JP7034083B2 - Plating jig and plating equipment - Google Patents

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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers

Description

本発明は、めっき処理技術に関し、より詳細には中心孔を有する円盤状の基板をめっき浴槽内に浸漬してめっき被膜を基板上に形成するためのめっき処理用治具およびめっき処理装置に関する。 The present invention relates to a plating treatment technique, and more particularly to a jig for plating treatment and a plating treatment apparatus for immersing a disk-shaped substrate having a central hole in a plating bath to form a plating film on the substrate.

PCや家電などに搭載されるHDD(ハードディスクドライブ)に用いられる磁気記録媒体は、その利便性の高さなどから需要が高く記録密度の著しい向上が図られつつある。
かような磁気記録媒体については、より高い記録密度を実現することが市場から継続して要求されており、そのため磁気記録媒体に用いられる円盤状の基板に対しても今まで以上に平滑性が高く傷の少ない高品質な基板が求められている。
Magnetic recording media used for HDDs (hard disk drives) mounted on PCs and home appliances are in high demand due to their high convenience, and the recording density is being remarkably improved.
The market continues to demand that such magnetic recording media achieve higher recording densities, and as a result, the disc-shaped substrate used for magnetic recording media is smoother than ever. There is a demand for high-quality substrates that are high and have few scratches.

この円盤状の基板としては、例えばアルミニウム合金基板やガラス基板などが用いられている。このうちアルミニウム合金基板は、例えば次に示す工程などを経ることによって製造される。すなわち、先ず厚さ1~3mm程度のアルミニウム合金板をドーナツ状に打ち抜き加工して所望の寸法の基板に加工する。次いで、打ち抜かれた基板に対して端部の面取り加工などを施した後、砥石による研削加工を行い、さらにその後に基板表面に無電解NiPめっきを施すことなどが行われている。 As the disk-shaped substrate, for example, an aluminum alloy substrate, a glass substrate, or the like is used. Of these, the aluminum alloy substrate is manufactured, for example, by going through the following steps. That is, first, an aluminum alloy plate having a thickness of about 1 to 3 mm is punched into a donut shape to form a substrate having a desired size. Next, the punched substrate is chamfered at the edges, ground with a grindstone, and then electroless NiP plating is applied to the surface of the substrate.

そして無電解NiPめっきにおいては、例えば特許文献1に示されるように、めっき処理用治具で複数の基板を保持し、これら基板を一括してめっき浴槽中へ浸漬させることが行われる。また、特許文献1にも開示されているとおり、基板表面にめっき被膜を効率よく成膜するため、めっき処理用治具を自転や公転をさせながら複数枚の基板に対して無電解NiPめっきを施すことも知られている。 In electroless NiP plating, for example, as shown in Patent Document 1, a plurality of substrates are held by a plating processing jig, and these substrates are collectively immersed in a plating bath. Further, as disclosed in Patent Document 1, in order to efficiently form a plating film on the substrate surface, electroless NiP plating is performed on a plurality of substrates while rotating or revolving the plating processing jig. It is also known to apply.

一方で上記しためっき治具をめっき浴槽内で自転や公転をさせる技術では、めっき治具の摺動部分から発生する摩耗粉によって基板表面にノジュールと呼ばれる欠陥を発生させることがある。
このノジュールが発生すると基板の品質が著しく低下するため、かようなノジュールを如何に抑制するかが重要となる。この点に関して特許文献1では、基板10の外周縁部を嵌め込む溝の断面をU字状とすることで、基板の外周縁部に発生しやすいノジュールを抑制可能であることが示されている。
On the other hand, in the above-mentioned technique of rotating or revolving the plating jig in the plating bath, wear powder generated from the sliding portion of the plating jig may cause a defect called nodul on the surface of the substrate.
When this nodule is generated, the quality of the substrate is significantly deteriorated, so it is important how to suppress such nodules. Regarding this point, Patent Document 1 shows that nodules that are likely to occur on the outer peripheral edge of the substrate can be suppressed by forming the cross section of the groove into which the outer peripheral edge of the substrate 10 is fitted into a U shape. ..

特開2007-169757号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-169757

しかしながら、上記した従来のめっき処理用治具では以下に述べる課題があり、未だに改善すべき点があると言える。
すなわち、確かに特許文献1によれば、基板の外周縁部に起因するノジュールは抑制できる可能性はあるものの、めっき処理用治具の摺動部分から発生する摩耗粉については一切言及がない。このように特許文献1の構成では、めっき処理用治具の摺動部分から発生する摩耗粉によって別のノジュールが発生してしまうことが懸念される。
However, the above-mentioned conventional plating jig has the following problems, and it can be said that there are still points to be improved.
That is, according to Patent Document 1, although there is a possibility that nodules caused by the outer peripheral edge of the substrate can be suppressed, there is no mention of wear debris generated from the sliding portion of the plating jig. As described above, in the configuration of Patent Document 1, there is a concern that another nodule may be generated by the wear powder generated from the sliding portion of the plating jig.

本発明は、かような課題を解決することを鑑みてなされたものであり、めっき浴槽中でめっき処理用治具が回転してもノジュールの発生が抑制可能なめっき処理用治具およびめっき処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of solving such a problem, and is a plating treatment jig and a plating treatment that can suppress the generation of nodules even if the plating treatment jig rotates in the plating bath. The purpose is to provide the device.

上記課題を解決するため、本発明の一実施形態にかかるめっき処理用治具は、(1)めっき浴槽内のめっき液中に、中心孔を有する円盤状の基板を浸漬させるためのめっき処理用治具であって、前記基板の中心孔へ挿通される支持ロッドと、前記支持ロッドを支持するとともに、前記支持した支持ロッドが自転することを抑制する自転抑制機構を備えた拘束部材と、前記拘束部材を介して前記支持ロッドが取り付けられるカローセルと、
を含み、前記自転抑制機構は、前記支持ロッドに接触する接触部材と、前記接触部材を前記支持ロッドに対して押し付ける弾性部材を有する押し付け部材を含むことを特徴とする。
In order to solve the above problems, the plating jig according to the embodiment of the present invention is (1) for plating for immersing a disk-shaped substrate having a center hole in the plating solution in the plating bath. A jig, a support rod inserted into a central hole of the substrate, a restraint member having a rotation suppressing mechanism for supporting the support rod and suppressing the rotation of the supported support rod, and the above-mentioned A carocell to which the support rod is attached via a restraint member, and
The rotation suppressing mechanism is characterized by including a contact member in contact with the support rod and a pressing member having an elastic member for pressing the contact member against the support rod .

