JP6772315B2 - 成膜品の製造方法及びスパッタリング装置 - Google Patents
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Description
また、固定円盤70と被回転駆動部62とは、機械的な機構を含まない介在物を介して接触してもよい。この場合、回転部である固定円盤70とワーク保持部60の一部である被回転駆動部62とは、機械的な機構を介在することなく、接触することになる。
第一回転軸(回転軸20)を中心として公転可能、かつターゲット6(スパッタリングターゲット)に対して傾斜した第二回転軸(ワーク保持部60)を中心として自転可能となるようにワークWを保持するワーク保持工程S1と、
前記第一回転軸を中心とする公転、及び前記第二回転軸を中心とする自転を行いながら、前記ターゲット6を用いて、前記ワークWに対して成膜を行う成膜工程S4と、
を含むものである。
回転軸20と、
前記回転軸20の側方に配置されたターゲット6(スパッタリングターゲット)と、
前記回転軸20を中心として回転可能な回転ホイール40(回転部)と、
ワークWを保持可能であり、前記回転軸20を中心とする円周上に並ぶように配置され、前記ターゲット6に対して傾斜した軸線を中心として回転可能となるように前記回転ホイール40に設けられた複数のワーク保持部60と、
前記回転軸20を中心とする円盤状に形成されると共に、複数の前記ワーク保持部60と接触するように配置され、前記回転ホイール40の回転に伴って前記ワーク保持部60を回転させる固定円盤70(回転駆動部)と、
を具備するものである。
回転軸20と、
前記回転軸20を中心として回転可能な回転ホイール40(回転部)と、
ワークWを保持可能であり、前記回転軸20を中心とする円周上に並ぶように配置され、前記回転軸20の軸線に対して傾斜した軸線を中心として回転可能となるように、前記回転ホイール40に設けられた複数のワーク保持部60と、
前記回転軸20を中心とする円盤状に形成されると共に、複数の前記ワーク保持部60と接触するように配置され、前記回転ホイール40の回転に伴って前記ワーク保持部60を回転させる固定円盤70(回転駆動部)と、
を具備するものである。
前記回転ホイール40は、前記回転軸20と一体的に回転可能となるように前記回転軸20に設けられ、
前記固定円盤70は、前記回転軸20に対して相対的に回転可能に設けられ、
前記固定円盤70の回転を規制する規制部80をさらに具備するものである。
前記ワークWを保持すると共に、前記回転ホイール40に回転可能に支持される回転支持部61と、
前記回転支持部61に固定され、前記固定円盤70と接触するように配置される被回転駆動部62と、
を具備するものである。
前記被回転駆動部62は、前記回転ホイール40の上方において前記回転支持部61に設けられるものである。
また、本実施形態に係る固定円盤70は、回転駆動部の実施の一形態である。
また、本実施形態に係るターゲット6は、スパッタリングターゲットの実施の一形態である。
また、本実施形態に係るモータ4は、動力源の実施の一形態である。
また、本実施形態に係る回転軸20及びワーク保持部60は、第一回転軸及び第二回転軸の実施の一形態である。
また、本実施形態に係るスパッタリング装置1は、真空処理装置の実施の一形態である。
4 モータ
6 ターゲット
20 回転軸
40 回転ホイール
60 ワーク保持部
61 回転支持部
62 被回転駆動部
70 固定円盤
80 規制部
Claims (9)
- 第一回転軸を中心として公転可能、かつ前記第一回転軸に対して傾斜した第二回転軸を中心として自転可能となるようにワークを保持するワーク保持工程と、
前記第一回転軸を中心とする公転、及び前記第二回転軸を中心とする自転を行いながら、前記ワークに対して前記第一回転軸を中心とする径方向外側に位置するように配置されたスパッタリングターゲットを用いて、前記ワークに対して成膜を行う成膜工程と、
を含み、
前記ワーク保持工程において、前記ワークは、前記第一回転軸に沿う方向に分けられた複数の段のそれぞれにおいて、一端側を保持されるとともに、他端側が前記第一回転軸を中心とする径方向外側を常に向くように配置され、前記複数の段のそれぞれに設けられた前記ワークは、前記第一回転軸を中心とする同一半径の円周上に配置される、
成膜品の製造方法。 - 前記ワーク保持工程において、前記ワークは、前記スパッタリングターゲットに対向した状態における前記スパッタリングターゲットに対する傾斜角度が一定となるように保持される、
請求項1に記載の成膜品の製造方法。 - 前記成膜工程は、高周波スパッタリングを用いて前記ワークに対して成膜を行う、
請求項1または請求項2に記載の成膜品の製造方法。 - 前記成膜工程は、反応性スパッタリングを用いて前記ワークに対して成膜を行う、
請求項1または請求項2に記載の成膜品の製造方法。 - 前記ワーク保持工程は、前記ワークとして加工用の工具を用いる、
請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の成膜品の製造方法。 - 前記成膜工程は、前記ワークに対してAlCrN、AlN、TiCrN、TiN、TiAlN、TiAlCrN、Al2O3のうちの少なくとも1つを含む、単層又は複数積層からなる膜を形成する、
請求項1から請求項5までのいずれか一項に記載の成膜品の製造方法。 - 前記成膜工程は、前記第一回転軸を中心とする公転によって前記ワークが前記スパッタリングターゲットに対向している状態において、前記ワークを前記第二回転軸を中心として連続的に自転させる、
請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載の成膜品の製造方法。 - 回転軸と、
前記回転軸の側方に配置されたスパッタリングターゲットと、
前記回転軸を中心として回転可能な回転部と、
前記回転部に設けられ、ワークを保持可能であり、前記回転軸を中心とする円周上に並ぶように配置され、前記回転軸に対して傾斜した軸線を中心として回転可能であり、前記軸線に沿う方向における前記ワークの一端側を保持すると共に、前記ワークの他端側が前記回転軸を中心とする径方向外側を常に向くように保持可能な複数のワーク保持部と、
前記回転軸を中心とする円盤状に形成されると共に、回転しないように固定されて複数の前記ワーク保持部と接触するように配置され、前記回転部の回転に伴って前記ワーク保持部を回転させる回転駆動部と、
を具備し、
前記回転部、前記複数のワーク保持部、及び前記回転駆動部は、前記回転軸に沿う方向に分けられた複数の段に設けられると共に、前記複数の段のそれぞれに設けられた前記ワーク保持部は、前記回転軸を中心とする同一半径の円周上に配置される、
スパッタリング装置。 - 請求項8に記載のスパッタリング装置を用いて成膜品を製造する、成膜品の製造方法。
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