前記第一の部分を挿入可能な第一の孔部、及び前記第一の孔部と連続するように形成され、前記第一の部分を挿入不能かつ前記第二の部分を挿入可能な第二の孔部を具備する貫通孔が形成されたアダプタと、前記アダプタが挿入された状態で前記アダプタを保持可能な本体部と、を具備するものである。

また、本発明に係るワーク保持部回転ユニットは、前記ワーク保持部を具備し、前記ワーク保持部を回転させることが可能なものである。

本発明によれば、複数種類のワークに対応することができる。

スパッタリング装置の概略構成を示したＡ－Ａ断面模式図。 同じく、平面断面模式図。 成膜室の内部構造を示した正面断面図。 成膜室の内部構造を示した正面断面拡大図。 ワーク保持部の周辺を示した正面断面図。 回転ホイールの構成を示した平面図。 ワーク保持部を分解した様子を示した正面断面図。 （ａ）回転支持部を示した正面図。（ｂ）Ｂ矢視図。（ｃ）Ｃ－Ｃ断面図。 （ａ）ワークがアダプタに挿入される様子を示した正面断面図。（ｂ）ワークがアダプタに挿入された状態を示した正面断面図。 種類の異なるワークを示した正面断面図。 固定円盤及び規制部の構成を示した平面図。 成膜品の製造方法の各工程を示した図。 （ａ）ワークが傾斜していない状態で成膜処理が施される様子を示した模式図。（ｂ）ワークが傾斜している状態で成膜処理が施される様子を示した模式図。 本願工具の寿命に関する評価の一例を示した図。 本願工具の欠けの発生に関する評価の一例を示した図。

以下では、図中の矢印Ｕ、矢印Ｄ、矢印Ｌ、矢印Ｒ、矢印Ｆ及び矢印Ｂで示した方向を、それぞれ上方向、下方向、左方向、右方向、前方向及び後方向と定義して説明を行う。

以下では、図１及び図２を用いて、本実施形態に係るスパッタリング装置１の概略について説明する。

スパッタリング装置１は、真空中で成膜処理を行う真空処理装置（真空成膜装置）である。本実施形態に係るスパッタリング装置１は、成膜対象となるワーク（処理品）Ｗとして、加工用の工具を想定している。スパッタリング装置１は、主として成膜室２、ワーク保持部回転ユニット３、モータ４、排気装置５、ターゲット（スパッタリングターゲット）６及びヒータ７を具備する。

成膜室２は、ワークＷに成膜処理を施すための空間を形成するものである。成膜室２は、軸線を上下方向に向けた略円柱状に形成される（図２参照）。成膜室２は、中空状に形成される。

ワーク保持部回転ユニット３は、後述するワーク保持部６０を回転させるものである。ワーク保持部回転ユニット３は、成膜室２内に配置される。

モータ４（図１参照）は、ワーク保持部回転ユニット３を回転駆動させるための駆動源である。モータ４は、成膜室２の外部に配置される。モータ４の動力は、適宜の動力伝達機構（例えば軸等）を介してワーク保持部回転ユニット３に伝達される。

排気装置５（図１参照）は、成膜室２内の空気を排出することで、成膜室２内を成膜処理に適した真空度となるように調節するものである。

ターゲット６は、ワークＷに成膜される材料（成膜材料）である。ターゲット６は、平板状に形成される。ターゲット６は、成膜室２内に配置される。ターゲット６は、ワーク保持部回転ユニット３を挟んで一対設けられる。ターゲット６は、板面が垂直方向に沿うように配置される。またターゲット６は、板面が成膜室２の中央（すなわち、ワーク保持部回転ユニット３）を向くように配置される。

ヒータ７は、ワークＷを加熱して、成膜品質（均一性等）を向上させるためのものである。ヒータ７は、成膜室２内に配置される。ヒータ７は、ワーク保持部回転ユニット３を挟んで一対設けられる。ターゲット６及びヒータ７は、ワーク保持部回転ユニット３の周囲に等間隔に配置される。

次に、ワーク保持部回転ユニット３についてより具体的に説明する。

図３及び図４に示すワーク保持部回転ユニット３は、主として回転軸２０、上部回転体３０、回転ホイール４０、取付部材５０、ワーク保持部６０、固定円盤７０、規制部８０及びカバー９０を具備する。

回転軸２０は、後述する回転ホイール４０の回転中心となるものである。回転軸２０は、略円柱状に形成される。回転軸２０は、軸線を鉛直方向（上下方向）に向けて配置される。回転軸２０には、回転軸２０の側面を覆うように、円筒状に形成された外筒部材２１が一体的に回転可能となるように嵌め合わされる。外筒部材２１の上端部には、キー溝２１ａが形成される。

上部回転体３０は、回転軸２０と一体的に回転可能なものである。上部回転体３０は、平面視円形状に形成される。上部回転体３０の底面の中心には、回転軸２０の上端部が固定される。上部回転体３０の底面の中心近傍には、キー部材３１が固定される。このキー部材３１が外筒部材２１のキー溝２１ａに係合されることで、上部回転体３０と回転軸２０との相対回転が規制される。すなわち、上部回転体３０は、回転軸２０と一体的に回転することができる。上部回転体３０の上部は、成膜室２の上面に回転可能に支持される。上部回転体３０には、モータ４（図１参照）の動力が伝達可能とされる。上部回転体３０は、モータ４からの動力によって、回転軸２０と共に回転することができる。

図３から図６までに示す回転ホイール４０は、後述するワーク保持部６０を回転軸２０を中心として回転（公転）させるものである。回転ホイール４０は、主としてボス部４１、リブ４２及び外周部４３を具備する。

ボス部４１は、回転ホイール４０の中心に形成される部分である。ボス部４１は、軸線を鉛直方向（上下方向）に向けた略円筒状に形成される。ボス部４１の中心には、ボス部４１を上下に貫通する貫通孔４１ａが形成される。

リブ４２は、ボス部４１から、回転ホイール４０の径方向においてボス部４１の外側に向けて延びるように形成される棒状の部分である。リブ４２は、ボス部４１の周囲に等間隔に複数（本実施形態では５つ）形成される（図６参照）。

外周部４３は、後述するワーク保持部６０を支持する部分である。外周部４３は、平面視において、ボス部４１を中心とする円環状に形成される。外周部４３の内周面は、回転ホイール４０の径方向においてリブ４２の外側の端部に固定される。このようにして、外周部４３は、リブ４２を介してボス部４１と接続される。なお、本実施形態においては、ボス部４１、リブ４２及び外周部４３は一体的に形成されている。外周部４３には、主として傾斜面４３ａ及び貫通孔４３ｂが形成される。