さらに上記課題を解決するため、本発明の一実施形態にかかるめっき処理用治具は、(2)めっき浴槽内のめっき液中に、中心孔を有する円盤状の基板を浸漬させるためのめっき処理用治具であって、前記基板の中心孔へ挿通される支持ロッドと、前記支持ロッドを収容凹部で着脱可能に支持するとともに、前記支持した支持ロッドが自転することを抑制する自転抑制機構を備えた拘束部材と、前記拘束部材を介して前記支持ロッドが着脱可能に取り付けられるカローセルと、を含み、前記自転抑制機構は、前記収容凹部に収容された前記支持ロッドを収容凹部側に押し付ける接触部材を含むことを特徴とする。Further, in order to solve the above problems, the plating processing jig according to the embodiment of the present invention is (2) a plating process for immersing a disk-shaped substrate having a center hole in the plating solution in the plating bath. A jig for supporting a support rod inserted into a central hole of the substrate and a rotation suppressing mechanism for supporting the support rod detachably in a housing recess and suppressing the rotation of the supported support rod. The rotation suppressing mechanism includes a restraining member provided and a carocell to which the support rod is detachably attached via the restraining member, and the rotation suppressing mechanism is a contact for pressing the support rod housed in the housing recess toward the housing recess side. It is characterized by including a member.

さらに上記した()に記載のめっき処理用治具においては、(3)前記拘束部材には、前記支持ロッドの周面の少なくとも一部が収容されるU字状の収容凹部が設けられ、前記接触部材は、前記収容凹部に前記支持ロッドが収容された状態で前記弾性部材を介して当該支持ロッドに接触して押し付けられることが好ましい。 Further, in the plating processing jig described in ( 1 ) above, (3) the restraining member is provided with a U-shaped accommodating recess in which at least a part of the peripheral surface of the support rod is accommodated. It is preferable that the contact member comes into contact with and is pressed against the support rod via the elastic member in a state where the support rod is housed in the housing recess.

また、上記した()又は(3)に記載のめっき処理用治具においては、(4)前記押し付け部材を少なくともそれぞれ2つ具備し、互いの前記接触部材が進退方向に関して対向するように配置されていることが好ましい。 Further, in the plating processing jig according to ( 1 ) or (3) described above, (4) at least two pressing members are provided, and the contact members are arranged so as to face each other in the advancing / retreating direction. It is preferable that the jig is used.

また、上記した()~(4)のいずれかに記載のめっき処理用治具においては、(5)前記接触部材の頂部には、前記支持ロッドの脱着を促すガイド面が形成されてなることが好ましい。 Further, in the plating processing jig according to any one of ( 1 ) to (4) described above, (5) a guide surface for promoting attachment / detachment of the support rod is formed on the top of the contact member. Is preferable.

また、上記した()~(5)のいずれかに記載のめっき処理用治具においては、(6)前記接触部材の頂部の少なくとも一部には低摩擦処理が施されてなることが好ましい。 Further, in the plating jig according to any one of ( 1 ) to (5) described above, it is preferable that (6) at least a part of the top of the contact member is subjected to low friction treatment. ..

また、上記課題を解決するため、本発明の一実施形態にかかるめっき処理装置は、上記した(1)~(6)のいずれかに記載のめっき処理用治具と、前記カローセルを回転させる回転機構と、を含むことを特徴とする。 Further, in order to solve the above-mentioned problems, the plating processing apparatus according to the embodiment of the present invention includes the plating processing jig according to any one of (1) to (6) described above and the rotation for rotating the carocell. It is characterized by including a mechanism.

本発明によれば、カローセルに取り付けられる支持ロッドが自転抑制機構によって自転してしまうことが抑制されるため、支持ロッドとカローセルとの接続部位で生じ得る摩耗粉に起因して発生するノジュールを抑制することが可能となる。 According to the present invention, since the support rod attached to the carousel is suppressed from rotating by the rotation suppression mechanism, nodules generated due to wear debris that may occur at the connection portion between the support rod and the carocell are suppressed. It becomes possible to do.

めっき処理用治具10とめっき処理装置100を示した図である。It is a figure which showed the plating processing jig 10 and the plating processing apparatus 100. めっき処理用治具10のうち拘束部材12を示した図である。It is a figure which showed the restraint member 12 in the plating process jig 10. めっき処理用治具10の各側面を展開した展開図である。It is a developed view which developed each side surface of the plating process jig 10. めっき処理用治具10における自転抑制機構のうち接触部材12bを説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the contact member 12b among the rotation suppression mechanism in a plating process jig 10. めっき処理用治具10における自転抑制機構のうち軸受部材12aを説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the bearing member 12a among the rotation suppression mechanism in a plating process jig 10. めっき処理用治具10における拘束部材12に支持ロッド11が着脱される際の状態遷移の図である。It is a figure of the state transition when the support rod 11 is attached to and detached from the restraint member 12 in the plating process jig 10.

以下、本発明を実施するための実施形態について説明する。なお、以下の説明に用いる図面においては、便宜的にめっき処理用治具10に取り付けられたときの支持ロッド11が延びる方向をX方向とし、このX方向を基準として各図において説明に適した方向を適宜Y方向とZ方向に設定している。ただしこれらの方向はあくまでも説明の明瞭化という目的で設定されるものであり、本発明を不当に限定解釈するようなものではない。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described. In the drawings used in the following description, the direction in which the support rod 11 extends when attached to the plating jig 10 is defined as the X direction for convenience, and the X direction is used as a reference for the description in each drawing. The directions are appropriately set to the Y direction and the Z direction. However, these directions are set only for the purpose of clarifying the explanation, and do not unreasonably limit the interpretation of the present invention.

図1は、めっき処理用治具10とめっき処理装置100を示した図である。このうち図1(a)はめっき処理用治具10を含むめっき処理装置100の模式図であり、(b)はめっき処理用治具10を軸線方向から見た平面図であり、(c)は図1(a)における領域Pの部分拡大図であり、(d)は図1(c)のA-A断面図(YZ平面方向でスライス)である。これらの図に示すように、本実施形態におけるめっき処理装置100は、主として、めっき処理用治具10と、回転機構15、を含んで構成されている。 FIG. 1 is a diagram showing a plating processing jig 10 and a plating processing apparatus 100. Of these, FIG. 1A is a schematic view of a plating processing apparatus 100 including a plating processing jig 10, and FIG. 1B is a plan view of the plating processing jig 10 as viewed from the axial direction. 1A is a partially enlarged view of a region P in FIG. 1A, and FIG. 1D is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1C (sliced in the YZ plane direction). As shown in these figures, the plating processing apparatus 100 in the present embodiment mainly includes a plating processing jig 10 and a rotation mechanism 15.

