JP7161821B2 - Hard disk substrate plating jig - Google Patents

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Description

本発明は、ハードディスク用基板をめっきする際に使用するめっき治具に関する。 The present invention relates to a plating jig used when plating hard disk substrates.

この種のハードディスク用基板のめっき治具として、ハードディスク用基板をめっきする際に、ハードディスク用基板の中心の貫通孔に挿入されてハードディスク用基板をぶら下げた状態で支持するめっき軸が開示されている(特許文献1および特許文献2参照)。めっき軸は、ハードディスク用基板とともにめっき液に浸漬され、めっき液内で回転駆動され、めっき軸にぶら下げ支持されているハードディスク用基板をめっき液内で従動回転させるように構成されている。めっき軸の外周面には、周方向に沿って溝が設けられており、めっき軸にぶら下げ支持されているハードディスク用基板が軸方向に移動するのを規制している。 As a plating jig for this type of hard disk substrate, a plating shaft is disclosed that is inserted into a through hole in the center of the hard disk substrate to support the hard disk substrate in a suspended state when the hard disk substrate is plated. (See Patent Document 1 and Patent Document 2). The plating shaft is immersed in the plating solution together with the hard disk substrate and is rotationally driven in the plating solution so that the hard disk substrate suspended and supported by the plating shaft is driven to rotate in the plating solution. Grooves are provided along the circumferential direction on the outer peripheral surface of the plating shaft to restrict axial movement of the hard disk substrate suspended from the plating shaft.

特許文献1に記載の溝は、断面がVの字形状で、めっき軸の外周面からの深さが5mm以下で形成されている。ハードディスク用基板の厚みは、0.8mmまたは1.3mmのものが使用されている。特許文献2に記載の溝は、断面が方形で、めっき軸の外周面から幅0.5mm~1.5mmで、深さが1.5mm~3mmの寸法を有している。特に、ハードディスク用基板の厚みが0.8mmのものに対しては、溝が幅1mmで、深さが2.5mmの寸法を有している。 The groove described in Patent Document 1 has a V-shaped cross section and is formed with a depth of 5 mm or less from the outer peripheral surface of the plating shaft. Hard disk substrates with a thickness of 0.8 mm or 1.3 mm are used. The groove described in Patent Document 2 has a rectangular cross section, a width of 0.5 mm to 1.5 mm from the outer peripheral surface of the plating shaft, and a depth of 1.5 mm to 3 mm. In particular, for a hard disk substrate having a thickness of 0.8 mm, the groove has a width of 1 mm and a depth of 2.5 mm.

特開平9-157857号公報JP-A-9-157857 特開平9-71869号公報JP-A-9-71869

しかしながら、特許文献1に記載の溝は、断面がVの字形状で形成されているため、めっき軸にぶら下げ支持されたハードディスク用基板は、溝の内壁面に対してハードディスク用基板の貫通孔を形成する内壁の角部が点接触するだけである。したがって、ハードディスク用基板を安定した姿勢状態で支持することが困難で、ハードディスク用基板の支持が不十分となっている。断面がVの字形状の溝は、具体的には、図7に示すように、めっき軸Jの外周面gに形成された一方の傾斜面aと、一方の傾斜面aに対向する他方の傾斜面bとを有する傾斜部Kを備えている。特許文献1に記載の溝では、めっき軸によりハードディスク用基板を従動回転させた際に、図8(a)に示すように、ハードディスク用基板Pに大きなばたつきが発生し、傾斜部Kの傾斜面a、bが削れてめっき液に異物となって混入し、めっき表面に付着してめっき不良になってしまうという、いわゆるノジュールの発生の問題がある。 However, since the groove described in Patent Document 1 is formed with a V-shaped cross section, the hard disk substrate suspended from the plating shaft does not fit through the through hole of the hard disk substrate with respect to the inner wall surface of the groove. Only the corners of the inner wall to be formed make point contact. Therefore, it is difficult to support the hard disk substrate in a stable posture, and the hard disk substrate is not sufficiently supported. Specifically, as shown in FIG. 7, the groove having a V-shaped cross section includes one inclined surface a formed on the outer peripheral surface g of the plating shaft J and the other inclined surface a facing the one inclined surface a. and an inclined portion K having an inclined surface b. In the grooves disclosed in Patent Document 1, when the hard disk substrate is driven to rotate by the plating shaft, as shown in FIG. There is a problem of generation of so-called nodules in which a and b are scraped off and mixed into the plating solution as foreign matter and attached to the plating surface, resulting in plating failure.

また、図8(b)に示すように、ハードディスク用基板P同士の間に、スペーサSが設けられている場合には、ハードディスク用基板Pのばたつきによってハードディスク用基板Pの外周面部がスペーサSに衝突して、スペーサSが削られ、めっき液内に異物となって混入し、ハードディスク用基板Pのめっき面に付着してめっき不良になってしまうという、ノジュールの発生の問題がある。 Further, as shown in FIG. 8(b), when a spacer S is provided between the hard disk substrates P, the hard disk substrate P flutters, causing the outer peripheral surface of the hard disk substrate P to stick to the spacer S. There is a problem that nodules are generated in that the spacers S are scraped by the collision, mixed into the plating solution as foreign matter, and attached to the plating surface of the hard disk substrate P, resulting in plating failure.

特許文献2に記載の溝においても、特許文献1に記載の溝の場合と同様に、ハードディスク用基板の支持が不十分であり、ハードディスク用基板を従動回転させた際にハードディスク用基板に大きなばたつきが発生するおそれがある。したがって、他の部品への衝突によりハードディスク用基板のめっき表面に傷が付くおそれや、めっき軸が削られてめっき液内に異物として混入し、めっき表面に付着してめっき不良になってしまうという、いわゆるノジュールの発生の問題がある。特に、厚みが0.5mm~0.63mm程度の薄いハードディスク用基板の場合に、ばたつきの発生が顕著に顕れてしまうという問題がある。 Similarly to the groove described in Patent Document 1, in the groove described in Patent Document 2, the support of the hard disk substrate is insufficient, and when the hard disk substrate is driven to rotate, the hard disk substrate flutters greatly. may occur. Therefore, there is a risk that the plated surface of the hard disk substrate may be damaged due to collision with other parts, and the plating shaft may be scraped and mixed with the plating solution as foreign matter, which may adhere to the plating surface and cause plating failure. , there is a problem of generation of so-called nodules. In particular, in the case of a thin hard disk substrate having a thickness of about 0.5 mm to 0.63 mm, there is a problem that fluttering occurs remarkably.

本発明は、このような問題を解決するためになされたもので、ハードディスク用基板を安定した姿勢状態で支持し、ハードディスク用基板をめっきする際にハードディスク用基板のばたつきの発生を抑制することができるハードディスク用基板のめっき治具を提供することを課題とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve such problems. It is an object of the present invention to provide a plating jig for hard disk substrates that can

(1)本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、中心に貫通孔を有するハードディスク用基板の前記貫通孔に挿入される軸本体と、該軸本体の表面に凹設されて前記軸本体に前記ハードディスク用基板をぶら下げて支持した状態で前記ハードディスク用基板の一部が入り込む溝とを備えたハードディスク用基板のめっき治具であって、前記溝は、前記軸本体の軸線方向に直交する方向に所定の幅および所定の深さで形成され、前記溝に前記ハードディスク用基板の一部が入り込んだ状態で、前記ハードディスク用基板の厚みと前記溝の幅との差が、0.04mm以上、かつ0.3mm以下になるように、前記溝の幅が形成されたことを特徴とする。 (1) A plating jig for a hard disk substrate according to the present invention comprises a shaft body having a through hole in the center and inserted into the through hole of the hard disk substrate; and a groove into which a part of the hard disk substrate enters in a state in which the hard disk substrate is suspended and supported, the groove being orthogonal to the axial direction of the shaft main body. is formed with a predetermined width and a predetermined depth in the direction, and a difference between the thickness of the hard disk substrate and the width of the groove is 0.04 mm or more in a state in which a part of the hard disk substrate enters the groove. , and the width of the groove is formed to be 0.3 mm or less.