図５及び図６に示す傾斜面４３ａは、外周部４３の上面に形成される。傾斜面４３ａは、上下方向（回転軸２０の軸線方向）に対して傾斜する方向を向くように形成される。具体的には、傾斜面４３ａは、回転ホイール４０の径方向外側に向かうにつれて下方に傾斜するように形成される。

貫通孔４３ｂは、外周部４３を上下に貫通するように形成される。貫通孔４３ｂの上端は、傾斜面４３ａに開口するように形成される。貫通孔４３ｂは、傾斜面４３ａに対して垂直に延びるように形成される。すなわち、貫通孔４３ｂは、鉛直方向（上下方向）に対して傾斜する方向に延びるように形成される。より具体的には、貫通孔４３ｂは、上方に向かうにつれて回転ホイール４０の径方向外側に延びるように形成される。貫通孔４３ｂの下端（下側の開口部）は、板状の閉塞部材４３ｃによって閉塞される。

図６に示すように、傾斜面４３ａ及び貫通孔４３ｂは、外周部４３の周方向に沿って等間隔に複数形成される。

図４に示すように、回転ホイール４０は、回転軸２０（外筒部材２１）に設けられる。具体的には、回転ホイール４０のボス部４１（貫通孔４１ａ）が、回転軸２０に挿入される。この際、回転ホイール４０と回転軸２０は一体的に回転可能となるように係合される。また回転軸２０には、回転ホイール４０が上下に等間隔に複数並ぶように設けられる。図１、図３及び図４では、一例として２つの回転ホイール４０を図示している。

図４及び図５に示す取付部材５０は、後述するワーク保持部６０を回転ホイール４０に取り付けるためのものである。取付部材５０は、主として本体部５１及びフランジ部５２を具備する。

本体部５１は、円筒状に形成された部分である。本体部５１には、上側の端面と下側の端面とを貫通する貫通孔５１ａが形成される。貫通孔５１ａは、本体部５１の中心（軸線上）に形成される。本体部５１の外径は、回転ホイール４０の貫通孔４３ｂの内径と略同一となるように形成される。

フランジ部５２は、本体部５１の上端部近傍から拡径するように形成された円盤状の部分である。

本体部５１は、回転ホイール４０の貫通孔４３ｂに上方から挿入される。フランジ部５２は、回転ホイール４０の傾斜面４３ａに適宜の締結部材（ボルト等）によって固定される。このようにして、取付部材５０は、回転ホイール４０の各貫通孔４３ｂに設けられる。取付部材５０（本体部５１）の軸線は、貫通孔４３ｂと同じ角度で傾斜するように配置される。

図５及び図７に示すワーク保持部６０は、ワークＷを回転（自転）可能に保持するものである。

ここで、図７を用いて、ワーク保持部６０が保持するワークＷについて具体的に説明する。前述の如く、本実施形態においては、ワークＷとしてエンドミル等の加工用の工具を想定している。ワークＷは、一方向に延びる棒状に形成される。ワークＷは、主としてシャンク部Ｗ１、刃部Ｗ２及びテーパ部Ｗ３を具備する。

シャンク部Ｗ１は、工具の柄となる部分である。シャンク部Ｗ１は、略円柱状に形成される。シャンク部Ｗ１は、長手方向に亘って直径が一定となるように形成される。

刃部Ｗ２は、工具の刃が形成される部分である。刃部Ｗ２は、らせん状又は直線状に形成されて、全体的な外観が略円柱状である。また、全体的な外観については、略円柱形状の先端に略円錐が追加されたような形状としてもよい。刃部Ｗ２は、長手方向の少なくとも一部の直径が一定となるように形成される。刃部Ｗ２の直径は、シャンク部Ｗ１よりも小さくなるように形成される。刃部Ｗ２の先端（シャンク部Ｗ１と反対側の端部）から中途部に亘る所定の範囲には、適宜に刃が形成される。

テーパ部Ｗ３は、シャンク部Ｗ１と刃部Ｗ２とを接続する部分である。テーパ部Ｗ３は、シャンク部Ｗ１から刃部Ｗ２に向かって徐々に外径が小さくなるするテーパ状に形成される。

このようにワークＷは、シャンク部Ｗ１と比べて外径が小さい刃部Ｗ２に刃が形成されている。またシャンク部Ｗ１は工具の柄となる部分であり、工具を使用する際に保持される部分となる。このため、スパッタリング装置１を用いて成膜処理を行う場合、ワークＷの刃部Ｗ２にのみ成膜を行い、シャンク部Ｗ１に対しては成膜を行わない（成膜材料が付着しない）ようにすることが望ましい。

そこで本実施形態のワーク保持部６０は、ワークＷのシャンク部Ｗ１に成膜材料が付着しないように、シャンク部Ｗ１を囲うように構成されている。以下、図５、図７及び図８を用いてワーク保持部６０について具体的に説明する。ワーク保持部６０は、主として回転支持部６１、被回転駆動部６２及びアダプタ６３を具備する。

図７及び図８に示す回転支持部６１は、ワークＷを保持するものである。回転支持部６１は、主として保持部６１ａ、支持部６１ｂ及び貫通孔６１ｃを具備する。

保持部６１ａは、アダプタ６３を介してワークＷを保持する部分である。保持部６１ａは、略円柱状に形成される。保持部６１ａは、主として収容部６１ｄ及び平坦部６１ｅを具備する。なお、保持部６１ａは、例えば、多角形や多角形の角部を丸くした形状でもよい。

収容部６１ｄは、アダプタ６３を介してワークＷを収容可能な凹部である。収容部６１ｄは、断面視（回転支持部６１の軸線方向から見て）で円形状となるように形成される。収容部６１ｄは、保持部６１ａの上側の端面から保持部６１ａの下端部近傍まで延びるように形成される。収容部６１ｄは、保持部６１ａ（回転支持部６１）の中心（軸線上）に形成される。なお、収容部６１ｄは、アダプタ６３を介してワークＷを収容可能な形状であれば、例えば、多角形や多角形の角部を丸くした形状でもよい。

平坦部６１ｅは、保持部６１ａの外側面に形成される平坦な部分（平面）である。平坦部６１ｅは、保持部６１ａの外側面（曲面）の一部を切り欠くようにして形成される。平坦部６１ｅは、保持部６１ａの長手方向の中央部より上方であって、被回転駆動部６２の固定時に小径部６２ｂの後述するねじ孔６２ｄに対応する位置に形成される。なお、平坦部６１ｅは、保持部６１ａの長手方向の中央部に設けてもよいし、中央部より下方に設けてもよい。