めっき処理用治具10は、めっき浴槽20内のめっき液L中に、中心孔を有する円盤状の基板1を浸漬させるために用いられる。そして本実施形態のめっき処理用治具10は、支持ロッド11、拘束部材12、及びカローセル13を少なくとも含んで構成されている。 The plating processing jig 10 is used to immerse the disk-shaped substrate 1 having a central hole in the plating solution L in the plating bath 20. The plating jig 10 of the present embodiment includes at least a support rod 11, a restraining member 12, and a carocell 13.

ここで、基板1は、中心に円形の貫通孔(中心孔)を有するガラス製またはアルミニウムなどの金属製の材料で構成された円盤状の部材である。かような基板1は、厚みが0.3mm~2.0mm程度であり、一般的には直径が2 . 5 インチを超える基板にあっては主にアルミニウム製の基板が用いられ、2.5インチ以下のサイズでは主としてガラス製基板が用いられている。 Here, the substrate 1 is a disk-shaped member made of a metal material such as glass or aluminum having a circular through hole (center hole) in the center. Such a substrate 1 has a thickness of about 0.3 mm to 2.0 mm, and generally has a diameter of 2. Aluminum substrates are mainly used for substrates larger than 5 inches, and glass substrates are mainly used for substrates larger than 2.5 inches.

このうちアルミニウム製の基板1では、例えばアルミニウム素材から打抜いたサブストレートに所要の前処理を施した後、後述するNi-Pめっき液浴による無電解めっき処理を施して表面にNi-P合金被膜を形成し、さらにその上に強磁性の金属薄膜を積層することなどを経て磁気記録ディスク基板へと形成される。 Of these, in the aluminum substrate 1, for example, the substrate punched from the aluminum material is subjected to the required pretreatment, and then electroless plating is performed by a Ni-P plating solution bath described later, and the surface of the substrate is Ni-P alloy. A film is formed, and a ferromagnetic metal thin film is laminated on the film to form a magnetic recording disk substrate.

めっき浴槽20は、1又は複数のめっき処理用治具10を内包できる程度の大きさの金属製又は樹脂製の槽である。なお、めっき浴槽20としては、例えば上記した特許文献に開示された浴槽や他の公知の無電解めっき浴槽を適用することができる。なお、本実施形態でめっき浴槽20内に貯留されるめっき液Lは、公知のNi-Pめっき液が適用可能であり、一例として例えば硫酸ニッケル:20g/dm、次亜りん酸ソーダ:20g/dm、酢酸ソーダ:10g/dm、クエン酸ソーダ:10g/dmを含む水溶液などが例示できる。The plating bath 20 is a metal or resin bath having a size capable of containing one or a plurality of plating jigs 10. As the plating bathtub 20, for example, a bathtub disclosed in the above-mentioned patent document or another known electroless plating bathtub can be applied. A known Ni-P plating solution can be applied to the plating solution L stored in the plating bath 20 in the present embodiment. As an example, for example, nickel sulfate: 20 g / dm 3 , sodium hypophosphite: 20 g. Examples thereof include an aqueous solution containing / dm 3 , sodium acetate: 10 g / dm 3 , and sodium citrate: 10 g / dm 3 .

支持ロッド11は、基板1の中心孔へ挿通される棒状の部材である。この支持ロッド11は、図1に示すとおり、一対のカローセル13a、13bの間で1又は複数配置される。支持ロッド11の材質に特に制限はないが、例えば樹脂などが例示される。
なお、支持ロッド11は、上記した中心孔を介して基板1を支持するものであるが、さらに基板1の外周縁部近くの円周線上に所定間隔おきに配置される外周保持シャフト(特開2007-169757号公報などを参照)が支持ロッド11の周囲に配置されていてもよい。
The support rod 11 is a rod-shaped member that is inserted into the central hole of the substrate 1. As shown in FIG. 1, the support rod 11 is arranged one or more between the pair of carocells 13a and 13b. The material of the support rod 11 is not particularly limited, and examples thereof include resin.
The support rod 11 supports the substrate 1 through the center hole described above, but is further arranged on a circumferential line near the outer peripheral edge of the substrate 1 at predetermined intervals (Japanese Patent Laid-Open No. (See 2007-169757, etc.) may be arranged around the support rod 11.

拘束部材12は、支持ロッド11を支持する機能を有する。本実施形態における拘束部材12は、一例として、支持ロッド11を把持するように断面がU字状の部材となっている。そして本実施形態の拘束部材12は、支持した支持ロッド11が自転することを抑制する自転抑制機構(後述)を備えている。この拘束部材12の材質に特に制限はないが、例えば樹脂などが例示される。そして図1に示すとおり、拘束部材12は、後述する位置決め突部12aを介して、U字状の開口部側(支持ロッド11が挿入される側の空間)が外周方向を向くように、支持ロッド11の本数に応じてカローセル13に1又は複数設置される。The restraining member 12 has a function of supporting the support rod 11. As an example, the restraint member 12 in the present embodiment is a member having a U-shaped cross section so as to grip the support rod 11. The restraining member 12 of the present embodiment is provided with a rotation suppressing mechanism (described later) that suppresses the rotation of the supported support rod 11. The material of the restraining member 12 is not particularly limited, and examples thereof include resin. Then, as shown in FIG. 1, the restraint member 12 is provided so that the U-shaped opening side (the space on the side where the support rod 11 is inserted) faces the outer peripheral direction via the positioning protrusion 12a 3 described later. One or a plurality of support rods 11 are installed in the carousel 13 depending on the number of support rods 11.

カローセル13は、拘束部材12を介して支持ロッド11が取り付けられる部材である。本実施形態のカローセル13は、外周に歯が形成された大型の円盤であり、支持ロッド11を横架状に支持可能なように対となって配置される。より具体的には図1に示すとおり、第1カローセル13aと第2カローセル13bが所定の間隔で対向配置され、この内部に1又は複数の支持ロッド11が横架状に配置される。このカローセル13の材質に特に制限はないが、例えば樹脂などが例示される。 The carocell 13 is a member to which the support rod 11 is attached via the restraint member 12. The carocell 13 of the present embodiment is a large disk having teeth formed on the outer periphery thereof, and is arranged in pairs so that the support rods 11 can be supported horizontally. More specifically, as shown in FIG. 1, the first caro cell 13a and the second caro cell 13b are arranged to face each other at a predetermined interval, and one or a plurality of support rods 11 are arranged horizontally in the first caro cell 13a and the second caro cell 13b. The material of the carocell 13 is not particularly limited, and examples thereof include resin.