(2)本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、(1)に記載のハードディスク用基板のめっき治具であって、前記溝の深さが、0.1mm以上、かつ1.0mm以下であることを特徴とする。 (2) The hard disk substrate plating jig according to the present invention is the hard disk substrate plating jig according to (1), wherein the depth of the groove is 0.1 mm or more and 1.0 mm or less. It is characterized by

(3)本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、(1)または(2)に記載のハードディスク用基板のめっき治具であって、前記溝の開口部の角が丸みを有する形状であることを特徴とする。 (3) A plating jig for hard disk substrates according to the present invention is the plating jig for hard disk substrates according to (1) or (2), wherein the corners of the openings of the grooves are rounded. characterized by being

(4)本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、(1)~(3)のいずれかに記載のハードディスク用基板のめっき治具であって、前記溝の底面が平坦であり、前記底面と、前記溝の内壁面とが直交していることを特徴とする。 (4) A plating jig for hard disk substrates according to the present invention is the plating jig for hard disk substrates according to any one of (1) to (3), wherein the bottom surface of the groove is flat, and the bottom surface of the groove is flat. The bottom surface and the inner wall surface of the groove are perpendicular to each other.

(5)本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、(1)~(4)のいずれかに記載のハードディスク用基板のめっき治具であって、ハードディスク用基板のめっき治具の材質は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)であり、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)であり、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、並びにポリエーテルエーテルケトン(PEEK)およびポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の混合材料のいずれかから選択されることを特徴とする。 (5) A hard disk substrate plating jig according to the present invention is the hard disk substrate plating jig according to any one of (1) to (4), wherein the material of the hard disk substrate plating jig is , polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyetheretherketone (PEEK), and mixed materials of polyetheretherketone (PEEK) and polytetrafluoroethylene (PTFE) characterized by being selected from

(6)本発明に係るハードディスク用基板の製造方法は、(1)~(5)のいずれかに記載のハードディスク用基板のめっき治具を用いることを特徴とする。 (6) A method of manufacturing a hard disk substrate according to the present invention is characterized by using the hard disk substrate plating jig according to any one of (1) to (5).

上記(1)に記載した本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、ハードディスク用基板との間の幅方向のクリアランスが、0.04mm以上、かつ0.3mm以下になる幅で、溝が形成されている。この構成により、0.3mmを超える大きな隙間に起因するハードディスク用基板のばたつきの発生が抑制される。さらに、ばたつきに起因する内径付近の疵も防止することができる。また、0.04mm未満となる小さな隙間に起因するめっき厚の薄膜化が防止される。 The hard disk substrate plating jig according to the present invention described in the above (1) has a width of 0.04 mm or more and 0.3 mm or less in the width direction clearance between the hard disk substrate and the groove. formed. This configuration suppresses fluttering of the hard disk substrate caused by a large gap exceeding 0.3 mm. Furthermore, it is possible to prevent scratches near the inner diameter due to fluttering. In addition, thinning of the plating thickness due to small gaps of less than 0.04 mm is prevented.

上記(2)に記載した本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、深さが、0.1mm以上、かつ1.0mm以下の溝が形成されている。この構成により、深さが0.1mm未満となる浅い溝に起因するハードディスク用基板のばたつきの発生が抑制される。また、深さが1.0mmを超える深い溝に起因するめっき厚の薄膜化が防止される。 In the hard disk substrate plating jig according to the present invention described in (2) above, grooves having a depth of 0.1 mm or more and 1.0 mm or less are formed. This configuration suppresses the fluttering of the hard disk substrate due to the shallow grooves having a depth of less than 0.1 mm. In addition, thinning of the plating thickness due to deep grooves exceeding 1.0 mm in depth is prevented.

上記(3)に記載した本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、溝の開口部の角が丸みを有している。この構成により、開口部の角にバリが発生することが防止され、溝に支持されるハードディスク用基板に疵が付くことが防止される。 In the hard disk substrate plating jig according to the present invention described in (3) above, the corners of the openings of the grooves are rounded. With this configuration, burrs are prevented from occurring at the corners of the opening, and the hard disk substrate supported in the grooves is prevented from being damaged.

上記(4)に記載した本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、溝の底面が平坦であり、底面と、溝の内壁面とが直交している。この構成により、ハードディスク用基板が安定した姿勢状態で支持され、ばたつきの発生が抑制される。 In the hard disk substrate plating jig according to the present invention described in (4) above, the bottom surface of the groove is flat, and the bottom surface and the inner wall surface of the groove are perpendicular to each other. With this configuration, the hard disk substrate is supported in a stable posture, and fluttering is suppressed.

上記(5)に記載した本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具は、ハードディスク用基板のめっき治具の材質は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)であり、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)であり、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、またはポリエーテルエーテルケトン(PEEK)およびポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の混合材料である。この構成により、めっき治具の高い耐摩耗性、酸およびアルカリに対する高い耐薬品性、高い電気絶縁性および高い機械的強度が確保される。また、この構成により、めっき治具からの異物の発生が抑制される。 In the hard disk substrate plating jig according to the present invention described in (5) above, the material of the hard disk substrate plating jig is polytetrafluoroethylene (PTFE) and polyvinylidene fluoride (PVDF), Polyetheretherketone (PEEK) or a mixed material of polyetheretherketone (PEEK) and polytetrafluoroethylene (PTFE). This configuration ensures high wear resistance, high chemical resistance to acids and alkalis, high electrical insulation, and high mechanical strength of the plating jig. In addition, this configuration suppresses the generation of foreign matter from the plating jig.

上記(6)に記載した本発明に係るハードディスク用基板の製造方法は、(1)~(5)のいずれかに記載のめっき治具を用いてハードディスク用基板を製造するので、ハードディスク用基板を安定した姿勢状態で支持し、ハードディスク用基板をめっきする際にハードディスク用基板のばたつきの発生を抑制することができ、ばたつきに起因する内径付近の疵を抑制することもでき、また、小さな隙間に起因するめっき厚の薄膜化が防止される。 In the method for manufacturing a hard disk substrate according to the present invention described in (6) above, the hard disk substrate is manufactured using the plating jig described in any one of (1) to (5). It supports the hard disk substrate in a stable posture, suppresses fluttering of the hard disk substrate when plating the hard disk substrate, and can suppress scratches near the inner diameter caused by fluttering. Thinning of the plating thickness caused by this is prevented.

本発明によれば、ハードディスク用基板を安定した姿勢状態で支持することができ、ハードディスク用基板をめっきする際にハードディスク用基板のばたつきの発生を抑制することができるハードディスク用基板のめっき治具を提供することができる。 According to the present invention, there is provided a hard disk substrate plating jig capable of supporting a hard disk substrate in a stable posture and suppressing fluttering of the hard disk substrate when the hard disk substrate is plated. can provide.

本発明の実施形態に係るハードディスク用基板のめっき治具により支持されるハードディスク用基板の図であり、図1(a)は、ハードディスク用基板の斜視図を示し、図1(b)は、ハードディスク用基板の断面図を示す。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure of the hard-disk board|substrate supported by the plating jig|tool of the hard-disk board|substrate based on embodiment of this invention, Fig.1 (a) shows the perspective view of the hard-disk board|substrate, FIG.1(b) shows a hard-disk substrate. 1 shows a cross-sectional view of a substrate for a device. 本発明の実施形態に係るハードディスク用基板のめっき治具の斜視図。1 is a perspective view of a plating jig for a hard disk substrate according to an embodiment of the present invention; FIG. 本発明の実施形態に係るハードディスク用基板のめっき治具の図であり、図3(a)は、ハードディスク用基板のめっき治具の側面図を示し、図3(b)は、図3(a)のA-Aで切断した断面図を示す。3A is a side view of the hard disk substrate plating jig according to the embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a side view of the hard disk substrate plating jig; FIG. ) is a cross-sectional view cut along AA. 本発明の実施形態に係るハードディスク用基板のめっき治具の側面図であり、図4(a)は、溝の傾斜部および垂直部を示し、図4(b)は、溝の垂直部を拡大した拡大側面図を示す。FIG. 4A is a side view of a plating jig for a substrate for a hard disk according to an embodiment of the present invention, FIG. 4A showing an inclined portion and a vertical portion of a groove, and FIG. 4B being an enlarged view of the vertical portion of the groove; shows an enlarged side view. 本発明の実施形態に係るハードディスク用基板のめっき治具にハードディスク用基板を装着した状態のハードディスク用基板のめっき治具の図であり、図5(a)は、ハードディスク用基板のめっき治具の斜視図を示し、図5(b)は、ハードディスク用基板のめっき治具の溝の部分で切断した部分横断面図を示す。FIG. 5A is a diagram of a hard disk substrate plating jig in a state where a hard disk substrate is attached to the hard disk substrate plating jig according to the embodiment of the present invention; FIG. A perspective view is shown, and FIG. 5(b) shows a partial cross-sectional view cut at the groove portion of the plating jig of the hard disk substrate. 本発明の実施形態に係るハードディスク用基板のめっき治具の実施例および比較例の表であり、図6(a)は、ハードディスク用基板の厚みとめっき治具の構成を示し、図6(b)は、実施例および比較例のノジュール発生率を示す。FIG. 6 is a table showing examples and comparative examples of plating jigs for hard disk substrates according to embodiments of the present invention, FIG. ) indicates the nodule generation rate of Examples and Comparative Examples. 従来のハードディスク用基板のめっき治具の溝を拡大した側面図。FIG. 2 is an enlarged side view of a groove of a plating jig for a conventional hard disk substrate; 従来のハードディスク用基板のめっき治具の図であり、図8(a)は、溝の拡大側面図を示し、図8(b)は、ハードディスク用基板を装着した状態のハードディスク用基板のめっき治具の拡大側面図を示す。8(a) is an enlarged side view of a groove, and FIG. 8(b) is a plating jig for a hard disk substrate mounted with a hard disk substrate; FIG. Fig. 3 shows an enlarged side view of the tool;