支持部６１ｂは、取付部材５０を介して回転ホイール４０に支持される部分である。支持部６１ｂは、略円柱状に形成される。支持部６１ｂの外径は、取付部材５０の内径よりも小さくなるように形成される。支持部６１ｂは、保持部６１ａの底面から下方に向かって突出するように形成される。支持部６１ｂ及び保持部６１ａは、同一軸線上に形成される。

図５に示すように、支持部６１ｂは、取付部材５０の貫通孔５１ａに上方から挿入される。支持部６１ｂは、適宜の軸受部材６４を介して、取付部材５０（本体部５１）に回転可能に支持される。支持部６１ｂを本体部５１に挿入することで、保持部６１ａが回転ホイール４０から上方に向かって突出するように配置される。回転支持部６１の軸線は、取付部材５０（本体部５１）の軸線と同じ角度で傾斜するように配置される。換言すると、回転支持部６１は、図１に示すように、側方に配置されたターゲット６の板面に対して傾斜するように配置される。回転支持部６１は、回転軸２０の軸線（上下方向）に対して傾斜した軸線を中心として回転（自転）することができる。

このようにして回転支持部６１（ひいては、ワーク保持部６０）は、取付部材５０を介して、回転ホイール４０の外周部４３に設けられる。またワーク保持部６０は、外周部４３に沿って（すなわち、回転軸２０を中心とする円周上に）並ぶように複数設けられる。

なお、軸受部材６４としては、任意の部材を用いることができる。例えば、ボールベアリングやすべり軸受等、任意の部材を適宜選択することができる。また、１つの支持部６１ｂに対して、軸受部材６４を複数設けることも可能である。

また、支持部６１ｂの軸線の傾斜角度（後述する傾斜角度α（図５参照））は、任意に設定することができる。例えば、支持部６１ｂが、回転軸２０やターゲット６に対して（鉛直方向を基準として）、２０～８０°傾斜するように設定することができる。

図７及び図８に示す貫通孔６１ｃは、収容部６１ｄと外部とを連通するものである。貫通孔６１ｃは、収容部６１ｄの底部と、支持部６１ｂの下側の端面と、を連通するように形成される。貫通孔６１ｃは、保持部６１ａ（回転支持部６１）の中心（軸線上）に形成される。貫通孔６１ｃは、支持部６１ｂの下側の端面を開口するように形成されているが、支持部６１ｂの側面を開口するように形成されてもよい。なお、アダプタ６３の側面に溝を設けるなど空気抜き用の面取り加工がされているなど、ワークＷとアダプタ６３との回転支持部６１への挿入時に、収容部６１ｄから外部に空気が抜けるような構造とされていれば、貫通孔６１ｃは設けなくてもよい。

図５及び図７に示す被回転駆動部６２は、ワーク保持部６０を回転させるためのものである。被回転駆動部６２は、主として接触部６２ａ、接触部６２ａよりも外径が小さい小径部６２ｂ、貫通孔６２ｃ及びねじ孔６２ｄを具備する。

接触部６２ａは、後述する固定円盤７０と接触する部分である。接触部６２ａは、回転支持部６１の軸線方向から見て略円形状に形成される。

小径部６２ｂは、接触部６２ａの上端から突出するように形成される部分である。小径部６２ｂは、略円柱状に形成される。小径部６２ｂは、接触部６２ａと同一軸線上に形成される。小径部６２ｂの外径は、接触部６２ａの外径よりも小さくなるように形成される。

貫通孔６２ｃは、被回転駆動部６２を貫通するものである。貫通孔６２ｃは、被回転駆動部６２の上側の端面（小径部６２ｂの上端面）と、被回転駆動部６２の下側の端面（接触部６２ａの下端面）と、を貫通するように形成される。貫通孔６２ｃは、被回転駆動部６２の中心（軸線上）に形成される。貫通孔６２ｃの内径は、回転支持部６１の保持部６１ａの外径と略同一となるように形成される。

ねじ孔６２ｄは、被回転駆動部６２の外側面と内側面を貫通するように形成される。具体的には、ねじ孔６２ｄは、小径部６２ｂの外側面と、貫通孔６２ｃと、を径方向に貫通するように形成される。ねじ孔６２ｄの内側面には、締結部材６２ｅ（ボルト等）が締結可能となるように、適宜にねじ部が形成される。

被回転駆動部６２の貫通孔６２ｃは、回転ホイール４０の上方において、回転支持部６１の保持部６１ａに嵌め合わされる。この際、被回転駆動部６２のねじ孔６２ｄと、回転支持部６１の平坦部６１ｅが対向するように、被回転駆動部６２及び回転支持部６１の位置が調節される。この状態で、被回転駆動部６２のねじ孔６２ｄに締結部材６２ｅが締結される。締結部材６２ｅの先端部（被回転駆動部６２の径方向内側の端部）は、回転支持部６１の平坦部６１ｅに接触する。これによって被回転駆動部６２と回転支持部６１との相対的な回転が規制され、被回転駆動部６２及び回転支持部６１が一体的に回転可能となる。なお、被回転駆動部６２及び回転支持部６１を一体としてもよい。

アダプタ６３は、ワークＷの一部（主にシャンク部Ｗ１）を覆うものである。アダプタ６３は、略円柱状に形成される。アダプタ６３の外径は、回転支持部６１の収容部６１ｄの内径と略同一となるように形成される。アダプタ６３は、主として貫通孔６３ａ及びテーパ部６３ｂを具備する。

貫通孔６３ａは、アダプタ６３を長手方向に貫通するものである。貫通孔６３ａは、アダプタ６３の長手方向一端面と他端面とを貫通するように形成される。貫通孔６３ａは、アダプタ６３の中心（軸線上）に形成される。貫通孔６３ａは、主として第一の孔部６３ｃ及び第二の孔部６３ｄを具備する。

第一の孔部６３ｃは、貫通孔６３ａのうち、長手方向における一側（図７における下端側）の部分を形成するものである。第一の孔部６３ｃは、長手方向断面視で円形状に形成される。第一の孔部６３ｃは、長手方向に亘って内径が一定となるように形成される。第一の孔部６３ｃの内径は、ワークＷのシャンク部Ｗ１の外径と略同一となるように形成される。すなわち、第一の孔部６３ｃの軸線方向視における断面形状は、シャンク部Ｗ１の軸線方向視における断面形状と略一致する。ここで、軸線方向視における断面形状とは、軸線に直交する切断面で切断した場合の断面形状である。これによって、第一の孔部６３ｃは、シャンク部Ｗ１が挿入可能に形成されている。第一の孔部６３ｃは、アダプタ６３の下端から上端近傍に亘って形成される。