また、本実施形態のめっき処理装置100は、めっき処理用治具10をめっき浴槽20内に浸漬した状態で支持する吊り下げ装置14を含んでいてもよい。
図1に示すとおり、吊り下げ装置14は、カローセル13の両端を吊り下げ支持する機能を備えている。このとき、吊り下げ装置14は、カローセル13の両端に固定されず、後述する回転機構15によってカローセル13が回転することを阻害しない態様でカローセル13を支持することが好ましい。
Further, the plating processing device 100 of the present embodiment may include a hanging device 14 that supports the plating processing jig 10 in a state of being immersed in the plating bath 20.
As shown in FIG. 1, the suspending device 14 has a function of suspending and supporting both ends of the carocell 13. At this time, it is preferable that the suspension device 14 is not fixed to both ends of the carocell 13 and supports the carocell 13 in such a manner that the rotation mechanism 15 described later does not hinder the rotation of the carocell 13.

したがって図1に示すように、吊り下げ装置14で吊り下げられためっき処理用治具10に収容された複数の基板1は、それぞれ中心孔に支持ロッド11が挿通した状態でめっき浴槽20内のめっき液L中へ浸漬される。
そして複数の基板1がめっき液L中へ浸漬した後、めっき処理装置100の回転機構15を介してカローセル13が回転軸16を中心に回転することで、めっき液L内で支持ロッド11が公転することが可能となっている。
Therefore, as shown in FIG. 1, the plurality of substrates 1 housed in the plating processing jig 10 suspended by the suspending device 14 are in the plating bath 20 with the support rod 11 inserted through the center hole. Immerse in the plating solution L.
Then, after the plurality of substrates 1 are immersed in the plating solution L, the carocell 13 rotates about the rotation shaft 16 via the rotation mechanism 15 of the plating processing apparatus 100, so that the support rod 11 revolves in the plating solution L. It is possible to do.

かような回転機構15は、例えばモータ15aと伝達ギア15bとを含んで構成されている。このうちモータ15aは、公知の種々の電気モータを適用してもよい。また、伝達ギア15bはモータ15aからの動力をカローセル13に伝達し、これによりカローセル13が回転軸16を中心に回転することが可能となっている。
なお上述したとおり、カローセル13が回転軸16を中心に回転するときには、カローセル13に支持された支持ロッド11は回転軸16周りに公転することになる。
Such a rotation mechanism 15 includes, for example, a motor 15a and a transmission gear 15b. Of these, various known electric motors may be applied to the motor 15a. Further, the transmission gear 15b transmits the power from the motor 15a to the carocell 13, whereby the carocell 13 can rotate about the rotation shaft 16.
As described above, when the carocell 13 rotates about the rotation shaft 16, the support rod 11 supported by the carocell 13 revolves around the rotation shaft 16.

次に、図2~図5を用いて本実施形態における拘束部材12の自転抑制機構について詳述する。なお、図2(a)は拘束部材12の外観斜視図であり、(b)は側面図及び上面図である。また、図3は、拘束部材12を正面、側面、背面および上面から見た外観図である。また、図4は、拘束部材12の自転抑制機構のうち押し付け部材12bの構成を示す図である。また、図5は、拘束部材12の自転抑制機構のうち軸受12aを示す図である。
上述したとおり、カローセル13に設置される拘束部材12は、カローセル13の回転に伴って支持ロッド11が回転軸16周りに公転したときに、支持ロッド11自身が拘束部材12内で回転(自転)してしまうことを抑制可能な自転抑制機構を含んでいる。
Next, the rotation suppressing mechanism of the restraining member 12 in the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 5. 2A is an external perspective view of the restraint member 12, and FIG. 2B is a side view and a top view. Further, FIG. 3 is an external view of the restraint member 12 as viewed from the front, side surfaces, back surface, and top surface. Further, FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the pressing member 12b among the rotation suppressing mechanisms of the restraining member 12. Further, FIG. 5 is a diagram showing a bearing 12a among the rotation suppressing mechanisms of the restraining member 12.
As described above, in the restraint member 12 installed in the carocell 13, when the support rod 11 revolves around the rotation shaft 16 with the rotation of the carocell 13, the support rod 11 itself rotates (rotates) in the restraint member 12. It includes a rotation suppression mechanism that can suppress the rotation.

図2に示すとおり、本実施形態における拘束部材12の自転抑制機構は、軸受12aと押し付け部材12bを含んでいる。
このうち、軸受12aは、図3及び5などにも示されるとおり、収容凹部12a、押し付け部材格納部12a、及び位置決め突部12aなどを含んで構成されている。この軸受12aの材質に特に制限はないが、例えば樹脂などで形成してもよい。
As shown in FIG. 2, the rotation suppressing mechanism of the restraining member 12 in the present embodiment includes the bearing 12a and the pressing member 12b.
Of these, the bearing 12a is configured to include a housing recess 12a 1 , a pressing member accommodating portion 12a 2 , a positioning protrusion 12a 3 , and the like, as shown in FIGS. 3 and 5. The material of the bearing 12a is not particularly limited, but may be formed of, for example, resin.

収容凹部12aは、支持ロッド11の周面の少なくとも一部が収容可能な凹部であり、支持ロッド11が接触する底面は当該支持ロッド11の外周面に倣うようにU字状の曲面となっている。なお図3に示されるとおり、支持ロッド11が挿入される長さLは、支持ロッド11が拘束部材12で支持可能な限り特に制限はなく、カローセル13からの拘束部材12の高さを考慮して適宜設定してもよい。The accommodating recess 12a 1 is a recess capable of accommodating at least a part of the peripheral surface of the support rod 11, and the bottom surface with which the support rod 11 contacts has a U-shaped curved surface so as to follow the outer peripheral surface of the support rod 11. ing. As shown in FIG. 3, the length L into which the support rod 11 is inserted is not particularly limited as long as the support rod 11 can be supported by the restraint member 12, and the height of the restraint member 12 from the carocell 13 is taken into consideration. It may be set as appropriate.

押し付け部材格納部12aは、後述する押し付け部材12bが収容される部位である。押し付け部材格納部12aは、本実施形態では収容凹部12aを挟むよう2ヶ所で互いに対向するように配置されている。また、図5に示すとおり、押し付け部材格納部12aには、押し付け部材12bが脱落しないように当該押し付け部材12bの移動をガイドするガイド溝12aが形成されている。The pressing member storage portion 12a 2 is a portion in which the pressing member 12b, which will be described later, is accommodated. In the present embodiment, the pressing member storage portions 12a 2 are arranged so as to face each other at two locations so as to sandwich the accommodating recess 12a 1 . Further, as shown in FIG. 5, the pressing member storage portion 12a 2 is formed with a guide groove 12a 4 for guiding the movement of the pressing member 12b so that the pressing member 12b does not fall off.