本発明に係るハードディスク用基板のめっき治具を適用した実施形態に係るハードディスク用基板のめっき治具10について図面を参照して説明する。 A hard disk substrate plating jig 10 according to an embodiment to which the hard disk substrate plating jig according to the present invention is applied will be described with reference to the drawings.

まず、ハードディスク用基板のめっき治具10に装着するハードディスク用基板Pについて説明する。ハードディスク用基板Pは、図1(a)、図1(b)に示すように、厚みがt、外径がD、中心の貫通孔hの内径がdの円盤で構成されている。厚みtは0.5mm~2mm程度、外径Dは、30mm~270mm程度、内径dは、10mm~70mm程度の寸法を有している。 First, the hard disk substrate P to be mounted on the hard disk substrate plating jig 10 will be described. As shown in FIGS. 1(a) and 1(b), the hard disk substrate P is a disc having a thickness of t, an outer diameter of D, and an inner diameter of a central through-hole h of d. The thickness t is about 0.5 mm to 2 mm, the outer diameter D is about 30 mm to 270 mm, and the inner diameter d is about 10 mm to 70 mm.

ハードディスク用基板Pの材料は、アルミニウム合金、ガラス、セラミックなどの板材からなる。ハードディスク用基板Pは、高い精度の平滑性と表面硬度を有しており、高速回転による振動の発生を抑制することができる高い剛性および耐衝撃性も有している。これらの特性を備えるためにハードディスク用基板Pは硬い素材で形成されている。 The hard disk substrate P is made of a plate material such as an aluminum alloy, glass, or ceramic. The hard disk substrate P has high-precision smoothness and surface hardness, and also has high rigidity and impact resistance that can suppress the occurrence of vibration due to high-speed rotation. In order to provide these characteristics, the hard disk substrate P is made of a hard material.

また、ハードディスク用基板Pは、下地の表面処理が行われ、表面処理の後にめっき処理が行われ、めっき処理後に、表面が研磨され鏡面化されるように構成されている。めっき処理として、本実施形態では、無電解ニッケル-りん(NiP)めっきが行われる。 The hard disk substrate P is subjected to surface treatment of the base, plating treatment is performed after the surface treatment, and the surface is polished to a mirror finish after the plating treatment. As the plating treatment, electroless nickel-phosphorus (NiP) plating is performed in this embodiment.

ハードディスク用基板Pのめっき治具10は、図2、図3(a)、図3(b)に示すように、ハードディスク用基板Pの貫通孔hに挿入されるめっき軸20を備えている。めっき軸20は、図3(b)に示すように、軸本体21と、芯材22と、一対のキャップ23を有している。軸本体21には、軸線方向に貫通する貫通孔21aが形成されており、貫通孔21aには、芯材22が挿入されている。キャップ23は、芯材22が挿入された後に貫通孔21aの両側の開口端を閉塞するように取り付けられている。 The plating jig 10 for the hard disk substrate P has a plating shaft 20 inserted into the through hole h of the hard disk substrate P, as shown in FIGS. The plated shaft 20 has a shaft body 21, a core member 22, and a pair of caps 23, as shown in FIG. 3(b). A through hole 21a is formed through the shaft body 21 in the axial direction, and a core member 22 is inserted into the through hole 21a. The cap 23 is attached so as to close the opening ends on both sides of the through hole 21a after the core member 22 is inserted.

軸本体21は、合成樹脂製材料によって構成されており、好ましくは、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)であり、より好ましくは、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)であり、最も好ましくは、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、またはポリエーテルエーテルケトン(PEEK)およびポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の混合材料によって構成されている。これらの材料は、酸およびアルカリに対する高い耐薬品性を有しており、耐摩耗性、電気絶縁性、および機械的強度などの観点からバランスを見ていずれかを選択することができる。また、これらの合成樹脂製材料はハードディスク用基板の製造に支障のない範囲で他の成分との混合材料であってもよい。 The shaft body 21 is made of a synthetic resin material, preferably polytetrafluoroethylene (PTFE), more preferably polyvinylidene fluoride (PVDF), and most preferably polyetheretherketone ( PEEK) or a blend of polyetheretherketone (PEEK) and polytetrafluoroethylene (PTFE). These materials have high chemical resistance to acids and alkalis, and any one of them can be selected from the viewpoints of abrasion resistance, electrical insulation, mechanical strength, and the like. Further, these synthetic resin materials may be mixed materials with other components as long as they do not hinder the production of hard disk substrates.

軸本体21は、ハードディスク用基板Pの貫通孔hよりも小径の外周面部21bを有しており、その外周面部21bには、溝30が凹設されている。溝30は、軸本体21にハードディスク用基板Pをぶら下げて支持した状態でハードディスク用基板Pの一部である内周端部が入り込む大きさを有している。溝30は、軸本体21の軸線方向に直交する方向に所定の幅および所定の深さで形成されており、溝30にハードディスク用基板Pの内周端部が入り込んだ状態で、ハードディスク用基板Pとの間の幅方向のクリアランスCが、0.04mm以上、かつ0.3mm以下になるように、溝30の幅が形成されている。 The shaft body 21 has an outer peripheral surface portion 21b having a smaller diameter than the through hole h of the hard disk substrate P, and a groove 30 is provided in the outer peripheral surface portion 21b. The groove 30 has such a size that the inner peripheral end portion of the hard disk substrate P, which is a part of the hard disk substrate P, can enter when the hard disk substrate P is suspended from the shaft body 21 and supported. The groove 30 is formed with a predetermined width and a predetermined depth in a direction perpendicular to the axial direction of the shaft main body 21 . The width of the groove 30 is formed so that the clearance C in the width direction with P is 0.04 mm or more and 0.3 mm or less.

複数の溝30は、図3(a)、図3(b)に示すように、それぞれ軸本体21の周方向に沿って周状に連続して設けられており、軸本体21の軸方向に所定間隔をおいて例えば60個程度が設けられている。溝30は、図4(a)、図4(b)に示すように、外周面部21bから、軸本体21の軸心に向かって傾斜する傾斜部31と、傾斜部31の軸心側の端部から軸心に向かって垂直に形成された垂直部32と、傾斜部31と垂直部32とが交わる角部33とを有している。 As shown in FIGS. 3A and 3B, the plurality of grooves 30 are circumferentially continuously provided along the circumferential direction of the shaft body 21, and extend in the axial direction of the shaft body 21. For example, about 60 pieces are provided at predetermined intervals. As shown in FIGS. 4A and 4B, the groove 30 includes an inclined portion 31 inclined from the outer peripheral surface portion 21b toward the axis of the shaft body 21 and an end of the inclined portion 31 on the axis side. It has a vertical portion 32 formed vertically from the portion toward the axis, and a corner portion 33 where the inclined portion 31 and the vertical portion 32 intersect.