第二の孔部６３ｄは、貫通孔６３ａのうち、長手方向における他側（図７における上端側）の部分を形成するものである。第二の孔部６３ｄは、第一の孔部６３ｃと連通（連続）するように形成される。第二の孔部６３ｄは、長手方向断面視で円形状に形成される。第二の孔部６３ｄの内径は、第一の孔部６３ｃの内径よりも小さくなるように形成される。より具体的には、第二の孔部６３ｄは、下側（第一の孔部６３ｃ側）の端部から、上側（第一の孔部６３ｃから離間する側）の端部に向かって、徐々に内径が小さくなるようなテーパ状に形成される。第二の孔部６３ｄの内径（特に、上端の内径）は、ワークＷのシャンク部Ｗ１の外径よりも小さく、かつ刃部Ｗ２の外径と略同一に（又は、刃部Ｗ２の外径よりも大きく）なるように形成される。すなわち、第二の孔部６３ｄは、シャンク部Ｗ１が挿入不能かつ刃部Ｗ２が挿入可能に形成されている。

テーパ部６３ｂは、アダプタ６３の外側面に形成される。テーパ部６３ｂは、アダプタ６３の下端部に形成される。テーパ部６３ｂは、アダプタ６３の下側の端部に向かって、徐々に外径が小さくなるように形成される。

ここで、上述の如く構成されたワーク保持部６０を用いてワークＷを保持する手順について説明する。

まず、図９（ａ）に示すように、ワークＷがアダプタ６３の貫通孔６３ａに挿入される。この際ワークＷは、外径の小さい刃部Ｗ２側から、貫通孔６３ａの第一の孔部６３ｃに挿入される。

ワークＷが貫通孔６３ａにある程度挿入されると、図９（ｂ）に示すように、シャンク部Ｗ１と刃部Ｗ２の段差部分（すなわち、テーパ部Ｗ３）が、テーパ状に形成された貫通孔６３ａの第二の孔部６３ｄと接触する。これによって、ワークＷの移動が規制される。この状態では、ワークＷのシャンク部Ｗ１がアダプタ６３によって上方から覆われることになる。また、ワークＷの刃部Ｗ２は、アダプタ６３から突出することになる。

次に、図９（ｂ）に示すようにワークＷが挿入されたアダプタ６３が、回転支持部６１の収容部６１ｄに挿入される（図５参照）。この際アダプタ６３は、下端部（テーパ部６３ｂが設けられた端部）から、収容部６１ｄに挿入される。テーパ部６３ｂによってアダプタ６３を収容部６１ｄ内へと案内することができるため、アダプタ６３を収容部６１ｄに容易に挿入することができる。また、収容部６１ｄと連通するように形成された貫通孔６１ｃによって、収容部６１ｄ内の空気が排出されるため、アダプタ６３を収容部６１ｄに速やかに挿入することができる。

アダプタ６３及びワークＷは、図５に示すように、アダプタ６３又はワークＷの下端が収容部６１ｄの底面と接触する位置まで、収容部６１ｄに挿入される。このようにして、ワークＷは、アダプタ６３を介して回転支持部６１に保持される。また、ワークＷのシャンク部Ｗ１は、アダプタ６３及び回転支持部６１によって覆われる。このように、ワークＷのシャンク部Ｗ１を覆うことで、成膜材料がシャンク部Ｗ１に付着するのを防止することができる。

また、本実施形態の如く、アダプタ６３を介して回転支持部６１にワークＷを保持する構成とすることで、種類の異なるワークＷであっても、ワーク保持部６０に保持することができる。

例えば図１０（ａ）～（ｃ）に示すように、ワークＷとしては、シャンク部Ｗ１及び刃部Ｗ２の長さが異なる複数種類の工具が想定される。しかしながら、このようにシャンク部Ｗ１及び刃部Ｗ２の長さが異なるワークＷであっても、アダプタ６３の貫通孔６３ａに挿入し、ワークＷの段差部がアダプタ６３の第二の孔部６３ｄと接触した状態で、そのアダプタ６３ごと回転支持部６１の収容部６１ｄに挿入することができる。すなわち、シャンク部Ｗ１及び刃部Ｗ２の長さが異なる複数種類のワークＷを、同じワーク保持部６０で保持することができる。

なお、収容部６１ｄに挿入されたアダプタ６３に対してワークＷの位置がずれる（抜け落ちる方向に移動する）のを防止する観点から、アダプタ６３の形状（長さ）を適宜設定することが望ましい。具体的には、ワークＷがアダプタ６３の貫通孔６３ａに挿入された状態（ワークＷが貫通孔６３ａの第二の孔部６３ｄと接触された状態）において、ワークＷの下端（シャンク部Ｗ１の下端）がアダプタ６３の下端と同一位置（面一）となる（例えば、図１０（ｃ）に示す状態）か、ワークＷの下端がアダプタ６３の下端から突出する（例えば、図１０（ａ）に示す状態）ように、アダプタ６３の形状（長さ）を設定することが望ましい。このように構成することで、収容部６１ｄに挿入されたワークＷの下端が、収容部６１ｄの底面と接触するため、ワークＷがアダプタ６３に対して下方（抜け落ちる方向）にずれるのを防止することができる。

図３から図５、及び図１１に示す固定円盤７０は、ワーク保持部６０を回転させるためのものである。固定円盤７０は、平面視円形の板状（円盤状）に形成される。固定円盤７０の中心には、貫通孔７０ａが形成される。

図４に示すように、固定円盤７０は、固定部材７１及び軸受部材７２を介して、回転軸２０に設けられる。具体的には、固定円盤７０の内側（貫通孔７０ａ）には、固定部材７１を介して軸受部材７２の外輪が固定される。この軸受部材７２の内輪が、回転軸２０に挿入されて、回転軸２０に固定される。このように、固定円盤７０は軸受部材７２を介して回転軸２０に相対回転可能に設けられる。固定円盤７０は、回転ホイール４０の上方に、回転ホイール４０と適宜の間隔を空けて設けられる。すなわち固定円盤７０は、各回転ホイール４０に対応するように、回転ホイール４０と同数設けられる。固定円盤７０の外周端部は、対応する回転ホイール４０に設けられたワーク保持部６０の被回転駆動部６２（接触部６２ａ）と接触するように配置される。