さらに、押し付け部材格納部12aには、後述する取り付け部材12bが挿入される挿入孔12aが形成されている。このように本実施形態では挿入孔12aを介して取り付け部材12bが押し付け部材格納部12a内に配置されるため、押し付け部材12bを安定して押し付け部材格納部12a内に位置付けることが可能となっている。Further, the pressing member storage portion 12a 2 is formed with an insertion hole 12a 5 into which the mounting member 12b 3 described later is inserted. As described above, in the present embodiment, since the mounting member 12b 3 is arranged in the pressing member storage portion 12a 2 via the insertion hole 12a 5 , the pressing member 12b can be stably positioned in the pressing member storage portion 12a 2 . It is possible.

位置決め突部12aは、上記したカローセル13の予め規定された位置に拘束部材12を設置するためのガイドである。すなわち、カローセル13にも位置決め突部12aと対応する位置決め凹部(不図示)が形成されており、この位置決め凹部に位置決め突部12aを挿入することでカローセル13上における拘束部材12の位置が確定される。The positioning protrusion 12a 3 is a guide for installing the restraint member 12 at a predetermined position of the carocell 13 described above. That is, the carocell 13 also has a positioning recess (not shown) corresponding to the positioning protrusion 12a 3 , and by inserting the positioning protrusion 12a 3 into the positioning recess, the position of the restraining member 12 on the carocell 13 can be changed. It will be confirmed.

なお、本実施形態の位置決め突部12aは円柱状であるが、この態様に限られず例えば三角柱や四角柱、あるいは五角柱などの矩形状であってもよい。位置決め突部12aを矩形状とし、対応する位置決め凹部も矩形状とすることで、例えばU字状の開口部側が外周を向くなど拘束部材12の向きも自動的に確定することが可能となる。Although the positioning protrusions 12a 3 of the present embodiment are columnar, the present invention is not limited to this embodiment and may be a rectangular shape such as a triangular prism, a quadrangular prism, or a pentagonal prism. By making the positioning protrusion 12a 3 rectangular and the corresponding positioning recess also rectangular, it is possible to automatically determine the orientation of the restraint member 12, for example, the U-shaped opening side faces the outer circumference. ..

次に図2~図4を用いて、上記した自転抑制機構のうち押し付け部材12bの詳細な構成について説明する。
まず図4に示すとおり、押し付け部材12bは、接触部材12b、弾性部材12b及び取り付け部材12bを含んで構成されている。
なお図4において、(a)は接触部材12bを示し、(b)は弾性部材12bを示し、(c)は取り付け部材12bを示し、(d)は接触部材12bをY方向側から見た図であり、(e)は取り付け部材12bをY方向側から見た図である。
接触部材12bは、収容凹部12aに収容された支持ロッド11に接触可能な部材である。この接触部材12bの材質に特に制限はないが、例えば樹脂などで形成してもよい。
Next, with reference to FIGS. 2 to 4, a detailed configuration of the pressing member 12b among the above-mentioned rotation suppressing mechanisms will be described.
First, as shown in FIG. 4, the pressing member 12b includes a contact member 12b 1 , an elastic member 12b 2 , and a mounting member 12b 3 .
In FIG. 4, (a) shows the contact member 12b 1 , (b) shows the elastic member 12b 2 , (c) shows the mounting member 12b 3 , and (d) shows the contact member 12b 1 on the Y direction side. (E) is a view of the mounting member 12b 3 seen from the Y direction side.
The contact member 12b 1 is a member capable of contacting the support rod 11 accommodated in the accommodating recess 12a 1 . The material of the contact member 12b 1 is not particularly limited, but may be formed of, for example, resin.

同図に示すとおり、接触部材12bにはネジ孔Mが形成されており、後述する取り付け部材12bのネジ部Nと螺合される。したがって、接触部材12bは、収容凹部12aに支持ロッド11が収容された状態で後述する弾性部材12bを介して当該支持ロッド11に接触して押し付けられることが可能となっている。As shown in the figure, a screw hole M is formed in the contact member 12b 1 and is screwed with a screw portion N of the mounting member 12b 3 described later. Therefore, the contact member 12b 1 can be brought into contact with and pressed against the support rod 11 via the elastic member 12b 2 , which will be described later, in a state where the support rod 11 is housed in the housing recess 12a 1 .

さらに図2や図3にも示されるとおり、本実施形態の拘束部材12は、押し付け部材12bを少なくとも2つ具備し、互いの接触部材12bが進退方向(図2におけるY方向)に関して対向するように配置されていてもよい。
また、図4に示されるとおり、本実施形態の接触部材12bの頂部tには、支持ロッド11の脱着を促すガイド面t1及びガイド面t2が形成されてなる。
Further, as shown in FIGS. 2 and 3, the restraining member 12 of the present embodiment includes at least two pressing members 12b, and the contact members 12b 1 of each other face each other in the advancing / retreating direction (Y direction in FIG. 2). It may be arranged so as to.
Further, as shown in FIG. 4, a guide surface t1 and a guide surface t2 for promoting attachment / detachment of the support rod 11 are formed on the top portion t of the contact member 12b 1 of the present embodiment.

このうちガイド面t1は、収容凹部12aに収容された支持ロッド11が接触する面である。図3からも明らかなとおり、頂部tは三角屋根状又は矢印状のごとき形状となっており、このガイド面t1は、頂部tの先端から支持ロッド11の周面に沿って、Y方向に関して先端が先細りとなるような傾斜した面となっている。Of these, the guide surface t1 is a surface on which the support rod 11 accommodated in the accommodating recess 12a1 comes into contact. As is clear from FIG. 3, the top t has a shape like a triangular roof or an arrow, and the guide surface t1 has a tip in the Y direction from the tip of the top t along the peripheral surface of the support rod 11. Is an inclined surface that tapers.

一方でガイド面t2は、収容凹部12aに支持ロッド11が収容されるときに当該支持ロッド11が接触する面である。図3からも明らかなとおり、このガイド面t2も、頂部tの先端からY方向に関して先端が先細りとなるような傾斜した面となっている。なお、図4のとおり、本実施形態では、ガイド面t1とY軸とのなる角度αと、ガイド面t2とY軸とのなる角度αは、互いに等しい角度となっている。しかしながらこの形態に限られず、α≠αとなってα>αであってもよいし、α<αであってもよい。On the other hand, the guide surface t2 is a surface that the support rod 11 comes into contact with when the support rod 11 is accommodated in the accommodation recess 12a1. As is clear from FIG. 3, this guide surface t2 is also an inclined surface such that the tip is tapered in the Y direction from the tip of the top t. As shown in FIG. 4, in the present embodiment, the angle α 1 formed by the guide surface t1 and the Y axis and the angle α 2 formed by the guide surface t2 and the Y axis are equal to each other. However, the present invention is not limited to this form, and α 1 ≠ α 2 and α 1 > α 2 may be satisfied, or α 12 may be satisfied.