傾斜部31は、一方の傾斜面31aと、一方の傾斜面31aに対向する他方の傾斜面31bとを有しており、傾斜面31aと傾斜面31bとのなす角はθ(度)で形成され、傾斜部31の開口は幅W1(mm)で形成されている。なす角θおよび幅W1は、めっき軸10の構造、大きさ、形状などの設定諸元や実験値などのデータに基づいて適宜選択される。 The inclined portion 31 has one inclined surface 31a and the other inclined surface 31b facing the one inclined surface 31a, and the angle between the inclined surfaces 31a and 31b is θ (degrees). The opening of the inclined portion 31 is formed with a width W1 (mm). The angle .theta. and the width W1 are appropriately selected based on data such as set parameters such as the structure, size and shape of the plating shaft 10 and experimental values.

ハードディスク用基板Pの貫通孔hに軸本体21を挿通してハードディスク用基板Pをぶら下げ支持した場合に、ハードディスク用基板Pの内周端部が溝30の垂直部32に入り込み易いように、なす角θは、例えば100度程度、幅W1は6mm程度、外周面部21bから傾斜部31と垂直部32とが交わる角部33までの深さDP1は、2.2mm程度で形成されている。なお、この傾斜部31を形成せずに、軸本体21の外周面部21bから直接、垂直部32を形成するようにしても良い。 When the shaft main body 21 is inserted into the through hole h of the hard disk substrate P and the hard disk substrate P is supported by hanging, the inner peripheral end portion of the hard disk substrate P is easily inserted into the vertical portion 32 of the groove 30. For example, the angle θ is approximately 100 degrees, the width W1 is approximately 6 mm, and the depth DP1 from the outer peripheral surface portion 21b to the corner portion 33 where the inclined portion 31 and the vertical portion 32 intersect is approximately 2.2 mm. Instead of forming the inclined portion 31, the vertical portion 32 may be formed directly from the outer peripheral surface portion 21b of the shaft body 21. FIG.

垂直部32は、図4(b)に示すように、一方の内壁面32aと、一方の内壁面32aと対向する他方の内壁面32bと、底面32cとを有している。一方の内壁面32aと他方の内壁面32bとの間は、幅W2(mm)(図4(a)参照)で形成され、垂直部32は、深さDP2(mm)で形成されている。この幅W2は、ハードディスク用基板Pの厚みtと幅W2との差(W2-t)、即ちハードディスク用基板Pとの間の幅方向のクリアランスCが、0.04mm以上、かつ0.3mm以下となるように形成されている。なお、クリアランスCは、幅W2の中心部にハードディスク用基板Pが位置した場合には、隙間C1と隙間C2との合計となる。 As shown in FIG. 4B, the vertical portion 32 has one inner wall surface 32a, another inner wall surface 32b facing the one inner wall surface 32a, and a bottom surface 32c. A width W2 (mm) is formed between one inner wall surface 32a and the other inner wall surface 32b (see FIG. 4A), and the vertical portion 32 is formed with a depth DP2 (mm). The width W2 is the difference (W2-t) between the thickness t of the hard disk substrate P and the width W2, that is, the widthwise clearance C between the hard disk substrate P is 0.04 mm or more and 0.3 mm or less. is formed to be The clearance C is the sum of the gap C1 and the gap C2 when the hard disk substrate P is positioned at the center of the width W2.

したがって、ハードディスク用基板Pの厚みtを含めて、幅W2は、t+Cとなるように形成されている。なお、ハードディスク用基板Pの厚みtが0.63mmの場合は、幅W2は、0.67mm~0.75mmであることが好ましい。なお、この垂直部32により、図5(b)に示すように、ハードディスク用基板Pの貫通孔hの内周端部が支持されている。 Therefore, including the thickness t of the hard disk substrate P, the width W2 is formed to be t+C. When the thickness t of the hard disk substrate P is 0.63 mm, the width W2 is preferably 0.67 mm to 0.75 mm. The vertical portion 32 supports the inner peripheral edge of the through hole h of the hard disk substrate P, as shown in FIG. 5(b).

なお、クリアランスCが0.04mm未満であると、隙間へのめっき液の浸入が不十分となりめっき厚が薄くなることがあり、ハードディスク用基板Pの貫通孔hの角部、即ちIDチャンファー付近に疵が発生することがある。クリアランスCが0.3mmを超えると、溝30によるハードディスク用基板Pの支持が不十分となり、めっき軸20によりハードディスク用基板Pを従動回転させたときにハードディスク用基板Pに大きなばたつきが発生することがある。 If the clearance C is less than 0.04 mm, the penetration of the plating solution into the gap may be insufficient and the plating thickness may become thin. flaws may occur. If the clearance C exceeds 0.3 mm, the support of the hard disk substrate P by the grooves 30 becomes insufficient, and the hard disk substrate P shakes greatly when the hard disk substrate P is driven to rotate by the plating shaft 20 . There is

垂直部32の深さDP2は、垂直部32と傾斜部31とが交わる角部33から底面32cまでの距離(mm)で表される。具体的には、角部33には後述する面取りRが形成されており、深さDP2は、角部33の面取りRの中心から底面32cまでの距離で表される。 The depth DP2 of the vertical portion 32 is represented by the distance (mm) from the corner portion 33 where the vertical portion 32 and the inclined portion 31 intersect to the bottom surface 32c. Specifically, the corner portion 33 is chamfered R to be described later, and the depth DP2 is represented by the distance from the center of the chamfer R of the corner portion 33 to the bottom surface 32c.

なお、深さDP2は0.1mm以上、かつ1.0mm以下が好ましく、0.3mm以下がより好ましい。深さDP2が0.1mm未満であると、溝30によるハードディスク用基板Pの支持が不十分となり、大きなばたつきが発生することがある。深さDP2が1.0mmを超えると、隙間へのめっき液の浸入が不十分となりめっき厚が薄くなることがあり、IDチャンファー付近に疵が発生することがある。 The depth DP2 is preferably 0.1 mm or more and 1.0 mm or less, more preferably 0.3 mm or less. If the depth DP2 is less than 0.1 mm, the hard disk substrate P may be insufficiently supported by the grooves 30, resulting in large rattling. If the depth DP2 exceeds 1.0 mm, the penetration of the plating solution into the gap may be insufficient and the thickness of the plating may become thin, resulting in flaws in the vicinity of the ID chamfer.

底面32cは、軸本体21の軸心に沿って平坦に形成され、底面32cと垂直部32の一方の内壁面32aとが直交し、底面32cと垂直部32の他方の内壁面32bとが直交している。なお、底面32cと一方の内壁面32aおよび他方の内壁面32bとが直交する角部には、ハードディスク用基板Pの貫通孔hの角部が干渉しない範囲で小さな丸みや小さな傾斜があってもよい。 The bottom surface 32c is formed flat along the axis of the shaft body 21, the bottom surface 32c and one inner wall surface 32a of the vertical portion 32 are orthogonal, and the bottom surface 32c and the other inner wall surface 32b of the vertical portion 32 are orthogonal. is doing. The corners where the bottom surface 32c intersects the one inner wall surface 32a and the other inner wall surface 32b at right angles may be slightly rounded or slightly inclined as long as the corners of the through hole h of the hard disk substrate P do not interfere with each other. good.

角部33の面取りRは、丸みを帯びていればよく、角部33に丸みを形成することにより、角部に発生するバリが除去され、ハードディスク用基板Pの疵の発生が防止される。 The chamfering R of the corner portion 33 may be rounded. By forming the roundness of the corner portion 33, burrs generated at the corner portion are removed and the hard disk substrate P is prevented from being scratched.

芯材22は、繊維強化プラスチックや金属などの高い剛性を有する材料からなり、軸本体21に挿入されることで、めっき軸20の機械的強度を高めている。一対のキャップ23は、軸本体21と同様の材料で形成されている。片方のキャップ23は、図2に示すように、めっき設備に設けられている歯車に挿入され、この歯車によりめっき軸20が回転するように構成されている。 The core material 22 is made of a highly rigid material such as fiber-reinforced plastic or metal, and is inserted into the shaft body 21 to increase the mechanical strength of the plated shaft 20 . The pair of caps 23 are made of the same material as the shaft body 21 . As shown in FIG. 2, one of the caps 23 is inserted into a gear provided in the plating equipment, and the gear rotates the plating shaft 20 .