なお、軸受部材７２としては、任意の部材を用いることができる。例えば、ボールベアリング、ローラーベアリング、すべり軸受等、任意の部材を適宜選択することができる。

固定円盤７０及び被回転駆動部６２は、ワーク保持部６０が回転軸２０を中心として回転（公転）することで、ワーク保持部６０を自転させるための動力がワーク保持部６０に伝達されるように構成されている。例えば、固定円盤７０及び被回転駆動部６２は、互いに噛み合う歯を有する歯車（例えば、かさ歯車等）により形成することができる。これにより、固定円盤７０はワーク保持部６０を連続的に回転（自転）させる（特に、ワークＷがターゲット６と対向している状態で、このワークＷを連続的に回転させる）ことができる。その他、固定円盤７０及び被回転駆動部６２は、互いに接触して動力を伝達可能な構成であればよい。例えば、歯車、チェーンとスプロケットとの組み合わせ、穴部と突起部との組み合わせ等の噛み合わせ構造を用いて動力を伝達する構成、接触面同士の摩擦力を用いて動力を伝達する構成等でもよい。
また、固定円盤７０と被回転駆動部６２とは、機械的な機構を含まない介在物を介して接触してもよい。この場合、回転部である固定円盤７０とワーク保持部６０の一部である被回転駆動部６２とは、機械的な機構を介在することなく、接触することになる。

また、固定円盤７０及び被回転駆動部６２は、歯車のように連続的に動力を伝達させ、ワーク保持部６０を連続的に回転させるものに限らない。例えば固定円盤７０及び被回転駆動部６２は、カム等を用いて断続的に動力を伝達することで、ワーク保持部６０を断続的に回転（自転）させることも可能である。

規制部８０は、固定円盤７０の回転を規制するものである。規制部８０は、主として第一規制部材８１及び第二規制部材８２を具備する。

第一規制部材８１は、各固定円盤７０に固定されるものである。第一規制部材８１は、矩形状の板材を屈曲させて形成される。具体的には、第一規制部材８１は、水平に延びる左部８１ａと、左部８１ａの右端から鉛直上方に延びる中途部８１ｂと、中途部８１ｂの上端から右方に延びる右部８１ｃと、を具備する。このように、第一規制部材８１は、固定円盤７０の径方向外側の部分（右部８１ｃ）が径方向内側の部分（左部８１ａ）よりも高くなるように形成されている。これによって、ワーク保持部６０やワークＷとの干渉を避けることができる。

第一規制部材８１の左部８１ａは、固定円盤７０の上面の右端部近傍に適宜の締結部材（ボルト等）によって固定される。第一規制部材８１の右部８１ｃは、固定円盤７０から右方に突出するように配置される。右部８１ｃには、切欠部８１ｄが形成される。

第二規制部材８２は、第一規制部材８１と係合するものである。第二規制部材８２は、略円柱状に形成される。第二規制部材８２は、軸線を鉛直方向（上下方向）に向けて配置される。第二規制部材８２の上端部は、ブラケット８２ａを介して成膜室２の上面に固定される。第二規制部材８２は、各固定円盤７０に設けられた第一規制部材８１の切欠部８１ｄに係合される。より具体的には、第一規制部材８１の切欠部８１ｄに、第二規制部材８２が嵌め込まれて、固定円盤７０の回転が規制されることになる。

このように、固定円盤７０に設けられた第一規制部材８１が、成膜室２に固定された第二規制部材８２と係合することで、固定円盤７０の回転が規制される。これによって、回転軸２０が回転しても、固定円盤７０が回転することはない。

図３から図５までに示すカバー９０は、ワーク保持部６０を覆うものである。カバー９０は、板状の部材を適宜屈曲させて形成される。カバー９０は、ワーク保持部６０を側方（固定円盤７０の径方向外側）及び上方から覆うように配置される。カバー９０には、貫通孔９１が形成される。貫通孔９１を介して、ワーク保持部６０に保持されたワークＷの刃部Ｗ２をカバー９０の外側に露出させることができる。カバー９０は、回転ホイール４０に適宜の方法で固定される。

次に、モータ４の動力によってワーク保持部回転ユニット３が動作する様子について説明する。

モータ４が駆動すると、モータ４の動力によって回転軸２０が回転する。回転ホイール４０は、回転軸２０と一体的に回転する。これによって、回転ホイール４０の外周部４３に設けられたワーク保持部６０は、回転軸２０を中心として回転（公転）する。

一方、回転軸２０に対して相対回転可能に設けられた固定円盤７０は、規制部８０によって回転が規制されている。このため、固定円盤７０は、回転軸２０の回転に伴って回転することはない。

ワーク保持部６０の被回転駆動部６２は、固定された（回転しない）固定円盤７０と接触しながら、回転軸２０を中心として回転（公転）することになる。これによって、ワーク保持部６０は、回転軸２０を中心として回転（公転）しながら、このワーク保持部６０の軸線を中心として回転（自転）する（図２参照）。

また、ワーク保持部６０は、回転軸２０を中心として回転（公転）する場合、ワーク保持部６０の外側から回転軸２０に向う方向に見た（換言すれば、図４及び図５に示すような、回転軸２０を通り、かつ回転軸２０と平行な断面視における）傾斜角度αが常に一定となる。なお、傾斜角度αとは、図４及び図５に示す断面（回転軸２０を中心とする仮想円の周方向から見た断面）において、回転軸２０の軸線やターゲット６の板面に対する角度を意味する。本実施形態では、回転軸２０の軸線及びターゲット６の板面は上下方向（鉛直方向）に平行であるため、傾斜角度αは、図４及び図５に示す断面において上下方向（鉛直方向）に沿う仮想線Ｘに対する角度となる。回転軸２０を中心とする仮想円の周方向から見た断面とは、回転軸２０を中心とする仮想円の円周上から見た断面と表現することもできる。

従って、ワーク保持部６０が回転軸２０を中心として回転（公転）すると、ワークＷがターゲット６に対向する位置で、ターゲット６から成膜材料の粒子がワークＷに衝突して比較的厚く成膜される成膜領域において、ターゲット６に対するワーク保持部６０（ワークＷ）の傾斜角度αがほぼ一定となる。さらに、この際にワーク保持部６０の軸線を中心として自転することで、ワークＷの露出面全体に形成される膜の膜質の均一化を図ることができる。

次に、上述の如く構成されたスパッタリング装置１を用いた成膜品の製造方法（スパッタリング方法）について説明する。

図１２に示すように、本実施形態に係る成膜品の製造方法は、主としてワーク保持工程Ｓ１、排気工程Ｓ２、ワーク加熱工程Ｓ３及び成膜工程Ｓ４を含む。

ワーク保持工程Ｓ１は、ワーク保持部６０にワークＷを保持させる工程である。ワーク保持工程Ｓ１において、作業者は、アダプタ６３に挿入されたワークＷをワーク保持部６０の保持部６１ａに挿入し、このワーク保持部６０によってワークＷを保持させる。