また、接触部材12bの頂部tの少なくとも一部には、低摩擦処理が施されていてもよい。換言すれば、ガイド面t1およびガイド面t2の少なくとも一方には、支持ロッド11の着脱を促進するように低摩擦処理が施されていてもよい。この低摩擦処理の具体例としては、種々の公知の処理が適用でき、例えばフッ素コーティング膜を別途施してもよいし、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)コーティング膜を別途施してもよい。Further, at least a part of the top portion t of the contact member 12b 1 may be subjected to a low friction treatment. In other words, at least one of the guide surface t1 and the guide surface t2 may be subjected to a low friction treatment so as to promote the attachment / detachment of the support rod 11. As a specific example of this low friction treatment, various known treatments can be applied, for example, a fluorine coating film may be separately applied, or a DLC (diamond-like carbon) coating film may be separately applied.

また、図4に示すとおり、接触部材12bには、上述した押し付け部材格納部12a2のガイド溝12aに対応するガイド突起12bが形成されている。本実施形態では、ガイド溝12aに対応して、接触部材12bの隣り合う2つの側面にそれぞれガイド突起12bが形成されている。Further, as shown in FIG. 4, the contact member 12b 1 is formed with a guide protrusion 12b 4 corresponding to the guide groove 12a 4 of the above-mentioned pressing member storage portion 12a 2 . In the present embodiment, the guide protrusions 12b 4 are formed on the two adjacent side surfaces of the contact member 12b 1 corresponding to the guide grooves 12a 4 .

弾性部材12bは、上記した接触部材12bを支持ロッド11に対して押し付ける機能を有する。本実施形態における弾性部材12bの具体例としては、接触部材12bを支持ロッド11に対して押し付けることが可能であれば特に制限はないが、例えばバネやゴムなどが例示できる。そして弾性部材12bは、支持ロッド11が収容凹部12a内に収容された状態において、当該支持ロッド11を接触部材12bが押し付け続けられる程度のバネ定数を有していることが好ましい。The elastic member 12b 2 has a function of pressing the above-mentioned contact member 12b 1 against the support rod 11. Specific examples of the elastic member 12b 2 in the present embodiment are not particularly limited as long as the contact member 12b 1 can be pressed against the support rod 11, but examples thereof include springs and rubber. The elastic member 12b 2 preferably has a spring constant sufficient to allow the contact member 12b 1 to continue pressing the support rod 11 while the support rod 11 is housed in the accommodation recess 12a 1 .

そして本実施形態の弾性部材12bは、一方の端部が接触部材12bと接触するとともに、他方の端部が押し付け部材格納部12aに接触している。これにより、支持ロッド11が脱着される際に、弾性部材12bは、押し付け部材格納部12aを基端にして接触部材12bを押し出す作用を奏することができる。The elastic member 12b 2 of the present embodiment has one end in contact with the contact member 12b 1 and the other end in contact with the pressing member storage portion 12a 2 . As a result, when the support rod 11 is attached or detached, the elastic member 12b 2 can exert an action of pushing out the contact member 12b 1 with the pressing member accommodating portion 12a 2 as the base end.

取り付け部材12bは、図3などに示されるとおり、押し付け部材格納部12aに格納される部位である。この取り付け部材12bの材質に特に制限はないが、例えば樹脂などで形成してもよい。上述のとおり本実施形態では、押し付け部材格納部12aに挿入孔12aが形成されるとともに、この挿入孔12aに取り付け部材12bが挿入される。また、取り付け部材12bの先端部はネジ部Nとなっており、接触部材12bの上記したネジ孔Mと螺合されることで一体化される。これにより、押し付け部材格納部12aに押し付け部材12bが格納され、さらにガイド溝12aとガイド突起12bとで押し付け部材12bが脱落することが防止されている。As shown in FIG. 3 and the like, the mounting member 12b 3 is a portion stored in the pressing member storage portion 12a 2 . The material of the mounting member 12b 3 is not particularly limited, but may be formed of, for example, resin. As described above, in the present embodiment, the insertion hole 12a 5 is formed in the pressing member storage portion 12a 2 , and the mounting member 12b 3 is inserted into the insertion hole 12a 5 . Further, the tip portion of the mounting member 12b 3 is a screw portion N, and is integrated by being screwed into the above-mentioned screw hole M of the contact member 12b 1 . As a result, the pressing member 12b is stored in the pressing member storage portion 12a 2 , and the pressing member 12b is prevented from falling off at the guide groove 12a 4 and the guide protrusion 12b 4 .

次に図6を用いて、支持ロッド11が拘束部材12の収容凹部12aに対して挿脱される際の状態遷移について説明する。なお図6(a)は支持ロッド11が収容凹部12aの外部にあるときを示し、(b)は支持ロッド11が収容凹部12aに挿入中のときを示し、(c)は支持ロッド11の収容凹部12aへの収容が完了したときを示す。
そして図6(b)に示されるとおり、支持ロッド11が拘束部材12の収容凹部12aに収容されるときは、支持ロッド11の挿入に伴って押し付け部材12の接触部材12bが外側に(一対の接触部材12bが互いに離間する方向に)スライド移動する。
Next, with reference to FIG. 6, the state transition when the support rod 11 is inserted into and detached from the accommodating recess 12a 1 of the restraining member 12 will be described. Note that FIG. 6A shows the case where the support rod 11 is outside the housing recess 12a1, FIG. 6B shows the case where the support rod 11 is being inserted into the housing recess 12a1, and FIG. 6C shows the case where the support rod 11 is being inserted into the housing recess 12a1. The time when the accommodation in the accommodation recess 12a 1 is completed is shown.
Then, as shown in FIG. 6B, when the support rod 11 is accommodated in the accommodating recess 12a 1 of the restraining member 12, the contact member 12b 1 of the pressing member 12 is moved outward (as the support rod 11 is inserted). The pair of contact members 12b 1 slide and move (in the direction in which they are separated from each other).

そして図6(c)に示されるとおり、支持ロッド11がさらに移動して収容凹部12a内に進入すると、弾性部材12bの作用で接触部材12bが支持ロッド11の外周面を押し付ける。これにより、収容凹部12a内で支持ロッド11は固定されることとなり、上述のとおりカローセル13が回転することで支持ロッド11が公転したとしても、収容凹部12a内で支持ロッド11が自転してしまうことが抑制される。Then, as shown in FIG. 6 (c), when the support rod 11 further moves and enters the accommodating recess 12a 1 , the contact member 12b 1 presses the outer peripheral surface of the support rod 11 by the action of the elastic member 12b 2 . As a result, the support rod 11 is fixed in the accommodating recess 12a 1 , and even if the support rod 11 revolves due to the rotation of the carocell 13 as described above, the support rod 11 rotates in the accommodating recess 12a 1 . It is suppressed that it ends up.