めっき軸20には、図5(a)に示すように、複数個の、例えば軸本体21に形成された溝30に対応して、60個程度のハードディスク用基板Pが挿入される。さらに、めっき軸20は、めっき設備に設けられているスペーサSが各ハードディスク用基板Pの間にセットされるように構成されている。 As shown in FIG. 5A, about 60 hard disk substrates P are inserted into the plated shaft 20 corresponding to a plurality of grooves 30 formed in the shaft body 21, for example. Further, the plating shaft 20 is configured such that the spacers S provided in the plating equipment are set between the substrates P for hard disk.

めっき軸20は、ハードディスク用基板PとスペーサSがセットされた状態で、めっき設備に装着され、浴液内に浸漬された状態で回転駆動される。めっき軸20にぶら下げ支持されているハードディスク用基板Pは、めっき軸20によって浴内で従動回転して表面処理が施され、表面処理の終了後にめっき軸20とともに浴から引き上げられる。 The plating shaft 20 is installed in the plating equipment with the hard disk substrate P and the spacers S set thereon, and is rotatably driven while being immersed in the bath liquid. The hard disk substrate P suspended from the plating shaft 20 is subjected to surface treatment while being driven by the plating shaft 20 to rotate in the bath.

ハードディスク用基板Pは、(1)脱脂、(2)酸エッチング、(3)脱スマット、(4)1stジンケート、(5)脱ジンケート、(6)2ndジンケート、(7)無電解NiPめっき、および各工程間での水洗、の各工程の浴液に浸漬されることでハードディスク用基板Pの表面に表面処理が施される。めっき軸20は、前記(1)~(7)に限られずハードディスク用基板Pを浴液に浸漬し、浴内で従動回転させる工程に使用することができ、例えば前記(1)~(7)の一部の工程に使用されてもよいが、全ての工程で使用されるのが好ましい。 The hard disk substrate P is subjected to (1) degreasing, (2) acid etching, (3) desmutting, (4) 1st zincate, (5) dezincate, (6) 2nd zincate, (7) electroless NiP plating, and The surface of the hard disk substrate P is subjected to surface treatment by being immersed in the bath solution in each step of washing with water between each step. The plating shaft 20 is not limited to the above (1) to (7), but can be used in the step of immersing the hard disk substrate P in the bath and rotating it in the bath. Although it may be used in some steps of, it is preferably used in all steps.

次いで、本実施形態に係るハードディスク用基板Pのめっき治具10の実施例および比較例について説明する。本実施形態に係るハードディスク用基板Pのめっき治具10の実施例に係るめっき治具および比較例に係るめっき治具を作製し、ハードディスク用基板Pをめっき治具に実装して、図6(a)の表に示す各項目について評価した。実施例1~15と、比較例1~3についてそれぞれ評価した。以下、各実施例および各比較例について説明する。 Next, examples and comparative examples of the plating jig 10 for the hard disk substrate P according to the present embodiment will be described. A plating jig according to an example of the plating jig 10 for the hard disk substrate P according to the present embodiment and a plating jig according to a comparative example were produced, and the hard disk substrate P was mounted on the plating jig, and the hard disk substrate P was mounted on the plating jig as shown in FIG. Each item shown in the table of a) was evaluated. Examples 1 to 15 and Comparative Examples 1 to 3 were evaluated respectively. Each example and each comparative example will be described below.

(実施例1)
実施例1は、図6(a)に示すように、ハードディスク用基板Pとして、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmであるアルミニウム合金製のアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.70mmとした。したがって、溝30とハードディスク用基板Pとの間の幅方向のクリアランスCは、W2-t、即ち0.70mm-0.63mm=0.07mmとなる。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.8mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 1)
In Example 1, as shown in FIG. 6A, an aluminum substrate made of an aluminum alloy having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm was used as the hard disk substrate P. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.70 mm. Therefore, the widthwise clearance C between the groove 30 and the hard disk substrate P is W2-t, that is, 0.70 mm-0.63 mm=0.07 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.8 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1においては、めっき軸20を、実際のめっき設備を構成するめっき軸20よりも長さを短く形成し、ハードディスク用基板Pを10個程度支持できるものとした。めっき軸20以外の他の構成は、実際のめっき設備を構成する構成要素と同様に構成した実験機により評価を行った。ハードディスク用基板Pは、下地の表面処理が行われ、表面処理の後に無電解ニッケル-りん(NiP)めっきによるめっき処理を実際のめっき設備におけるめっき処理と同様に行った。 In Example 1, the plating shaft 20 was formed to be shorter than the plating shaft 20 constituting the actual plating equipment so that about ten hard disk substrates P could be supported. Other configurations than the plating shaft 20 were evaluated using an experimental machine configured similarly to the constituent elements of an actual plating facility. The hard disk substrate P was subjected to surface treatment of the base, and after the surface treatment, plating treatment by electroless nickel-phosphorus (NiP) plating was performed in the same manner as the plating treatment in the actual plating equipment.

以上のように構成した実施例1に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近(内周端部)の疵、内径付近(内周端部)のめっき厚の3項目について評価を行った。基板のばたつきは、実験機によりめっき処理が施されているハードディスク用基板Pを目視により観察した。ハードディスク用基板Pのゆれがほとんどないものを◎で表示した。図7に示す従来のめっき軸Jに装着した実施例1と同様のハードディスク用基板Pに発生するばたつきと比較し、ハードディスク用基板Pのばたつきがかなり改善されたものを〇で表示した。 The hard disk substrate P according to Example 1 configured as described above was evaluated for three items: fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter (inner peripheral end), and plating thickness near the inner diameter (inner peripheral end). did Fluttering of the substrate was visually observed on the hard disk substrate P that had undergone the plating process using an experimental machine. A case where the hard disk substrate P hardly shook was indicated by ⊚. Compared to the fluttering of the hard disk substrate P similar to that of Example 1 mounted on the conventional plated shaft J shown in FIG.

なお、従来のめっき軸Jは、実施形態に係るめっき軸20と同様に構成され、めっき軸に形成された溝のみが異なっている。具体的には、従来のめっき軸Jの溝は、図7に示すように、傾斜部Kを備えている。傾斜部Kは、一方の傾斜面aと、一方の傾斜面aに対向する他方の傾斜面bとを有しており、傾斜面aと傾斜面bとのなす角は100度で形成され、傾斜部Kの開口は幅6.6mmで形成されている。また、傾斜部Kの外周面部gからの深さは、2.2mmで形成され、傾斜部の底部には面取りRが0.2mmで形成されている。 Incidentally, the conventional plating shaft J is configured in the same manner as the plating shaft 20 according to the embodiment, and differs therefrom only in the grooves formed in the plating shaft. Specifically, the groove of the conventional plating shaft J has an inclined portion K as shown in FIG. The inclined portion K has one inclined surface a and the other inclined surface b facing the one inclined surface a, and the angle formed by the inclined surface a and the inclined surface b is 100 degrees, The opening of the inclined portion K is formed with a width of 6.6 mm. The depth of the inclined portion K from the outer peripheral surface portion g is 2.2 mm, and the bottom portion of the inclined portion is chamfered R of 0.2 mm.

また、従来のめっき軸Jに装着したハードディスク用基板Pに発生するばたつきと比較し、ハードディスク用基板Pのばたつきがやや改善されたものを△で表示した。さらに、従来のめっき軸Jに装着したハードディスク用基板Pに発生するばたつきと同等のばたつきを×で表示した。 In addition, compared with the fluttering that occurs in the hard disk substrate P mounted on the conventional plated shaft J, the fluttering of the hard disk substrate P is slightly improved, which is indicated by Δ. Furthermore, fluttering equivalent to fluttering generated in the hard disk substrate P mounted on the conventional plated shaft J is indicated by x.