排気工程Ｓ２は、成膜室２内の空気を排出する工程である。排気工程Ｓ２において、排気装置５が作動されると、成膜室２内の空気が排出される。排気装置５を適宜制御することで、成膜室２内が成膜処理に適した真空度となるように調節される。

ワーク加熱工程Ｓ３は、ワークＷを加熱する工程である。ワーク加熱工程Ｓ３において、モータ４が駆動されると、ワーク保持部回転ユニット３が作動され、ワーク保持部６０の回転（公転及び自転）が開始される。またワーク加熱工程Ｓ３において、ヒータ７が作動され、ワーク保持部６０に保持されたワークＷが適宜の温度まで加熱される。

成膜工程Ｓ４は、ワークＷに成膜処理を施す工程である。成膜工程Ｓ４においては、引き続きワーク保持部回転ユニット３が作動される。また成膜工程Ｓ４において、成膜室２内にスパッタリングガス（例えば、Ａｒ等の不活性ガス）が供給される。この状態でターゲット６にマイナスの電圧又は高周波（ＲＦ：Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）の電圧を印加することで、グロー放電を発生させる。これによって、スパッタリングガスをイオン化し、このイオンをターゲット６の表面に高速で衝突させることで、ターゲット６を構成する成膜材料の粒子（スパッタ粒子）を叩き出す。ターゲット６から叩き出された成膜材料の粒子は、ワークＷ（特に、アダプタ６３から露出している刃部Ｗ２）の表面に付着する。この粒子をワークＷの表面に堆積させることで、薄膜を形成することができる。このようにして、成膜処理が施されたワークＷ（成膜品）を製造することができる。

なお、本実施形態では、便宜上、ワーク保持工程Ｓ１、排気工程Ｓ２、ワーク加熱工程Ｓ３及び成膜工程Ｓ４を順に説明したが、成膜品の製造方法は必ずしもこれに限るものではない。例えば、一部工程の順序を入れ替えたり（例えば、排気工程Ｓ２とワーク加熱工程Ｓ３の順序を入れ替える等）、同時に行うこと（例えば、排気工程Ｓ２とワーク加熱工程Ｓ３を同時に行う等）も可能である。

ここで、図１３を用いて、スパッタリング装置１を用いた成膜品の製造方法により、ワークＷに形成される薄膜のムラの発生が抑制される様子について説明する。なお、図１３においては説明の便宜上、ワークＷの形状を簡略化して、円柱状のものとして図示している。

比較例として、図１３（ａ）に示すように、仮にワークＷが傾斜しておらず、鉛直方向を向いた軸線を中心として自転する場合を想定する。この場合、ワークＷは自転しているため、ワークＷの側面全体が、ワークＷの側方に配置されたターゲット６と対向することになる。これによって、ターゲット６からの成膜材料の粒子を、ワークＷの側面全体に付着させることができる。

一方、ワークＷが自転しても、ワークＷの上面がターゲット６と対向することはないため、ターゲット６からの成膜材料の粒子は、ワークＷの上面に付着し難い。すなわち、ワークＷの側面と上面で、形成される薄膜にムラが生じてしまうおそれがある。

特にスパッタリング（スパッタ法）による成膜処理では、ワークＷの側面と上面に形成された薄膜の圧縮応力（内部応力）に差が生じ、この圧縮応力の差によって薄膜の密着性や均質性の低下等が懸念される。

これに対して本実施形態では、図１３（ｂ）に示すように、ターゲット６に対して傾斜した軸線を中心としてワークＷが自転するように構成されている。この場合、ワークＷの側面だけでなく、上面も、ターゲット６と対向させることができる。このため、ワークＷの側面と上面で、形成される薄膜にムラが生じるのを抑制することができる。また、ワークＷの側面と上面で、薄膜の圧縮応力に差が生じるのを抑制することができ、薄膜の密着性や均質性の向上を図ることができる。

以下では、図１４及び図１５を用いて、本実施形態に係るスパッタリング装置１（成膜品の製造方法）により成膜された工具の評価の一例について説明する。

図１４には、本実施形態に係るスパッタリング装置１により成膜された工具（以下、「本願工具」と称する）と、比較例として従来公知の方法で成膜された工具（以下、「比較例」と称する）との、寿命に関する評価の一例を示している。

ここで、本実施形態でのスパッタリング条件としては、ＲＦ電源を用いたＲＦスパッタリング法により、スパッタリングターゲットにＡｌＣｒ系合金を用いて、スパッタリングガスがアルゴンガスに窒素ガスを含有させた混合ガスによる反応性スパッタリングで成膜を行った。

なお、評価の対象とした工具は「Ｒ０．５超硬ボールエンドミル」である。この工具は、母材がＷＣ－Ｃｏ合金の「超硬材（超硬合金）」であり、ＡｌＣｒＮ系の成膜（コーティング）が施されたものである。

また評価試験として、上記２種類の切削加工用の工具を用いて切削加工を行った。切削加工の対象となる材種（被削材種）はＳＵＳ４２０Ｊ２（ＨＲＣ５５）である。加工条件は、回転数：３０，０００（ｍｉｎ^－１）、送り速度：１，５００（ｍｍ／ｍｉｎ）、切り込みＲｄ（ＸＹ）：０．０５（ｍｍ）である。

また評価の際の寿命の基準（工具の寿命を判断するための工具の磨耗量）として、（Ａ）：磨耗量０．００５（ｍｍ）、（Ｂ）：磨耗量０．０１（ｍｍ）の、２パターンの基準を設定した。図１４の横軸は加工距離、縦軸は磨耗量を示している。

図１４に示すように、寿命基準を（Ａ）：磨耗量０．００５（ｍｍ）とした場合、比較例の寿命が１０４．８（ｍ）であるのに対し、本願工具の寿命は２００．１（ｍ）である。すなわち、寿命基準を（Ａ）：磨耗量０．００５（ｍｍ）とした場合、本願工具は比較例と比べて工具寿命が約２倍に延びていることが分かる。

また、寿命基準を（Ｂ）：磨耗量０．０１（ｍｍ）とした場合、比較例の寿命が１０９．８（ｍ）であるのに対し、本願工具の寿命は２９３．５（ｍ）である。すなわち、寿命基準を（Ｂ）：磨耗量０．０１（ｍｍ）とした場合、本願工具は比較例と比べて工具寿命が約３倍に延びていることが分かる。