一方で、例えばNi-Pめっき処理が完了して支持ロッド11から基板1を取り外す際などは、拘束部材12による拘束を解放して支持ロッド11をカローセル13から外す必要がある。このような場合には、図6(b)のとおり支持ロッド11が収容凹部12a内から離脱するに伴って押し付け部材12の接触部材12bが外側にスライド移動する。次いで図6(a)のとおり、支持ロッド11が収容凹部12a内から完全に離脱した後は、弾性部材12bの作用で接触部材12bが元の位置へ戻ることとなる。On the other hand, for example, when the Ni-P plating process is completed and the substrate 1 is removed from the support rod 11, it is necessary to release the restraint by the restraint member 12 and remove the support rod 11 from the carocell 13. In such a case, as shown in FIG. 6B, the contact member 12b 1 of the pressing member 12 slides outward as the support rod 11 separates from the accommodation recess 12a 1 . Then, as shown in FIG. 6A, after the support rod 11 is completely detached from the inside of the accommodating recess 12a 1 , the contact member 12b 1 returns to the original position by the action of the elastic member 12b 2 .

このように本実施形態では、カローセル13に設置された拘束部材12は、支持ロッド11を着脱自在に支持しつつ、自転抑制機構の作用によって支持ロッド11が収容凹部12a内で自転してしまうことを抑制している。
これにより、支持ロッドとカローセルとの接続部位で生じ得る摩耗粉に起因して発生するノジュールを抑制することが可能となる。
As described above, in the present embodiment, the restraining member 12 installed in the carocell 13 supports the support rod 11 in a detachable manner, and the support rod 11 rotates in the accommodation recess 12a 1 due to the action of the rotation suppression mechanism. It suppresses that.
This makes it possible to suppress nodules generated due to wear debris that may occur at the connection portion between the support rod and the carousel.

なお上記で説明した実施形態は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。以下、本発明に適用が可能な変形例について説明する。
上記した実施形態では、接触部材12bの頂部tにはガイド面が形成されて三角屋根状又は矢印状のごとき形状となっていたが、ガイド面t2は支持ロッド11の周面と同様の曲面となっていてもよい。あるいは、接触部材12bの頂部tにガイド面は必須ではなく、適宜これを省略してもよい。
The embodiments described above can be modified in various ways without departing from the spirit of the present invention. Hereinafter, modifications applicable to the present invention will be described.
In the above-described embodiment, a guide surface is formed on the top portion t of the contact member 12b 1 to form a triangular roof shape or an arrow shape, but the guide surface t2 has a curved surface similar to the peripheral surface of the support rod 11. It may be. Alternatively, the guide surface is not essential on the top portion t of the contact member 12b 1 , and this may be omitted as appropriate.

また、上記で説明した実施形態は、頂部tは先端が先細りとなった三角屋根状又は矢印状のごとき形状となっている。ここで頂部tの先端は尖っていても良いが、先端にR部(アール部)を有する先丸形状となっていることがさらに好ましい。
すなわち、先端にR部(アール部)を有する形状とすることにより、支持ロッド11の装着がよりスムーズに行えるようになる。その結果、ディスク基板を装着した支持ロッド11を本願発明のめっき処理用治具10に装着する際に、ディスク基板同士やディスク基板とめっき処理用治具10が衝突して生ずるシャローピット(小さい凹み欠陥)の発生を抑制することが可能となる。
そのため、頂部tは先端にR部(アール部)を有する形状とすることがより好ましいものである。
なお上記R部(アール部)の大きさとしては特に制限されるものではないが、例えばR0.5~R5.0程度の大きさであれば好ましい。
Further, in the embodiment described above, the top portion t has a shape like a triangular roof or an arrow shape with a tapered tip. Here, the tip of the top portion t may be sharp, but it is more preferable that the tip has a rounded tip having an R portion (rounded portion) at the tip.
That is, by forming the shape having the R portion (R portion) at the tip, the support rod 11 can be mounted more smoothly. As a result, when the support rod 11 on which the disc substrate is mounted is mounted on the plating jig 10 of the present invention, the disc substrates or the disc substrate collide with the plating jig 10 to generate shallow pits (small dents). It is possible to suppress the occurrence of defects).
Therefore, it is more preferable that the top portion t has a shape having an R portion (rounded portion) at the tip.
The size of the R portion (R portion) is not particularly limited, but is preferably about R0.5 to R5.0, for example.

また、拘束部材12の自転抑制機構として、軸受12aと押し付け部材12bの例を説明したが、支持ロッド11の自転を抑制できれば他の構造を採用してもよい。例えば、軸受12aの収容凹部12a内に、支持ロッド11が圧入可能なように凹状のスポンジやゴムなどの個体弾性部材を配置し、この個体弾性部材内に支持ロッド11を圧入して自転を抑制する態様であってもよい。また、上記実施形態では、押しつけ部材12bを対向するように形成したが、自転を抑制できれば押しつけ部材12bは片側に1つだけ設ける構造を用いてもよい。
さらに、上記した実施形態では、拘束部材12は支持ロッド11を把持可能な断面がU字状の部材であったが、同様の作用効果が得られれば他の構造を用いてもよい。
Further, although the example of the bearing 12a and the pressing member 12b has been described as the rotation suppressing mechanism of the restraining member 12, another structure may be adopted as long as the rotation of the support rod 11 can be suppressed. For example, a solid elastic member such as a concave sponge or rubber is arranged in the accommodating recess 12a 1 of the bearing 12a so that the support rod 11 can be press-fitted, and the support rod 11 is press-fitted into the solid elastic member to rotate. It may be an aspect of suppressing. Further, in the above embodiment, the pressing member 12b is formed so as to face each other, but a structure in which only one pressing member 12b is provided on one side may be used as long as the rotation can be suppressed.
Further, in the above-described embodiment, the restraint member 12 is a member having a U-shaped cross section that can grip the support rod 11, but another structure may be used as long as the same effect can be obtained.

また、上記実施形態では、めっき処理用治具10の主とした材質を樹脂で形成したが、これに限られず、めっき処理した金属など他の材料を用いてもよい。
また、上記実施形態では、基板1の用途としてHDD向けの磁気ディスク(磁気記録媒体)を例にして説明したが、磁気ディスク以外の他の用途に適用してもよい。この場合、その用途に即してめっき浴槽内のめっき液が変更されることは言うまでもない。
Further, in the above embodiment, the main material of the plating jig 10 is made of resin, but the present invention is not limited to this, and other materials such as plated metal may be used.
Further, in the above embodiment, the magnetic disk (magnetic recording medium) for HDD has been described as an example of the application of the substrate 1, but it may be applied to other applications other than the magnetic disk. In this case, it goes without saying that the plating solution in the plating bath is changed according to the application.