内径付近(内周端部)の疵は、ハードディスク用基板Pの貫通孔hの角部付近、即ちIDチャンファー付近を光学顕微鏡で観察し、疵の程度を、従来のめっき軸Jを使用してめっきしたハードディスク用基板PのIDチャンファー付近の疵と比較して判定した。従来と同等の疵を〇で表示し、従来に比べて疵が僅かに多いものを△で表示し、従来に比べて疵が多数存在しているものを×で表示した。 For flaws near the inner diameter (inner peripheral edge), the vicinity of the corners of the through hole h of the hard disk substrate P, i.e., the vicinity of the ID chamfer, is observed with an optical microscope, and the extent of the flaws is determined using a conventional plating shaft J. It was determined by comparing with the flaws in the vicinity of the ID chamfer of the hard disk substrate P which was plated with a hard disk. A flaw equivalent to the conventional one is indicated by ◯, a flaw slightly larger than that of the conventional one is indicated by Δ, and a number of flaws compared to the conventional one is indicated by ×.

内径付近(内周端部)のめっき厚は、ハードディスク用基板Pの外周付近から貫通孔hに向かう平面部からIDチャンファー付近までの高さ、即ち厚みをレーザー顕微鏡で測定した。IDチャンファー付近の厚みが薄くなっているものについては、断面を観察し、平面部に比べてめっき厚が薄くなっているか否かを検証した。従来のめっき軸Jを使用してめっきしたハードディスク用基板PのIDチャンファー付近のめっき厚と比較して評価した。 The plating thickness near the inner diameter (inner peripheral edge) was measured by a laser microscope as the height from the outer periphery of the hard disk substrate P to the vicinity of the ID chamfer from the flat portion toward the through hole h, that is, the thickness. For those with a thin thickness near the ID chamfer, the cross section was observed to verify whether the plating thickness was thin compared to the flat portion. Evaluation was made by comparing with the plating thickness near the ID chamfer of the hard disk substrate P plated using the conventional plating shaft J.

従来と同等のめっき厚を〇で表示し、従来に比べて薄く見えるが、断面観察の結果めっき厚が平面部に比べ80%の厚みが確保されているものを△で表示し、断面観察の結果めっき厚が平面部に比べ80%厚を確保できていないものを×で表示した。 The plating thickness equivalent to the conventional one is indicated by ◯, which looks thinner than the conventional one, but the plating thickness is 80% thicker than the flat part as a result of cross-sectional observation. Results When the plating thickness is less than 80% of the thickness of the flat portion, the result is indicated by x.

実施例1に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は△、内径付近のめっき厚は△であった。したがって、実施例1に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 1, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as Δ, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as Δ. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 1 was satisfactory.

(実施例2)
実施例2は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.70mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、1.0mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.1mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 2)
In Example 2, as in Example 1, the hard disk substrate P was an aluminum substrate having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, an inner diameter d of 25 mm, and made of an aluminum alloy. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.70 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfer R at the corner 33 of the groove 30 was set to 1.0 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.1 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例2に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 2 was tested for three items: fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例2に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは〇、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例2に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 2, the fluttering of the substrate was ◯, the flaw near the inner diameter was ◯, and the plating thickness near the inner diameter was ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 2 was satisfactory.

(実施例3)
実施例3は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.70mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.4mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.15mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 3)
In Example 3, as in Example 1, an aluminum substrate made of an aluminum alloy was used as the hard disk substrate P having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.70 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfer R at the corner 33 of the groove 30 was set to 0.4 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.15 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例3に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 3 was tested for the three items of fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例3に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは〇、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例3に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 3, the fluttering of the substrate was ◯, the flaw near the inner diameter was ◯, and the plating thickness near the inner diameter was ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 3 was satisfactory.

(実施例4)
実施例4は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.70mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.4mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.25mとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 4)
In Example 4, as in Example 1, an aluminum substrate made of an aluminum alloy was used as the hard disk substrate P having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.70 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfer R at the corner 33 of the groove 30 was set to 0.4 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.25 m. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例4に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, the plating process was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 4 was tested for the three items of fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例4に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは〇、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例4に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 4, the fluttering of the substrate was ◯, the flaw near the inner diameter was ◯, and the plating thickness near the inner diameter was ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 4 was satisfactory.

(実施例5)
実施例5は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.70mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.3mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 5)
In Example 5, as in Example 1, the hard disk substrate P was an aluminum substrate having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, an inner diameter d of 25 mm, and made of an aluminum alloy. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.70 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.3 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例5に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 5 was tested for the three items of fluttering of the substrate, flaws near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter as in Example 1. A similar evaluation was performed.

実施例5に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例5に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 5, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as ◯, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 5 was satisfactory.

(実施例6)
実施例6は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.70mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.3mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリテトラフルオロエチレン(PTFE)で形成した。
(Example 6)
In Example 6, as in Example 1, an aluminum substrate made of an aluminum alloy was used as the hard disk substrate P having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.70 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.3 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polytetrafluoroethylene (PTFE).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例6に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, the plating process was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 6 was tested for three items: fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例6に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例6に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 6, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as ◯, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 6 was satisfactory.

(実施例7)
実施例7は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.70mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.3mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)およびポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の混合材料で形成した。
(Example 7)
In Example 7, as in Example 1, the hard disk substrate P was an aluminum substrate having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, an inner diameter d of 25 mm, and made of an aluminum alloy. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.70 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.3 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of a mixed material of polyetheretherketone (PEEK) and polytetrafluoroethylene (PTFE).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例7に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 7 was tested for the three items of fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter as in Example 1. A similar evaluation was performed.

実施例7に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例7に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 7, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as ◯, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 7 was satisfactory.

(実施例8)
実施例8は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.70mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.3mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリフッ化ビニリデン(PVDF)で形成した。
(Example 8)
In Example 8, as in Example 1, the hard disk substrate P was an aluminum substrate having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, an inner diameter d of 25 mm, and made of an aluminum alloy. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.70 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.3 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyvinylidene fluoride (PVDF).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例8に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 8 was tested for three items: fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例8に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例8に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 8, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as ◯, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 8 was satisfactory.

(実施例9)
実施例9は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.67mmとし、クリアランスCを0.04mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.3mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 9)
In Example 9, as in Example 1, the hard disk substrate P was an aluminum substrate having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, an inner diameter d of 25 mm, and made of an aluminum alloy. The width W2 at the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.67 mm, and the clearance C was set to 0.04 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.3 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例9に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 9 was tested for the three items of fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例9に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例9に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 9, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as ◯, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 9 was satisfactory.

(実施例10)
実施例10は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.80mmとし、クリアランスCを0.17mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.2mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 10)
In Example 10, as in Example 1, an aluminum substrate made of an aluminum alloy was used as the hard disk substrate P having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.80 mm, and the clearance C was set to 0.17 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.2 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例10に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 10 was tested for the three items of fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter as in Example 1. A similar evaluation was performed.

実施例10に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは〇、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例10に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 10, the fluttering of the substrate was ◯, the scratches near the inner diameter were ◯, and the plating thickness near the inner diameter was ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 10 was satisfactory.

(実施例11)
実施例11は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.90mmとし、クリアランスCを0.27mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.2mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 11)
In Example 11, as in Example 1, an aluminum substrate made of an aluminum alloy was used as the hard disk substrate P having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.90 mm, and the clearance C was set to 0.27 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.2 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例11に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 11 was tested for the three items of fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例11に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは△、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例11に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 11, the fluttering of the substrate was Δ, the flaw near the inner diameter was ◯, and the plating thickness near the inner diameter was ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 11 was satisfactory.

(実施例12)
実施例12は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.90mmとし、クリアランスCを0.27mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.8mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 12)
In Example 12, as in Example 1, the hard disk substrate P was an aluminum substrate having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, an inner diameter d of 25 mm, and made of an aluminum alloy. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.90 mm, and the clearance C was set to 0.27 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.8 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例12に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 12 was tested for three items: fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例12に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例12に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 12, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as ◯, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 12 was satisfactory.

(実施例13)
実施例13は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.50mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.55mmとし、クリアランスCを0.05mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.3mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 13)
In Example 13, as in Example 1, an aluminum substrate made of an aluminum alloy was used as the hard disk substrate P having a thickness t of 0.50 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plating shaft 20 was set to 0.55 mm, and the clearance C was set to 0.05 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.3 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例13に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 13 was tested for the three items of fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例13に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例13に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 13, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as ◯, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 13 was good.

(実施例14)
実施例14は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.50mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.57mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.3mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 14)
In Example 14, as in Example 1, the hard disk substrate P was an aluminum substrate having a thickness t of 0.50 mm, an outer diameter D of 95 mm, an inner diameter d of 25 mm, and made of an aluminum alloy. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.57 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.3 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例14に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 14 was tested for three items: fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

実施例14に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例14に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 14, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as ◯, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 14 was satisfactory.