図１５には、本願工具と比較例との、欠けの発生に関する評価の一例を示している。

なお、欠けの発生に関する評価として、図１４に示した例と同じ条件で２００（ｍ）の切削加工を行った場合における、工具の欠けの発生回数を比較した。評価回数（切削加工の回数）は１０回であり、切削加工後に工場顕微鏡を用いて２０倍の倍率で工具を観察した。欠けの大きさに関係なく、欠けが確認された場合、欠けが発生したものとしてカウントした。

その結果、図１５に示すように、比較例では、１０回の評価回数のうち、８回で欠けの発生が確認された。これに対して、本願工具では、１０回の評価回数のうち、わずか２回だけ欠けの発生が確認された。すなわち、本願工具の欠けの発生率は、比較例の４分の１になっていることが分かる。

このように本実施形態に係るスパッタリング装置１（成膜品の製造方法）により成膜された工具は、薄膜（コーティング）の密着性や均質性の向上により、長寿命化や欠けの発生の抑制を図ることが可能となることが分かった。

なお、本実施形態では、真空処理装置（真空成膜装置）の一例としてスパッタリングを行う装置（スパッタリング装置１）を例示したが、本発明はこれに限らず、その他種々の真空処理に適用することが可能である。例えば、粒子の物理的な運動を利用した物理的気相成長法（物理蒸着法：ＰＶＤ）や、化学反応を利用した化学的気相成長法（化学蒸着法：ＣＶＤ）等に広く適用することが可能である。

なお、ＰＶＤの中には、蒸着源を加熱して蒸発させて成膜を行う蒸発系として、真空蒸着、分子線蒸着、イオンプレーティング、イオンビーム蒸着、ＰＬＤ（プラズマーレーザーデポジション）などがある。また、本実施形態で例示したようなスパッタ系として、コンベンショナル・スパッタリング、マグネトロン・スパッタリング、イオンビーム・スパッタリング、ＥＣＲスパッタリング、反応性スパッタリング（反応性ガス（Ｏ_２、Ｎ_２等）を導入し、酸化物や窒化物の成膜を行うもの）などがある。また、ワークＷの材料に応じて、ＲＦ（高周波）電源を用いたＲＦスパッタリングを用いることも可能である。

また、ＣＶＤの中には、コンベンショナルＣＶＤ、熱ＣＶＤ、光ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、エピタキシャルＣＶＤ、ＭＯＣＶＤなどがある。

また、本実施形態によりワークＷに形成される薄膜としては、特にＡｌＣｒＮ、ＡｌＮ、ＴｉＣｒＮ、ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＡｌＣｒＮ、Ａｌ_２Ｏ_３のうちの少なくとも１つを含む、単層又は複数積層からなるものを想定しているが、その他任意の薄膜を形成することも可能である。

また、上記成膜材料に加えて、適宜添加物を加えることも可能である。例えば、添加剤として、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｖ、Ｙ、Ｓｉ等を加えることが可能である。

また、真空処理装置としては、成膜装置以外に、ドライエッチング装置、表面改質装置等のプラズマ処理装置に本発明を適用することができる。

以上の如く、本実施形態に係るワーク保持部６０は、
シャンク部Ｗ１（第一の部分）と、前記シャンク部Ｗ１よりも外径が小さい刃部Ｗ２（第二の部分）と、を具備する棒状のワークＷを保持するワーク保持部６０であって、
前記シャンク部Ｗ１を挿入可能な第一の孔部６３ｃ、及び前記第一の孔部６３ｃと連続するように形成され、前記シャンク部Ｗ１を挿入不能かつ前記刃部Ｗ２を挿入可能な第二の孔部６３ｄを具備する貫通孔６３ａが形成されたアダプタ６３と、
前記アダプタ６３が挿入された状態で前記アダプタ６３を保持可能な回転支持部６１（本体部）と、
を具備するものである。

このように構成することにより、複数種類のワークＷに対応することができる。すなわち、ワークＷが挿入されたアダプタ６３を回転支持部６１に挿入して保持する構成としたことで、ワークＷの種類（例えば、長さや形状等）が異なっていても、ワークＷを保持することができる。これによって、ワークＷの種類に応じて複数のワーク保持部６０を用意する必要がなくなる。

また、第一の孔部６３ｃは、前記シャンク部Ｗ１に対応した断面形状となるように形成されている。

このように構成することにより、ワークＷのがたつきを抑制することができる。すなわち、ワークＷのシャンク部Ｗ１が、アダプタ６３の貫通孔６３ａ（第一の孔部６３ｃ）内でがたつくのを抑制することができる。これによって、ワークＷの姿勢を安定させることができる。なお、本実施形態においては、第一の孔部６３ｃとシャンク部Ｗ１の軸線方向視における断面形状が略一致するものとしたが、本発明はこれに限るものではない。すなわち、第一の孔部６３ｃの断面形状を、シャンク部Ｗ１に対応させてワークＷのがたつきを抑制することができるものであればよい。例えば、第一の孔部６３ｃの側面の複数個所でシャンク部Ｗ１と接触させるような形状とすることでも、ワークＷのがたつきを抑制することができる。

また、前記第二の孔部６３ｄは、前記第一の孔部６３ｃから離間する方向に向かって内径が小さくなるテーパ状に形成されている。

このように構成することにより、ワークＷを貫通孔６３ａに容易に挿入することができる。すなわち、テーパ状に形成された第二の孔部６３ｄによって、ワークＷを貫通孔６３ａの中心に寄せるように案内することで、ワークＷを貫通孔６３ａに速やかに挿入することができる。

また、前記アダプタ６３は、外側面のうち、前記回転支持部６１に挿入される側の端部に形成され、前記回転支持部６１に挿入される側に向かって外径が小さくなるテーパ部６３ｂを具備するものである。

このように構成することにより、アダプタ６３を容易に回転支持部６１に挿入することができる。すなわち、先端に向かって外径が小さくなるテーパ部６３ｂによってアダプタ６３を回転支持部６１の収容部６１ｄへと案内することができる。

また、ワーク保持部６０は、
前記回転支持部６１に設けられ、回転力が伝達される被回転駆動部６２をさらに具備し、
前記回転支持部６１は、前記被回転駆動部６２に締結される締結部材６２ｅが接触可能な平坦部６１ｅを具備するものである。

このように構成することにより、被回転駆動部６２と回転支持部６１との相対移動を抑制することができる。すなわち、締結部材６２ｅを平坦部６１ｅに接触させることで、被回転駆動部６２に対する回転支持部６１の相対的な移動（本実施形態においては、相対回転）を抑制することができる。これによって、被回転駆動部６２に伝達される回転力によって、回転支持部６１を安定して回転させることができる。