以上説明したように、本発明のめっき処理用治具およびめっき処理装置は、各種めっき処理される基板の製造に適しており、幅広い分野の産業への適用が可能である。 As described above, the plating processing jig and the plating processing apparatus of the present invention are suitable for manufacturing various types of substrates to be plated, and can be applied to a wide range of industries.

L めっき液
1 基板
10 めっき処理用治具
11 支持ロッド
12 拘束部材
12a 軸受
12b 押し付け部材
13 カローセル
13a 第1カローセル
13b 第2カローセル
14 吊り下げ装置
15 回転機構
15a モータ
15b 伝達ギア
16 回転軸
20 めっき浴槽
100 めっき処理装置
L Plating liquid 1 Substrate 10 Plating jig 11 Support rod 12 Restraining member 12a Bearing 12b Pushing member 13 Carocell 13a First carocell 13b Second carocell 14 Suspension device 15 Rotating mechanism 15a Motor 15b Transmission gear 16 Rotating shaft 20 Plating bath 100 Plating processing equipment

Claims (7)

めっき浴槽内のめっき液中に、中心孔を有する円盤状の基板を浸漬させるためのめっき処理用治具であって、
前記基板の中心孔へ挿通される支持ロッドと、
前記支持ロッドを支持するとともに、前記支持した支持ロッドが自転することを抑制する自転抑制機構を備えた拘束部材と、
前記拘束部材を介して前記支持ロッドが取り付けられるカローセルと、
を含み、
前記自転抑制機構は、
前記支持ロッドに接触する接触部材と、前記接触部材を前記支持ロッドに対して押し付ける弾性部材を有する押し付け部材を含むことを特徴とするめっき処理用治具。
A jig for plating processing for immersing a disk-shaped substrate having a central hole in the plating solution in a plating bath.
A support rod inserted into the center hole of the substrate and
A restraining member having a rotation suppressing mechanism that supports the support rod and suppresses the rotation of the supported support rod, and
A carocell to which the support rod is attached via the restraint member,
Including
The rotation suppression mechanism is
A jig for plating processing , comprising a contact member that comes into contact with the support rod and a pressing member having an elastic member that presses the contact member against the support rod .
めっき浴槽内のめっき液中に、中心孔を有する円盤状の基板を浸漬させるためのめっき処理用治具であって、A jig for plating processing for immersing a disk-shaped substrate having a central hole in the plating solution in a plating bath.
前記基板の中心孔へ挿通される支持ロッドと、A support rod inserted into the center hole of the substrate and
前記支持ロッドを収容凹部で着脱可能に支持するとともに、前記支持した支持ロッドが自転することを抑制する自転抑制機構を備えた拘束部材と、A restraining member provided with a rotation suppressing mechanism that supports the support rod in a detachable manner in a housing recess and suppresses the rotation of the supported support rod.
前記拘束部材を介して前記支持ロッドが着脱可能に取り付けられるカローセルと、A carocell to which the support rod is detachably attached via the restraint member, and
を含み、Including
前記自転抑制機構は、The rotation suppression mechanism is
前記収容凹部に収容された前記支持ロッドを収容凹部側に押し付ける接触部材を含むことを特徴とするめっき処理用治具。A jig for plating processing, comprising a contact member for pressing the support rod housed in the housing recess toward the housing recess side.
前記拘束部材には、前記支持ロッドの周面の少なくとも一部が収容されるU字状の収容凹部が設けられ、
前記接触部材は、前記収容凹部に前記支持ロッドが収容された状態で前記弾性部材を介して当該支持ロッドに接触して押し付けられる請求項に記載のめっき処理用治具。
The restraining member is provided with a U-shaped accommodating recess in which at least a part of the peripheral surface of the support rod is accommodated.
The plating processing jig according to claim 1 , wherein the contact member is pressed against the support rod through the elastic member in a state where the support rod is housed in the storage recess.
前記押し付け部材を少なくともそれぞれ2つ具備し、
互いの前記接触部材が進退方向に関して対向するように配置されている請求項又は3に記載のめっき処理用治具。
At least two of the pressing members are provided.
The plating processing jig according to claim 1 or 3, wherein the contact members are arranged so as to face each other in the advancing / retreating direction.
前記接触部材の頂部には、前記支持ロッドの脱着を促すガイド面が形成されてなる請求項~4のいずれか一項に記載のめっき処理用治具。 The plating processing jig according to any one of claims 1 to 4, wherein a guide surface for promoting attachment / detachment of the support rod is formed on the top of the contact member. 前記接触部材の頂部の少なくとも一部には低摩擦処理が施されてなる請求項~5のいずれか一項に記載のめっき処理用治具。 The plating treatment jig according to any one of claims 1 to 5, wherein at least a part of the top of the contact member is subjected to a low friction treatment. 請求項1~6のいずれか一項に記載のめっき処理用治具と、
前記カローセルを回転させる回転機構と、
を含むことを特徴とするめっき処理装置。
The plating jig according to any one of claims 1 to 6 and the jig for plating processing.
The rotation mechanism that rotates the carousel and
A plating processing apparatus characterized by containing.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001003177A (en) 1999-06-18 2001-01-09 Mitsubishi Materials Corp Disk substrate plating device
JP2007169757A (en) 2005-12-26 2007-07-05 Showa Denko Kk Tool for plating treatment
JP2011231347A (en) 2010-04-23 2011-11-17 Showa Denko Kk Electroless plating device and magnetic rotation transmission mechanism

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0627351B2 (en) * 1985-08-06 1994-04-13 日本電気株式会社 Work mounting device for surface treatment equipment
JP2877217B2 (en) * 1993-03-29 1999-03-31 日本軽金属株式会社 Surface treatment equipment
JPH11209877A (en) * 1998-01-27 1999-08-03 Nippon Light Metal Co Ltd Plating device
JPH11256347A (en) * 1998-03-13 1999-09-21 Nippon Light Metal Co Ltd Rack device for plating disk to be plated and racking method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001003177A (en) 1999-06-18 2001-01-09 Mitsubishi Materials Corp Disk substrate plating device
JP2007169757A (en) 2005-12-26 2007-07-05 Showa Denko Kk Tool for plating treatment
JP2011231347A (en) 2010-04-23 2011-11-17 Showa Denko Kk Electroless plating device and magnetic rotation transmission mechanism

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