(実施例15)
実施例15は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.80mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.87mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.3mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Example 15)
In Example 15, as in Example 1, the hard disk substrate P was an aluminum substrate having a thickness t of 0.80 mm, an outer diameter D of 95 mm, an inner diameter d of 25 mm, and made of an aluminum alloy. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.87 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.3 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、実施例15に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, the plating process was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Example 15 was tested for the three items of fluttering of the substrate, flaws near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter as in Example 1. A similar evaluation was performed.

実施例15に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、実施例15に係るめっき軸20は良好であることが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Example 15, fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, scratches near the inner diameter were evaluated as ◯, and plating thickness near the inner diameter was evaluated as ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft 20 according to Example 15 was satisfactory.

(比較例1)
比較例1は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸は、図7に示す従来のめっき軸Jを使用した。したがって、図6(a)に示すように、実施例1と同様の溝30の垂直部32は形成されておらず、溝無しと表示している。めっき軸Jを構成する軸本体および一対のキャップをポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Comparative example 1)
In Comparative Example 1, as in Example 1, the hard disk substrate P was made of an aluminum alloy and had a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm. A conventional plated shaft J shown in FIG. 7 was used as the plated shaft. Therefore, as shown in FIG. 6A, the vertical portion 32 of the groove 30 similar to that of the first embodiment is not formed, and is indicated as "no groove". A shaft body and a pair of caps constituting the plated shaft J were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、比較例1に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Comparative Example 1 was tested for three items: fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

比較例1に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは×、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、比較例1に係るめっき軸Jは基板のばたつきが大きく、めっき軸に適していないことが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Comparative Example 1, the fluttering of the substrate was x, the flaw near the inner diameter was ◯, and the plating thickness near the inner diameter was ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft J according to Comparative Example 1 was not suitable for the plated shaft because the substrate fluttered greatly.

(比較例2)
比較例2は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を1.00mmとし、クリアランスCを0.37mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を0.2mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Comparative example 2)
In Comparative Example 2, as in Example 1, an aluminum substrate made of an aluminum alloy was used as the hard disk substrate P having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 1.00 mm, and the clearance C was set to 0.37 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 0.2 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、比較例2に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, the plating process was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Comparative Example 2 was compared with Example 1 for the three items of fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

比較例2に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは×、内径付近の疵は〇、内径付近のめっき厚は〇であった。したがって、比較例2に係るめっき軸Jは基板のばたつきが大きく、めっき軸に適していないことが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Comparative Example 2, the fluttering of the substrate was x, the flaw near the inner diameter was ◯, and the plating thickness near the inner diameter was ◯. Therefore, it was confirmed that the plated shaft J according to Comparative Example 2 was not suitable for the plated shaft because the substrate fluttered greatly.

(比較例3)
比較例3は、実施例1と同様に、ハードディスク用基板Pは、厚みtが0.63mm、外径Dが95mm、内径dが25mmで、アルミニウム合金からなるアルミ基板を使用した。めっき軸20を構成する軸本体21の溝30の垂直部32における幅W2を0.70mmとし、クリアランスCを0.07mmとした。溝30の角部33における面取りRは、0.2mmとした。溝30の垂直部32における深さDP2を1.1mmとした。めっき軸20を構成する軸本体21および一対のキャップ23をポリエーテルエーテルケトン(PEEK)で形成した。
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 3, as in Example 1, an aluminum substrate made of an aluminum alloy was used as the hard disk substrate P having a thickness t of 0.63 mm, an outer diameter D of 95 mm, and an inner diameter d of 25 mm. The width W2 of the vertical portion 32 of the groove 30 of the shaft body 21 constituting the plated shaft 20 was set to 0.70 mm, and the clearance C was set to 0.07 mm. The chamfering R at the corners 33 of the groove 30 was set to 0.2 mm. The depth DP2 of the vertical portion 32 of the groove 30 was set to 1.1 mm. A shaft body 21 and a pair of caps 23 constituting the plated shaft 20 were made of polyetheretherketone (PEEK).

実施例1と同様に、実験機によりめっき処理を行い、比較例3に係るハードディスク用基板Pに対して、基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について実施例1と同様に評価を行った。 In the same manner as in Example 1, plating was performed using an experimental machine, and the hard disk substrate P according to Comparative Example 3 was tested for three items: fluttering of the substrate, scratches near the inner diameter, and plating thickness near the inner diameter. A similar evaluation was performed.

比較例3に係るハードディスク用基板Pを評価した結果、基板のばたつきは◎、内径付近の疵は×、内径付近のめっき厚は×であった。したがって、比較例3に係るめっき軸Jは基板のばたつきは良好であったが、内径付近の疵は×、内径付近のめっき厚は×で、めっき軸に適していないことが確認された。 As a result of evaluating the hard disk substrate P according to Comparative Example 3, the fluttering of the substrate was evaluated as ⊚, the flaw near the inner diameter was evaluated as ×, and the plating thickness near the inner diameter was evaluated as ×. Therefore, the plated shaft J according to Comparative Example 3 had good fluttering of the substrate, but the flaw near the inner diameter was x and the plating thickness near the inner diameter was x, confirming that it is not suitable for a plated shaft.

なお、図6(b)に示すように、実施例5、実施例7、実施例9、実施例15および比較例1に対して、実際のめっき設備でめっきを行い、ノジュール発生率(個/面)について検証した。ノジュール発生率については、光学式表面検査装置により、ハードディスク用基板Pの表面を検査し、欠点となる突起の個数を走査電子顕微鏡(SEM)または原子間力顕微鏡(AFM)で、カウントした。判定基準は、0.003個/面とした。なお、光学式表面検査装置は、日立ハイテクファインシステムズ社製の型式RS1390を使用した。 In addition, as shown in FIG. 6(b), plating was performed in actual plating equipment for Examples 5, 7, 9, 15 and Comparative Example 1, and the nodule generation rate (pieces/ surface) was verified. For the nodule generation rate, the surface of the hard disk substrate P was inspected by an optical surface inspection device, and the number of defective protrusions was counted by a scanning electron microscope (SEM) or an atomic force microscope (AFM). The criterion was 0.003 pieces/surface. The optical surface inspection device used was model RS1390 manufactured by Hitachi High-Tech Fine Systems.

ノジュール発生率は、実施例5が0.002、実施例7、実施例9および実施例15が0.001で、判定基準を満たしており、めっき軸に適していることが確認された。これに対して、比較例1のノジュール発生率は、0.010であり、判定基準を満たしておらず、めっき軸に適していないことが確認された。なお、図6(b)に示す「-」は検証が未実施であることを示しているが、他の未実施の各実施例についても、ハードディスク用基板Pに対する基板のばたつき、内径付近の疵、内径付近のめっき厚の3項目について良好な評価結果が得られているので、ノジュール発生率も判定基準を満たすことが推定される。 The nodule generation rate was 0.002 in Example 5, and 0.001 in Examples 7, 9 and 15, satisfying the criteria for determination, confirming that they are suitable for plated shafts. On the other hand, the nodule generation rate of Comparative Example 1 was 0.010, which did not satisfy the criterion, and was confirmed to be unsuitable for a plated shaft. Note that "-" shown in FIG. 6(b) indicates that the verification has not been performed. , and plating thickness near the inner diameter, good evaluation results have been obtained, so it is presumed that the nodule generation rate also satisfies the criteria.

以下、本実施形態に係るハードディスク用基板Pのめっき治具10の効果について説明する。 The effect of the plating jig 10 for the hard disk substrate P according to this embodiment will be described below.

本実施形態に係るハードディスク用基板Pのめっき治具10は、ハードディスク用基板Pの厚みtと溝30の幅W2とのクリアランスCが、0.04mm以上、かつ0.3mm以下になる幅W2で、溝30が形成されている。この構成により、0.3mmを超えるクリアランスCに起因するハードディスク用基板のばたつきの発生が抑制され、0.04mm未満となるクリアランスCに起因するめっき厚の薄膜化が防止されるという効果が得られる。さらに、ばたつきに起因する内径付近の疵も防止されるという効果が得られる。 In the plating jig 10 for the hard disk substrate P according to this embodiment, the clearance C between the thickness t of the hard disk substrate P and the width W2 of the groove 30 is 0.04 mm or more and 0.3 mm or less. , grooves 30 are formed. With this configuration, it is possible to suppress the fluttering of the hard disk substrate due to the clearance C exceeding 0.3 mm, and to prevent the plating thickness from being thinned due to the clearance C being less than 0.04 mm. . Furthermore, it is possible to obtain the effect of preventing flaws in the vicinity of the inner diameter due to fluttering.