また、本実施形態に係るワーク保持部回転ユニット３は、
前記ワーク保持部６０を具備し、前記ワーク保持部６０を回転させることが可能なものである。

このように構成することにより、複数種類のワークＷにも対応することができる。

なお、本実施形態に係るシャンク部Ｗ１は、第一の部分の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る刃部Ｗ２は、第二の部分の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る回転支持部６１は、本体部の実施の一形態である。

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の技術的思想の範囲内で適宜の変更が可能である。

例えば、本実施形態では、ワークＷの一例として加工用の工具（切削加工、研削加工、研磨等の機械加工用の工具）を例示したが、本発明はこれに限るものではない。すなわち、成膜の対象となるワークＷは、任意に選択することができる。例えば、ワークＷのその他の例としては、パンチ部品（打ち抜きのための刃）、ダイキャスト用の金型の部品、カッターの刃など、種々の物品が想定される。

また、ワークＷの形状は限定するものではなく、任意の形状のものを用いることができる。すなわちワークＷとしては、一方向に延びた棒状であり、中途部において太さ（径）が変化しているもの（太さの異なる２つの部分を有するもの）であれば、種々のものを用いることができる。

また、本実施形態では、ワークＷを回転軸２０やターゲット６に対して傾斜した状態で保持しているが、この傾斜の角度及び方向は任意に変更することができる。例えば、回転ホイール４０を、貫通孔４３ｂの傾斜角度が異なる別の回転ホイール４０と交換することで、ワーク保持部６０の傾斜角度α（ひいては、ワークＷの傾斜角度α）を変更することができる。また、回転ホイール４０に限らず、その他の部材（例えば、取付部材５０）を交換することでも、ワークＷの傾斜角度αを変更することが可能である。

また、本実施形態では、ワークＷを回転軸２０やターゲット６に対して傾斜した状態で保持しているが、ワークＷを傾斜させることなく保持してもよい。すなわち、ワークＷの長手方向を鉛直方向に向けて保持してもよい。

また、本実施形態では、アダプタ６３の第一の孔部６３ｃが、ワークＷのシャンク部Ｗ１に対応した断面形状となるように形成されるものとしたが、本発明はこれに限るものではない。すなわち、第一の孔部６３ｃは、ワークＷを挿入可能な形状であればよい。

また、本実施形態では、第二の孔部６３ｄがテーパ状に形成されているものとしたが、本発明はこれに限るものではない。すなわち、第二の孔部６３ｄは、シャンク部Ｗ１を挿入不能かつ刃部Ｗ２を挿入可能な形状であれば、任意の形状とすることが可能である。例えば、第二の孔部６３ｄを、第一の孔部６３ｃと同様に長手方向に亘って内径が一定となるように形成することも可能である。このような場合、ワークＷをアダプタ６３の貫通孔６３ａに挿入すると、第一の孔部６３ｃと第二の孔部６３ｄの間の段差（角）がワークＷと接触することになる。

また、本実施形態では、回転ホイール４０、回転ホイール４０に設けられたワーク保持部６０、及びワーク保持部６０に対応する固定円盤７０が、上下に２つ並んで（２段に）配置された様子を図示して説明したが、この回転ホイール４０等の個数は限定するものではない。すなわち、この回転ホイール４０等を、スパッタリング装置１に１つだけ設けることや、３つ以上設けることも可能である。

なお、本実施形態では、この回転ホイール４０等が、側方から見て上下に隣接する他の回転ホイール４０等と重複しないように配置されている。例えば図４に示すように、下方（下の段）に設けられた回転ホイール４０、ワーク保持部６０及び固定円盤７０は、上方（上の段）に設けられた回転ホイール４０等よりも下方に位置するように配置されている。このように、両者を側方から見て重複しないように配置することで、側方からのメンテナンス性を向上させることができる。

また、本実施形態では、ワーク保持部回転ユニット３の周囲にターゲット６及びヒータ７を配置する構成を例示したが、本発明はこれに限るものではない。例えば、さらにイオンガンを設けて、前処理を行う（例えば、ワークＷ表面の酸化物をアルゴンイオンを打ち付けて除去する等）ことも可能である。また、ワークＷの種類等に応じて、ヒータ７を用いることなく成膜処理を行うことも可能である。

また、本実施形態では、動力源の一例としてモータ４を例示したが、本発明はこれに限るものではない。すなわち、その他の動力源（エンジン、アクチュエータ等）を用いることも可能である。

また、ワーク保持部６０の回転（公転及び自転）の速度（回転数）は、適宜設定することができる。例えば、ワーク保持部６０が回転軸２０を中心とする回転（公転）によってターゲット６の正面を通過する間（ターゲット６と対向している間）に、このワーク保持部６０が少なくとも１回転（３６０°）以上自転するように設定している。これによって、ターゲット６からの成膜材料を、ワークＷの全域に付着させることができ、薄膜の密着性や均質性をより向上させることができる。

１ スパッタリング装置
３ ワーク保持部回転ユニット
６０ ワーク保持部
６１ 回転支持部
６１ｅ 平坦部
６２ 被回転駆動部
６２ｅ 締結部材
６３ アダプタ
６３ａ 貫通孔
６３ｂ テーパ部
６３ｃ 第一の孔部
６３ｄ 第二の孔部
Ｗ ワーク
Ｗ１ シャンク部
Ｗ２ 刃部
Ｗ３ テーパ部

Claims (6)

1. 第一の部分と、前記第一の部分よりも外径が小さい第二の部分と、を具備する棒状のワークを保持するワーク保持部であって、
   前記第一の部分を挿入可能な第一の孔部、及び前記第一の孔部と連続するように形成され、前記第一の部分を挿入不能かつ前記第二の部分を挿入可能な第二の孔部を具備する貫通孔が形成されたアダプタと、
   前記アダプタが挿入された状態で前記アダプタを保持可能な本体部と、
   を具備するワーク保持部。
2. 前記第一の孔部は、前記第一の部分に対応した断面形状となるように形成されている、
   請求項１に記載のワーク保持部。
3. 前記第二の孔部は、前記第一の孔部から離間する方向に向かって内径が小さくなるテーパ状に形成されている、
   請求項１又は請求項２に記載のワーク保持部。
4. 前記アダプタは、外側面のうち、前記本体部に挿入される側の端部に形成され、前記本体部に挿入される側に向かって外径が小さくなるテーパ部を具備する、
   請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のワーク保持部。
5. 前記本体部に設けられ、回転力が伝達される被回転駆動部をさらに具備し、
   前記本体部は、前記被回転駆動部に締結される締結部材が接触可能な平坦部を具備する、
   請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載のワーク保持部。
6. 請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載のワーク保持部を具備し、前記ワーク保持部を回転させることが可能なワーク保持部回転ユニット。

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