また、本実施形態に係るハードディスク用基板Pのめっき治具10は、深さが、0.1mm以上、かつ1.0mm以下で溝30が形成されている。この構成により、深さが0.1mm未満となる溝30に起因するハードディスク用基板Pのばたつきの発生が抑制されるという効果が得られる。また、深さが1.0mmを超える溝30に起因するめっき厚の薄膜化が防止されるという効果が得られる。 Further, the plating jig 10 for the hard disk substrate P according to the present embodiment has the grooves 30 with a depth of 0.1 mm or more and 1.0 mm or less. With this configuration, it is possible to obtain the effect of suppressing the fluttering of the hard disk substrate P due to the grooves 30 having a depth of less than 0.1 mm. In addition, it is possible to prevent the thickness of the plating from being thinned due to the grooves 30 having a depth exceeding 1.0 mm.

また、本実施形態に係るハードディスク用基板Pのめっき治具10は、溝30の開口部の角が丸みを有している。この構成により、開口部の角にバリが発生することが防止され、溝30に支持されるハードディスク用基板Pに疵が付くことが防止されるという効果が得られる。 Further, in the plating jig 10 for the hard disk substrate P according to this embodiment, the corners of the openings of the grooves 30 are rounded. With this configuration, it is possible to prevent burrs from being generated at the corners of the opening and to prevent the hard disk substrate P supported in the grooves 30 from being damaged.

また、本実施形態に係るハードディスク用基板Pのめっき治具10は、溝30の底面32cが平坦であり、底面32cと、溝30の一方の傾斜面31aおよび他方の傾斜面31bとが直交している。この構成により、ハードディスク用基板Pが溝30の底面32cで安定した姿勢状態で支持され、ばたつきの発生が抑制されるという効果が得られる。 Further, in the plating jig 10 for the hard disk substrate P according to the present embodiment, the bottom surface 32c of the groove 30 is flat, and the bottom surface 32c and one inclined surface 31a and the other inclined surface 31b of the groove 30 are perpendicular to each other. ing. With this configuration, the hard disk substrate P is supported in a stable posture on the bottom surface 32c of the groove 30, and the effect of suppressing fluttering is obtained.

また、本実施形態に係るハードディスク用基板Pのめっき治具10は、ハードディスク用基板Pのめっき治具10の材質が、好ましくは、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)であり、より好ましくは、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)であり、最も好ましくは、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、またはポリエーテルエーテルケトン(PEEK)およびポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の混合材料で構成されている。この構成により、めっき治具10の高い耐摩耗性、酸およびアルカリに対する高い耐薬品性、高い電気絶縁性および高い機械的強度が確保されるという効果が得られる。また、本実施形態に係るハードディスク用基板Pのめっき治具10は、高い耐摩耗性、耐薬品性を有するため、めっき治具10からの異物の発生が抑制されるという効果が得られる。 In the hard disk substrate P plating jig 10 according to the present embodiment, the material of the hard disk substrate P plating jig 10 is preferably polytetrafluoroethylene (PTFE), more preferably polyfluoride. vinylidene (PVDF), most preferably composed of polyetheretherketone (PEEK) or a blend of polyetheretherketone (PEEK) and polytetrafluoroethylene (PTFE). This configuration provides the effect of ensuring high abrasion resistance, high chemical resistance to acids and alkalis, high electrical insulation, and high mechanical strength of the plating jig 10 . In addition, since the plating jig 10 for the hard disk substrate P according to the present embodiment has high wear resistance and chemical resistance, the effect of suppressing the generation of foreign matter from the plating jig 10 can be obtained.

以上、本発明の実施形態について詳述したが、本発明は、前記の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の精神を逸脱しない範囲で、種々の設計変更を行うことができるものである。 Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various designs can be made without departing from the spirit of the invention described in the claims. Changes can be made.

10・・・めっき治具
20・・・めっき軸(めっき治具)
21・・・軸本体
21a、h・・・貫通孔
21b・・・外周面部
22・・・芯材
23・・・キャップ
30・・・溝
31・・・傾斜部
31a・・・一方の傾斜面
31b・・・他方の傾斜面
32・・・垂直部
32a・・・一方の内壁面
32b・・・他方の内壁面
32c・・・底面
33・・・角部
C、C1、C2・・・クリアランス
D・・・外径
d・・・内径
DP1、DP2・・・深さ
P・・・ハードディスク用基板
t・・・厚み
R・・・面取り
W1、W2・・・幅
10 Plating jig 20 Plating shaft (plating jig)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 21... Shaft main body 21a, h... Through hole 21b... Outer peripheral surface part 22... Core material 23... Cap 30... Groove 31... Inclined part 31a... One inclined surface 31b...Other inclined surface 32...Vertical portion 32a...One inner wall surface 32b...Other inner wall surface 32c...Bottom surface 33...Corner C, C1, C2...Clearance D... Outer diameter d... Inner diameter DP1, DP2... Depth P... Hard disk substrate t... Thickness R... Chamfering W1, W2... Width

Claims (4)

中心に貫通孔を有するハードディスク用基板の前記貫通孔に挿入される軸本体と、該軸本体の表面に凹設されて前記軸本体に前記ハードディスク用基板をぶら下げて支持した状態で前記ハードディスク用基板の一部が入り込む溝とを備えたハードディスク用基板のめっき治具であって、
該めっき治具は、0.8mm以下の厚みを有するハードディスク用基板に用いられるものであり、
前記溝は、前記軸本体の軸線方向に直交する方向に所定の幅および所定の深さで形成され、前記軸本体の周方向に沿って連続して設けられており、平坦な底面及び該底面に直交する一対の内壁面を有する垂直部を有しており、
前記垂直部に前記ハードディスク用基板の一部が入り込んだ状態で、前記ハードディスク用基板の厚みと前記垂直部の幅との差が、0.04mm以上、かつ0.3mm以下になるように、前記垂直部の幅が形成されており、
前記垂直部の深さは、0.1mm以上、かつ1.0mm以下である
ことを特徴とするハードディスク用基板のめっき治具。
a shaft body inserted into the through hole of a hard disk substrate having a through hole in the center; A hard disk substrate plating jig comprising a groove into which a part of
The plating jig is used for hard disk substrates having a thickness of 0.8 mm or less,
The groove is formed with a predetermined width and a predetermined depth in a direction orthogonal to the axial direction of the shaft body, and is provided continuously along the circumferential direction of the shaft body. has a vertical portion having a pair of inner wall surfaces orthogonal to
The thickness of the hard disk substrate and the width of the vertical portion may be different from each other by 0.04 mm or more and 0.3 mm or less in a state where the hard disk substrate is partly inserted into the vertical portion. The width of the vertical part is formed ,
The depth of the vertical portion is 0.1 mm or more and 1.0 mm or less
A plating jig for hard disk substrates, characterized by:
前記垂直部の開口部の角が丸みを有する形状であることを特徴とする請求項1に記載のハードディスク用基板のめっき治具。 2. The jig for plating a hard disk substrate according to claim 1 , wherein the corners of the opening of the vertical portion are rounded. ハードディスク用基板のめっき治具の材質は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、並びにポリエーテルエーテルケトン(PEEK)およびポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の混合材料のいずれかから選択されることを特徴とする請求項1又は2に記載のハードディスク用基板のめっき治具。 Plating jig materials for hard disk substrates are polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), polyetheretherketone (PEEK), polyetheretherketone (PEEK) and polytetrafluoroethylene (PTFE). 3. The plating jig for hard disk substrates according to claim 1, wherein the jig is selected from any one of the mixed materials of . 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のハードディスク用基板のめっき治具を用いることを特徴とするハードディスク用基板の製造方法。 4. A method of manufacturing a hard disk substrate, comprising using the hard disk substrate plating jig according to claim 1 .
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